CN114292027B - 一种干粒釉、干粒釉浆及干粒釉瓷质砖 - Google Patents

一种干粒釉、干粒釉浆及干粒釉瓷质砖 Download PDF

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Abstract

本发明属于陶瓷领域，公开了一种干粒釉、干粒釉浆及干粒釉瓷质砖。干粒釉由质量比为(10～30)：100熔块和生料组成，其中，熔块的化学组成为Al2O3、SiO2、CaO、K2O、BaO、ZnO、MgO、Na2O组成；生料的化学组成为Al2O3、SiO2、CaO、K2O、BaO、ZnO、MgO、Na2O和SO2。该干粒釉可以直接制成釉浆施用，有利于简化工艺要求，降低生产难度；烧成时间为50～60分钟，烧成温度较低，其生产工艺与全抛釉类似，对设备的要求更低，能耗也更低；配方更加稳定，适应不同工艺条件和窑炉温度。与普通干粒釉瓷质砖或具有干粒效果瓷砖相比，简化了生产要求，降低了生产成本，打破了干粒+胶水/悬浮剂的繁杂工艺，将干粒釉的生产工艺与全抛釉的工艺同步。

Description

一种干粒釉、干粒釉浆及干粒釉瓷质砖
技术领域
本发明属于陶瓷领域，具体涉及一种干粒釉、干粒釉浆及干粒釉瓷质砖。
背景技术
与普通全抛釉相比，干粒釉的釉面更通透，更适用于生产深色产品，且干粒釉的施釉量比普通全抛釉的施釉量更多，使抛光后的干粒釉瓷砖釉面更平整、水波纹更小，有利于抛光后的釉面质感效果的提升，更有利于得到高级感的瓷砖。在锚定岩板、陶瓷大板等亮面产品领域，干粒釉的应用更为广泛。
目前普通干粒釉瓷质砖或具有干粒效果瓷砖的生产工艺是通过将预先制作的熔块粒及类熔块颗粒的干粒与胶水、悬浮剂或具有类胶水效果的添加剂按照特定比例混合后进行布料之后烧制，后处理得到具有干粒效果的釉瓷质砖。该产品的干粒是通过胶水、悬浮剂等的粘结作用，将干粒粘在釉面上，但这种方法受限于胶水、悬浮剂等添加剂的类型，易出现干粒颗粒分布不均匀、釉浆流动性变差、干粒粘结不牢固、釉浆易产生气泡等问题。入窑时，砖面粘结的干粒都或多或少会被窑炉抽走部分，造成缺釉、缺干粒缺陷。被抽走的干粒进入窑炉内，会依附在辊道上增加棒钉的风险、依附在窑炉顶部，在生产其他产品时掉落，造成产品的缺陷。另外，有些悬浮剂还影响干粒发色，极大的影响了干粒釉瓷质砖表面的性能、整体美观性以及瓷砖产品的优等率，且干粒布施提高了成本。
现有干粒釉需要借助粘结剂等进行布施，增加了工艺难度，更难以得到高质量的产品，也导致干粒釉瓷质砖的生产成本居高不下。开发出一种干粒釉，对于简化生产工艺，提高产品质量、降低干粒釉瓷质砖的生产成本，具有非常重要的意义。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的至少一个不足，提供一种干粒釉、干粒釉浆及干粒釉瓷质砖。
本发明所采取的技术方案是：
本发明的第一个方面，提供：
一种干粒釉，由熔块和生料组成，熔块与生料的质量比为 (10～30)： 100；其中：
所述熔块的化学质量组成为：Al2O3 12～16 份、SiO2 51～57 份、CaO 6～10 份、K2O 8～12 份、BaO 4～7 份、ZnO 2～4 份、MgO 2～4 份、Na2O 0.5～1.5 份；
所述生料的化学质量组成为：Al2O3 6～10 份、SiO2 46～52 份、K2O 2～5 份、Na2O1～3 份、ZnO 5～9 份、BaO 9～13 份、MgO 2～5 份、CaO 7～12 份、SO2 2～5 份。
在一些干粒釉的实例中，熔块的原料质量组成为：钾长石56～66 份、石英砂 5～7份、碳酸钾 4～8 份、白云石 10～14 份、硫酸钡5～8 份、煅烧氧化锌 3～5 份、氧化铝 4～7 份。
