CN114267775A - 显示面板及显示面板的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种显示面板及制备方法。显示面板包括发光器件层、第一光学结构层、第二光学结构层及抗反射层，发光器件层包括发光二极管及挡墙，第二光学结构层填充于该第一光学结构层的开口区域，同时第二光学结构层大于第一光学结构层的折射率。通过不同折射率的光学结构层以及挡墙提高出光率以及显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示面板及显示装置的制造技术领域，具体涉及一种显示面板及显示面板的制备方法。
背景技术
随着柔性显示屏技术的发展，人们对显示面板的质量以及性能均提出了更高的要求。
微发光二极管(Micro light emitting diode，MicroLED)是新一代的显示技术，比现有的有机发光二极管(Organic light emitting diode，OLED)技术亮度更高，发光效率更好，同时其功率也更低。并且MicroLED还具自发光无需背光源的特性，更具节能、机构简易、体积小、薄型等优势，是继OLED之后另一具轻薄及省电优势的显示技术。因此近年来MicroLED显示技术受到越来越广泛的关注。但是，作为一种新的技术MicroLED仍面临很多技术挑战。如制备工艺较复杂以及制备形成的MicroLED显示面板在出光效率以及显示效果上还存在一定的缺陷，不能达到最佳的出光效率，从而不利于显示面板综合性能的提高。
综上所述，现有技术中制备得到的MicroLED显示面板在制备工艺以及器件性能上还存在一定的缺陷，如显示面板中光线的出光率较低，显示效果不理想，不利于显示面板综合性能的提高。
发明内容
本发明实施例提供一种MicroLED显示面板，以有效的改善现有的器件出光率较低，面板显示效果不理想等问题。
为解决上述技术问题，本发明实施例所提供的技术方法如下：
本发明实施例的第一方面，提供了一种显示面板，包括：
衬底；
发光器件层，所述发光器件层设置在所述衬底上，所述发光器件层包括呈阵列排布的发光二极管，以及设置在相邻两发光二极管之间的挡墙；
第一光学结构层，所述第一光学结构层设置在所述发光器件层上，所述第一光学结构层包括开口区域，所述开口区域与所述发光二极管对应设置；
第二光学结构层，所述第二光学结构层设置在所述第一光学结构层上，并填充于所述开口区域，其中，所述第二光学结构层的折射率大于所述第一光学结构层的折射率；以及，
抗反射层，所述抗反射层设置在所述第二光学结构层之上。
根据本发明一实施例，所述挡墙内设置有吸光粒子以及光扩散粒子。
根据本发明一实施例，所述吸光粒子包括碳黑粒子或有机黑色粒子。
根据本发明一实施例，所述光扩散粒子包括TiO2、ZrO2中的至少一种。
根据本发明一实施例，所述光扩散粒子的粒径为100nm～300nm。
根据本发明一实施例，所述第一光学结构层的折射率为1.1～1.5，所述第二光学结构层的折射率大于1.6。
根据本发明一实施例，所述显示面板还包括滤光层，所述滤光层设置在所述第二光学结构层与所述抗反射层之间，所述滤光层包括间隔设置的黑色矩阵层以及设置在所述黑色矩阵层之间的色阻层，所述色阻层与所述开口区域对应设置。
根据本发明一实施例，所述挡墙的高度不大于所述发光二极管的高度。
根据本申请一实施例，所述第一光学结构够还包括非开口区域，所述非开口区域与所述开口区域间隔设置，且所述非开口区域内对应的所述第一光学结构层的截面形状为梯形或弧形。
根据本申请一实施例，所述梯形结构与所述发光器件层的表面之间形成的夹角为30°～50°。
根据本申请一实施例，所述第二光学结构层的厚度大于等于所述第一光学结构层的厚度。
根据本申请一实施例，所述开口区域的宽度大于等于相对应的所述发光二极管的宽度。
根据本申请一实施例，所述抗反射层的表面反射率小于6％。
根据本发明实施例的第二方面，还提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：
提供一衬底；
在所述衬底上制备形成挡墙，所述挡墙间隔的设置在所述衬底上；
