CN113336444A - 可消除抛光釉面针孔的高粘中层釉及使用其的抛光釉岩板 - Google Patents

可消除抛光釉面针孔的高粘中层釉及使用其的抛光釉岩板 Download PDF

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Abstract

本发明涉及陶瓷釉料技术领域，本发明公开了可消除抛光釉面针孔的高粘中层釉及使用其的抛光釉岩板，布施于底釉和抛光釉之间，按照质量份数计算，原料包括：钾长石23‑28份、石英12‑18份、水洗高岭土8‑12份、硅灰石10‑14份、氧化锌3‑5份、高粘透明熔块10‑15份和刚玉粉18‑22份；按照质量百分比计算，所述原料的化学组成包括：48‑52%SiO2、30‑33%Al2O3、12‑15%CaO、0‑0.1%MgO、0‑0.2%K2O、0.8‑1.4%Na2O和3.5‑4.5%烧失量，所述用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，具有较高的高温粘度，可以有效阻隔底釉中的气泡上升至釉面形成针孔。

Description

可消除抛光釉面针孔的高粘中层釉及使用其的抛光釉岩板
技术领域
本发明涉及陶瓷釉料技术领域，尤其涉及可消除抛光釉面针孔的高粘中层釉及使用其的抛光釉岩板。
背景技术
由于抛光釉岩板具有面积大、平整度高、釉面色彩和图案丰富，可选择性多的特点，受到消费者的青睐。
受岩板的材质影响，岩板表面的抛光釉容易产生针孔，导致生产的成品批次合格率低。
抛光釉岩板的针孔形成原因包括：一、坯体粉料内含有低温杂质，在烧成时低温杂质气化产生大量气体，气体冲破釉层到达抛光釉的表面形成针孔；二、在淋底釉时，底釉的表面有较多的闭气孔或者开口孔，当在底釉上再淋上抛光釉后，抛光釉把底釉表面的闭气孔或者开口孔封闭，在高温烧成时，封闭在底釉层的闭气孔或者开口孔中气体的聚集，当气体聚集到一定量后，形成气泡上升，穿过釉层形成穿底针孔。
发明内容
针对背景技术提出的问题，本发明的一个目的在于提出一种可消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，所述高粘中层釉可以有效阻隔釉层中的气泡上升形成针孔，解决了现有技术的抛光釉岩板表面的容易产生针孔，导致生产的成品批次合格率低的技术问题。
本发明的另一个目的在于提出一种使用可消除抛光釉面针孔的高粘中层釉的抛光釉岩板，以解决现有技术的抛光釉岩板表面的容易产生针孔，导致生产的成品批次合格率低的技术问题。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
一种用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，所述高粘中层釉布施于底釉和抛光釉之间，按照质量份数计算，所述高粘中层釉的原料包括：钾长石23-28份、石英12-18份、水洗高岭土8-12份、硅灰石10-14份、氧化锌3-5份、高粘透明熔块10-15份和刚玉粉18-22份；
按照质量百分比计算，所述原料的化学组成包括：48-52%SiO2、30-33%Al2O3、12-15%CaO、0-0.1%MgO、0-0.2%K2O、0.8-1.4%Na2O和3.5-4.5%烧失量；
所述高粘透明熔块的熔融温度为1300-1400℃，所述底釉、所述高粘中层釉和抛光釉的釉层的烧成温度均为1150-1210℃。
具体的，按照质量份数计算，所述高粘透明熔块的原料包括：10-15份钠长石、28-35份石英、12-18份煅烧高岭土、18-22份硅灰石、18-24份氧化铝和5-10份石灰石。
进一步的，按照质量百分比计算，所述高粘透明熔块的化学组成包括：50-54%SiO2、25-28%Al2O3、12-15%CaO、0-0.1%MgO、0-0.2%K2O、0.8-1.4%Na2O和3.5-4.5%烧失量。
优选的，所述高粘透明熔块的颗粒粒径为0.1-0.25mm。
进一步的，本发明还提出了一种含有高粘中层釉的抛光釉岩板，含有以上所述的用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，其制备步骤包括：
S1）按照质量份数计算，称取高粘透明熔块的原料：10-15份钠长石、28-35份石英、12-18份煅烧高岭土、18-22份硅灰石、18-24份氧化铝和5-10份石灰石份，混合均匀，在1300-1400℃高温下烧成液态后，经淬火、破碎、过筛，即制得所述高粘透明熔块；
