CN113506752A - 辅助图形的添加方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种辅助图形的添加方法及装置，应用于半导体技术领域。本发明提供了一种辅助图形的添加方法，通过确定预制作版图对应的测试版图中相邻两个主图形之间的间隔(辅助图形添加区域)，并找到不同辅助图形添加区域的主图形的光刻工艺窗口中不满足预设目标值的所有主图形；然后，通过调整辅助图形的放置规则，使得一些不满足预设目标值的所有主图形也可以加上微调过后的辅助图形规则，从而提高了版图的工艺窗口，进而提升了OPC修正过程中的准确度，有效提升了产品良率，推进了研发进度。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种辅助图形的添加方法及装置。
背景技术
在集成电路设计版图中的稀疏图形周围添加一些细小的图形，使稀疏图形在光学角度上看像密集图形，这些细小图形必须小于光刻机分辨率，曝光时，这些图形只对光线其散射作用，而不会被转移到光刻胶上，因此被称之为亚分辨率辅助图形或散射条(Scattering Bar)。
一个版图中通常既有密集分布的图形(如1：1等间距的线条)，也有稀疏的图形(如独立的线条)，特别是逻辑器件的设计，具有更大的任意性。理论和实验结果都清楚地表明，密集分布图形的光刻工艺窗口与稀疏图形的光刻工艺窗口是不一样的，这就导致了共同的工艺窗口偏小。适用于密集图形曝光的光照条件并不适合稀疏图形的曝光。因此，为了减少集成电路版图中因图形密度不同引起的工艺差异，目前通常采用的方式是在掩模图形中图形比较稀疏的周围区域插入亚分辨率图形的方式，来提高焦深和工艺窗口均匀性。其中，所插入的图形尺寸小于光刻系统成像分辨率，且是一些平行于掩模图形的细长方形线条，其本身在曝光时不会形成光刻图形，但又对附近的掩模图形光刻成像光强分布产生影响。
目前，辅助图形的添加方法有基于规则的添加方法、基于模型的添加方法、基于反向光刻计算的添加方法等。其中，基于规则的添加方法是通过建立一些辅助图形插入的规则来实现的。具体的，规则确定了辅助图形的宽度，且在版图中的主图形的图形周期(等于两个主图形之间的距离，即两个主图形之间的间隔宽度与一个主图形的线宽之和)等于多少时插入第一个辅助图形，图形周期等于多少时插入第二个辅助线条等。
然而，由于现有技术中的基于规则的添加方法中辅助图形的尺寸和放置的位置是通过多次曝光的实验来确定的，因此，存在成本高的问题。并且，随着节点进一步减小，在实际应用中主图形的尺寸(宽度)不是一个固定的值，而是一个可变的范围。因此，针对此类图形，采用确定辅助图形的宽度以及在主图形的图形周期等于多少的时候插入辅助图形的方法，会出现在某一图形周期内无法添加辅助图形的现象，从而导致最终的掩模板光刻结果偏离预先设定的目标值，产生工艺热点，即图形缺陷，降低图形的光刻工艺窗口，影响产品的良率，迟缓研发进度的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种辅助图形的添加方法及装置，以提高版图的工艺窗口，增加产品的稳定性。
第一方面，为解决上述技术问题，本发明提供一种辅助图形的添加方法，包括：
确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且相邻所述主图形之间的间隔作为辅助图形添加区域；
确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形，以形成一图形集合；
针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，并将调整后的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，以使所述主图形的光刻工艺窗口至少达到所述预设目标值。
可选的，在确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形之前，可以先按照预设的辅助图形添加规则，在所述测试版图相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形，且在所述预设的辅助图形添加规则规定，在相同的主图形对应的辅助图形添加区域中添加宽度相同、与主图形的距离相同的辅助图形；
或者，在确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形的步骤之前，可以所述测试版图中未添加任何辅助图形。
可选的，按照预设的辅助图形添加规则，在相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形的步骤中，和/或，针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置的步骤中，可以在不同的所述主图形对应的辅助图形添加区域中添加不同类型的辅助图形，所述不同类型的辅助图形包括辅助图形的形状和/或放置方向不同。
