CN114381795A - 直拉单晶炉水冷屏装置及单晶炉 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种直拉单晶炉水冷屏装置及单晶炉,属于水冷屏装置的技术领域,包括水冷屏,所述水冷屏的下端设置圆环形护套,所述圆环形护套与所述水冷屏的下端连接,水冷屏上部分为不锈钢结构,而单晶炉内的加热器的加热温度为1450℃,炉腔内的环境温度在1000℃以上,不锈钢的耐高温温度为1000℃,在单晶炉内炉内温度过高容易造成不锈钢水冷屏高温熔断或爆裂,因此采用圆环形护套将水冷屏和圆环形护套固定在石英坩埚上方,避免水冷热屏高温熔断或爆裂,同时通过圆环形护套能够延伸水冷屏的长度,延伸水冷热屏的热折射,有效保证单晶炉内良好的温度梯度。
Description
技术领域
本发明涉及水冷屏装置技术领域,具体涉及一种直拉单晶炉水冷屏装置及单晶炉。
背景技术
直拉单晶炉中设置有水冷屏装置,用于单晶炉内制造均匀的热场,为了进一步提高单晶棒的冷却速率,水冷屏的下端距硅溶液的表面越近越好,但是现有技术中,水冷屏的下端距硅溶液的表面的距离不能太近,否则水冷屏容易因膨胀而爆裂。
发明内容
有鉴于此,针对上述不足,有必要提出一种防止水冷屏爆裂的直拉单晶炉水冷屏装置。
还有必要提出一种单晶炉。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种直拉单晶炉水冷屏装置,包括:水冷屏,所述水冷屏的下端设置圆环形护套,所述圆环形护套与所述水冷屏的下端连接。
优选地,所述圆环形护套的材料为石墨。
优选地,所述水冷屏还包括石墨螺栓,所述水冷屏的下端通过石墨螺栓与所述圆环形护套连接。
优选地,所述水冷屏的外侧壁两端相对设置固定杆。
优选地,所述水冷屏为上下开口的筒状,所述水冷屏的开口上大下小。
优选地,所述水冷屏的内侧壁设置有凹坑,以形成漫反射,提高拉晶速率。
优选地,所述凹坑为圆形。
优选地,所述凹坑为椭圆形。
一种单晶炉,包括导流筒,包括如上所述的直拉单晶炉水冷屏装置,所述导流筒与单晶炉的内壁连接,所述水冷屏位于所述导流筒的上方,且所述水冷屏的上端与单晶炉的内壁连接,所述导流筒套在所述水冷屏的外壁。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:
水冷屏上部分为不锈钢结构,而单晶炉内的加热器的加热温度为1450℃,炉腔内的环境温度在1000℃以上,不锈钢的耐高温温度为1000℃,在单晶炉内炉内温度过高容易造成不锈钢水冷屏高温熔断或爆裂,因此采用圆环形护套将水冷屏和圆环形护套固定在石英坩埚上方,避免水冷热屏高温熔断或爆裂,同时通过圆环形护套能够延伸水冷屏的长度,延伸水冷热屏的热折射,有效保证单晶炉内良好的温度梯度,并且现有技术中水冷屏的另一端需要距离硅溶液页面60mm以上,否则水冷屏200容易因膨胀而爆裂,所述圆环形护套使得水冷屏距硅溶液的液面更加接近,更加利于单晶棒的冷却,且水冷屏不易炸裂。
附图说明
图1为水冷屏距石英坩埚的结构示意图。
图2为单晶炉的剖视图。
图3为水冷屏的结构示意图。
图中:导流筒100、水冷屏200、凹坑210、圆环形护套220、固定杆230。
具体实施方式
以下结合本发明的附图,对本发明实施例的技术方案以及技术效果做进一步的详细阐述。
请参看图1至图3,一种直拉单晶炉水冷屏装置,包括:水冷屏200,所述水冷屏200的下端设置圆环形护套220,所述圆环形护套220与所述水冷屏200的下端连接。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:
水冷屏200上部分为不锈钢结构,而单晶炉内的加热器的加热温度为1450℃,炉腔内的环境温度在1000℃以上,不锈钢的耐高温温度为1000℃,在单晶炉内炉内温度过高容易造成不锈钢水冷屏200高温熔断或爆裂,因此采用石墨做成的圆环形护套220将水冷屏200和圆环形护套220固定在石英坩埚上方,石墨做成的圆环形护套220的耐高温温度达4000℃,在水冷热屏下端连接石墨做成的圆环形护套220,避免水冷热屏高温熔断或爆裂,同时通过石墨做成的圆环形护套220能够延伸水冷屏200的长度,延伸水冷热屏的热折射,有效保证单晶炉内良好的温度梯度,并且现有技术中水冷屏200的另一端需要距离硅溶液页面60mm以上,否则水冷屏200容易因膨胀而爆裂,所述圆环形护套220使得水冷屏200距硅溶液的液面更加接近,更加利于单晶棒的冷却,且水冷屏200不易炸裂。
进一步的,所述圆环形护套220的材料为石墨,石墨的导热、耐热性能好。
进一步的,所述水冷屏200还包括石墨螺栓,所述水冷屏200的下端通过石墨螺栓与所述圆环形护套220连接。