在一些干粒釉的实例中，生料的原料质量组成为：钾长石22～26 份、钠长石 7～10 份、高岭土 9～11 份、石英砂 9～11 份、方解石 5～7 份、硫酸钡11～14 份、煅烧氧化锌 5～7 份、透辉石 14～17 份。
在一些干粒釉的实例中，所述熔块的化学质量组成为：Al2O3 13～16 份、SiO2 52～56 份、CaO 7.5～9 份、K2O 8～11 份、BaO 5～7 份、ZnO 3～4 份、MgO 2.5～4 份、Na2O0.5～1.5 份。这样有利于得到质量更佳的干粒釉资质砖。
在一些干粒釉的实例中，所述生料的化学质量组成为：Al2O3 9～10 份、SiO2 48～51 份、K2O 2～4 份、Na2O 1～2 份、ZnO 6～8 份、BaO 11～13 份、MgO 4～5 份、CaO 8～10份、SO2 3～4 份。这样有利于得到质量更佳的干粒釉资质砖。
在一些干粒釉的实例中，所述熔块与所述生料的质量比为 (15～20)： 100。这样有利于得到质量更佳的干粒釉资质砖。
熔块可以按常规的方法制备得到 在一些干粒釉的实例中，所述熔块通过将原料粉碎、混匀后于1550～1600 ℃熔制、之后水淬，破碎得到。
本发明的第二个方面，提供：
一种干粒釉浆，由本发明第一个方面所述的干粒釉、助剂和水混合球磨得到，密度为1.85～1.95 g/mL。
在一些干粒釉浆的实例中，所述助剂包括解胶剂、粘度调节剂。
在一些干粒釉浆的实例中，所述解胶剂为三聚磷酸钠。
在一些干粒釉浆的实例中，所述粘度调节剂为羧甲基纤维素钠。
在一些干粒釉浆的实例中，所述解胶剂占干粒釉浆总质量的0.1～0.4%。
在一些干粒釉浆的实例中，所述粘度调节剂干粒釉浆总质量的0.05～0.4%。
本发明的第三个方面，提供：
一种干粒釉瓷质砖，包括坯体、底釉层和干粒釉层，所述干粒釉层由本发明第一个方面所述的干粒釉烧成得到。
在一些干粒釉瓷质砖的实例中，所述底釉的化学质量组成为：Al2O3 26～30 份、SiO2 53～57 份、CaO 1～3 份、K2O 1～3 份、Na2O 4～6 份、ZrO2 4～6 份。实验数据表明，这种底釉与干粒釉具有更好的相容性，有利于得到更高质量的干粒釉瓷质砖。
在一些干粒釉瓷质砖的实例中，所述烧成的温度为1150～1200℃。
在一些干粒釉瓷质砖的实例中，其制备方法包括：
在坯体上施底釉；
在底釉上施干粒釉浆，所述干粒釉浆如本发明第二个方面所述；
施釉完成后，烧成、后处理得到干粒釉瓷质砖。
在一些干粒釉瓷质砖的实例中，所述干粒釉层的厚度为0.2～0.3 mm。
本发明的有益效果是：
本发明一些实例的干粒釉，由高温流动性好的熔块和部分生料组成，可以直接制成釉浆施用，有利于简化工艺要求，降低生产难度。
本发明一些实例的干粒釉，经窑炉一次烧成出窑后，烧成时间为 50 分钟～60 分钟，烧成温度较低，其生产工艺与全抛釉类似，对设备的要求更低，能耗也更低。
本发明一些实例的干粒釉，采用半生料半熔块的配方设计，使配方更加稳定，适应不同的工艺条件和窑炉温度。可通过调整生料和熔块的比例来调节干粒釉的烧成温度和釉层气泡情况。
本发明一些实例的干粒釉瓷质砖，与普通干粒釉瓷质砖或具有干粒效果瓷砖相比，简化了生产要求，降低了生产成本，打破了干粒+胶水/悬浮剂的繁杂工艺，将干粒釉的生产工艺与全抛釉的工艺同步。
附图说明
下面结合附图，进一步说明本发明的技术方案。
图1～9分别是实施例1～9的瓷质砖照；
图10～14分别是对比例1～5的瓷质砖照片。
具体实施方式
本发明的第一个方面，提供：
一种干粒釉，由熔块和生料组成，熔块与生料的质量比为 (10～30)： 100；其中：
所述熔块的化学质量组成为：Al2O3 12～16 份、SiO2 51～57 份、CaO 6～10 份、K2O 8～12 份、BaO 4～7 份、ZnO 2～4 份、MgO 2～4 份、Na2O 0.5～1.5 份；