可选的，所述针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，将调整后的辅助图形添加到所述主图形决定的辅助图形添加区域中的步骤，可以包括：
将所述图形集合中的各主图形按照其对应的辅助图形添加区域的大小从大到小的顺序排序；
从所述图形集合中对应的辅助图形添加区域最大的主图形开始，根据该主图形的类型，从预设的辅助图形库中选择至少一辅助图形，遍历所述图形集合中的每一个主图形；
且在遍历所述图形集合中的每一个主图形的过程中，针对所述图形集合中的每一主图形，均先根据所述主图形的类型，从预设的辅助图形库中为所述主图形选择相应类型的辅助图形并调整所述辅助图形的宽度和/或添加位置，直至判定所述主图形在添加了调整后的辅助图形后的光刻工艺窗口能达到最大值，再进一步判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否满足辅助图形曝光显影要求，直至为所述主图形找到对应的合适的辅助图形并将所述合适的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，所述合适辅助图形在添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中后，既使得所述主图形的光刻工艺窗口能达到最大值，又能满足辅助图形曝光显影要求。
可选的，判断所述主图形在添加了所述调整后的辅助图形后是否存满足辅助图形曝光显影要求的步骤，可以包括：对所述添加了调整后的辅助图形的所述主图形进行光刻仿真，并根据仿真结果判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否存在辅助图形曝光显影的风险。
可选的，所述待添加的辅助图形的宽度的可调整范围可以介于从掩膜版制造厂商获取的辅助图形的最小宽度，和，通过实验验证的方式得到的满足所述辅助图形曝光显影要求的辅助图形的最大宽度之间。
第二方面，基于如上所述的辅助图形的添加方法，本发明还提供了一种辅助图形的添加装置，包括：
测试版图确定模块，用于确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且相邻所述主图形之间的间隔作为辅助图形添加区域；
图形集合形成模块，用于确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形，以形成一图形集合；
第一辅助图形添加模块，用于针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，并将调整后的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，以使所述主图形的光刻工艺窗口至少达到所述预设目标值。
可选的，所述添加装置还可以包括：
第二辅助图形添加模块，用于在所述第一辅助图形添加模块确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形之前，先按照预设的辅助图形添加规则，在所述测试版图相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形，且在所述预设的辅助图形添加规则规定，在相同的主图形对应的辅助图形添加区域中添加宽度相同、与主图形的距离相同的辅助图形；
或者，所述添加装置还包括：
第二辅助图形不添加模块，用于在所述第一辅助图形添加模块确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形的步骤之前，所述测试版图中未添加任何辅助图形。
可选的，所述第一辅助图形添加模块和/或所述第二辅助图形添加模块，可以包括：
辅助图形类型确定单元，用于在不同的所述主图形对应的辅助图形添加区域中添加不同类型的辅助图形，所述不同类型的辅助图形包括辅助图形的形状和/或放置方向不同。
可选的，所述第一辅助图形添加模块，还可以包括：
排序单元，用于将所述图形集合中的各主图形按照其对应的辅助图形添加区域的大小从大到小的顺序排序；
主图形遍历单元，用于从所述图形集合中对应的辅助图形添加区域最大的主图形开始，根据该主图形的类型，从预设的辅助图形库中选择至少一辅助图形，遍历所述图形集合中的每一个主图形；
辅助图形添加单元，用于且在遍历所述图形集合中的每一个主图形的过程中，针对所述图形集合中的每一主图形，均先根据所述主图形的类型，从预设的辅助图形库中为所述主图形选择相应类型的辅助图形并调整所述辅助图形的宽度和/或添加位置，直至判定所述主图形在添加了调整后的辅助图形后的光刻工艺窗口能达到最大值，再进一步判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否满足辅助图形曝光显影要求，直至为所述主图形找到对应的合适的辅助图形并将所述合适的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，所述合适辅助图形在添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中后，既使得所述主图形的光刻工艺窗口能达到最大值，又能满足辅助图形曝光显影要求。
