CN114315139A - 一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法 - Google Patents

一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN114315139A
CN114315139A CN202210066102.8A CN202210066102A CN114315139A CN 114315139 A CN114315139 A CN 114315139A CN 202210066102 A CN202210066102 A CN 202210066102A CN 114315139 A CN114315139 A CN 114315139A
Authority
CN
China
Prior art keywords
glaze
wear
calcined
kaolin
improving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202210066102.8A
Other languages
English (en)
Inventor
杨文端
刘芳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Yonghang New Material Industry Co ltd
Original Assignee
Guangdong Yonghang New Material Industry Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Yonghang New Material Industry Co ltd filed Critical Guangdong Yonghang New Material Industry Co ltd
Priority to CN202210066102.8A priority Critical patent/CN114315139A/zh
Publication of CN114315139A publication Critical patent/CN114315139A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

本发明提供一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法,涉及建材技术领域,所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备材料是由钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土、煅烧土组成。本发明中,该提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料能够使全抛釉成品具更强的耐磨性能,刚玉具有高熔点、高硬度、高比重的特性,能够加强坯釉结合度,并具有提高釉的硬度和耐磨度的作用,石英作为玻璃相形成的主要成分,能有效地增加釉面的硬度,相比现有常规的生产工艺,本发明在淋抛釉工艺后喷多一层薄薄的耐磨釉,其硅铝含量较抛釉高,覆盖在抛釉表面薄薄的一层,抛光后可直接提升抛釉的硬度。

