CN114396475A - 真空设备盖板、真空设备本体和真空设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及真空设备技术领域，公开一种真空设备盖板、真空设备本体和真空设备。真空设备盖板包括板体，板体包括密封接触板部，密封接触板部包括内侧板面，板体用于能够封盖真空设备本体的腔开口，内侧板面上形成有朝向密封接触板部的内部延伸的凹槽，凹槽具有用于与密封槽的内侧槽壁的延伸形状相对应的延伸形状，凹槽具有允许内侧槽壁的槽壁外端面在挤压方向上的投影位于凹槽内的宽度，以使得凹槽的槽底面用于在挤压方向上与槽壁外端面保持间距。该真空设备盖板在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。另外，真空设备本体和真空设备也能够实现与真空设备盖板同样的技术效果。

Description

真空设备盖板、真空设备本体和真空设备

技术领域

本发明涉及真空设备技术领域，尤其是涉及一种真空设备盖板，一种真空设备本体和一种真空设备。

背景技术

目前，在显示板及半导体生产制造领域，显示板及半导体的生产设备包括真空设备，该真空设备通常包括本体和能够盖合在本体上的盖板。在真空设备内对显示板或半导体进行处理前，需要对真空设备进行抽真空处理，例如，一般真空设备内真空度要达到10-5个大气压以上。在真空条件下，真空设备的盖板与本体之间，会形成一个很大的吸力F。在F作用力下，真空设备盖板的下板面与本体的上端面之间形成平面贴合并压缩两者之间的O型密封圈，达到密封性能。

虽然这种密封能够满足需求，但本申请人在实际生产中也发现存在缺陷，也就是，本体内形成的真空腔室内会经常出现一些微粒，一旦抽真空后，这些微粒不易清除，从而会影响真空腔室的洁净度，如果不被及时发现，则会影响真空腔室内生产的产品例如显示板或半导体的性能。

发明内容

针对以上现有技术中存在的缺陷，本发明的第一方面的目的是提供一种真空设备盖板，该真空设备盖板在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。

为了实现上述目的，第一方面，本发明提供一种真空设备盖板，所述真空设备盖板包括板体，所述板体包括密封接触板部，所述密封接触板部包括内侧板面，所述内侧板面用于与真空设备本体的内腔的腔侧壁的腔开口外端面接触，以能够在挤压方向上挤压所述腔开口外端面的密封槽内设置的密封圈，以使得所述板体用于能够封盖所述腔开口，其中，所述内侧板面上形成有朝向所述密封接触板部的内部延伸的凹槽，所述凹槽具有用于与所述密封槽的内侧槽壁的延伸形状相对应的延伸形状，并且所述凹槽具有允许所述内侧槽壁的槽壁外端面在所述挤压方向上的投影位于所述凹槽内的宽度，以使得所述凹槽的槽底面用于在所述挤压方向上与所述槽壁外端面保持间距。

在该技术方案中，真空设备盖板的板体的密封接触板部的内侧板面上形成有朝向密封接触板部的内部延伸的凹槽，而凹槽具有用于与密封槽的内侧槽壁的延伸形状相对应的延伸形状，并且凹槽具有允许内侧槽壁的槽壁外端面在挤压方向上的投影位于凹槽内的宽度，以使得凹槽的槽底面用于在挤压方向上与槽壁外端面保持间距。这样，该真空设备盖板在实际使用中，真空设备盖板可以与真空设备本体配套使用，真空设备本体包括具有腔开口的内腔，内腔的腔侧壁包括用于朝向内侧板面的腔开口外端面，腔开口外端面上形成有密封槽，密封槽包括内侧槽壁和外侧槽壁，密封槽内设置有密封圈，真空设备盖板盖合在真空设备本体上后，内侧板面在挤压方向上抵压腔开口外端面以挤压密封槽内设置的密封圈而封盖腔开口，此时，密封槽的内侧槽壁在挤压方向上的投影将位于凹槽内，同时，凹槽的槽底面在挤压方向上和内侧槽壁的槽壁外端面将保持间距，这可以避免真空设备盖板的内侧板面挤压密封槽的内侧槽壁，以避免内侧槽壁的槽壁外端面由于压伤和磨损而产生微粒以污染真空腔室，即便是真空度不断增加而使得吸力F逐渐增大或者甚至使真空设备盖板产生一定的形变。因此，该真空设备盖板在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。