可选的，所述辅助图形添加单元还可以包括：
曝光显影风险判断子单元，用于对所述添加了调整后的辅助图形的所述主图形进行光刻仿真，并根据仿真结果判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否存在辅助图形曝光显影的风险。
可选的，所述待添加的辅助图形的宽度的可调整范围可以介于从掩膜版制造厂商获取的辅助图形的最小宽度，和，通过实验验证的方式得到的满足所述辅助图形曝光显影要求的辅助图形的最大宽度之间。
第三方面，基于如上所述的辅助图形的添加方法，本发明还提供了一种电子设备，包括处理器、通信接口、存储器和通信总线，其中，处理器，通信接口，存储器通过通信总线完成相互间的通信；
存储器，用于存放计算机程序；
处理器，用于执行存储器上所存放的程序时，实现如上所述的辅助图形的添加方法的步骤。
与现有技术相比，本发明提供的技术方案至少具有如下有益效果之一：
本发明提供了一种辅助图形的添加方法及装置，通过确定预制作版图对应的测试版图中相邻两个主图形之间的间隔(辅助图形添加区域)，并找到不同辅助图形添加区域的主图形的光刻工艺窗口中不满足预设目标值的所有主图形；然后，通过调整辅助图形的放置规则，使得一些不满足预设目标值的所有主图形也可以加上微调过后的辅助图形规则，从而提高了版图的工艺窗口，进而提升了OPC修正过程中的准确度，有效提升了产品良率，推进了研发进度。
附图说明
图1为本发明一实施例中的辅助图形的添加方法的流程示意图；
图2为本发明一实施例中提供的主图形的光刻工艺窗口与辅助图形的添加位置的变化关系图；
图3为本发明一实施例中提供的调整辅助图形的宽度和位置之后的主图形的光刻工艺窗口的对比图；
图4为本发明一实施例中的辅助图形的添加装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合示意图对本发明的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
承如背景技术所述，目前，一个版图中通常既有密集分布的图形(如1：1等间距的线条)，也有稀疏的图形(如独立的线条)，特别是逻辑器件的设计，具有更大的任意性。理论和实验结果都清楚地表明，密集分布图形的光刻工艺窗口与稀疏图形的光刻工艺窗口是不一样的，这就导致了共同的工艺窗口偏小。适用于密集图形曝光的光照条件并不适合稀疏图形的曝光。因此，为了减少集成电路版图中因图形密度不同引起的工艺差异，目前通常采用的方式是在掩模图形中图形比较稀疏的周围区域插入亚分辨率图形的方式，来提高焦深和工艺窗口均匀性。其中，所插入的图形尺寸小于光刻系统成像分辨率，且是一些平行于掩模图形的细长方形线条，其本身在曝光时不会形成光刻图形，但又对附近的掩模图形光刻成像光强分布产生影响。
目前，辅助图形的添加方法有基于规则的添加方法、基于模型的添加方法、基于反向光刻计算的添加方法等。其中，基于规则的添加方法是通过建立一些辅助图形插入的规则来实现的。具体的，规则确定了辅助图形的宽度，且在版图中的主图形的图形周期(等于两个主图形之间的距离，即两个主图形之间的间隔宽度与一个主图形的线宽之和)等于多少时插入第一个辅助图形，图形周期等于多少时插入第二个辅助线条等。
然而，由于现有技术中的基于规则的添加方法中辅助图形的尺寸和放置的位置是通过多次曝光的实验来确定的，因此，存在成本高的问题。并且，随着节点进一步减小，在实际应用中主图形的尺寸(宽度)不是一个固定的值，而是一个可变的范围。因此，针对此类图形，采用确定辅助图形的宽度以及在主图形的图形周期等于多少的时候插入辅助图形的方法，会出现在某一图形周期内无法添加辅助图形的现象，从而导致最终的掩模板光刻结果偏离预先设定的目标值，产生工艺热点，即图形缺陷，降低图形的光刻工艺窗口，影响产品的良率，迟缓研发进度的问题。
为此，本发明提供了一种辅助图形的添加方法，以提高版图的工艺窗口，增加产品的稳定性。
参考图1，图1为本发明一实施例中提供的一种辅助图形的添加方法的流程示意图，该方法包括如下步骤：
步骤S100，确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且相邻所述主图形之间的间隔作为辅助图形添加区域。
在本实施例中，可以先根据预制作的版图确定其对应的测试版图，以用于验证预制作的版图中的各主图形的光刻工艺窗口是否满足设计要求，若不满足，则可及时进行OPC修正，从而有效提升产品良率，推进研发进度。其中，所述测试版图中可以包含多个主图形，而相邻所述主图形之间的间隔可以作为一主图形对应的辅助图形添加区域。所述主图形按照图形线条的间距可以划分为密集分布的图形、稀疏的图形和半稀疏图形。
步骤S200，确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形，以形成一图形集合。
