CN111477117A - Led显示屏及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种LED显示屏及其制备方法，其中LED显示屏，包括：LED阵列，所述LED阵列包括多个LED发光单元；导光板，设置在LED阵列的出光侧；遮光层，分布在所述导光板中；所述遮光层用于将所述导光板分割成多个像素区域，每个所述像素区域与所述LED阵列中的每个LED发光单元一一对应。本发明制备工艺简单，在减小LED显示屏的画面颗粒感和有效防止LED发光单元之间的光串扰的基础上，可最大化减小遮光层壁厚，提升了LED显示屏的像素填充率。
Description
技术领域
本发明涉及一种LED显示屏及其制备方法。
背景技术
LED显示屏是一种点阵结构的平板显示器，属于主动发光的显示器件。其屏体的显示部分由许多LED发光单元组成的LED阵列，当把红、绿、蓝三种LED发光单元放在一起作为一个像素时，就可以产出用于视频显示的全彩色LED显示屏。与传统显示方式相比，LED显示屏具有亮度高、色域广、能耗少、故障率低、组态灵活、使用寿命长、显示内容多样、显示方式丰富等优点，被广泛应用于道路、金融、广场、车站、码头和体育馆等公共场所。
但是，目前LED显示屏还存在一些问题。例如，LED显示屏中对应每个像素的LED发光无法填满整个像素尺寸，各LED灯珠之间间距大，导致图像显示的颗粒感较强，而且亮度分布极不均匀，使观众感觉刺眼。现有的解决方案是在LED阵列的出光侧设置扩散膜，如图1a和图1b分别为无扩散膜和设置扩散膜时LED显示屏的光强像素化分布示意图。对照图1a和图1b可知，在LED显示屏S前布置扩散膜K，可以有效的平均每个像素区域内的光强和颜色分布，减少显示画面的颗粒感。但扩散膜的存在加重了相邻LED发光单元发光的串扰，使得相邻像素的对比度降低，影响图像质量。
为解决扩散膜导致的光串扰问题，申请公布号为CN104049374A的技术方案，提供一种可实现面发光的LED屏。如图2所示，LED屏在LED像素点阵列011的像素之间设置了内壁为反射膜的障壁框框阵列013，用来保证相邻的LED像素点不发生串扰；并进一步在障壁框框阵列013上设置匀光板014，以提高光均匀性。
然而，该技术方案中，障壁框框013一方面用于对相邻LED发光元件出射的光进行隔离，另一方面也起到支撑匀光板014的作用；由于对障壁框框013的可靠性要求很高，使得障壁框框013的厚度较大，导致观看LED屏时由于障壁框框013的厚度导致的像素之间黑色间隔缝较明显，无法做到像素填充率最佳。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于针对现有技术的不足，提供一种LED显示屏及其制备方法，在减小LED显示屏的画面颗粒感，和防止LED发光单元之间的光串扰的基础上，尽可能的提升LED显示屏的像素填充率。
本发明所要解决的技术问题是通过如下技术方案实现的：
一种LED显示屏，包括：
LED阵列，所述LED阵列包括多个LED发光单元；
导光板，设置在LED阵列的出光侧；
遮光层，分布在所述导光板中；
所述遮光层用于将所述导光板分割成多个像素区域，每个所述像素区域与所述LED阵列中的每个LED发光单元一一对应。
进一步在一实施方式中，所述遮光层将所述导光板分割成矩形的多个像素区域。
进一步在一实施方式中，所述遮光层将所述导光板分割成正六边形的多个像素区域。
进一步在一实施方式中，所述导光板上设置有贯穿厚度方向的图案化凹槽阵列，所述遮光层设置在所述导光板的所述凹槽阵列中。
进一步在一实施方式中，所述导光板上设置有沿厚度方向的非贯穿图案化凹槽阵列，所述遮光层设置在所述导光板的所述凹槽阵列中。
进一步在一实施方式中，所述遮光层与所述导光板的上表面或/和下表面之间留有间隙，所述间隙的尺寸小于2mm。