S2）按照质量份数计算，称取所述高粘中层釉的原料：钾长石23-28份、石英12-18份、水洗高岭土8-12份、硅灰石10-14份、氧化锌3-5份、高粘透明熔块10-15份和刚玉粉18-22份，混合均匀，加水化桨，球磨，控制球磨时釉浆的流速，检测釉浆的筛余合格后，制得所述高粘中层釉；
S3）取岩板坯体，对岩板坯体进行刷坯和喷水湿润处理，再在岩板坯体的表面淋底釉，喷墨印花，制得含底釉坯体；
S4）在所述含底釉坯体的表面喷施所述高粘中层釉，再淋抛光釉后，烧成，即得所述含有高粘中层釉的抛光釉岩板。
优选的，步骤S1）中，过筛的筛网孔径为60目。
优选的，步骤S2）中，所述高粘中层釉的筛余为每比重杯0.2-0.4克/325目筛，所述高粘中层釉的流速为50-100秒。
优选的，步骤S4）中，通过加水稀释控制喷施的所述高粘中层釉的比重为1.2-1.4。
优选的，步骤S4）中，所述高粘中层釉的喷施量为70-85克/平方米。
优选的，步骤S4）中，烧成温度为1150-1210℃，烧制时间为 80-120分钟。
本发明的技术方案的有益效果为：所述用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，布施于底釉和抛光釉之间，具有较高的高温粘度，可以有效阻隔底釉中的气泡上升至釉面形成针孔，且透感好，可有效提高使用其的抛光釉岩板的批次合格率。
具体实施方式
在本说明书的描述中，参考术语“实施例”、“示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。
下面结合具体实施方式进一步说明本发明的技术方案。
一种用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，所述高粘中层釉布施于底釉和抛光釉之间，按照质量份数计算，所述高粘中层釉的原料包括：钾长石23-28份、石英12-18份、水洗高岭土8-12份、硅灰石10-14份、氧化锌3-5份、高粘透明熔块10-15份和刚玉粉18-22份；
按照质量百分比计算，所述原料的化学组成包括：48-52%SiO2、30-33%Al2O3、12-15%CaO、0-0.1%MgO、0-0.2%K2O、0.8-1.4%Na2O和3.5-4.5%烧失量；
所述高粘透明熔块的熔融温度为1300-1400℃，所述底釉、所述高粘中层釉和抛光釉的釉层的烧成温度均为1150-1210℃。
抛光釉岩板的针孔形成原因包括：一、坯体粉料内含有低温杂质，在烧成时低温杂质气化产生大量气体，气体冲破釉层到达抛光釉的表面形成针孔；二、在淋底釉时，底釉的表面有较多的闭气孔或者开口孔，当在底釉上再淋上抛光釉后，抛光釉把底釉表面的闭气孔或者开口孔封闭，在高温烧成时，封闭在底釉层的闭气孔或者开口孔中气体的聚集，当气体聚集到一定量后，形成气泡上升，穿过釉层形成穿底针孔。
本发明的所述用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，以钾长石、氧化锌作为主要熔剂，降低配方的烧成温度，用量过低则釉无法烧结，过高则会降低釉的高温粘度；石英提供配方中所需SiO2，提高配方的高温粘度；刚玉粉提供Al2O3，Al2O3与SiO2结合形成网状结构，以提高所述高粘中层釉的高温粘度，两者的用量过低则高粘中层釉的高温粘度不够，两者的用量过高则高粘中层釉难熔融，影响透感，并且刚玉粉相比普通氧化铝粉有较好的透感，所在保证透感的前提下，采用刚玉粉提供更多的Al2O3更为合适；硅灰石提供的CaO的作用是助熔和提高釉层的透感，硅灰石的用量过高，釉面钙无光而影响透感，而用量过高则导致釉面的钙晶体无光而影响透感，并且硅灰石还可提供一部分的SiO2，可用于提高釉的高温粘度；高粘透明熔块用于确保所述高粘中层釉的高温粘度和透感，用量过低则釉的透感和高温粘度不够，而用量过高时，不仅成本高，还存在釉浆易沉淀的缺陷；水洗高岭土的作用是确保釉浆的悬浮性，防止釉浆沉淀，同时也能提供一部分的Al2O3。
值得说明的是，本发明的所述高粘中层釉的高温粘度是在烧成温度下的粘度，由于在烧成温度环境中无法检测，故无法提供其具体的粘度值，所述高粘中层釉在烧成温度时的粘度比本发明采用的现有技术的底釉和抛光釉在同一烧成温度下的粘度均相对高一些，故定义为高粘中层釉。