根据本发明的一种实施方式，所述凹槽的深度为0.5mm-1.0mm。

根据本发明的一种实施方式，所述凹槽的所述宽度配置为用于大于所述槽壁外端面的宽度。

根据本发明的一种实施方式，所述凹槽的宽度配置为在所述真空设备盖板封盖所述真空设备本体的内腔的腔开口时，以所述内腔的内外为方向基准，所述凹槽的外置内侧表面靠近所述内侧槽壁的槽壁外侧面布置以在所述外置内侧表面和所述槽壁外侧面之间形成第一间隙，所述凹槽的内置内侧表面远离所述内侧槽壁的槽壁内侧面布置以在所述内置内侧表面和所述槽壁内侧面之间形成大于所述第一间隙的第二间隙。

根据本发明的一种实施方式，所述凹槽的深度配置为在所述内腔的由外向内的方向上逐渐增大。

针对以上现有技术中存在的缺陷，本发明的第二方面的目的是提供一种真空设备本体，该真空设备本体在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。

为了实现上述目的，第二方面，本发明提供一种真空设备本体，所述真空设备本体包括具有腔开口的内腔，其中，所述内腔的腔侧壁的腔开口外端面上形成有用于设置密封圈的密封槽，其中，所述密封槽包括内侧槽壁和外侧槽壁，在所述密封槽的深度方向上，所述内侧槽壁低于所述外侧槽壁预设距离，以使得真空设备盖板的内侧板面能够在接触所述外侧槽壁的外端面以挤压密封圈以封盖所述腔开口时与所述内侧槽壁的槽壁外端面保持间距。

在该技术方案中，由于在密封槽的深度方向上，内侧槽壁低于外侧槽壁预设距离，以使得真空设备盖板的内侧板面能够在接触外侧槽壁的外端面以挤压密封圈以封盖腔开口时与内侧槽壁的槽壁外端面保持间距，这样，该真空设备本体在实际使用中，可以将密封圈设置在密封槽内，真空设备盖板盖合在真空设备本体上后，真空设备盖板的内侧板面在挤压方向上抵压腔开口外端面以挤压密封槽内设置的密封圈而封盖腔开口，此时，真空设备盖板的内侧板面与密封槽的内侧槽壁的槽壁外端面在挤压方向上保持间距，这可以避免真空设备盖板的内侧板面挤压密封槽的内侧槽壁，以避免内侧槽壁的槽壁外端面由于压伤和磨损而产生微粒以污染真空腔室，即便是真空度不断增加而使得吸力F逐渐增大或者甚至使真空设备盖板产生一定的形变。因此，该真空设备本体在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。

根据本发明的一种实施方式，所述预设距离为0.5mm-1.0mm。

根据本发明的一种实施方式，所述槽壁外端面在所述内腔的从外向内的方向上倾斜，以使得所述预设距离从外向内逐渐增大。

针对以上现有技术中存在的缺陷，本发明的第三方面的目的是提供一种真空设备，该真空设备在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。