进一步在一实施方式中，所述遮光层的壁厚沿LED阵列的方向相同。
进一步在一实施方式中，所述遮光层的壁厚为0.2-1.2mm，优选为0.4-1.0mm。
进一步在一实施方式中，所述遮光层的壁厚沿LED阵列的方向逐渐增大。
进一步在一实施方式中，所述遮光层入光侧的壁厚w1的尺寸范围为0.7mm-1.2mm。
进一步在一实施方式中，所述遮光层出光侧的壁厚w2的尺寸范围为0.2mm-0.4mm。
进一步在一实施方式中，所述LED阵列与所述导光板之间留有间隙。
本发明的一种LED显示屏的制备方法，包括如下步骤：在所述LED阵列上形成导光板；
在所述导光板的厚度方向上形成图案化凹槽阵列；
将遮光层浆料注入所述凹槽阵列中，去除所述导光板的所述凹槽阵列中不需要的遮光层浆料，使遮光层浆料固化，形成遮光层。
本发明的一种LED显示屏的制备方法，包括如下步骤：
提供一带有牺牲层的透明导光板；
在所述导光板的厚度方向上形成图案化凹槽阵列；
将遮光层浆料注入所述凹槽阵列中，去除所述导光板的所述凹槽阵列中不需要的遮光层浆料，使遮光层浆料固化，形成遮光层；
去除所述牺牲层，将包含有所述遮光层的所述导光板通过胶粘或机械连接的方式设置在LED阵列上。
综上所述，本发明提供一种LED显示屏及其制备方法，本发明制备工艺简单，在减小LED显示屏的画面颗粒感和有效防止LED发光单元之间的光串扰的基础上，通过新型的遮光层制备工艺，可最大化减小遮光层壁厚，提升了LED显示屏的像素填充率。
下面结合附图和具体实施例，对本发明的技术方案进行详细地说明。
附图说明
图1a和图1b分别为无扩散膜和设置扩散膜时LED显示屏幕的光强像素化分布示意图；
图2为现有LED屏局部结构示意图；
图3a和图3b分别为本发明实施例一LED显示屏的整体结构侧视和俯视示意图；
图4为本发明实施例一遮光层入光侧和出光侧的厚度不同示意图；
图5为本发明实施例一LED阵列的局部结构示意图；
图5a为本发明实施例一中无导光板和遮光层时LED发光单元发光面的光强分布示意图；
图6a至图6b分别为本发明实施例一中覆盖导光板和遮光层时LED发光单元发光面的光强分布示意图；
图7为本发明实施例一中使用包含散射颗粒的导光板的LED显示屏的光强分布示意图；
图8为本发明实施例二的LED显示屏结构示意图；
图9为本发明实施例二的不同形状分布的遮光层对比示意图；
图10为本发明实施例三LED显示屏的整体结构侧视图；
图11为本发明实施例四LED显示屏的整体结构侧视图；
图12为本发明实施例五LED显示屏的整体结构侧视图；
图13为本发明实施例六LED显示屏的整体结构侧视图；
图14为本发明实施例五LED显示屏的光强分布示意图。
具体实施方式
以下通过具体实施例，对本发明LED显示屏及其制备方法进行详细地说明。
实施例一
图3a和图3b分别为本发明LED显示屏的整体结构侧视和俯视示意图。在本实施例中，本发明提供一种LED显示屏，包括LED阵列11和设置在所述LED阵列11上的遮光层13和扩散膜(图中未示出)，在所述LED阵列11的出光侧设有导光板12，所述遮光层13分布在所述导光板12中，将导光板12在与LED阵列11对应的方向上分割成多个像素区域，每个像素区域与LED阵列中11的每组LED发光单元一一对应，即一组LED发光单元对应一个像素区域。具体来说，在如图3a和图3b所示的实施例中，所述遮光层13贯穿设置在导光板12的厚度方向上。也就是说，在本实施例中，遮光层13的厚度与导光板12的厚度相同。
通常情况下，LED阵列11中的每组LED发光单元同时包括红色、绿色和蓝色LED发光单元，可以理解的是，在一实施方式中，每组LED发光单元可以只包括红色、绿色或蓝色中的任意一种LED发光单元。