在相邻的挡墙之间设置发光二极管，对所述挡墙和所述发光二极管平坦化，以形成发光器件层；
在所述发光器件层上制备形成第一光学结构层，并在所述第一光学结构层上制备第二光学结构层，其中，所述第一光学结构层包括开口区域和非开口区域，所述开口区域与所述发光二极管对应设置，所述第二光学结构层填充于所述开口区域，且所述第一光学结构层的折射率于所述第二光学结构层的折射率不同；
在所述发光器件层上制备形成滤光层，并在所述滤光层上制备并形成抗反射层；
在所述抗反射层上制备保护层，并完成所述显示面板的制备。
综上所述，本发明实施例的有益效果为：
本发明实施例提供一种显示面板及显示面板的制备方法。显示面板包括发光器件层、第一光学结构层、第二光学结构层以及抗反射层，其中发光器件层包括发光二极管以及设置在发光二极管之间的挡墙，第二光学结构层填充于该第一光学结构层的开口区域，同时第二光学结构层于第一光学结构层的折射率不同。通过不同折射率的光学结构层以及挡墙结构有效的提高显示面板内发光二极管的出光效率，从而有效地提高显示面板显示效果以及性能。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果更显而易见。
图1为本申请实施例提供的显示面板的膜层结构示意图；
图2-图3为本申请实施例提供的挡墙与发光二极管对光线作用的示意图；
图4为本申请实施例提供的光学结构层的结构示意图；
图5为本申请实施例提供的显示面板的制备工艺流程示意图；
图6-图12为本申请实施例提供的显示面板在不同工序下对应的膜层结构示意图；
图13-图14为本申请实施例中提供的显示面板的膜层示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，下文的公开提供了不同的实施方式或例子来实现本发明的不同结构。为了简化本发明，下文对特定例子的部件和设置进行描述。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用。本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。
随着显示面板制备技术的不断发展，人们对显示面板的各项性能以及质量均提出了更高的要求。希望制备得到的显示面板不仅具有较好的质量，同时还具有较好的综合性能。
对于MicroLED显示面板而言，其具自发光无需背光源的特性，更具节能、机构简易、体积小、薄型等优势，而被广泛应用于各种发光显示设备之中。但是，现有技术在制备高性能的MicroLED器件时，制备工艺还存在一定的技术瓶颈，制备得到的面板还存在着出光效率低，发光显示性能不理想的问题。
本发明实施例中，还提供一种显示面板及显示面板的制备方法，以对面板的制备工艺进行改进，并有效的提高微发光二极管显示面板的出光效率和综合性能。
具体的，如图1所示，图1为本申请实施例提供的显示面板的膜层结构示意图。本申请实施例中提供的显示面板包括：衬底100、发光器件层101、第一光学结构层103以及第二光学结构层102。其中，发光器件层101设置在衬底100上，第一光学结构层103设置在发光器件层101上，第二光学结构层102设置在发光器件层101以及第一光学结构层103上。
具体的，本申请实施例中，在设置发光器件层101时，发光器件层101内包括多个发光二极管1012以及挡墙1011。其中，多个发光二极管1012阵列的设置在衬底100上，通过在衬底100上阵列设置多个发光二极管1012以有效的提高显示面板的显示亮度。
本申请实施例中，发光二极管1012间隔设置，具体的，多个发光二极管1012可呈行列式阵列或者其他设定的排布形式进行排布，同时，在相邻的两发光二极管1012之间还设置有挡墙1011。挡墙1011设置在任一相邻的两个发光二极管1012之间，通过设置挡墙1011结构以有效的提高显示面板的出光效果。
具体的，本申请实施例中的发光二极管1012包括设置在两侧的阴极1021和阳极1022。其中，在阴极1021和阳极1022之间存在一间隔1031，通过设置间隔1031以防止发光二极管1012两电极短路的问题。
进一步的，本申请实施例中，在该间隔1031内还可设置阻隔结构15，通过设置阻隔结构15以提高发光二极管的性能。