所述生料的化学质量组成为：Al2O3 6～10 份、SiO2 46～52 份、K2O 2～5 份、Na2O1～3 份、ZnO 5～9 份、BaO 9～13 份、MgO 2～5 份、CaO 7～12 份、SO2 2～5 份。
所述熔块的原料可以是常用的原料，为保证质量，优选组成稳定、杂质较少的原料。在一些干粒釉的实例中，熔块的原料质量组成为：钾长石56～66 份、石英砂 5～7 份、碳酸钾 4～8 份、白云石 10～14 份、硫酸钡5～8 份、煅烧氧化锌 3～5 份、氧化铝 4～7份。发明人的实验数据表明，这一原料组成可以制备得到较高质量的熔块。
生料是由经过品检的化工原材料按照配方比例粉碎、混合均匀。
所述生料的原料可以是常用的原料，为保证质量，优选组成稳定、杂质较少的原料。在一些干粒釉的实例中，生料的原料质量组成为：钾长石22～26 份、钠长石 7～10 份、高岭土 9～11 份、石英砂 9～11 份、方解石 5～7 份、硫酸钡11～14 份、煅烧氧化锌 5～7 份、透辉石 14～17 份。这种原料组成，可以得到质量更佳的干粒釉瓷质砖。
在一些干粒釉的实例中，所述熔块的化学质量组成为：Al2O3 13～16 份、SiO2 52～56 份、CaO 7.5～9 份、K2O 8～11 份、BaO 5～7 份、ZnO 3～4 份、MgO 2.5～4 份、Na2O0.5～1.5 份。
在一些干粒釉的实例中，所述生料的化学质量组成为：Al2O3 9～10 份、SiO2 48～51 份、K2O 2～4 份、Na2O 1～2 份、ZnO 6～8 份、BaO 11～13 份、MgO 4～5 份、CaO 8～10份、SO2 3～4 份。
在一些干粒釉的实例中，所述熔块与所述生料的质量比为 (15～20)： 100。
在一些干粒釉的实例中，所述熔块通过将原料粉碎、混匀后于1550～1600 ℃熔制、之后水淬，破碎得到。
本发明的第二个方面，提供：
一种干粒釉浆，由本发明第一个方面所述的干粒釉、助剂和水混合球磨得到，密度为1.85～1.95 g/mL。
助剂可以根据需要进行添加，以调节釉浆的粘度、密度等。助剂为本领域常用的助剂。在一些干粒釉浆的实例中，所述助剂包括解胶剂、粘度调节剂。
在一些干粒釉浆的实例中，所述解胶剂为三聚磷酸钠。
在一些干粒釉浆的实例中，所述粘度调节剂为羧甲基纤维素钠。
在一些干粒釉浆的实例中，所述解胶剂占干粒釉浆总质量的0.1～0.4%。
在一些干粒釉浆的实例中，所述粘度调节剂干粒釉浆总质量的0.05～0.4%。
本发明的第三个方面，提供：
一种干粒釉瓷质砖，包括坯体、底釉层和干粒釉层，所述干粒釉层由本发明第一个方面所述的干粒釉烧成得到。
在一些干粒釉瓷质砖的实例中，所述底釉的化学质量组成为：Al2O3 26～30 份、SiO2 53～57 份、CaO 1～3 份、K2O 1～3 份、Na2O 4～6 份、ZrO2 4～6 份。
在一些干粒釉瓷质砖的实例中，所述烧成的温度为1150～1200℃。
在一些干粒釉瓷质砖的实例中，其制备方法包括：
在坯体上施底釉；
在底釉上施干粒釉浆，所述干粒釉浆如本发明第二个方面所述；
施釉完成后，烧成、后处理得到干粒釉瓷质砖。
在一些干粒釉瓷质砖的实例中，所述干粒釉层的厚度为0.2～0.3 mm。
下面结合实例，进一步说明本发明的技术方案。
方便比较起见，如无特别说明，以下实例中的份数均指质量份。釉浆中含有0.2％～0.3％三聚磷酸钠、0 .1％羧甲基纤维素钠。
实施例 1
一种干粒釉釉料，由熔块和生料组成，其中：
熔块的组成为：Al2O3 14 份、SiO2 55 份、CaO 8 份、MgO 3 份、K2O 10 份、Na2O 1份、ZnO 3 份、BaO 6 份；