进一步的,所述水冷屏200的外侧壁两端相对设置固定杆230,用于将水冷屏200焊接在单晶炉内腔壁上,进行固定。
进一步的,所述水冷屏200为上下开口的筒状,所述水冷屏200的开口上大下小。
进一步的,所述水冷屏200的内侧壁设置有凹坑210,以形成漫反射,提高拉晶速率。
具体的,单晶炉加热器位于炉体底部,布设于坩埚底部或侧壁上,单晶硅拉制过程中,加热器的温度自加热炉底部向上折射,本发明在所述水冷屏200的内侧壁设置凹坑210,在凹坑210处形成漫反射,使得散热效率提高,并且通过凹坑210能够增加水冷屏200的热折射方向,使得热折射向上,减少热折射直接折射在晶棒上,利于晶棒的降温,且所述凹坑210增大水冷屏200散热面积,且增加了水冷屏200的吸热效率,提高加热炉腔内散热效率,进而使得单晶棒拉制的过程中拉速提高,进而拉制单晶棒的产率提高。
并且在凹坑210中,热辐射能够形成涡旋气流,增加水冷屏200的散热;相对于现有技术,如果在水冷屏200上设置凸起,会改变热折射的方向,使得热折射向下,使得热折射折射在晶棒上或硅溶液上,不利于散热,而本发明是凹坑210,增加水冷屏200的热折射方向,使得热折射向上,减少热折射直接折射在晶棒上,利于晶棒的降温。
进一步的,所述凹坑210均匀分布在所述水冷屏200的内侧壁上。
进一步的,所述凹坑210为圆形,使得热折射的方向向上,增大水冷屏200的散热面。
进一步的,所述凹坑210为椭圆形。
进一步的,所述水冷屏200为不锈钢材质。
进一步的,所述水冷屏200表面涂覆有涂层。
进一步的,所述水冷屏200与所述单晶炉的中轴线夹角a为15°/2-20°。
一种单晶炉,包括导流筒100,包括如上所述的直拉单晶炉水冷屏装置,所述导流筒100与单晶炉的内壁连接,所述水冷屏200位于所述导流筒100的上方,且所述水冷屏200的上端与单晶炉的内壁连接,所述导流筒100套在所述水冷屏200的外壁。
一种提高拉晶速率的方法,利用所述的单晶炉,具体步骤如下:
将晶棒以1.8mm/min-2.0mm/min的拉速从单晶炉内拉出。
具体的通过以下实施例、对比例进行说明;
实施例:将导流筒100安装在单晶炉的内壁上,再将水冷屏200设置在导流筒100的
上方,水冷屏200内壁设置均匀的圆形凹坑210,水冷屏200的一端与单晶炉的内壁连接;对
比例:将导流筒100安装在单晶炉的内壁上,再将水冷屏200设置在导流筒100的上方,水冷
屏200内壁光滑,水冷屏200的一端与单晶炉的内壁连接;通过实施例与对比例的装置拉制
晶棒,晶棒的拉速如下表所示:
实施例 | 对比例 | |
拉速 | 1.8mm/min-2.0mm/min | 0.9mm/min-1.5mm/min |
通过上表能够得出,在其他参数相同的情况下,在水冷屏上200设置均匀的圆形凹坑210,使得拉晶速度提高,且拉晶速度提高至原来的2倍,这是因为在水冷屏上设置凹坑210,在凹坑210处形成漫反射,使得散热效率提高,并且通过凹坑能够增加水冷屏200的热折射方向,使得热折射向上,减少热折射直接折射在晶棒上,利于晶棒的降温,且所述凹坑210增大水冷屏散热面积,且增加了水冷屏200的吸热效率,提高加热炉腔内散热效率,进而使得单晶棒拉制的过程中拉速提高,进而拉制单晶棒的产率提高。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范围,本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程,并依本发明权利要求所作的等同变化,仍属于发明所涵盖的范围。
Claims (9)
1.一种直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,包括:水冷屏,所述水冷屏的下端设置圆环形护套,所述圆环形护套与所述水冷屏的下端连接。
2.根据权利要求1所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述圆环形护套的材料为石墨。
3.根据权利要求2所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏还包括石墨螺栓,所述水冷屏的下端通过石墨螺栓与所述圆环形护套连接。
4.根据权利要求3所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏的外侧壁两端相对设置固定杆。
5.根据权利要求4所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏为上下开口的筒状,所述水冷屏的开口上大下小。
6.根据权利要求5所述的直拉单晶炉水冷屏装置,,其特征在于,所述水冷屏的内侧壁设置有凹坑,以形成漫反射,提高拉晶速率。
