CN114369865A - 直拉单晶炉水冷屏装置及单晶炉 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种直拉单晶炉水冷屏装置,属于提高晶棒收率工艺的技术领域,所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为15°/2‑20°,当水冷屏与单晶炉的中轴线夹角为15°/2‑20°时,使得整个热场的温度得到改变,使得晶棒固液界面的中心温度与边缘温度接近,使得晶棒拉出后,晶棒的尾部的截面尽量接近水平,进而晶棒的收率提高。
Description
技术领域
本发明涉及提高晶棒收率工艺技术领域,具体涉及一种直拉单晶炉水冷屏装置及单晶炉。
背景技术
直拉单晶炉中设置有水冷屏装置,用于单晶炉内制造均匀的热场,而水冷屏与单晶炉的中轴线夹角不同时,容易导致拉晶过程中,晶棒的尾部容易凹陷或者凸出,导致晶棒的收率不高。
发明内容
有鉴于此,针对上述不足,有必要提出一种提高晶棒收率的直拉单晶炉水冷屏装置。
还有必要提出一种单晶炉。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种直拉单晶炉水冷屏装置,包括水冷屏,所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为15°/2-20°。
优选地,所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为15°/2-10°。
优选地,所述水冷屏与单晶炉的中轴线夹角为25°/2-35°/2。
优选地,所述水冷屏与单晶炉的中轴线夹角为20°。
优选地,所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为15°/2。
优选地,所述水冷屏的内侧壁设置有凹坑,以形成漫反射,提高拉晶速率。
优选地,所述水冷屏为上下开口的筒状,所述水冷屏的开口上大下小。
优选地,所述凹坑为圆形。
优选地,所述水冷屏的外侧壁两端相对设置固定杆。
一种单晶炉,包括如上所述的直拉单晶炉水冷屏装置。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:
当水冷屏与单晶炉的中轴线夹角为15°/2-20°时,使得整个热场的温度得到改变,使得晶棒固液界面的中心温度与边缘温度接近,使得晶棒拉出后,晶棒的尾部的截面尽量接近水平,进而晶棒的收率提高。
附图说明
图1为单晶炉的剖视图。
图2为水冷屏的结构示意图。
图中:导流筒100、水冷屏200、凹坑210、圆环形护套220、固定杆230。
具体实施方式
以下结合本发明的附图,对本发明实施例的技术方案以及技术效果做进一步的详细阐述。
请参看图1至图2,一种直拉单晶炉水冷屏装置,包括水冷屏200,所述水冷屏200与单晶炉的中轴线夹角a为15°/2-20°。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:
当水冷屏200与单晶炉的中轴线夹角a为15°/2-20°时,使得整个热场的温度得到改变,使得晶棒固液界面的中心温度与边缘温度接近,使得晶棒拉出后,晶棒的尾部的截面尽量接近水平,进而晶棒的收率提高。
进一步的,所述水冷屏200与单晶炉的中轴线夹角a为15°/2-10°。
进一步的,所述水冷屏200与单晶炉的中轴线夹角a为25°/2-35°/2。
进一步的,所述水冷屏200与单晶炉的中轴线夹角a为20°。
进一步的,所述水冷屏200与单晶炉的中轴线夹角a为15°/2。
进一步的,所述水冷屏200的内侧壁设置有凹坑210,以形成漫反射,提高拉晶速率。
单晶炉加热器位于炉体底部,布设于坩埚底部或侧壁上,单晶硅拉制过程中,加热器的温度自加热炉底部向上折射,本发明在所述水冷屏200的内侧壁设置凹坑210,在凹坑210处形成漫反射,使得散热效率提高,并且通过凹坑210能够增加水冷屏200的热折射方向,使得热折射向上,减少热折射直接折射在晶棒上,利于晶棒的降温,且所述凹坑210增大水冷屏200散热面积,且增加了水冷屏200的吸热效率,提高加热炉腔内散热效率,进而使得单晶棒拉制的过程中拉速提高,进而拉制单晶棒的产率提高。
并且在凹坑210中,热辐射能够形成涡旋气流,增加水冷屏200的散热;相对于现有技术,如果在水冷屏200上设置凸起,会改变热折射的方向,使得热折射向下,使得热折射折射在晶棒上或硅溶液上,不利于散热,而本发明是凹坑210,增加水冷屏200的热折射方向,使得热折射向上,减少热折射直接折射在晶棒上,利于晶棒的降温。
进一步的,所述凹坑210均匀分布在所述水冷屏200的内侧壁上。
进一步的,所述水冷屏200为上下开口的筒状,所述水冷屏200的开口上大下小。
进一步的,所述凹坑210为圆形,使得热折射的方向向上,增大水冷屏200的散热面。
进一步的,所述水冷屏200的外侧壁两端相对设置固定杆230,用于将水冷屏200焊接在单晶炉内腔壁上,进行固定。
进一步的,所述水冷屏200的下端设置圆环形护套220,所述圆环形护套220由石墨做成,所述圆环形护套220与所述水冷屏200的下端通过石墨螺栓固定连接;由于水冷屏200上部分为不锈钢结构,而单晶炉内的加热器的加热温度为1450℃,炉腔内的环境温度在1000℃以上,不锈钢的耐高温温度为1000℃,在单晶炉内炉内温度过高容易造成不锈钢水冷屏200高温熔断或爆裂,因此采用石墨做成的圆环形护套220将水冷屏200和圆环形护套220固定在石英坩埚上方,石墨做成的圆环形护套220的耐高温温度达4000℃,在水冷热屏下端连接石墨做成的圆环形护套220,避免水冷热屏高温熔断或爆裂,同时通过石墨做成的圆环形护套220能够延伸水冷屏200的长度,延伸水冷热屏的热折射,有效保证单晶炉内良好的温度梯度,并且现有技术中水冷屏200的另一端需要距离硅溶液页面60mm以上,否则水冷屏200容易因膨胀而爆裂,所述圆环形护套220使得水冷屏200距硅溶液的液面更加接近,且水冷屏200不易炸裂。