生料的组成为：Al2O3 9 份、SiO2 51 份、K2O 3 份、Na2O 2 份、ZnO 7 份、BaO 12份、MgO 4 份、CaO 8 份、SO2 4 份；
将熔块和生料按 10：100 的质量比混合球磨成釉浆，将干粒釉釉浆的比重调至1.85g /ml；
在 930mm×2930mm 的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为 180g；其中，所述底釉的组成为：Al2O3 30 份、SiO2 55 份、CaO 2 份、K2O 2 份、Na2O 6 份、ZrO2 5 份，将底釉釉浆的比重调至 1.85g /ml；
在施了底釉的砖坯上施一层上述的干粒釉，采用淋釉工艺，施釉量为 1210 g，1200℃烧成；
将烧成的瓷砖抛光，得到干粒釉瓷质砖。
实施例 2
一种干粒釉釉料，由熔块和生料组成，其中：
熔块的组成为：Al2O3 13 份、SiO2 56 份、CaO 9 份、K2O 9 份、Na2O 1 份、ZnO 3份、MgO 3 份 、BaO 6 份；
生料的组成为：Al2O3 10 份、SiO2 50 份、K2O 2 份、Na2O 2 份、ZnO 7 份、BaO 12份、MgO 4 份、CaO 9 份、SO2 4 份；
将熔块和生料按 15：100 的质量比混合球磨成釉浆，将干粒釉釉浆的比重调至1.86g /ml；
在 930mm×2930mm 的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为 180g；其中，所述底釉的组成为：Al2O3 30 份、SiO2 54 份、CaO 3 份、K2O 3 份、Na2O 6 份、ZrO2 4 份，将底釉釉浆的比重调至 1.85g /ml；
在施了底釉的砖坯上施一层上述的干粒釉，采用淋釉工艺，施釉量为1230 g，1195℃烧成；
将烧成的瓷砖抛光，得到干粒釉瓷质砖。
实施例 3
一种干粒釉釉料，由熔块和生料组成，其中：
熔块的组成为：Al2O3 13 份、SiO2 56 份、CaO 8 份、K2O 9 份、Na2O 0.5 份、ZnO 4份、MgO 3.5 份、BaO 6 份；
生料的组成为：Al2O3 9 份、SiO2 50 份、K2O 2 份、Na2O 2 份、ZnO 6 份、BaO 12份、MgO 5 份、CaO 10 份、SO2 4 份；
将熔块和生料按 15：100 的质量比混合球磨成釉浆，将干粒釉釉浆的比重调至1.88g /ml；
在 930mm×2930mm 的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为 180g；其中，所述底釉的组成为：Al2O3 31 份、SiO2 54 份、CaO 3 份、K2O 1 份、Na2O 6 份、ZrO2 5 份，将底釉釉浆的比重调至 1.86g /ml；
在施了底釉的砖坯上施一层上述的干粒釉，采用淋釉工艺，施釉量为1250 g，1190℃烧成；
将烧成的瓷砖抛光，得到干粒釉瓷质砖。
实施例 4
一种干粒釉釉料，由熔块和生料组成，其中：
熔块的组成为：Al2O3 15 份、SiO2 54 份、CaO 7.5 份、K2O 8 份、Na2O 0.5 份、ZnO4 份、MgO 4 份、BaO 7 份；
生料的组成为：Al2O3 9 份、SiO2 49 份、K2O 3 份、Na2O 1 份、ZnO 6 份、BaO 13份、MgO 5 份、CaO 10 份、SO2 4 份；
将熔块和生料按 20：100 的质量比混合球磨成釉浆，将干粒釉釉浆调成 1.87g /ml 的比重；
在 930mm×2930mm 的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为 184g；其中，所述底釉的组成为：Al2O3 32 份、SiO2 53 份、CaO 2 份、K2O 3 份、Na2O 5 份、ZrO2 5 份，将底釉釉浆的比重调至 1.86g /ml；