Description

一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法
技术领域
本发明涉及建材技术领域,尤其涉及一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法。
背景技术
在建材中,全抛釉产品作为花色丰富、表面亮洁的一类瓷砖产品,其表层为一层透明釉,不遮盖底釉层上的各种花釉或喷墨打印的呈色效果,抛光时只抛掉透明釉薄薄的一层,抛光后砖面光滑亮洁,色彩绚丽,应用场合广泛,但全抛釉普遍存在釉面耐磨性差、硬度小的问题,这就导致在实际铺贴和应用中,很容易刮花釉面,影响产品的使用寿命,需要进行改进。
中国专利号CN105461226A公开了全生料水晶厚抛釉料,其由以下重量份的组分制成:钾长石20%~25%,钠长石10%~15%,硅灰石20%~25%,滑石10%~15%,高岭土7%~10%,石英粉6%~9%,氧化锌6%~8%,碳酸钡8%~12%,绿柱石1%~5%。本发明所述的全生料水晶厚抛釉料,在其配方中加入了绿柱石,由于绿柱石含有天然矿物稀有金属铍,在烧制水晶厚抛釉过程中金属铍能促进其晶相发育,大幅度降低厚抛釉在熔融过程中的玻璃相的高温黏度,澄清了釉液,改善了排气,从而使釉面清澈透明、更透更亮、美观度好,该种制备方式,对于全抛釉产品的亮度和美观度进行了改善,但在长期使用过程中,依然具有表面容易刮花的问题,需要进行改进。
中国专利号CN112745145A公开了一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法,所述全抛釉施加于砖体上在烧成温度为1200~1220℃、烧成周期为60~80min的条件下烧成后的釉面层中均匀存在直径在20μm以下的气泡,所述全抛釉的原料配方包括:按质量计,茶晶长石22~30%,氧化锌6~9%,碳酸钡12~14%,烧滑石7~9%,高岭土8~10%,325目刚玉6~12%,玻璃熔块23~27%,硅酸锆1~3%。该种全抛釉产品在产品的硬度上具有相应的改进,但相对而言烧制的材料没有进行相关细分,对于加工的参数未进行明确说明,导致成品的加工效果与预期效果有所差异,需要进行改进。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备材料是由钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土、煅烧土组成,且各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石30-35%,烧滑石2-5%,氧化锌5%,石英20-22%,方解石12-15%,刚玉4-7%,高岭土5-7%,煅烧土10-15%。
为了确保钾长石的耐高温性能与硬度系数,本发明的改进有,所述钾长石的密度为2.54-2.57g/cm。
为了对烧滑石的原料进行相关限定,本发明的改进有,所述烧滑石由滑石与矽酸镁组成,所述烧滑石的晶体结构呈层状。
为了使方解石更加易于加工,本发明的改进有,所述方解石为一种碳酸钙矿物,所述方解石原料取样为粒状。
为了避免该全抛釉制品在烧制过程中烧结的情况发生,本发明的改进有,所述石英为低温石英。
为了实现高岭土的混合效果,本发明的改进有,高岭土为软质高岭土,所述软质高岭土砂质含量小于50%,所述煅烧土为煅烧高岭土。
为了达到不同效果,本发明的改进有,各材料由以下重量百分数的组分组成:各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石30%,烧滑石5%,氧化锌5%,石英20%,方解石15%,刚玉5%,高岭土5%,煅烧土15%。
为了达到不同效果,本发明的改进有,各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石33%,烧滑石3%,氧化锌4%,石英22%,方解石13%,刚玉5%,高岭土5%,煅烧土15%。
为了达到不同效果,本发明的改进有,各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石35%,烧滑石2%,氧化锌5%,石英22%,方解石12%,刚玉7%,高岭土7%,煅烧土10%。
所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备方法,包括以下步骤:
S1:按比例在球釉机中加入钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土和煅烧土,并加入相对总量0.2%的甲基、0.35%的三聚氰胺以及40%的水;
S2:由球釉机进行球磨8-10小时,直至325目筛余0.3-0.5,出球过200目振动筛,并用除铁机进行除铁,出球比重控制在1.85-1.88g/ml;
S3:使用喷釉工艺比重加水调整为1.50-1.55g/ml,出球流速为60-80/秒,淋底釉后通过喷墨打印或丝网印花技术,进行相应的纹路处理,再喷淋一层厚度为3-5mm的抛釉;
S4:通过喷釉柜喷涂耐磨釉,喷釉流速为13-15/秒,施釉参数为喷400×400的测釉盘25-28克,最终得到烧制原料;
S5:将S4得到的烧制原料,入窑烧制,窑温控制在1160-1165℃,烧制完成后得到抛釉砖成品,将抛釉砖成品进行指标检测,检测合格后入库封装。
与现有技术相比,本发明的优点和积极效果在于,
本发明中,该提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料能够使全抛釉成品具更强的耐磨性能,刚玉具有高熔点、高硬度、高比重的特性,能够加强坯釉结合度,并具有提高釉的硬度和耐磨度的作用,石英作为玻璃相形成的主要成分,能有效地增加釉面的硬度,相比现有常规的生产工艺,本发明在淋抛釉工艺后喷多一层薄薄的耐磨釉,其硅铝含量较抛釉高,覆盖在抛釉表面薄薄的一层,抛光后可直接提升抛釉的硬度。
附图说明
图1为本发明提出一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法的制备流程图;
图2为本发明提出一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法的各实施例检测结果示意图。
具体实施方式
为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点,下面结合附图和实施例对本发明做进一步说明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
请参阅图1-2,本发明提供一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备材料是由钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土、煅烧土组成,且各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石30-35%,烧滑石2-5%,氧化锌5%,石英20-22%,方解石12-15%,刚玉4-7%,高岭土5-7%,煅烧土10-15%。