LED阵列11的出光侧设置导光板12，导光板12和LED阵列11之间是直接接触，无间隙，该导光板12为对可见光区吸收率小于10％的透明材料构成，进一步，所述透明材料可以为硅胶、玻璃、蓝宝石或陶瓷中的一种。具体而言，为增加导光板的匀光效果，所述导光板可为包含有气孔的硅胶、蓝宝石、玻璃或陶瓷；或，所述导光板可为包含散射颗粒的硅胶、蓝宝石、玻璃或陶瓷。在本实施例中，导光板优选为包含有散射颗粒的硅胶，导光板的厚度优选为3-6mm。
遮光层13用于将导光板分割成多个与所述LED发光单元一一对应的像素区域，此时的遮光层包含两种具体的材料选择，第一种遮光层为光反射性材料，具体可为：银胶、铝银胶、银粉或铝银粉等光反射材料，此时遮光层对可见光的反射率大于90％；另一种所述遮光层为光吸收性材料，具体可为黑色油墨、黑色油漆、黑色胶体或黑色分体等光吸收性材料。此种遮光层对可见光的吸收率大于90％。在本实施例中遮光层优选采用光反射性材料，遮光层13穿透导光板12的厚度方向，遮光层13将导光板12在与LED阵列11对应的方向上分割成多个像素区域，每个像素区域与LED阵列中11的每组LED发光单元一一对应。如图3b所示的俯视图，具体而已，遮光层13将导光板分割成多个矩形分布的像素区域，每一个像素区域对应一组LED发光单元，其中LED发光单元优选设置每个矩形像素区域的中心位置。
进一步，本发明的遮光层13在导光板12中的厚度一致，即遮光层13在导光板12入光侧的壁厚和出光侧的壁厚一致，即遮光层的壁厚沿LED阵列的方向相同，此处的“入光侧”指的是导光板12靠近LED阵列11的一面，“出光侧”指的是导光板12靠近扩散膜的一面，进一步遮光层的壁厚为0.2-1.2mm，优选为0.4-1.0mm。
可以理解的是，本发明的遮光层13在导光部12中的壁厚可以不同，如图4所示，其中遮光层13在导光板12入光侧的壁厚w1大于在导光板13出光侧的壁厚w2，此处的“入光侧”指的是导光板12靠近LED阵列11的一面，“出光侧”指的是导光板12靠近扩散膜的一面，其中对应导光板12入光侧的壁厚w1范围为0.7-1.2mm，对应导光板12出光侧的壁厚w2范围为0.2-0.4mm，即遮光层的壁厚沿LED阵列的方向逐渐增大，此时的遮光层13具有一倾斜的壁面，倾斜壁面对应的倾斜角度为δ，其中倾斜角度δ的范围为3°-5°。
下面对本发明的的LED显示屏的制备方法进行如下说明：
在所述LED阵列上形成所述导光板；
在所述导光板的厚度方向上形成图案化凹槽阵列；
将遮光层浆料注入所述凹槽阵列中，去除所述导光板的所述凹槽阵列中不需要的遮光层浆料，使遮光层浆料固化，形成遮光层。
下面以硅胶材料的导光板为例进一步对LED显示屏的制备方法进行说明：
将硅胶前驱体，和散射颗粒粉末混合均匀，得到混合均匀的浆料。为了在后续固化过程中不损坏LED阵列，要求硅胶的固化温度低于200℃。
利用刮涂或注塑的方法，在LED阵列11上覆盖一层混合均匀的浆料。通过光固化的方式使得覆盖在芯片阵列上的混合浆料固化，形成导光板12。
在导光板12上通过机械切割或激光切割或腐蚀等方式形成导光板12厚度方向上的凹槽阵列。
将银粉和/或铝粉和/或炭黑与硅胶前驱体或光固化胶前驱体或玻璃粉的有机浆料混合均匀，得到遮光层浆料，为防止遮光层浆料在固化过程中损坏LED阵列和导光板，遮光层浆料所使用的硅胶的固化温度低于200℃。为使得遮光层浆料填充到凹槽阵列中，要求遮光层浆料具有较低的粘度和较好的流动性。
通过刮涂的方式将遮光层浆料注入凹槽阵列中，之后擦除导光板12表面残留的遮光层浆料。通过加热或曝光的方式使遮光层浆料固化，形成遮光层13。另外，在本实施例中，导光板12的存在可辅助遮光层13的成型，有利于得到壁厚较薄的遮光层，从而提高显示屏的像素填充率。