进一步的,所述水冷屏200为不锈钢材质。
进一步的,所述水冷屏200表面涂覆有涂层。
一种单晶炉,包括导流筒100,包括如上所述的直拉单晶炉水冷屏装置,所述导流筒100与单晶炉的内壁连接,所述水冷屏200位于所述导流筒100的上方,且所述水冷屏200的上端与单晶炉的内壁连接,所述导流筒100套在所述水冷屏200的外壁。
一种提高拉晶速率的方法,包括导流筒100,利用如上所述直拉单晶炉水冷屏装置实现,具体步骤如下:
步骤一:将导流筒100安装在单晶炉的内壁上,再将水冷屏200设置在导流筒100的上方,且所述水冷屏200的一端与单晶炉的内壁连接;
步骤二:将晶棒以1.8mm/min-2.0mm/min的拉速从单晶炉内拉出。
具体的通过以下实施例、对比例进行说明;
实施例一:将导流筒100安装在单晶炉的内壁上,再将水冷屏200设置在导流筒100
的上方,水冷屏200内壁设置均匀的圆形凹坑210,水冷屏200的一端与单晶炉的内壁连接;
对比例一:将导流筒100安装在单晶炉的内壁上,再将水冷屏200设置在导流筒100的上方,
水冷屏200内壁光滑,水冷屏200的一端与单晶炉的内壁连接;通过实施例一与对比例一的
装置拉制晶棒,晶棒的拉速如下表所示:
实施例一 | 对比例一 | |
拉速 | 1.8mm/min-2.0mm/min | 0.9mm/min-1.5mm/min |
综上所述,通过上表能够得出,在其他参数相同的情况下,在水冷屏200上设置均匀的椭圆凹坑210,使得拉晶速度提高,且拉晶速度提高至原来的2倍,在水冷屏上设置凹坑210,在凹坑210处形成漫反射,使得散热效率提高,并且通过凹坑210能够增加水冷屏200的热折射方向,使得热折射向上,减少热折射直接折射在晶棒上,利于晶棒的降温,且所述凹坑210增大水冷屏200散热面积,且增加了水冷屏200的吸热效率,提高加热炉腔内散热效率,进而使得单晶棒拉制的过程中拉速提高,进而拉制单晶棒的产率提高。
实施例二,将导流筒100安装在单晶炉的内壁上,再将水冷屏200设置在导流筒100的上方,水冷屏200内壁设置均匀的圆形凹坑210,水冷屏200的一端与单晶炉的内壁连接,当所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角a为15°/2-10°,在拉制晶棒时,晶棒的收率为65% 。
实施例三,将导流筒100安装在单晶炉的内壁上,再将水冷屏200设置在导流筒100的上方,水冷屏200内壁设置均匀的圆形凹坑210,水冷屏200的一端与单晶炉的内壁连接,当所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角a为25°/2-35°/2,在拉制晶棒时,晶棒的收率为80%-90% 。
实施例四,将导流筒100安装在单晶炉的内壁上,再将水冷屏200设置在导流筒100的上方,水冷屏200内壁设置均匀的圆形凹坑210,水冷屏200的一端与单晶炉的内壁连接,当所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角a为20°,在拉制晶棒时,晶棒的收率为70% 。
综上所述,通过实施例一、二、三、四可以看出,在水冷屏200上设置凹坑210后,拉晶速率提高至原来的2倍,并且当所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为15°/2-20°时,晶棒的收率得到提高,且当所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为25°/2-35°/2时,晶棒的收率最高。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范围,本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程,并依本发明权利要求所作的等同变化,仍属于发明所涵盖的范围。
Claims (10)
1.一种直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,包括水冷屏,所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为15°/2-20°。
2.根据权利要求1所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为15°/2-10°。
3.根据权利要求1所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为25°/2-35°/2。
4.根据权利要求1所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为20°。
5.根据权利要求1所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏的侧壁与单晶炉的中轴线夹角为15°/2。
6.根据权利要求1所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏的内侧壁设置有凹坑,以形成漫反射,提高拉晶速率。
7.根据权利要求6所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏为上下开口的筒状,所述水冷屏的开口上大下小。
8.根据权利要求7所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述凹坑为圆形。
9.根据权利要求8所述的直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,所述水冷屏的外侧壁两端相对设置固定杆。
10.一种直拉单晶炉水冷屏装置,其特征在于,包括如权利要求1所述的直拉单晶炉水冷屏装置。
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