钾长石的密度为54-2.57g/cm,钾长石通常也称正长石,是一种含钾的单斜晶系铝硅酸盐矿物,具有熔点低、熔融间隔时间长、熔融黏度高等特点,广泛应用于陶瓷坯料、陶瓷釉料、玻璃、电瓷、研磨材料等工业部门及制钾用,这种材料选择是为了确保钾长石的耐高温性能与硬度系数,烧滑石由滑石与矽酸镁组成,烧滑石的晶体结构呈层状,烧滑石具有润滑性、耐火性、抗酸性、绝缘性、熔点高、化学性不活泼、遮盖力良好、柔软、光泽好、吸附力强等优良的特性,由于烧滑石的结晶构造呈层状,所以具有特殊的滑润性。
石英为低温石英,石英由二氧化硅组成,石英又名硅石,主要是生产石英砂的原料,也是石英耐火材料和烧制硅铁的原料,选择该种材料是为了避免该全抛釉制品在烧制过程中烧结的情况发生,同时也通过石英的材料,提升该全抛釉成品整体的强度系数,氧化锌的能带隙和激子束缚能较大、透明度高,能够使各材料之间相互融合,方解石为一种碳酸钙矿物,方解石原料取样为粒状,该种状态方解石的选择,是为了使方解石的材料配比更加均匀,刚玉主要用于高级研磨材料,具有高熔点、高硬度、高比重的特性,能够加强坯釉结合度,并具有提高釉的硬度和耐磨度的作用。
高岭土为软质高岭土,软质高岭土砂质含量小于50%,该种高岭土具有白度高、质软、良好的可塑性、高黏结性、优良的电绝缘性能、良好的抗酸溶性以及较高的耐火度等物理和化学性能,煅烧土为煅烧高岭土,煅烧高岭土是将高岭土在煅烧炉中烧结到一定的温度和时间,使其的物理化学性能产生一定的变化,煅烧高岭土与未煅烧高岭土相比,低温煅烧高岭土的结合水含量减少,二氧化硅和三氧化二铝含量均增大,活性点增加,结构发生变化,粒径较小且均匀,通过软质高岭土与煅烧高岭土的混合,能够实现烧制材料更好的磨合效果。
实施例一
各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石30%,烧滑石5%,氧化锌5%,石英20%,方解石15%,刚玉5%,高岭土5%,煅烧土15%。
提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备方法,包括以下步骤:
S1:按比例在球釉机中加入钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土和煅烧土,并加入相对总量0.2%的甲基、0.35%的三聚氰胺以及40%的水;
S2:由球釉机进行球磨8小时,直至325目筛余0.3-0.5,出球过200目振动筛,并用除铁机进行除铁,出球比重控制在1.85g/ml;
S3:使用喷釉工艺比重加水调整为1.50g/ml,出球流速为60/秒,淋底釉后通过喷墨打印或丝网印花技术,进行相应的纹路处理,再喷淋一层厚度为3mm的抛釉;
S4:通过喷釉柜喷涂耐磨釉,喷釉流速为13/秒,施釉参数为喷400×400的测釉盘25克,最终得到烧制原料;
S5:将S4得到的烧制原料,入窑烧制,窑温控制在1160℃,烧制完成后得到抛釉砖成品,将抛釉砖成品进行指标检测,检测合格后入库封装。
实施例二
各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石33%,烧滑石3%,氧化锌4%,石英22%,方解石13%,刚玉5%,高岭土5%,煅烧土15%。
提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备方法,包括以下步骤:
S1:按比例在球釉机中加入钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土和煅烧土,并加入相对总量0.2%的甲基、0.35%的三聚氰胺以及40%的水;
S2:由球釉机进行球磨9小时,直至325目筛余0.4,出球过200目振动筛,并用除铁机进行除铁,出球比重控制在1.87g/ml;
S3:使用喷釉工艺比重加水调整为1.53g/ml,出球流速为70/秒,淋底釉后通过喷墨打印或丝网印花技术,进行相应的纹路处理,再喷淋一层厚度为4mm的抛釉;
S4:通过喷釉柜喷涂耐磨釉,喷釉流速为14/秒,施釉参数为喷400×400的测釉盘25-28克,最终得到烧制原料;
S5:将S4得到的烧制原料,入窑烧制,窑温控制在1163℃,烧制完成后得到抛釉砖成品,将抛釉砖成品进行指标检测,检测合格后入库封装。
实施例三
各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石35%,烧滑石2%,氧化锌5%,石英22%,方解石12%,刚玉7%,高岭土7%,煅烧土10%。
提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备方法,包括以下步骤:
S1:按比例在球釉机中加入钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土和煅烧土,并加入相对总量0.2%的甲基、0.35%的三聚氰胺以及40%的水;
S2:由球釉机进行球磨10小时,直至325目筛余0.5,出球过200目振动筛,并用除铁机进行除铁,出球比重控制在1.88g/ml;
S3:使用喷釉工艺比重加水调整为1.55g/ml,出球流速为80/秒,淋底釉后通过喷墨打印或丝网印花技术,进行相应的纹路处理,再喷淋一层厚度为5mm的抛釉;
S4:通过喷釉柜喷涂耐磨釉,喷釉流速为15/秒,施釉参数为喷400×400的测釉盘25-28克,最终得到烧制原料;
S5:将S4得到的烧制原料,入窑烧制,窑温控制在1165℃,烧制完成后得到抛釉砖成品,将抛釉砖成品进行指标检测,检测合格后入库封装。
工作原理:首先,按比例在球釉机中加入钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土和煅烧土,并加入相对总量0.2%的甲基、0.35%的三聚氰胺以及40%的水,由球釉机进行球磨8-10小时,直至325目筛余0.3-0.5,出球过200目振动筛,并用除铁机进行除铁,出球比重控制在1.85-1.88g/ml,而后使用喷釉工艺比重加水调整为1.50-1.55g/ml,出球流速为60-80/秒,淋底釉后通过喷墨打印或丝网印花技术,进行相应的纹路处理,再喷淋一层厚度为3-5mm的抛釉,通过喷釉柜喷涂耐磨釉,喷釉流速为13-15/秒,施釉参数为喷400×400的测釉盘25-28克,最终得到烧制原料,将烧制原料入窑烧制,窑温控制在1160-1165℃,烧制完成后得到抛釉砖成品,将抛釉砖成品进行莫氏硬度以及耐磨度检测,并与市面产品进行对比,检测合格后入库封装。
以上,仅是本发明的较佳实施例而已,并非是对本发明作其他形式的限制,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例应用于其他领域,但是凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与改型,仍属于本发明技术方案的保护范围。