在施了底釉的砖坯上施一层上述的干粒釉，采用淋釉工艺，施釉量为 1200 g，1185 ℃烧成；
将烧成的瓷砖抛光，得到干粒釉瓷质砖。
实施例 5
一种干粒釉釉料，由熔块和生料组成，其中：
熔块的组成为：Al2O3 13 份、SiO2 54 份、CaO 8.5 份、K2O 10 份、ZnO 3 份、MgO4 份 、Na2O 0.5 份、BaO 7 份；
生料的组成为：Al2O3 9 份、SiO2 49 份、K2O 3 份、Na2O 1 份、ZnO 8 份、BaO 13份、MgO 4 份、CaO 10 份、SO2 3 份；
将熔块和生料按 20：100 的质量比混合球磨成釉浆，将干粒釉釉浆的比重调至1.90g /ml；
在 930mm×2930mm 的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为 186g；其中，所述底釉的组成为：Al2O3 32 份、SiO2 53 份、CaO 2 份、K2O 3 份、Na2O 5 份、ZrO2 5 份，将底釉釉浆的比重调至 1.88g /ml；
在施了底釉的砖坯上施一层上述的干粒釉，采用淋釉工艺，施釉量为1220 g，1180℃烧成；
将烧成的瓷砖抛光，得到干粒釉瓷质砖。
实施例 6
一种干粒釉釉料，由熔块和生料组成，其中：
熔块的组成为：Al2O3 13 份、SiO2 56 份、CaO 8 份、K2O 9 份、ZnO 4 份、MgO 2.5份、Na2O 1.5 份、BaO 6 份；
生料的组成为：Al2O3 9 份、SiO2 48 份、K2O 4 份、Na2O 1 份、ZnO 8 份、BaO 13份、MgO 5 份、CaO 9 份、SO2 3 份；
将熔块和生料按 15：100 的质量比混合球磨成釉浆，将干粒釉釉浆的比重调至1.86g /ml；
在 930mm×2930mm 的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为 185g；其中，所述底釉的组成为：Al2O3 31 份、SiO2 53 份、CaO 2 份、K2O 2 份、Na2O 6 份、ZrO2 6 份，将底釉釉浆的比重调至 1.85g /ml；
在施了底釉的砖坯上施一层上述的干粒釉，采用淋釉工艺，施釉量为1240 g，1175℃烧成；
将烧成的瓷砖抛光，得到干粒釉瓷质砖。
实施例 7
一种干粒釉釉料，由熔块和生料组成，其中：
熔块的组成为：Al2O3 14 份、SiO2 56 份、CaO 8 份、K2O 10 份、ZnO 3.5 份、MgO2.5 份、Na2O 1 份、BaO 5 份；
生料的组成为：Al2O3 9 份、SiO2 48 份、K2O 4 份、Na2O 2 份、ZnO 7 份、BaO 11份、MgO 5 份、CaO 10 份、SO2 4 份；
将熔块和生料按 30：100 的质量比混合球磨成釉浆，将干粒釉釉浆的比重调至1.90g /ml；
在 930mm×2930mm 的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为 185g；其中，所述底釉的组成为：Al2O3 29 份、SiO2 56 份、CaO 2 份、K2O 2 份、Na2O 5 份、ZrO2 6 份，将底釉釉浆的比重调至 1.86g /ml；
在施了底釉的砖坯上施一层上述的干粒釉，采用淋釉工艺，施釉量为1180 g，1180℃烧成；
将烧成的瓷砖抛光，得到干粒釉瓷质砖。
实施例 8
一种干粒釉釉料，由熔块和生料组成，其中：
熔块的组成为：Al2O3 14 份、SiO2 53 份、CaO 9 份、K2O 9 份、ZnO 3.5 份、MgO 3份 、Na2O 1.5 份、BaO 7 份；