通常，可以在确定出测试版图之后，不在所述测试版图中添加任何辅助图形，而是直接通过类似于S_litho的软件对所述测试版图中的各个主图形进行光刻仿真，得到各个主图形的光刻工艺窗口。然后，和预设的光刻工艺窗口目标值进行比较，若此时各个主图形的光刻工艺窗口均满足预设目标值，则说明该测试版图中的各个主图形无需添加辅助图形。然而，由于针对主图形的类型不同，其对应的预设光刻工艺窗口的目标值也不相同，从而导致在所述测试版图中通常会有部分主图形的光刻工艺窗口不满足预设目标值，因此，其通常需要添加一个或多个辅助图形来对其进行光刻工艺窗口的弥补。
在本实施例中，可以将所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形形成一图形集合，从而采用如下步骤S300来对所述图形集合中的每一个主图形对应的辅助图形的添加区域中添加一个或多个辅助图形，以实现提高整个预制作版图的光刻工艺窗口的目的。
可选的方案，在确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形之前，先按照预设的辅助图形添加规则，在所述测试版图相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形，且在所述预设的辅助图形添加规则规定，在相同的主图形对应的辅助图形添加区域中添加宽度相同、与主图形的距离相同的辅助图形。
需要说明的是，按照预设的辅助图形添加规则，在相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形的步骤中，可以在不同的所述主图形对应的辅助图形添加区域中添加不同类型的辅助图形，所述不同类型的辅助图形包括辅助图形的形状和/或放置方向不同。
在本实施例中，在步骤S100确定出预制作版图对应的测试版图之后，可以先对所述测试版图中的主图形进行分类，然后，根据预设的辅助图形添加规则，将该规则中规定的某一种类型或几种类型的主图形进行辅助图形添加，然后，再计算所述测试版图中每个主图形的光刻工艺窗口。在通过步骤S200确定出待进行第二次辅助图形修正添加(步骤S300)的所有主图形。由于在本实施中，在基于现有的辅助图形添加规则对测试版图的主图形进行光刻工艺窗口弥补之后，再次确定该测试版图中的各主图形是否的光刻工艺窗口是否满足预设目标值，并将所述测试版图中无法基于现有的辅助图形添加规则这一单一规则进行辅助图形添加的主图形筛选出来，然后，通过如下步骤S300可以适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置的方式，对所述筛选出的主图形添加的辅助图形进行调整，从而使所述预制作版图的每个主图形的光刻工艺窗口均满足预设的设计要求，进而提高产品良率。
步骤S300，针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，并将调整后的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，以使所述主图形的光刻工艺窗口至少达到所述预设目标值。
其中，所述待添加的辅助图形的宽度的可调整范围可以介于从掩膜版制造厂商获取的辅助图形的最小宽度，和，通过实验验证的方式得到的满足所述辅助图形曝光显影要求的辅助图形的最大宽度之间。
本发明研究人员发现，根据衍射理论分析表明，版图中的主图形的光刻工艺窗口可以随着其添加的辅助图形的添加位置的改变而改变，即，呈现先上升后减小的趋势，如图2所示。并且，本发明研究人员还发现，版图中的主图形的光刻工艺窗口可以随着其添加的辅助图形的宽度大小的改变而改变，如图3所示。其中，图3中的图(a)为相邻两个主图形的间隙为260时，添加一宽度为40、与两侧的主图形的距离分别为110的辅助图形后的主图形；图(c)为图(a)对应的主图形的光刻工艺窗口的光刻仿真结果(276)；图(b)为相邻两个主图形的间隙为260时，添加一宽度为42、与两侧的主图形的距离分别为109的辅助图形后的主图形；图(d)为图(b)对应的主图形的光刻工艺窗口的光刻仿真结果(272)。
因此，在本实施例中，在步骤S200确定出光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形形成的图形集合后，可以根据实际的设计要求，针对不同的光刻工艺窗口设计要求，适应性的调整待添加在所述图形集合中的每一主图形对应的辅助图形添加区域中的辅助图形的宽度和/或添加位置，从而使所述图形集合中的每个主图形的光刻工艺窗口达到实际设计要求。
具体的，在本实施例中，提供了一种针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，将调整后的辅助图形添加到所述主图形决定的辅助图形添加区域中的具体方式，可以包括如下步骤：
首先，将所述图形集合中的各主图形按照其对应的辅助图形添加区域的大小从大到小的顺序排序；
接着，从所述图形集合中对应的辅助图形添加区域最大的主图形开始，根据该主图形的类型，从预设的辅助图形库中选择至少一辅助图形，遍历所述图形集合中的每一个主图形；