Claims (10)

1.一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,其特征在于:所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备材料是由钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土、煅烧土组成,且各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石30-35%,烧滑石2-5%,氧化锌5%,石英20-22%,方解石12-15%,刚玉4-7%,高岭土5-7%,煅烧土10-15%。
2.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,其特征在于:所述钾长石的密度为2.54-2.57g/cm。
3.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,其特征在于:所述烧滑石由滑石与矽酸镁组成,所述烧滑石的晶体结构呈层状。
4.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,其特征在于:所述方解石为一种碳酸钙矿物,所述方解石原料取样为粒状。
5.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,其特征在于:所述石英为低温石英。
6.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,其特征在于:所述高岭土为软质高岭土,所述软质高岭土砂质含量小于50%,所述煅烧土为煅烧高岭土。
7.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,其特征在于,各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石30%,烧滑石5%,氧化锌5%,石英20%,方解石15%,刚玉5%,高岭土5%,煅烧土15%。
8.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,其特征在于,各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石33%,烧滑石3%,氧化锌4%,石英22%,方解石13%,刚玉5%,高岭土5%,煅烧土15%。
9.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料,其特征在于,各材料由以下重量百分数的组分组成:钾长石35%,烧滑石2%,氧化锌5%,石英22%,方解石12%,刚玉7%,高岭土7%,煅烧土10%。
10.一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:按比例在球釉机中加入钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土和煅烧土,并加入相对总量0.2%的甲基、0.35%的三聚氰胺以及40%的水;
S2:由球釉机进行球磨8-10小时,直至325目筛余0.3-0.5,出球过200目振动筛,并用除铁机进行除铁,出球比重控制在1.85-1.88g/ml;
S3:使用喷釉工艺比重加水调整为1.50-1.55g/ml,出球流速为60-80/秒,淋底釉后通过喷墨打印或丝网印花技术,进行相应的纹路处理,再喷淋一层厚度为3-5mm的抛釉;
S4:通过喷釉柜喷涂耐磨釉,喷釉流速为13-15/秒,施釉参数为喷400×400的测釉盘25-28克,最终得到烧制原料;
S5:将S4得到的烧制原料,入窑烧制,窑温控制在1160-1165℃,烧制完成后得到抛釉砖成品,将抛釉砖成品进行指标检测,检测合格后入库封装。
CN202210066102.8A 2022-01-20 2022-01-20 一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法 Pending CN114315139A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210066102.8A CN114315139A (zh) 2022-01-20 2022-01-20 一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210066102.8A CN114315139A (zh) 2022-01-20 2022-01-20 一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN114315139A true CN114315139A (zh) 2022-04-12

Family

ID=81028716

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210066102.8A Pending CN114315139A (zh) 2022-01-20 2022-01-20 一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114315139A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115159850A (zh) * 2022-08-26 2022-10-11 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种低成本耐磨的抛釉砖釉料及其制备方法、抛釉砖
CN115991574A (zh) * 2023-03-24 2023-04-21 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种耐磨耐蚀陶瓷釉料及其制备方法和应用