为了实现上述目的，第三方面，本发明提供一种真空设备，该真空设备包括真空设备盖板和真空设备本体，所述真空设备盖板具有内侧板面；所述真空设备本体包括具有腔开口的内腔，所述内腔的腔侧壁包括用于朝向所述内侧板面的腔开口外端面；其中，所述内侧板面和所述腔开口外端面之间具有设置密封圈的密封槽，所述密封槽包括内侧槽壁和外侧槽壁；其中，所述内侧板面在挤压方向上抵压所述腔开口外端面以挤压所述密封槽内设置的密封圈而封盖所述腔开口时，所述内侧板面和所述腔开口外端面之间具有在所述挤压方向上与所述内侧槽壁的槽壁外端面对应的间距，并且所述内侧槽壁的槽壁外端面在所述挤压方向上的投影位于所述间距内，以使得所述内侧槽壁的外端面在所述挤压方向上未受到挤压。

在该技术方案中，由于内侧板面和腔开口外端面之间具有设置密封圈的密封槽，密封槽包括内侧槽壁和外侧槽壁；内侧板面在挤压方向上抵压腔开口外端面以挤压密封槽内设置的密封圈而封盖腔开口时，内侧板面和腔开口外端面之间具有在挤压方向上与内侧槽壁的槽壁外端面对应的间距，并且内侧槽壁的槽壁外端面在挤压方向上的投影位于间距内，以使得内侧槽壁的外端面在挤压方向上未受到挤压。这样，这可以避免真空设备盖板的内侧板面挤压密封槽的内侧槽壁，以避免内侧槽壁的槽壁外端面由于压伤和磨损而产生微粒以污染真空腔室，即便是真空度不断增加而使得吸力F逐渐增大或者甚至使真空设备盖板产生一定的形变。因此，该真空设备本体在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。

一种实施方式中，所述真空设备盖板为以上第一方面中任意所述的真空设备盖板，所述密封槽形成在所述腔开口外端面上。

另一种实施方式中，所述真空设备本体为以上第二方面中任意所述的真空设备本体。

显而易见，在以上单个实施方式中描述的元件或特征可以在其它实施方式中单独或组合使用。

附图说明

在附图中，尺寸和比例不代表实际产品的尺寸和比例。附图仅仅是说明性的，并且为了清楚起见，省略了某些非必要的元件或特征。

图1是示例性地示出了根据本发明的一种实施方式的真空设备的一个位置的剖视图。

图2是图1中的圆圈部分的放大结构示意图。

图3是示例性地示出了根据本发明的另一种实施方式的真空设备的局部结构放大示意图。

附图标记说明

1-真空设备盖板，2-板体，3-密封接触板部，4-内侧板面，5-真空设备本体，6-内腔，7-腔侧壁，8-腔开口外端面，9-密封槽，10-密封圈，11-凹槽，12-内侧槽壁，13-槽壁外端面，14-槽底面，15-外置内侧表面，16-槽壁外侧面，17-第一间隙，18-内置内侧表面，19-槽壁内侧面，20-第二间隙。

具体实施方式

接下来将参照附图详细描述本发明的弹性模块及弹性垫。这里所描述的仅仅是根据本发明的优选实施方式，本领域技术人员可以在所述优选实施方式的基础上想到能够实现本发明的其他方式，所述其他方式同样落入本发明的范围。

第一方面，参考图1和图2，本发明提供的真空设备盖板1包括板体2，板体2包括密封接触板部3，密封接触板部3包括内侧板面4，内侧板面4用于与真空设备本体5的内腔6的腔侧壁7的腔开口外端面8接触，以能够在挤压方向上挤压腔开口外端面8的密封槽9内设置的密封圈10，以使得板体2用于能够封盖腔开口，其中，内侧板面4上形成有朝向密封接触板部3的内部延伸的凹槽11，凹槽11具有用于与密封槽9的内侧槽壁12的延伸形状相对应的延伸形状，并且凹槽11具有允许内侧槽壁12的槽壁外端面13在挤压方向上的投影位于凹槽11内的宽度，以使得凹槽11的槽底面14用于在挤压方向上与槽壁外端面13保持间距。