其次，且在遍历所述图形集合中的每一个主图形的过程中，针对所述图形集合中的每一主图形，均先根据所述主图形的类型，从预设的辅助图形库中为所述主图形选择相应类型的辅助图形并调整所述辅助图形的宽度和/或添加位置，直至判定所述主图形在添加了调整后的辅助图形后的光刻工艺窗口能达到最大值，再进一步判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否满足辅助图形曝光显影要求，直至为所述主图形找到对应的合适的辅助图形并将所述合适的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，所述合适辅助图形在添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中后，既使得所述主图形的光刻工艺窗口能达到最大值，又能满足辅助图形曝光显影要求。
其中，针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置的步骤中，在不同的所述主图形对应的辅助图形添加区域中添加不同类型的辅助图形，所述不同类型的辅助图形包括辅助图形的形状和/或放置方向不同。
进一步的，在本实施例中，提供了一种判断所述主图形在添加了所述调整后的辅助图形后是否存满足辅助图形曝光显影要求的具体实现方式，包括如下步骤：
对所述添加了调整后的辅助图形的所述主图形进行光刻仿真，并根据仿真结果判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否存在辅助图形曝光显影的风险。
在本实施例中，可以根据所述仿真结果判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形对应的辅助图形添加区域中，其添加的调整后的辅助图形是否曝光显影，若是，则说明该主图形存在辅助图形曝光显影的风险，则说明本次调整后的辅助图形的宽度和/或添加位置不合适，需要重新调整该主图形待添加的辅助图形的宽度和/或添加位置。而是需要同时调整辅助图形的宽度和添加位置，还是只需要调整辅助图形的宽度或者添加位置，则可以根据实际需求进行调整，本发明对此不做具体限定。
可以理解的是，在其他实施例中，也可以不对图形集合中的所有主图形进行按照其对应的辅助图形添加区域的大小从大到小的顺序排序，而是直接安装所述图形集合中的主图形的自然顺序，或其他顺序，对其进行辅助图形的调整和添加，只要能提高所述图形集合中的所有主图形的光刻工艺窗口即可。
由于在本发明提供的辅助图形的添加方法中，其针对光刻工艺窗口不满足实际设计需求的主图形，可以通过调整辅助图形的放置规则，使得一些不满足预设目标值的主图形也可以加上微调过后的辅助图形规则，从而提高了版图的工艺窗口，进而提升了OPC修正过程中的准确度，有效提升了产品良率，推进了研发进度。
基于如上所述的辅助图形的添加方法，本实施例中还提供了辅助图形的添加装置，具体可参考图4，图4为本发明一实施例中的辅助图形的添加装置的结构示意图，所述装置包括：
测试版图确定模块410，用于确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且相邻所述主图形之间的间隔作为辅助图形添加区域；
图形集合形成模块420，用于确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形，以形成一图形集合；
第一辅助图形添加模块430，用于针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，并将调整后的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，以使所述主图形的光刻工艺窗口至少达到所述预设目标值。
可选的，所述添加装置还可以包括：
第二辅助图形添加模块，用于在所述第一辅助图形添加模块确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形之前，先按照预设的辅助图形添加规则，在所述测试版图相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形，且在所述预设的辅助图形添加规则规定，在相同的主图形对应的辅助图形添加区域中添加宽度相同、与主图形的距离相同的辅助图形；
或者，所述添加装置还可以包括：
第二辅助图形不添加模块，用于在所述第一辅助图形添加模块确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形的步骤之前，所述测试版图中未添加任何辅助图形。
可选的，所述第一辅助图形添加模块和/或所述第二辅助图形添加模块，可以包括：
辅助图形类型确定单元，用于在不同的所述主图形对应的辅助图形添加区域中添加不同类型的辅助图形，所述不同类型的辅助图形包括辅助图形的形状和/或放置方向不同。
可选的，所述第一辅助图形添加模块，还可以包括：
排序单元，用于将所述图形集合中的各主图形按照其对应的辅助图形添加区域的大小从大到小的顺序排序；
主图形遍历单元，用于从所述图形集合中对应的辅助图形添加区域最大的主图形开始，根据该主图形的类型，从预设的辅助图形库中选择至少一辅助图形，遍历所述图形集合中的每一个主图形；