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106542735A (zh) * 2017-01-19 2017-03-29 佛山市三水大岛制釉有限公司 一种耐磨全生料超平厚抛釉及其应用
CN110683767A (zh) * 2019-11-20 2020-01-14 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种高性能耐磨釉料及其制备方法
CN110790510A (zh) * 2019-12-16 2020-02-14 黄奕雯 一种耐磨高硬度陶瓷釉料及其制备方法
CN111453993A (zh) * 2020-04-10 2020-07-28 佛山市高明区新粤丰建材有限公司 一种超耐磨抛釉及其制备方法
CN111548014A (zh) * 2020-06-08 2020-08-18 广东家美陶瓷有限公司 微晶釉、耐磨釉、透明微晶耐磨全抛釉瓷砖及制备方法
CN112279684A (zh) * 2020-10-16 2021-01-29 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种镁铝尖晶石耐磨全抛釉陶瓷砖及其制备方法
CN113185126A (zh) * 2021-04-23 2021-07-30 唐山雷诺瓷业有限公司 一种高耐磨卫生陶瓷及其制备方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106542735A (zh) * 2017-01-19 2017-03-29 佛山市三水大岛制釉有限公司 一种耐磨全生料超平厚抛釉及其应用
CN110683767A (zh) * 2019-11-20 2020-01-14 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种高性能耐磨釉料及其制备方法
CN110790510A (zh) * 2019-12-16 2020-02-14 黄奕雯 一种耐磨高硬度陶瓷釉料及其制备方法
CN111453993A (zh) * 2020-04-10 2020-07-28 佛山市高明区新粤丰建材有限公司 一种超耐磨抛釉及其制备方法
CN111548014A (zh) * 2020-06-08 2020-08-18 广东家美陶瓷有限公司 微晶釉、耐磨釉、透明微晶耐磨全抛釉瓷砖及制备方法
CN112279684A (zh) * 2020-10-16 2021-01-29 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种镁铝尖晶石耐磨全抛釉陶瓷砖及其制备方法
CN113185126A (zh) * 2021-04-23 2021-07-30 唐山雷诺瓷业有限公司 一种高耐磨卫生陶瓷及其制备方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115159850A (zh) * 2022-08-26 2022-10-11 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种低成本耐磨的抛釉砖釉料及其制备方法、抛釉砖
CN115159850B (zh) * 2022-08-26 2023-08-08 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种低成本耐磨的抛釉砖釉料及其制备方法、抛釉砖
CN115991574A (zh) * 2023-03-24 2023-04-21 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种耐磨耐蚀陶瓷釉料及其制备方法和应用
CN115991574B (zh) * 2023-03-24 2023-06-23 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种耐磨耐蚀陶瓷釉料及其制备方法和应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107417115A (zh) 一种高硬度高耐磨釉料的制作方法
CN105198217B (zh) 一种用于全抛釉瓷砖生产、利于陶瓷墨水发色的底釉
CN111807704B (zh) 应用于卫生陶瓷的亚光釉及应用其的卫生陶瓷和制备方法
CN106966598B (zh) 一种低温高硬度高耐磨全抛釉及其制备方法
CN110790506A (zh) 颗粒状双层反应釉和制备方法
WO2021232784A1 (zh) 一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法
CN109455936A (zh) 丝绸质感且防滑的无光釉料、制备方法及使用其的瓷砖
CN114315139A (zh) 一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法
CN104961443A (zh) 高强度抗变形工程陶瓷制品及其制备方法
CN108423993B (zh) 一种建陶用陨石釉及其应用方法
WO2012122760A1 (zh) 一种滑石质建筑陶瓷砖及其制造方法
CN109942288A (zh) 高硅瓷质仿古砖及其生产方法
CN107098588B (zh) 一种透明微晶玻璃釉及其制备方法和应用
CN110483024B (zh) 一种高平整度瓷砖坯料及其制备方法
CN112645597B (zh) 一种双层流动差反应釉和制备方法
CN107226691A (zh) 一种绿色窑变流釉陶瓷制品及其制作工艺
CN109206013A (zh) 一种釉面不龟裂的长余辉陶瓷及其制作工艺
CN111217528B (zh) 防滑防污釉层结构、使用其的釉面砖的制备方法及釉面砖
CN114507014B (zh) 雪花晶体颗粒及其制备方法和定位晶花抛釉砖的制备方法
CN114292027B (zh) 一种干粒釉、干粒釉浆及干粒釉瓷质砖
CN116693330B (zh) 一种具有肌肤质感的数码微光石陶瓷砖及其制备方法与应用
CN110526694B (zh) 一种热膨胀系数可调的大理石瓷砖坯料及其制备方法
CN113336444A (zh) 可消除抛光釉面针孔的高粘中层釉及使用其的抛光釉岩板
CN1050175A (zh) 釉下彩强化瓷及其生产方法
CN1050347C (zh) 高韧性强化瓷及生产方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20220412