其中，在设置挡墙1011时，挡墙1011的高度不大于两侧设置的发光二极管1012的高度，从而尽可能减小挡墙1011对发光二极管1012发出的光线的遮挡。同时，该发光器件层101还包括填充层1013，填充层1013将挡墙1011以及发光二极管1012平坦化并将各器件之间的间隙填充。最终形成本申请实施例中的发光器件层。本申请实施例中，填充层1013可为无机材料，以防止相邻的两发光二极管1012出现短路。
同时，本申请实施例中设置的挡墙1011结构可设置为黑色挡墙，以吸收部分可见光并减少反射光线的目的。具体的，可在挡墙1011内设置吸光粒子以及光扩散粒子。
如图2-图3所示，图2-图3为本申请实施例提供的挡墙与发光二极管对光线作用的示意图。详见图2，由发光二极管1012发出的光线21、22以及23。由于在挡墙1011内设置有光散射粒子202，当光线21以及光线23经过挡墙1011，并到达挡墙1011内部的光散射粒子202时，由于该粒子为光散射粒子，该粒子可将光进一步散射，如图2中所示，将部分进入到挡墙1011内的光线21和光线22向挡墙1011外进行散射，从而提高光线的出光效率。
详见图3所示，当外界的光线进入到显示面板内时，会对器件的性能造成一定的影响，本申请实施例中，在挡墙1011内还设置有吸光粒子203，当外界的光线31和光线32进入到挡墙1011内时，被吸光粒子203所吸收，从而减少外界光线对发光二极管1012的影响，并有效的提高面板的性能。
具体的，本申请实施例中，吸光粒子203和光扩散粒子202可均匀的分布在挡墙1011内，并且可根据发光二极管1012的发光强度对上述粒子的浓度进行调整。具体的浓度这里不再详细赘述。同时，本申请实施例中提供的吸光粒子203可包括碳黑粒子或者其他有机、无机材料形成的黑色粒子颗粒。本申请实施例中提供的光扩散粒子202可为球状粒子。
本申请实施例中，该光扩散粒子202可包括TiO2、ZrO2中的至少一种，或者其他对光线具有散射作用的粒子均可。为了保证光扩散粒子202的作用效果，本申请实施例中的光扩散粒子202的粒径为100nm～300nm。
进一步的，本申请实施例中，在设置挡墙1011时，该挡墙1011的厚度大于5um，同时，使得挡墙1011的宽度大于0.5um。优选的，该挡墙1011的反射率大于60％。从而保证挡墙1011的性能。
结合图1，本申请实施例中在设置第一光学结构层103以及第二光学结构层102时，第一光学结构层103图案化的设置在发光器件层101上。其中，第一光学结构层103包括多个开口区域12以及设置在开口区域一侧的非开口区域，其中，第一光学结构层103在非开口区域内形成实体结构，如图1中的梯形实体光学结构。本申请实施例中，在设置开口区域12时，开口区域12相对发光二极管1012设置，且其开口区域12对应的截面积可为多种形状，如图1中的截面形状为梯形开口，还可为矩形开口或者弧形等形状。
同时，本申请实施例中，在设置开口区域12的宽度时，使开口区域12的宽度大于或等于其对应的发光二极管1012的宽度。当开口区域12的宽度大于发光二极管1012的宽度时，使两者的差值为3um～5um。从而使得光线能够完全从开口区域12处射出。
进一步的，在设置第一光学结构层103时，在朝向开口区域12一侧的第一光学结构层103的侧壁具有一斜度，即第一光学结构层103与发光器件层101表面存在一夹角，该夹角即为第一光学结构层103的斜度，该夹角在30°～45°之间。通过设置该斜度，从而有效的提高底部发光二极管的正向出光量。
本申请实施例中，第二光学结构层102填充于开口区域12，并覆盖第一光学结构层103。进一步的，第一光学结构层103和第二光学结构层102的折射率不同。优选的，第二光学结构层102的折射率大于第一光学结构层103的折射率。这样，第一光学结构层103和第二光学结构层102形成低-高折射率的结构。当发光二极管发出的光线依次经过不同的光学结构层时，有效提高了光线的出光率。
优选的，第一光学结构层103的折射率为1.1～1.5，第二光学结构层102的折射率大于1.6。优选的，在设置第一光学结构层103和第二光学结构层102时，使第二光学结构层的折射率与第一光学结构层的折射率之间的差值大于等于0.2。从而使得光线在透过第一光学结构层103和第二光学结构层102后具有较高的出光率。