在本实施例中，LED阵列11的像素芯片发出的光经硅胶导光板12出射，大角度的光入射至遮光层13后被吸收或反射，以减少像素之间的光串扰，另外由于导光板12可实现对LED发光单元出射光的匀化，可减小LED显示屏显示画面的颗粒感。
图5为本发明实施例一LED阵列的局部结构示意图。如图5所示，红色、绿色和蓝色LED发光单元分别为边长为0.1mm的正方形，红色、绿色和蓝色LED发光单元之间的间距为0.1mm，相邻的两个绿色LED发光单元之间的间距为2.1mm。图5a为本发明实施例一中无导光板和遮光层的LED发光单元发光面的光强分布示意图。以图5所示尺寸的2×2的LED阵列为例并结合图5a可知，在不使用导光板和遮光层的LED阵列的出光侧的光场分布，该结构中像素填充率极低，显示图像颗粒感明显，并且像素中红绿蓝三基色芯片发出的三色光明显分离，色散现象明显。
图6a至图6b为本发明实施例一中覆盖导光板和遮光层后LED阵列发光面的光强分布示意图。在本实施例中，导光板12为硅胶，厚度为3mm，遮光层13的材料为银胶。与图5a对比可知，设置导光板12和遮光层13后，显示屏的像素填充率可接近100％，并且芯片发光的强度均匀性有很大改善，很好的解决了显示画面的颗粒感。如图6b所示，为关闭LED显示屏的一个像素点后的光强度分布，从图中可知，本实施例中遮光层13的存在可以有效防止相邻像素之间的光串扰，得到较高的显示画面对比度。
为了进一步提高LED显示屏的光场分布均匀性，可在导光板12表面设置扩散膜或对导光板12的表面图案化处理。此外，导光板12中加入适当的散射粒子还可以进一步改善出光侧的光场分布均匀性。
进一步地，图7为本发明实施例一中使用包含散射颗粒的导光板的LED显示屏的光强分布。如图7所示，在本实施例中，还可以添加TiO2散射粒子的硅胶作为导光板12，遮光层13为银胶。与图6a和图6b对比可知，使用含有TiO2散射粒子的硅胶作为导光板12时，LED显示屏的出光强度均匀性进一步改善。
实施例二
图8为本发明实施例二LED显示屏结构俯视示意图，提供一种LED显示屏，包括LED阵列11和设置在所述LED阵列11上的遮光层13和扩散膜(图中未示出)，在所述LED阵列11的出光侧设有导光板12，所述遮光层13分布在所述导光板12中，将导光板12在与LED阵列11对应的方向上分割成多个像素区域，实施例二与实施一的区别在于遮光层13包含多个正六边形分布的像素区域，每一个像素区域对应一组LED发光单元，其中LED发光单元优选设置在每个正六边形像素区域的中心位置。
相对于矩形分布的遮光层结构，正六边形分布的遮光层在LED显示屏的分辨率不变的情况下，单位出光面中的遮光层面积最小，即在遮光层的厚度一致的情况下，正六边形分布的遮光层在出光面中的边长投影最短，即从观众侧来观看时，每个像素之间的黑色缝隙最小，像素填充率最大。
需要说明的是，实施例二与实施一的区别在于遮光层形状分布的不同，其它遮光层的材料属性、遮光层表面材料属性、遮光层与LED的位置关系及遮光层的厚度大小都与实施一相同，或者说实施例一的遮光层的材料属性、遮光层表面材料属性、遮光层与LED的位置关系及遮光层的厚度大小都可以直接应用在实施例二，此处不再鳌述。
下面结合具体的图示对不同形状分布的遮光层的填充率进行说明，如图9所示，遮光层分别为正六边形、正方形和圆形分布，且LED显示屏的遮光层厚度相等，不同形状分布的遮光层围成的像素面积分别为S1、S2、S3，假定像素面积S1、S2、S3都为1，计算出各自的像素周长依次为正六边形3.72、正方形4、圆形3.54。可以看到，遮光层为正六边形分布时的周长比正方形分布要短7％，圆形分布作为多边形的极限情况，其周长最短，但是由于圆形像素区域彼此之间无法无缝衔接，所以遮光层上不透光的面积显著变大，并不适用于提高像素填充率，从而LED显示器采用正六边形分布的遮光层组成的像素区域，在分辨率不变的情况下，像素填充率更高。
实施例三