辅助图形添加单元，用于且在遍历所述图形集合中的每一个主图形的过程中，针对所述图形集合中的每一主图形，均先根据所述主图形的类型，从预设的辅助图形库中为所述主图形选择相应类型的辅助图形并调整所述辅助图形的宽度和/或添加位置，直至判定所述主图形在添加了调整后的辅助图形后的光刻工艺窗口能达到最大值，再进一步判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否满足辅助图形曝光显影要求，直至为所述主图形找到对应的合适的辅助图形并将所述合适的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，所述合适辅助图形在添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中后，既使得所述主图形的光刻工艺窗口能达到最大值，又能满足辅助图形曝光显影要求。
可选的，所述辅助图形添加单元还可以包括：
曝光显影风险判断子单元，用于对所述添加了调整后的辅助图形的所述主图形进行光刻仿真，并根据仿真结果判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否存在辅助图形曝光显影的风险。
可选的，所述待添加的辅助图形的宽度的可调整范围可以介于从掩膜版制造厂商获取的辅助图形的最小宽度，和，通过实验验证的方式得到的满足所述辅助图形曝光显影要求的辅助图形的最大宽度之间。
综上所述，本发明提供了一种辅助图形的添加方法，通过确定预制作版图对应的测试版图中相邻两个主图形之间的间隔(辅助图形添加区域)，并找到不同辅助图形添加区域的主图形的光刻工艺窗口中不满足预设目标值的所有主图形；然后，通过调整辅助图形的放置规则，使得一些不满足预设目标值的所有主图形也可以加上微调过后的辅助图形规则，从而提高了版图的工艺窗口，进而提升了OPC修正过程中的准确度，有效提升了产品良率，推进了研发进度。
本发明实施例还提供了一种电子设备，包括处理器、通信接口、存储器和通信总线，其中，处理器，通信接口，存储器通过通信总线完成相互间的通信，
存储器，用于存放计算机程序；
处理器，用于执行存储器上所存放的程序时，实现本发明实施例提供的一种辅助图形的添加方法。
具体的，上述一种辅助图形的添加方法，所述方法包括：
确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且相邻所述主图形之间的间隔作为辅助图形添加区域；
确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形，以形成一图形集合；
针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，并将调整后的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，以使所述主图形的光刻工艺窗口至少达到所述预设目标值。
另外，处理器执行存储器上所存放的程序而实现的辅助图形的添加方法的其他实现方式，与前述方法实施例部分所提及的实现方式相同，这里也不再赘述。
上述控制终端提到的通信总线可以是外设部件互连标准(Peripheral ComponentInterconnect，PCI)总线或扩展工业标准结构(Extended IndustryStandardArchitecture，EISA)总线等。该通信总线可以分为地址总线、数据总线、控制总线等。为便于表示，图中仅用一条粗线表示，但并不表示仅有一根总线或一种类型的总线。
通信接口用于上述电子设备与其他设备之间的通信。
存储器可以包括随机存取存储器(RandomAccess Memory，RAM)，也可以包括非易失性存储器(Non-Volatile Memory，NVM)，例如至少一个磁盘存储器。可选的，存储器还可以是至少一个位于远离前述处理器的存储装置。
上述的处理器可以是通用处理器，包括中央处理器(Central Processing Unit，CPU)、网络处理器(Network Processor，NP)等；还可以是数字信号处理器(Digital SignalProcessing，DSP)、专用集成电路(Application Specific Integrated Circuit，ASIC)、现场可编程门阵列(Field-Programmable GateArray，FPGA)或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件。
在本发明提供的又一实施例中，还提供了一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质中存储有指令，当其在计算机上运行时，使得计算机执行上述实施例中任一所述的辅助图形的添加方法。