在该真空设备盖板1中，真空设备盖板1的板体2的密封接触板部3的内侧板面4上形成有朝向密封接触板部3的内部延伸的凹槽11，而凹槽11具有用于与密封槽9的内侧槽壁12的延伸形状相对应的延伸形状，并且凹槽11具有允许内侧槽壁12的槽壁外端面13在挤压方向上的投影位于凹槽11内的宽度，以使得凹槽11的槽底面14用于在挤压方向上与槽壁外端面13保持间距。这样，该真空设备盖板1在实际使用中，真空设备盖板1可以与真空设备本体配套使用，真空设备本体包括具有腔开口的内腔，内腔的腔侧壁包括用于朝向内侧板面的腔开口外端面8，腔开口外端面8上形成有密封槽9，密封槽9包括内侧槽壁12和外侧槽壁，密封槽9内设置有密封圈10，真空设备盖板1盖合在真空设备本体上后，内侧板面4在挤压方向上抵压腔开口外端面8以挤压密封槽9内设置的密封圈10而封盖腔开口，由于凹槽的存在，可以使得内侧板面4更加压紧密封圈，更加能提高整个真空设备的密封效果，使真空设备更容易达到真空要求，此时，密封槽9的内侧槽壁12在挤压方向上的投影将位于凹槽11内，同时，凹槽11的槽底面14在挤压方向上和内侧槽壁12的槽壁外端面13将保持间距，这可以避免真空设备盖板的内侧板面4挤压密封槽9的内侧槽壁12，以避免内侧槽壁的槽壁外端面13由于压伤和磨损而产生微粒以污染真空腔室，即便是真空度不断增加而使得吸力F逐渐增大或者甚至使真空设备盖板产生一定的形变。因此，该真空设备盖板在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。

在该真空设备盖板1中，凹槽11可以具有任何所需的深度，例如，凹槽11的深度可以为0.2-1.5mm，优选地为0.5mm-1.0mm，更优选地为0.7mm或0.8mm。这样，在实际使用中，随着真空设备的真空度不断增大，吸力不断增强的情况下，凹槽11的深度可以始终确保真空设备盖板与真空设备本体之间保持间距，这可以根本上避免真空设备盖板和真空设备本体之间出现压伤，磨损及污染，减少微粒等污染产品的产生。

另外，在真空设备盖板1中，凹槽11的宽度可以配置为与槽壁外端面13的宽度相同。或者，凹槽11的宽度配置为用于大于槽壁外端面13的宽度。这样，可以进一步避免真空设备盖板和真空设备本体之间出现压伤。

另外，参考图2，凹槽11的宽度配置为在真空设备盖板封盖真空设备本体5的内腔6的腔开口时，以内腔6的内外为方向基准，凹槽11的外置内侧表面15靠近内侧槽壁12的槽壁外侧面16布置以在外置内侧表面15和槽壁外侧面16之间形成第一间隙17，凹槽11的内置内侧表面18远离内侧槽壁12的槽壁内侧面19布置以在内置内侧表面18和槽壁内侧面19之间形成大于第一间隙17的第二间隙20。这样，由于第二间隙20大于第一间隙17，这样，即便是真空设备盖板在增大的真空度的作用下发生变形，内侧板面和内侧槽壁12的槽壁外端面13也将始终保持间距，这可以避免真空设备盖板的内侧板面4挤压密封槽9的内侧槽壁12，以避免内侧槽壁的槽壁外端面13由于压伤和磨损而产生微粒以污染真空腔室。

另外，凹槽11的深度可以始终不变。或者，凹槽11的深度配置为在内腔6的由外向内的方向上逐渐增大。例如，凹槽11的槽底面14可以倾斜布置，使得凹槽11的深度在内腔6的由外向内的方向上逐渐增大，这样，即便是真空设备盖板在增大的真空度的作用下发生较大变形，内侧板面和内侧槽壁12的槽壁外端面13也将始终保持间距，这可以避免真空设备盖板的内侧板面4挤压密封槽9的内侧槽壁12的槽壁外端面13的内边缘，以避免内侧槽壁的槽壁外端面13由于压伤和磨损而产生微粒以污染真空腔室。