高粘透明熔块的熔融温度为1300-1400℃，可使整个配方体系具有较高的耐火度，在1150-1210℃烧成温度时具有较高的高温粘度。
本发明的所述用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，布施于底釉和抛光釉之间，具有较高的高温粘度，可以有效阻隔底釉中的气泡上升至釉面形成针孔，且透感好，可有效提高使用其的抛光釉岩板的批次合格率。
底釉和抛光釉可采用现有技术的配方制成。
具体的，按照质量份数计算，所述高粘透明熔块的原料包括：10-15份钠长石、28-35份石英、12-18份煅烧高岭土、18-22份硅灰石、18-24份氧化铝和5-10份石灰石。
氧化铝和煅烧高岭土的作用为在提供配方所需的Al2O3 的同时，又提高所述高粘透明熔块的高温粘度；石英的作用是提供SiO2；硅灰石和石灰石的主要作用是提供CaO，起到助熔和确保熔块的透感，硅灰石也能提供一部分的SiO2以提高所述高粘透明熔块的高温粘度；钠长石的主要作用是助熔，用量过低，高粘透明熔块烧成温度偏高，过高会降低高粘透明熔块的高温粘度。
进一步的，按照质量百分比计算，所述高粘透明熔块的化学组成包括：50-54%SiO2、25-28%Al2O3、12-15%CaO、0-0.1%MgO、0-0.2%K2O、0.8-1.4%Na2O和3.5-4.5%烧失量。
本发明的所述用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，大量地使用刚玉粉以改善釉层的透感，以及提高所述高粘透明熔块的高温粘度，并且高粘透明熔块和高粘中层釉的化学成分基本一致，在提高高粘中层釉和高粘透明熔块的高温粘度的同时可保证釉层的透感良好，不影响抛光液的表面效果。
优选的，所述高粘透明熔块的颗粒粒径为0.1-0.25mm。
熔块的颗粒粒径为0.1-0.25mm，由于该熔块的铝含量高，硬度大，不易磨碎，故颗粒要尽量小，这个颗粒粒径在球磨时比较容易磨碎；如果熔块颗粒过大，在球磨时不容易磨碎。
进一步的，本发明还提出了一种含有高粘中层釉的抛光釉岩板，含有以上所述的用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，其制备步骤包括：
S1）按照质量份数计算，称取高粘透明熔块的原料：10-15份钠长石、28-35份石英、12-18份煅烧高岭土、18-22份硅灰石、18-24份氧化铝和5-10份石灰石份，混合均匀，在1300-1400℃高温下烧成液态后，经淬火、破碎、过筛，即制得所述高粘透明熔块；
S2）按照质量份数计算，称取所述高粘中层釉的原料：钾长石23-28份、石英12-18份、 水洗高岭土8-12份、硅灰石10-14份、氧化锌3-5份、高粘透明熔块10-15份和刚玉粉18-22份，混合均匀，加水化桨，球磨，控制球磨时釉浆的流速，检测釉浆的筛余合格后，制得所述高粘中层釉；
S3）取岩板坯体，对岩板坯体进行刷坯和喷水湿润处理，再在岩板坯体的表面淋底釉，喷墨印花，制得含底釉坯体；
S4）在所述含底釉坯体的表面喷施所述高粘中层釉，再淋抛光釉后，烧成，即得所述含有高粘中层釉的抛光釉岩板。
在坯体淋底釉后，通过摆动喷釉柜喷施本发明的所述用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉在底釉的上方，然后在淋抛光釉，在烧成时，所述高粘中层釉的高温粘度大，可提高釉层的张力，把气泡压制在所述高粘中层釉的下方，可防止釉面针孔的形成。
所述含有高粘中层釉的抛光釉岩板的制备工艺简单，生产成本低，具有较高成本优势。
优选的，步骤S1）中，过筛的筛网孔径为60目。
60目筛的孔径在0.25mm左右，能确保过筛后的粒径小于0.25mm。
优选的，步骤S2）中，所述高粘中层釉的筛余为每比重杯0.2-0.4克/325目筛，所述高粘中层釉的流速为50-100秒。
筛余若高于0.4克/325目筛，则所述高粘中层釉的烧成温度偏高，会影响釉层的透感，并且喷釉时容易堵枪嘴；筛余若低于0.2克/325目筛，增大球磨电耗；
所述高粘中层釉的流速若高于100秒，会降低球磨的效率，对配方无影响；若低于50秒，釉浆在转运时容易沉淀，达不到球磨的效果。
优选的，步骤S4）中，通过加水稀释控制喷施的所述高粘中层釉的比重为1.2-1.4。
比重为1.2-1.4较适宜喷施，比重低于1.2，则粘度偏低，喷施的釉浆容易化开，起不到阻隔气泡的作用，比重大于1.4，流动性差，分布不均匀，且容易堵塞喷嘴。