在上述实施例中，可以全部或部分地通过软件、硬件、固件或者其任意组合来实现。当使用软件实现时，可以全部或部分地以计算机程序产品的形式实现。所述计算机程序产品包括一个或多个计算机指令。在计算机上加载和执行所述计算机程序指令时，全部或部分地产生按照本发明实施例所述的流程或功能。所述计算机可以是通用计算机、专用计算机、计算机网络、或者其他可编程装置。所述计算机指令可以存储在计算机可读存储介质中，或者从一个计算机可读存储介质向另一个计算机可读存储介质传输，例如，所述计算机指令可以从一个网站站点、计算机、服务器或数据中心通过有线(例如同轴电缆、光纤、数字用户线(DSL))或无线(例如红外、无线、微波等)方式向另一个网站站点、计算机、服务器或数据中心进行传输。所述计算机可读存储介质可以是计算机能够存取的任何可用介质或者是包含一个或多个可用介质集成的服务器、数据中心等数据存储设备。所述可用介质可以是磁性介质，(例如，软盘、硬盘、磁带)、光介质(例如，DVD)、或者半导体介质(例如固态硬盘Solid State Disk(SSD))等。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
本说明书中的各个实施例均采用相关的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于装置、电子设备以及计算机可读存储介质实施例而言，由于其基本相似于方法实施例，所以描述的比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均包含在本发明的保护范围内。
Claims (12)
1.一种辅助图形的添加方法，其特征在于，包括：
确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且相邻所述主图形之间的间隔作为辅助图形添加区域；
确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形，以形成一图形集合；
针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，并将调整后的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，以使所述主图形的光刻工艺窗口至少达到所述预设目标值。
2.如权利要求1所述的添加方法，其特征在于，在确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形之前，先按照预设的辅助图形添加规则，在所述测试版图相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形，且在所述预设的辅助图形添加规则规定，在相同的主图形对应的辅助图形添加区域中添加宽度相同、与主图形的距离相同的辅助图形；
或者，在确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形的步骤之前，所述测试版图中未添加任何辅助图形。
3.如权利要求2所述的添加方法，其特征在于，按照预设的辅助图形添加规则，在相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形的步骤中，和/或，针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置的步骤中，在不同的所述主图形对应的辅助图形添加区域中添加不同类型的辅助图形，所述不同类型的辅助图形包括辅助图形的形状和/或放置方向不同。
4.如权利要求1-3中任一项所述的添加方法，其特征在于，所述针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，将调整后的辅助图形添加到所述主图形决定的辅助图形添加区域中的步骤，包括：
将所述图形集合中的各主图形按照其对应的辅助图形添加区域的大小从大到小的顺序排序；
从所述图形集合中对应的辅助图形添加区域最大的主图形开始，根据该主图形的类型，从预设的辅助图形库中选择至少一辅助图形，遍历所述图形集合中的每一个主图形；
且在遍历所述图形集合中的每一个主图形的过程中，针对所述图形集合中的每一主图形，均先根据所述主图形的类型，从预设的辅助图形库中为所述主图形选择相应类型的辅助图形并调整所述辅助图形的宽度和/或添加位置，直至判定所述主图形在添加了调整后的辅助图形后的光刻工艺窗口能达到最大值，再进一步判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否满足辅助图形曝光显影要求，直至为所述主图形找到对应的合适的辅助图形并将所述合适的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，所述合适辅助图形在添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中后，既使得所述主图形的光刻工艺窗口能达到最大值，又能满足辅助图形曝光显影要求。