第二方面，参考图3，本发明提供的真空设备本体5包括具有腔开口的内腔6，其中，内腔6的腔侧壁7的腔开口外端面8上形成有用于设置密封圈10的密封槽9，其中，密封槽9包括内侧槽壁12和外侧槽壁21，在密封槽9的深度方向上，内侧槽壁12低于外侧槽壁21预设距离，以使得真空设备盖板1的内侧板面4能够在接触外侧槽壁21的外端面以挤压密封圈10以封盖腔开口时与内侧槽壁12的槽壁外端面13保持间距。

在该真空设备本体5中，由于在密封槽9的深度方向上，内侧槽壁12低于外侧槽壁21预设距离，以使得真空设备盖板的内侧板面能够在接触外侧槽壁21的外端面以挤压密封圈10以封盖腔开口时与内侧槽壁12的槽壁外端面13保持间距，这样，该真空设备本体在实际使用中，可以将密封圈10设置在密封槽9内，真空设备盖板盖合在真空设备本体上后，真空设备盖板的内侧板面在挤压方向上抵压腔开口外端面以挤压密封槽内设置的密封圈而封盖腔开口，由于预设距离的存在，可以使得内侧板面4更加压紧密封圈，更加能提高整个真空设备的密封效果，使真空设备更容易达到真空要求，此时，真空设备盖板的内侧板面与密封槽的内侧槽壁12的槽壁外端面13在挤压方向上保持间距，这可以避免真空设备盖板的内侧板面挤压密封槽的内侧槽壁的槽壁外端面13，以避免内侧槽壁的槽壁外端面由于压伤和磨损而产生微粒以污染真空腔室，即便是真空度不断增加而使得吸力F逐渐增大或者甚至使真空设备盖板产生一定的形变。因此，该真空设备本体在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。

在该真空设备本体5中，预设距离可以具有任何所需的数值，例如，预设距离可以为0.2-1.5mm，优选地为0.5mm-1.0mm，更优选地为0.7mm或0.8mm。这样，在实际使用中，随着真空设备的真空度不断增大，吸力不断增强的情况下，预设距离可以始终确保真空设备盖板与真空设备本体之间保持间距，这可以根本上避免真空设备盖板和真空设备本体之间出现压伤，磨损及污染，减少微粒等污染产品的产生。

另外，槽壁外端面13可以为平直外端面。或者，槽壁外端面13在内腔6的从外向内的方向上倾斜，以使得预设距离从外向内逐渐增大。这样，即便是真空设备盖板在增大的真空度的作用下发生较大变形，内侧板面和内侧槽壁12的槽壁外端面13也将始终保持间距，这可以避免真空设备盖板的内侧板面4挤压密封槽9的内侧槽壁12的槽壁外端面13的内边缘，以避免内侧槽壁的槽壁外端面13由于压伤和磨损而产生微粒以污染真空腔室。

第三方面，本发明提供一种真空设备，该真空设备包括真空设备盖板和真空设备本体，其中，真空设备盖板具有内侧板面，真空设备本体包括具有腔开口的内腔，内腔的腔侧壁包括用于朝向内侧板面的腔开口外端面；其中，内侧板面和腔开口外端面之间具有设置密封圈的密封槽，密封槽包括内侧槽壁和外侧槽壁；其中，内侧板面在挤压方向上抵压腔开口外端面以挤压密封槽内设置的密封圈而封盖腔开口时，内侧板面和腔开口外端面之间具有在挤压方向上与内侧槽壁的槽壁外端面对应的间距，并且内侧槽壁的槽壁外端面在挤压方向上的投影位于间距内，以使得内侧槽壁的外端面在挤压方向上未受到挤压。