如图4所示，图4为本申请实施例提供的光学结构层的结构示意图。本申请实施例中，第一光学结构层103的开口区域12的截面形状设置为弧形，具体的，可为半圆形结构。第二光学结构层102填充于该半圆结构。优选的，第二光学结构层102可只填充该开口区域12，或者填充于开口区域并完全覆盖第一光学结构层103。当第二光学结构层102覆盖第一光学结构层103时，覆盖的部分的高度可设置为5um～20um。
优选的，第一光学结构层103的开口区域12对应的结构还可设置为其他形状，可根据具体产品进行设置，并保证第一光学结构层103和第二光学结构层102具有不同的折射率。
进一步的，详见图1，本申请实施例中的显示面板还包括滤光层110。其中，滤光层110设置在第二光学结构层102上。具体的，该滤光层110包括黑色矩阵层105、光学胶层104以及色阻层106。
其中，在设置滤光层110所对应的各膜层结构时，黑色矩阵层105图案化的设置在第二光学结构层102上，并形成像素开口区域和像素非开口区域，其中，黑色矩阵层105对应设置在像素非开口区域内。色阻层106对应设置在由黑色矩阵层105所形成的开口区域内。同时，光学胶层104设置在色阻层106并覆盖黑色矩阵层105以及色阻层106，以最终形成显示面板的滤光层110。
本申请实施例中，在设置滤光层110时，滤光层110对应的光学反射率小于6％，其厚度设置为4um～7um之间。
进一步的，在设置色阻层106时，色阻层106可包括红色色阻、蓝色色阻以及绿色色阻，各不同颜色的色阻层材料对应设置在不同的开口区域内，并且相邻的两不同颜色的色阻层之间不连接，从而有效的保证了显示面板容易出现混色等问题。
具体的，在设置上述黑色矩阵层105时，黑色矩阵层105的厚度设置为1um～3um，其每个非显示区域内对应的黑色矩阵层105的宽度大于1um，从而防止相邻的两色阻层之间出现混色的问题。同时，红色色阻层、蓝色色阻层以及绿色色阻层对应膜层厚度设置为1um～4um。进一步的，在各开口区域内设置的不同颜色的色阻层的宽度不小于对应的发光二极管的宽度。
进一步的，本申请实施例中的显示面板还包括抗反射层107。其中，抗反射层107设置在第二光学层102之上，具体的，抗反射层107设置在滤光层110上。本申请实施例中，为了进一步提高显示面板的出光效果，该抗反射层107的上表面的反射率小于6％。
进一步的，本申请实施例还提供一种显示面板的制备方法。如图5所示，图5为本申请实施例提供的显示面板的制备工艺流程示意图。其中，包括如下步骤：
S100：提供一衬底；
S101：在所述衬底上制备形成挡墙，所述挡墙间隔的设置在所述衬底上；
S102：在相邻的挡墙之间设置发光二极管，对所述挡墙和所述发光二极管平坦化，以形成发光器件层；
S103：在所述发光器件层上制备形成第一光学结构层，并在所述第一光学结构层上制备第二光学结构层，其中，所述第一光学结构层包括开口区域和非开口区域，所述开口区域与所述发光二极管对应设置，所述第二光学结构层填充于所述开口区域，且所述第一光学结构层的折射率于所述第二光学结构层的折射率不同；
S104：在所述发光器件层上制备形成滤光层，并在所述滤光层上制备并形成抗反射层；
S105：在所述抗反射层上制备保护层，并完成所述显示面板的制备。
具体的，结合图6-图14，图6-图12为本申请实施例提供的显示面板在不同工序下对应的膜层结构示意图。
详见图6，提供一衬底100，并在该衬底100上制备形成挡墙1011。本申请实施例中，挡墙1011阵列的排布设置在该衬底1011上，并且相邻两挡墙1011之间具有一开口区域。
挡墙1011设置完成后，将巨量的发光二极管转移并绑定到衬底100上。详见图7，具体的，将巨量的发光二极管1012转移到挡墙1011之间的开口区域内。在转移并绑定的过程中，挡墙1011与发光二极管1012之间预留有一定的距离。
本申请实施例中，设置挡墙1011的工序与转移巨量的发光二极管1012的工序可互换，如先将巨量的发光二极管1012转移到衬底上，然后再在对应的位置上制备形成挡墙1011.