优选的，步骤S4）中，所述高粘中层釉的喷施量为70-85克/平方米。
喷施量低于70克/平方米，阻隔气泡的作用不足，喷施量高于85克/平方米，釉层的透感不佳，影响品质。
优选的，步骤S4）中，烧成温度为1150-1210℃，烧制时间为80-120分钟。
烧成温度过高时，会导致釉面沸腾，而出现凹凸不平，烧成温度过低，则会导致生烧，光泽暗淡。
实施例1-5和对比例1-8
1、各实施例和各对比例的含有用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉的抛光釉岩板，按照以下步骤制备：
S1）按照质量份数计算，称取高粘透明熔块的原料，混合均匀，在1300-1400℃高温下烧成液态后，经淬火、破碎、过筛，即制得所述高粘透明熔块；
S2）按照质量份数计算，称取所述高粘中层釉的原料，混合均匀，加水化桨，球磨，控制球磨时釉浆的流速，检测釉浆的筛余合格，制得所述高粘中层釉；
S3）取岩板坯体，对岩板坯体进行刷坯和喷水湿润处理，再在岩板坯体的表面淋底釉，喷墨印花，制得含底釉坯体；
S4）在所述含底釉坯体的表面喷施所述高粘中层釉，再淋抛光釉后，烧成，即得所述含有高粘中层釉的抛光釉岩板。
2、各实施例和对比例的原料成分和比例、工艺参数详见表1和表2。
3、根据以下检测方法检测各实施例和对比例的制品的釉面针孔数，同时检测釉面的外观是否有不合格的缺陷，检测结果详见表1和表2。
针孔检测方法：距离0.5米目测检查釉面孔径小于0.5mm的针孔数量，要求整砖的针孔数量少于7个，每平方分米的面积内的针孔数量少于4个，否则降级处理；大于0.5mm的孔，称为是凹釉，一个都不能有。
Figure 386639DEST_PATH_IMAGE002
Figure 38200DEST_PATH_IMAGE004
根据以上表1和表2数据和信息分析如下：
1、实施例1-5制得的抛光釉岩板的釉面针孔数量为4-6个，且釉面无缺陷，说明本发明的所述用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉及使用其的抛光釉岩板的消除针孔的效果满足预期目标，技术方案是有效的。
2、与实施例3比对，对比例1的不同在于：对比例1的钾长石和石英的添加量均超过了上限值，两者的用量过高，高粘中层釉难熔融，影响釉层的透感，导致对比例1的抛光釉岩板的釉面的针孔数量虽然满足质量要求，但釉面不透明，制品不合格。
3、与实施例3比对，对比例2的不同在于：对比例2的钾长石和石英的添加量均低于下限值，两者的用量过低，高粘中层釉的高温粘度不够，阻隔气泡的效果不佳，导致对比例2的抛光釉岩板的釉面的针孔数超过了7以上，到达了10个，制品不合格。
4、与实施例3比对，对比例3的不同在于：对比例3的硅石灰的添加量低于下限值，硅灰石提供的CaO的作用是助熔和提高釉层的透感，用量过低釉层的透感不够，导致对比例3的抛光釉岩板的釉面的透明感差，制品不合格。
5、与实施例3比对，对比例4的不同在于：对比例4的硅石灰的添加量超过了上限值，硅灰石的用量过高，釉面的钙晶体无光泽，进而影响釉层的通透感，导致对比例4的抛光釉岩板的釉面的光泽差而不通透，制品不合格。
6、与实施例3比对，对比例5的不同在于：对比例5的步骤S4）中的高粘中层釉的喷施量过少，只有65克/平方米，低于70克/平方米的下限值，高粘中层釉阻隔气泡的作用不足，导致对比例5的抛光釉岩板的釉面的针孔数超过了7个，制品不合格。
7、与实施例3比对，对比例6的不同在于：对比例6的步骤S4）中的高粘中层釉的喷施量过多，为90克/平方米，超过85克/平方米的上限值，高粘中层釉难熔融，影响釉层的透感，对比例6的抛光釉岩板的釉面的针孔数量虽然满足质量要求，但釉面不透明，制品不合格。
8、与实施例3比对，对比例7的不同在于：对比例7的步骤S4）中喷施的高粘中层釉的比重低于1.2的下限值，为1.03，高粘中层釉的釉浆的粘度偏低，喷施的釉浆容易化开，起不到阻隔气泡的作用，导致对比例7的抛光釉岩板的釉面的针孔数超过了7个，制品不合格。
9、与实施例3比对，对比例8的不同在于：对比例8的步骤S4）中喷施的高粘中层釉的比重为1.6，超过了1.4的上限值，高粘中层釉的釉浆的流动性差，分布不均匀，分布薄的地方阻隔气泡的效果不佳粘，导致对比例8的抛光釉岩板的釉面的针孔分布集中，且总数量超过了7个，制品不合格。