图10为本发明实施例三LED显示屏的整体结构侧视图。如图10所示，本实施例与上述实施例一的区别在于，遮光层13的设置方式有所不同，本实施例所述遮光层13并非贯穿设置在导光板的厚度方向上，所述遮光层13设置在导光板12的厚度方向上且与所述导光板12的上表面留有间隙L，所述间隙L的尺寸小于2mm，在该间隙中不设置反射或吸光材料，此结构可以使得LED阵列中的LED发光单元发出光线通过扩散膜和遮光层之间的间隔，照射到遮光层上方扩散膜，增加此区域照度，进一步提升填充率，提升最终显示效果。
需要说明的是，实施例三与实施一的区别在于遮光层13的设置方式有所不同，本实施例所述遮光层13并非贯穿设置在导光板的厚度方向上，所述遮光层13设置在导光板12的厚度方向上且与所述导光板12的上表面之间留有间隙L，其它遮光层的材料属性、遮光层表面材料属性、遮光层与LED的位置关系及遮光层的厚度大小都与实施一相同，或者说实施例一的遮光层的材料属性、遮光层表面材料属性、遮光层与LED的位置关系及遮光层的厚度大小都可以直接应用在实施例三，此处不再鳌述。
本实施例的加工方法与实施例一基本相同，当采用机械切割或激光切割或腐蚀等方式在导光板12的厚度方向上形成凹槽阵列时，凹槽的深度与实施例一是相同的，不同之处在于，通过刮涂或注塑等方式将少量的遮光层浆料注入凹槽阵列中时，无需将所开设的凹槽空间全部灌满，只需要将其部分灌满即可，或者通过吸取的方式去除所述凹槽阵列中的距离上表面的多余遮光层浆料。
鉴于本实施例的其他技术特征与实施例一相同，详情请参见上述实施例一，在此不再赘述。
实施例四
图11为本发明实施例四LED显示屏的整体结构侧视图。如图11所示，同样地，本实施例与上述实施例一的区别在于，遮光层13的设置方式有所不同，本实施例所述遮光层13并非贯穿设置在导光板的厚度方向上，所述遮光层13设置在导光板12的厚度方向上且与所述导光板12的下表面间隔设置，即遮光层的下表面与导光板的下表面之间留有间隙，所述间隙的尺寸小于2mm，在该间隙中不设置反射或吸光材料。
需要说明的是，实施例四与实施一的区别在于遮光层13的设置方式有所不同，本实施例所述遮光层13并非贯穿设置在导光板的厚度方向上，所述遮光层13设置在导光板12的厚度方向上且与所述导光板12的下表面之间留有间隙L，其它遮光层的材料属性、遮光层表面材料属性、遮光层与LED的位置关系及遮光层的厚度大小都与实施一相同，或者说实施例一的遮光层的材料属性、遮光层表面材料属性、遮光层与LED的位置关系及遮光层的厚度大小都可以直接应用在实施例四，此处不再鳌述。
本实施例的加工方法与实施例一基本相同，不同之处在于，当采用机械切割或激光切割或腐蚀等方式在导光板12的厚度方向上形成凹槽阵列时，凹槽的深度比实施例一中的凹槽深度更浅。随后同样是通过刮涂或注塑等方式将遮光层浆料注入凹槽阵列中，之后擦除导光板12表面残留的遮光层浆料，通过加热或曝光的方式使遮光层浆料固化，形成遮光层13。
实施例五
图12为本发明实施例五LED显示屏的整体结构侧视图。如图12所示，同样地，本实施例与上述实施例一的区别在于，遮光层13的设置方式有所不同，所述遮光层13并非贯穿设置在导光板的厚度方向上，所述遮光层13设置在导光板12的厚度方向上且与所述导光板12的上表面和下表面之间均留有间隙，所述间隙的尺寸小于2mm，在该间隙中不设置反射或吸光材料。
需要说明的是，实施例五与实施一的区别在于遮光层13的设置方式有所不同，本实施例所述遮光层13并非贯穿设置在导光板的厚度方向上，所述遮光层13设置在导光板12的厚度方向上且与所述导光板12的上表面和下表面之间均留有间隙L，其它遮光层的材料属性、遮光层表面材料属性、遮光层与LED的位置关系及遮光层的厚度大小都与实施一相同，或者说实施例一的遮光层的材料属性、遮光层表面材料属性、遮光层与LED的位置关系及遮光层的厚度大小都可以直接应用在实施例五，此处不再鳌述。