本申请实施例中，在设置挡墙1011时，该挡墙1011具有吸收以及反射部分光线的作用。具体的，在该挡墙1011内设置光扩散粒子以及光吸收粒子，当发光二极管1012发出的光线经过挡墙1011时，部分光线会被挡墙1011内的光扩散粒子再次扩散，从而达到进一步提高显示面板出光率的效果。同时，由于挡墙1011内还设置有光吸收粒子，外界进入到显示面板的光线会被光吸收粒子吸收，从而减少显示面板对光线的反射问题，并有效的提高了显示面板的显示质量及效果。
详见图8-图9，挡墙和发光二极管制备完成后，对该挡墙1011和发光二极管1012进行封装，并形成发光器件层101。为了保证发光器件层101的性能，对发光器件层101封装时，将挡墙1011与发光二极管1012之间的空隙填充满，并且封装一定的高度。并最终形成本申请实施例中提供的发光器件层101。
发光器件层101制备完成后，再在发光器件层101上制备第一光学结构层103。其中，在设置第一光学结构层103时，将第一光学结构层103图案化设置，使第一光学结构层103形成开口区域12以及非开口区域。其中，该开口区域12与发光二极管相对应，非开口区域13与挡墙结构相对应。
进一步的，如图10-图11，本申请实施例中，第一光学结构层103制备完成后，继续制备并形成第二光学结构层102。在制备形成第二光学结构层102时，将第二光学结构层102填充开口区域12。同时，在填充完成后，可是第二光学结构层102的厚度与第一光学结构层103的厚度相同，或者第二光学结构层102的厚度大于第一光学结构层103的厚度。当两者厚度相同时，此时只需第二光学结构层102填充满对应的开口区域即可，当第二光学结构层102的厚度大于第一光学结构层103的厚度时，此时，第二光学结构层103不仅要填充满对应的开口区域，同时，还需多出一定的厚度，超出部分的厚度可为5um～20um。并使其完全覆盖第一光学结构层103，并最终形成如图10中所示的膜层结构。
本申请实施例中提供的第一光学结构层103和第二光学结构层102的光学折射率不同。优选的，第一光学结构层103的折射率小于第二光学结构层102的光学折射率。当发光二极管发出的光线经过不同折射率的膜层时，能使得更多的光线射出，从而有效的提高了出射光线的出光率。
当光线结构层制备完成后，详见图11，继续制备并形成滤光层。具体的，在制备滤光层时，首先制备黑色矩阵层105。其中，黑色矩阵层105图案化的设置在第二光学结构层102上，并且，由黑色矩阵层105所形成的开口区域与第一光学结构层103所形成的一一对应。
具体的，本申请实施例中，在设置黑色矩阵层105时，黑色矩阵层105的膜层厚度设置为1um～3um，两相邻开口区域之间的黑色矩阵层105的宽度大于1um，从而保证黑色矩阵层105对光线的遮挡效果。
黑色矩阵层105制备完成后，再在黑色矩阵层105形成的开口区域内设置色阻层。本申请实施例中，色阻层设置在黑色矩阵层105之间的开口区域处，同时，色阻层106的厚度设置为1um～4um。进一步的，本申请实施例中提供的色阻层106包括红色色阻层、蓝色色阻层以及绿色色阻层，不同颜色的色阻层对应的设置在不同的开口区域处。
进一步的，将黑色矩阵层105以及色阻层106封装，如通过光学胶层104进行封装，最终形成本申请实施例中滤光层110。
如图12，图12为本申请实施例中提供的显示面板的膜层结构示意图。滤光层110制备完成后，再在滤光层110上制备一抗反射层107，同时还可再在抗反射层107上制备一保护层并完成显示面板的制备。本申请实施例中，发光二极管设置在像素开口区域12内对应位置处，挡墙1011设置在非开口区域13内对应的位置处。具体的，该抗反射层的上表面的光线反射率小于6％，从而有效的降低对外界光线的反射，并提高显示面板的显示效果。
本申请实施例中，在制备形成该显示面板时，还可进行对组成盒进行制备。具体的，如图13-图14中的膜层结构，图13-图14为本申请实施例中提供的显示面板的膜层示意图。本申请实施例，将多膜层分别设置，然后将多膜层相结合，结合完成后再进行对组，并最终形成本申请实施例中的显示面板。
具体的，首先将衬底100、发光器件层101按照上述制备工艺进行制备，制备完成后，将衬底100与发光器件层101结合形成第一模组。
制备第一光学结构层103、第二光学结构层102、滤光层110以及抗反射层107，并依次将上述各膜层按照本申请实施例中的方法进行结合，并形成第二模组。
再在第一模组或者第二模组相结合的表面上制备一黏结胶层800，该黏结胶层800可为常用的热固化材料，如黏结胶层800再高温下会固化，其中，该黏结胶层800的固化温度再230℃。