在该真空设备中，由于内侧板面和腔开口外端面之间具有设置密封圈的密封槽，密封槽包括内侧槽壁和外侧槽壁；内侧板面在挤压方向上抵压腔开口外端面以挤压密封槽内设置的密封圈而封盖腔开口时，由于间距的存在，可以使得内侧板面更加压紧密封圈，更加能提高整个真空设备的密封效果，使真空设备更容易达到真空要求，同时，内侧板面和腔开口外端面之间具有在挤压方向上与内侧槽壁的槽壁外端面对应的间距，并且内侧槽壁的槽壁外端面在挤压方向上的投影位于间距内，以使得内侧槽壁的外端面在挤压方向上未受到挤压。这样，这可以避免真空设备盖板的内侧板面挤压密封槽的内侧槽壁，以避免内侧槽壁的槽壁外端面由于压伤和磨损而产生微粒以污染真空腔室，即便是真空度不断增加而使得吸力F逐渐增大或者甚至使真空设备盖板产生一定的形变。因此，该真空设备本体在能够确保真空密封性能的同时，避免在真空腔室内产生微粒，从而提升真空腔室内的洁净度，提升产品的成品率。

该真空设备可以具有多种结构形式，例如，一种结构形式中，密封槽可以形成在真空设备盖板上，此时，密封槽的内侧槽壁可以低于外侧槽壁。这同样可以形成有上述的间距，并且内侧槽壁的槽壁外端面在挤压方向上的投影位于间距内，以使得内侧槽壁的外端面在挤压方向上未受到挤压。或者，另一种结构形式中，密封槽可以形成在真空设备盖板上，真空设备本体的内腔的腔侧壁的腔开口外端面上形成有凹槽，密封槽的内侧槽壁在挤压方向上的投影可以落在凹槽的范围内，这同样可以形成有上述的间距，并且内侧槽壁的槽壁外端面在挤压方向上的投影位于间距内，以使得内侧槽壁的外端面在挤压方向上未受到挤压。或者，在其他结构形式中，真空设备盖板上形成有第一密封槽，真空设备本体的内腔的腔侧壁的腔开口外端面上形成有与第一密封槽在挤压方向上对齐的第二密封槽，此时，第一密封槽的内侧槽壁可以低于外侧槽壁，和/或，第二密封槽的内侧槽壁可以低于外侧槽壁，这同样可以形成有上述的间距，并且内侧槽壁的槽壁外端面在挤压方向上的投影位于间距内，以使得内侧槽壁的外端面在挤压方向上未受到挤压。

或者，在其他可选择的结构形式中，参考图1和图2，真空设备盖板为以上第一方面中任意所述的真空设备盖板1，密封槽9形成在腔开口外端面8上。此时，密封槽9的内侧槽壁和外侧槽壁可以齐平布置。

或者，在其他可选择的结构形式中，参考图3，真空设备本体为以上第二方面中任意所述的真空设备本体5。此时，真空设备盖板的内侧板面可以齐平延伸。

本发明的保护范围仅由权利要求限定。得益于本发明的教导，本领域技术人员容易认识到可将本发明所公开结构的替代结构作为可行的替代实施方式，并且可将本发明所公开的实施方式进行组合以产生新的实施方式，它们同样落入所附权利要求书的范围内。

Claims (11)

1.一种真空设备盖板，其特征在于，所述真空设备盖板（1）包括板体（2），所述板体（2）包括密封接触板部（3），所述密封接触板部（3）包括内侧板面（4），所述内侧板面（4）用于与真空设备本体（5）的内腔（6）的腔侧壁（7）的腔开口外端面（8）接触，以能够在挤压方向上挤压所述腔开口外端面（8）的密封槽（9）内设置的密封圈（10），以使得所述板体（2）用于能够封盖所述腔开口，其中，所述内侧板面（4）上形成有朝向所述密封接触板部（3）的内部延伸的凹槽（11），所述凹槽（11）具有用于与所述密封槽（9）的内侧槽壁（12）的延伸形状相对应的延伸形状，并且所述凹槽（11）具有允许所述内侧槽壁（12）的槽壁外端面（13）在所述挤压方向上的投影位于所述凹槽（11）内的宽度，以使得所述凹槽（11）的槽底面（14）用于在所述挤压方向上与所述槽壁外端面（13）保持间距。