生料的组成为：Al2O3 9 份、SiO2 48 份、K2O 4 份、Na2O 2 份、ZnO 6 份、BaO 12份、MgO 5 份、CaO 10 份、SO2 4 份；
将熔块和生料按 20：100 的质量比混合球磨成釉浆，将干粒釉釉浆的比重调至1.85g /ml；
在 930mm×2930mm 的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为 187g；其中，所述底釉的组成为：Al2O3 28 份、SiO2 56 份、CaO 3 份、K2O 3 份、Na2O 6 份、ZrO2 4 份，将底釉釉浆的比重调至 1.88g /ml；
在施了底釉的砖坯上施一层上述的干粒釉，采用淋釉工艺，施釉量为1160 g，1170℃烧成；
将烧成的瓷砖抛光，得到干粒釉瓷质砖。
实施例 9
一种干粒釉釉料，由熔块和生料组成，其中：
熔块的组成为：Al2O3 16 份、SiO2 52 份、CaO 8 份、K2O 11 份、ZnO 4 份、MgO 3份、BaO 5 份、Na2O 1 份；
生料的组成为：Al2O3 9 份、SiO2 51 份、K2O 3 份、Na2O 2 份、ZnO 6 份、BaO 12份、MgO 4 份、CaO 9 份、SO2 4 份；
将熔块和生料按 30：100 的质量比混合球磨成釉浆，将干粒釉釉浆的比重调至1.85g /ml；
在 930mm×2930mm 的素坯上施一层底釉，采用淋釉工艺，施釉量为 180g；其中，所述底釉的组成为：Al2O3 28 份、SiO2 56 份、CaO 2 份、K2O 4 份、Na2O 6 份、ZrO2 5 份，将底釉釉浆的比重调至 1.86g /ml；
在施了底釉的砖坯上施一层上述的干粒釉，采用淋釉工艺，施釉量为1190 g，1165℃烧成；
将烧成的瓷砖抛光，得到干粒釉瓷质砖。
对比例1
同实施例1，不同之处在于熔块和生料的质量混合比为40：100。
对比例2：
同实施例1，不同之处在于熔块和生料的质量混合比为5：100。
对比例3：
同实施例1，不同之处在于生料也先熔制为另一熔块，之后球磨得到釉浆。
对比例4：
同实施例1，不同之处在于熔块的原料与生料的原料直接混合得到、粉碎得到釉浆。
对比例5：
同实施例1，不同之处在于熔块的质量组成为：Al2O3 4.5 份、SiO2 69 份、CaO 15份、MgO 1.5 份、K2O 2.5 份、ZnO 6.5 份，所述份数为质量份。
产品质量检测
分别取抛光得到的干粒釉瓷质砖进行光泽度和耐污染、耐磨、硬度、耐化学腐蚀检测，检测结果如表1所示。产品质量检测中耐污染、耐磨、耐化学腐蚀检测分别参考国标GBT3810.14-2016、GBT 3810.7-2016、GBT 3810.13-2016。光泽度采用光泽度仪在表面光滑、无彩饰及明显的凹凸不平处测定并读取仪器数值；硬度采用莫氏硬度测量对照莫氏硬度表。
Figure 432064DEST_PATH_IMAGE001
实施例 1～9 的干粒釉，抛光后的釉面色泽明亮，防污性能好，硬度高，耐腐蚀，平整度高。
图1～9分别是实施例1～9的瓷质砖照片，由图可知，抛光后的釉面基本没有针孔，产品质量优异。
图10～14分别是对比例1～5的瓷质砖照片。
对比例1采用本发明熔块与生料按质量比为 40：100进行生产，会使釉料始熔点偏低，使瓷砖釉面出现图10中的针孔、痱子等对产品不利的釉面缺陷。
对比例2采用本发明的熔块与生料组成范围外的质量比为5：100进行生产，会使釉料高温粘度大，釉层气体排出不完全，使瓷砖釉面出现图11中的毛孔较多，防污性能差，不利于生产的稳定性。
对比例3先将本发明组成范围内生料经熔制为另一熔块与本发明的熔块进行生产，制造出的瓷砖会出现图12中的针孔、痱子、釉泡、凹釉等对产品不利的釉面缺陷。