7.根据权利要求6所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述凹坑为圆形。
8.根据权利要求6所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述凹坑为椭圆形。
9.一种单晶炉,包括导流筒,其特征在于,包括如权利要求1所述的直拉单晶炉水冷屏装置,所述导流筒与单晶炉的内壁连接,所述水冷屏位于所述导流筒的上方,且所述水冷屏的上端与单晶炉的内壁连接,所述导流筒套在所述水冷屏的外壁。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114808115A (zh) * | 2022-04-28 | 2022-07-29 | 晶科能源股份有限公司 | 液口距测量方法及液口距测试装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5824152A (en) * | 1996-07-09 | 1998-10-20 | Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. | Semiconductor single-crystal pulling apparatus |
JP2002255682A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体単結晶製造装置及びそれを用いた半導体単結晶の製造方法 |
JP2007191353A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 輻射シールド及びそれを具備する単結晶引上装置 |
CN212316278U (zh) * | 2020-04-28 | 2021-01-08 | 四川晶科能源有限公司 | 一种拉晶生长装置及单晶硅生产设备 |
CN214400796U (zh) * | 2020-11-17 | 2021-10-15 | 包头晶澳太阳能科技有限公司 | 一种导流筒 |
CN214529320U (zh) * | 2020-12-24 | 2021-10-29 | 晶澳太阳能有限公司 | 单晶炉 |
CN214937958U (zh) * | 2021-07-20 | 2021-11-30 | 宁夏协鑫晶体科技发展有限公司 | 一种增大单晶硅棒纵向温度梯度的装置 |
-
2021
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5824152A (en) * | 1996-07-09 | 1998-10-20 | Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. | Semiconductor single-crystal pulling apparatus |
JP2002255682A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体単結晶製造装置及びそれを用いた半導体単結晶の製造方法 |
JP2007191353A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 輻射シールド及びそれを具備する単結晶引上装置 |
CN212316278U (zh) * | 2020-04-28 | 2021-01-08 | 四川晶科能源有限公司 | 一种拉晶生长装置及单晶硅生产设备 |
CN214400796U (zh) * | 2020-11-17 | 2021-10-15 | 包头晶澳太阳能科技有限公司 | 一种导流筒 |
CN214529320U (zh) * | 2020-12-24 | 2021-10-29 | 晶澳太阳能有限公司 | 单晶炉 |
CN214937958U (zh) * | 2021-07-20 | 2021-11-30 | 宁夏协鑫晶体科技发展有限公司 | 一种增大单晶硅棒纵向温度梯度的装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114808115A (zh) * | 2022-04-28 | 2022-07-29 | 晶科能源股份有限公司 | 液口距测量方法及液口距测试装置 |
CN114808115B (zh) * | 2022-04-28 | 2023-08-15 | 晶科能源股份有限公司 | 液口距测量方法及液口距测试装置 |
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