综上所述，本发明的实施例效果为：所述用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，布施于底釉和抛光釉之间，具有较高的高温粘度，可以有效阻隔底釉中的气泡上升至釉面形成针孔，且透感好，可有效提高使用其的抛光釉岩板的批次合格率。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理；而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释；本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式；这些方式都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，其特征在于，所述高粘中层釉布施于底釉和抛光釉之间，按照质量份数计算，所述高粘中层釉的原料包括：钾长石23-28份、石英12-18份、水洗高岭土8-12份、硅灰石10-14份、氧化锌3-5份、高粘透明熔块10-15份和刚玉粉18-22份；
按照质量百分比计算，所述原料的化学组成包括：48-52%SiO2、30-33%Al2O3、12-15%CaO、0-0.1%MgO、0-0.2%K2O、0.8-1.4%Na2O和3.5-4.5%烧失量；
所述高粘透明熔块的熔融温度为1300-1400℃，所述底釉、所述高粘中层釉和抛光釉的釉层的烧成温度均为1150-1210℃。
2.根据权利要求1所述的用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，其特征在于，按照质量份数计算，所述高粘透明熔块的原料包括：10-15份钠长石、28-35份石英、12-18份煅烧高岭土、18-22份硅灰石、18-24份氧化铝和5-10份石灰石。
3.根据权利要求2所述的用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，其特征在于，按照质量百分比计算，所述高粘透明熔块的化学组成包括：50-54%SiO2、25-28%Al2O3、12-15%CaO、0-0.1%MgO、0-0.2%K2O、0.8-1.4%Na2O和3.5-4.5%烧失量。
4.根据权利要求2所述的用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，其特征在于，所述高粘透明熔块的颗粒粒径为0.1-0.25mm。
5.一种含有高粘中层釉的抛光釉岩板，其特征在于，含有权利要求1-4任一所述的用于消除抛光釉面针孔的高粘中层釉，其制备步骤包括：
S1）按照质量份数计算，称取高粘透明熔块的原料：10-15份钠长石、28-35份石英、12-18份煅烧高岭土、18-22份硅灰石、18-24份氧化铝和5-10份石灰石份，混合均匀，在1300-1400℃高温下烧成液态后，经淬火、破碎、过筛，即制得所述高粘透明熔块；
S2）按照质量份数计算，称取所述高粘中层釉的原料：钾长石23-28份、石英12-18份、水洗高岭土8-12份、硅灰石10-14份、氧化锌3-5份、高粘透明熔块10-15份和刚玉粉18-22份，混合均匀，加水化桨，球磨，控制球磨时釉浆的流速，检测釉浆的筛余合格后，制得所述高粘中层釉；
S3）取岩板坯体，对岩板坯体进行刷坯和喷水湿润处理，再在岩板坯体的表面淋底釉，喷墨印花，制得含底釉坯体；
S4）在所述含底釉坯体的表面喷施所述高粘中层釉，再淋抛光釉后，烧成，即得所述含有高粘中层釉的抛光釉岩板。
6.根据权利要求5所述的含有高粘中层釉的抛光釉岩板，其特征在于，步骤S1）中，过筛的筛网孔径为60目。
7.根据权利要求5所述的含有高粘中层釉的抛光釉岩板，其特征在于，步骤S2）中，所述高粘中层釉的筛余为每比重杯0.2-0.4克/325目筛，所述高粘中层釉的流速为50-100秒。
8.根据权利要求5所述的含有高粘中层釉的抛光釉岩板，其特征在于，步骤S4）中，通过加水稀释控制喷施的所述高粘中层釉的比重为1.2-1.4。
9.根据权利要求5所述的含有高粘中层釉的抛光釉岩板，其特征在于，步骤S4）中，所述高粘中层釉的喷施量为70-85克/平方米。
10.根据权利要求5所述的含有高粘中层釉的抛光釉岩板，其特征在于，步骤S4）中，烧成温度为1150-1210℃，烧制时间为 80-120分钟。
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