对比例4采用本发明熔块原料未经熔炼直接与本发明组成范围内的生料进行生产，制造出的瓷砖会出现图13中的针孔、痱子、凹釉、坯釉结合性不良等对产品不利的釉面缺陷。
对比例5采用本发明熔块组成范围外的熔块与本发明组成范围内的生料进行生产，制造出的瓷砖会出现图14中的针孔、痱子、毛孔、凹釉等对产品不利的釉面缺陷。
以上是对本发明所作的进一步详细说明，不可视为对本发明的具体实施的局限。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的简单推演或替换，都在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种干粒釉，由熔块和生料组成，其特征在于：熔块与生料的质量比为 (10～30)：100；其中：
所述熔块的化学质量组成为：Al2O3 12～16 份、SiO2 51～57 份、CaO 6～10 份、K2O 8～12 份、BaO 4～7 份、ZnO 2～4 份、MgO 2～4 份、Na2O 0.5～1.5 份；
所述生料的化学质量组成为：Al2O3 6～10 份、SiO2 46～52 份、K2O 2～5 份、Na2O 1～3 份、ZnO 5～9 份、BaO 9～13 份、MgO 2～5 份、CaO 7～12 份、SO2 2～5 份；
或
熔块的原料质量组成为：钾长石56～66 份、石英砂 5～7 份、碳酸钾 4～8 份、白云石10～14 份、硫酸钡5～8 份、煅烧氧化锌 3～5 份、氧化铝 4～7 份；
生料的原料质量组成为：钾长石22～26 份、钠长石 7～10 份、高岭土 9～11 份、石英砂 9～11 份、方解石 5～7 份、硫酸钡11～14 份、煅烧氧化锌 5～7 份、透辉石 14～17份。
2.根据权利要求1所述的干粒釉，其特征在于：所述熔块的化学质量组成为：Al2O3 13～16 份、SiO2 52～56 份、CaO 7.5～9 份、K2O 8～11 份、BaO 5～7 份、ZnO 3～4 份、MgO2.5～4 份、Na2O 0.5～1.5 份；和/或
所述生料的化学质量组成为：Al2O3 9～10 份、SiO2 48～51 份、K2O 2～4 份、Na2O 1～2 份、ZnO 6～8 份、BaO 11～13 份、MgO 4～5 份、CaO 8～10 份、SO2 3～4 份。
3.根据权利要求1或2所述的干粒釉，其特征在于：所述熔块与所述生料的质量比为(15～20)： 100。
4.根据权利要求1或2所述的干粒釉，其特征在于：所述熔块通过将原料粉碎、混匀后于1550～1600 ℃熔制、之后水淬，破碎得到。
5.一种干粒釉浆，其特征在于：由权利要求1～4任一项所述的干粒釉、助剂和水混合球磨得到，密度为1.85～1.95 g/mL。
6.一种干粒釉瓷质砖，包括坯体、底釉层和干粒釉层，其特征在于：所述干粒釉层由权利要求1～4任一项所述的干粒釉烧成得到。
7.根据权利要求6所述的干粒釉瓷质砖，其特征在于：所述底釉的化学质量组成为：Al2O3 26～30 份、SiO2 53～57 份、CaO 1～3 份、K2O 1～3 份、Na2O 4～6 份、ZrO2 4～6份。
8.根据权利要求6或7所述的干粒釉瓷质砖，其特征在于：所述烧成的温度为1150～1200℃。
9.根据权利要求6或7所述的干粒釉瓷质砖，其特征在于：其制备方法包括：
在坯体上施底釉；
在底釉上施干粒釉浆，所述干粒釉浆如权利要求5所述；
施釉完成后，烧成、后处理得到干粒釉瓷质砖。
10.根据权利要求6或7所述的干粒釉瓷质砖，其特征在于：所述干粒釉层的厚度为0.2～0.3 mm。
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