5.如权利要求4所述的添加方法，其特征在于，判断所述主图形在添加了所述调整后的辅助图形后是否存满足辅助图形曝光显影要求的步骤，包括：对所述添加了调整后的辅助图形的所述主图形进行光刻仿真，并根据仿真结果判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否存在辅助图形曝光显影的风险。
6.如权利要求1所述的添加方法，其特征在于，所述待添加的辅助图形的宽度的可调整范围介于从掩膜版制造厂商获取的辅助图形的最小宽度，和，通过实验验证的方式得到的满足所述辅助图形曝光显影要求的辅助图形的最大宽度之间。
7.一种辅助图形的添加装置，其特征在于，包括：
测试版图确定模块，用于确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且相邻所述主图形之间的间隔作为辅助图形添加区域；
图形集合形成模块，用于确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形，以形成一图形集合；
第一辅助图形添加模块，用于针对所述图形集合中的每一主图形，适应性调整待添加的辅助图形的宽度和添加位置后，并将调整后的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，以使所述主图形的光刻工艺窗口至少达到所述预设目标值。
8.如权利要求7所述的添加装置，其特征在于，所述添加装置还包括：
第二辅助图形添加模块，用于在所述第一辅助图形添加模块确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形之前，先按照预设的辅助图形添加规则，在所述测试版图相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形，且在所述预设的辅助图形添加规则规定，在相同的主图形对应的辅助图形添加区域中添加宽度相同、与主图形的距离相同的辅助图形；
或者，所述添加装置还包括：
第二辅助图形不添加模块，用于在所述第一辅助图形添加模块确定所述测试版图中光刻工艺窗口不满足预设目标值的所有主图形的步骤之前，所述测试版图中未添加任何辅助图形。
9.如权利要求8所述的添加装置，其特征在于，所述第一辅助图形添加模块和/或所述第二辅助图形添加模块，包括：
辅助图形类型确定单元，用于在不同的所述主图形对应的辅助图形添加区域中添加不同类型的辅助图形，所述不同类型的辅助图形包括辅助图形的形状和/或放置方向不同。
10.如权利要求7-9中任一项所述的添加装置，其特征在于，所述第一辅助图形添加模块，还包括：
排序单元，用于将所述图形集合中的各主图形按照其对应的辅助图形添加区域的大小从大到小的顺序排序；
主图形遍历单元，用于从所述图形集合中对应的辅助图形添加区域最大的主图形开始，根据该主图形的类型，从预设的辅助图形库中选择至少一辅助图形，遍历所述图形集合中的每一个主图形；
辅助图形添加单元，用于且在遍历所述图形集合中的每一个主图形的过程中，针对所述图形集合中的每一主图形，均先根据所述主图形的类型，从预设的辅助图形库中为所述主图形选择相应类型的辅助图形并调整所述辅助图形的宽度和/或添加位置，直至判定所述主图形在添加了调整后的辅助图形后的光刻工艺窗口能达到最大值，再进一步判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否满足辅助图形曝光显影要求，直至为所述主图形找到对应的合适的辅助图形并将所述合适的辅助图形添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中，所述合适辅助图形在添加到所述主图形对应的辅助图形添加区域中后，既使得所述主图形的光刻工艺窗口能达到最大值，又能满足辅助图形曝光显影要求。
11.如权利要求10所述的添加装置，其特征在于，所述辅助图形添加单元还包括：
曝光显影风险判断子单元，用于对所述添加了调整后的辅助图形的所述主图形进行光刻仿真，并根据仿真结果判断添加了所述调整后的辅助图形后的所述主图形是否存在辅助图形曝光显影的风险。
12.如权利要求7所述的添加装置，其特征在于，所述待添加的辅助图形的宽度的可调整范围介于从掩膜版制造厂商获取的辅助图形的最小宽度，和，通过实验验证的方式得到的满足所述辅助图形曝光显影要求的辅助图形的最大宽度之间。
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|---|---|---|---|---|
| CN115079509A (zh) * | 2022-08-22 | 2022-09-20 | 合肥晶合集成电路股份有限公司 | 一种版图图形的修正方法及系统 |
| WO2023197430A1 (zh) * | 2022-04-15 | 2023-10-19 | 长鑫存储技术有限公司 | 集成电路的设计方法、设计设备及计算机可读存储介质 |
| CN117950281A (zh) * | 2024-03-19 | 2024-04-30 | 全芯智造技术有限公司 | 用于检测辅助图形曝光的方法、电子设备和存储介质 |
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