将第一模组和第二模组通过该黏结胶层800进行粘合，并最终形成本申请实施例中提供的显示面板。
进一步的，本申请实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括显示面板，显示面板通过本申请实施例中的制备方法制备形成。该显示装置具有较好的出光效率以及显示效果。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板以及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。
Claims (14)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
衬底；
发光器件层，所述发光器件层设置在所述衬底上，所述发光器件层包括呈阵列排布的发光二极管，以及设置在相邻两发光二极管之间的挡墙；
第一光学结构层，所述第一光学结构层设置在所述发光器件层上，所述第一光学结构层包括开口区域，所述开口区域与所述发光二极管对应设置；
第二光学结构层，所述第二光学结构层设置在所述第一光学结构层上，并填充于所述开口区域，其中，所述第二光学结构层的折射率大于所述第一光学结构层的折射率；以及，
抗反射层，所述抗反射层设置在所述第二光学结构层之上。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述挡墙内设置有吸光粒子以及光扩散粒子。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述吸光粒子包括碳黑粒子或有机黑色粒子。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述光扩散粒子包括TiO2、ZrO2中的至少一种。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述光扩散粒子的粒径为100nm～300nm。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一光学结构层的折射率为1.1～1.5，所述第二光学结构层的折射率大于1.6。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括滤光层，所述滤光层设置在所述第二光学结构层与所述抗反射层之间，所述滤光层包括间隔设置的黑色矩阵层以及设置在所述黑色矩阵层之间的色阻层，所述色阻层与所述开口区域对应设置。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述挡墙的高度不大于所述发光二极管的高度。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一光学结构层还包括非开口区域，所述非开口区域与所述开口区域间隔设置，且所述非开口区域内对应的所述第一光学结构层的截面形状为梯形或弧形。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述梯形结构与所述发光器件层的表面之间形成的夹角为30°～50°。
11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二光学结构层的厚度大于等于所述第一光学结构层的厚度。
12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述开口区域的宽度大于等于相对应的所述发光二极管的宽度。
13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述抗反射层的表面反射率小于6％。
14.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供一衬底；
在所述衬底上制备形成挡墙，所述挡墙间隔的设置在所述衬底上；
在相邻的挡墙之间设置发光二极管，对所述挡墙和所述发光二极管平坦化，以形成发光器件层；
在所述发光器件层上制备形成第一光学结构层，并在所述第一光学结构层上制备第二光学结构层，其中，所述第一光学结构层包括开口区域和非开口区域，所述开口区域与所述发光二极管对应设置，所述第二光学结构层填充于所述开口区域，且所述第一光学结构层的折射率于所述第二光学结构层的折射率不同；
在所述发光器件层上制备形成滤光层，并在所述滤光层上制备并形成抗反射层；
在所述抗反射层上制备保护层，并完成所述显示面板的制备。
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