2.根据权利要求1所述的真空设备盖板，其特征在于，所述凹槽（11）的深度为0.5mm-1.0mm。

3.根据权利要求1所述的真空设备盖板，其特征在于，所述凹槽（11）的所述宽度配置为用于大于所述槽壁外端面（13）的宽度。

4.根据权利要求3所述的真空设备盖板，其特征在于，所述凹槽（11）的宽度配置为在所述真空设备盖板封盖所述真空设备本体（5）的内腔（6）的腔开口时，以所述内腔（6）的内外为方向基准，所述凹槽（11）的外置内侧表面（15）靠近所述内侧槽壁（12）的槽壁外侧面（16）布置以在所述外置内侧表面（15）和所述槽壁外侧面（16）之间形成第一间隙（17），所述凹槽（11）的内置内侧表面（18）远离所述内侧槽壁（12）的槽壁内侧面（19）布置以在所述内置内侧表面（18）和所述槽壁内侧面（19）之间形成大于所述第一间隙（17）的第二间隙（20）。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的真空设备盖板，其特征在于，所述凹槽（11）的深度配置为在所述内腔（6）的由外向内的方向上逐渐增大。

6.一种真空设备本体，其特征在于，所述真空设备本体（5）包括具有腔开口的内腔（6），其中，所述内腔（6）的腔侧壁（7）的腔开口外端面（8）上形成有用于设置密封圈（10）的密封槽（9），其中，所述密封槽（9）包括内侧槽壁（12）和外侧槽壁（21），在所述密封槽（9）的深度方向上，所述内侧槽壁（12）低于所述外侧槽壁（21）预设距离，以使得真空设备盖板（1）的内侧板面（4）能够在接触所述外侧槽壁（21）的外端面以挤压密封圈（10）以封盖所述腔开口时与所述内侧槽壁（12）的槽壁外端面（13）保持间距。

7.根据权利要求6所述的真空设备本体，其特征在于，所述预设距离为0.5mm-1.0mm。

8.根据权利要求6或7所述的真空设备本体，其特征在于，所述槽壁外端面（13）在所述内腔（6）的从外向内的方向上倾斜，以使得所述预设距离从外向内逐渐增大。

9.一种真空设备，其特征在于，包括

真空设备盖板，所述真空设备盖板具有内侧板面；

真空设备本体，所述真空设备本体包括具有腔开口的内腔，所述内腔的腔侧壁包括用于朝向所述内侧板面的腔开口外端面；

其中，所述内侧板面和所述腔开口外端面之间具有设置密封圈的密封槽，所述密封槽包括内侧槽壁和外侧槽壁；

其中，所述内侧板面在挤压方向上抵压所述腔开口外端面以挤压所述密封槽内设置的密封圈而封盖所述腔开口时，所述内侧板面和所述腔开口外端面之间具有在所述挤压方向上与所述内侧槽壁的槽壁外端面对应的间距，并且所述内侧槽壁的槽壁外端面在所述挤压方向上的投影位于所述间距内，以使得所述内侧槽壁的外端面在所述挤压方向上未受到挤压。

10.根据权利要求9所述的真空设备，其特征在于，所述真空设备盖板为权利要求1-5中任意一项所述的真空设备盖板（1），所述密封槽（9）形成在所述腔开口外端面（8）上。

11.根据权利要求9所述的真空设备，其特征在于，所述真空设备本体为权利要求6-8中任意一项所述的真空设备本体（5）。

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