本实施例的加工方法与实施例一基本相同，不同之处在于，当采用机械切割或激光切割或腐蚀等方式在导光板12的厚度方向上形成凹槽阵列时，凹槽的深度比实施例一中的凹槽深度更浅即可。另外在通过刮涂或注塑等方式将少量的遮光层浆料注入凹槽阵列中，无需将所开设的凹槽空间全部灌满，只需要将其部分灌满即可；或者通过吸取的方式去除所述凹槽阵列中的距离上表面的多余遮光层浆料，通过加热或曝光的方式使遮光层浆料固化，形成遮光层13。
鉴于本实施例的其他技术特征与实施例一相同，详情请参见上述实施例一，在此不再赘述。
实施例六
图13为本发明实施例六LED显示屏的整体结构示意图。如图13所示，在本实施例中，本发明提供一种LED显示屏，包括LED阵列21和设置在所述LED阵列21上的遮光层23和扩散膜(图中未示出)，扩散膜或导光板22的表面还设有图案化处理层24。在所述LED阵列21的出光侧设有导光板22，所述遮光层23分布在所述导光板22中，将导光板22在与LED阵列21平行的方向上分成多个区域，每个所述区域与LED阵列中21的每个LED发光单元一一对应。在本实施例中与上述实施例一相同，所述遮光层23贯穿设置在导光板22的厚度方向上。导光板22和LED阵列21之间通过具有遮光效果的胶层25粘接在一起。
需要说明的是，实施例六与实施一的区别在于导光板与LED阵列的连接方式不同，其它实施例一的遮光层的材料属性、遮光层表面材料属性、遮光层与LED的位置关系及遮光层的厚度大小都可以直接应用在实施例六，此处不再鳌述。
具体来说，LED阵列21的每个像素对应红色、绿色和蓝色LED发光单元。导光板22采用的是可见光区吸收率小于10％的透明材料制成，在本实施例中优选为玻璃、蓝宝石、陶瓷等，导光板22通过粘结剂或螺栓等机械结构与LED阵列21的基板相连，与LED发光单元的出光侧之间直接接触或有间隙，优选的二者之间存在间隙。遮光层23在可见光区透过率低于10％，在本实施例中优选为反射材料；遮光层23穿透导光板22的厚度方向，在与LED阵列21平行的方向上形成与LED发光单元一一对应的阵列。扩散膜或导光板22的表面还设有图案化处理层24。
本实施例中的LED显示屏的制备方法如下：
提供一带有牺牲层的透明导光板；
在所述导光板的厚度方向上形成图案化凹槽阵列；
将遮光层浆料注入所述凹槽阵列中，去除所述导光板的所述凹槽阵列中不需要的遮光层浆料，使遮光层浆料固化，形成遮光层；
去除所述牺牲层，将包含有所述遮光层的所述导光板通过胶粘或机械连接的方式设置在LED阵列上。
下面以玻璃材料的导光板为例进一步对LED显示屏的制备方法进行说明；
选取合适尺寸的平板玻璃，将平板玻璃粘结在石蜡牺牲层上，通过机械切割或激光切割或腐蚀等方式形成贯穿导光板平板玻璃，但不贯穿石蜡层的凹槽阵列，可以理解的是，在一变更实施例中，所述凹槽阵列并非贯穿所述凹槽阵列，可在距离导光板的上表面或下表面留有间隙，具体的间隙设置，可参照上述实施方式，此处不再鳌述。
将银粉和/或铝粉和/或炭黑与硅胶前驱体或光固化胶前驱体或玻璃粉的有机浆料混合均匀，得到遮光层浆料，通过刮涂或注塑等方式将遮光层浆料注入凹槽阵列中，之后擦除导光板22表面残留的遮光层浆料。通过加热或曝光的方式使遮光层浆料固化，形成遮光层23。
去除粘结在平板玻璃上的石蜡牺牲层，得到包含遮光层23的导光板22。
将包含遮光层23的导光板22通过胶粘或机械连接等方式与LED发光单元的基板连接，使得LED出光侧与导光板22之间存在间隙。
在导光板22的表面贴上扩散膜。
由上述内容可知，本实施例与实施例一的区别在于，本实施例直接选取平板玻璃或蓝宝石或透明陶瓷等作为导光板，导光板与LED阵列为分立结构，导光板与LED阵列的基板连接，以保证导光板与LED发光单元出光侧之间具有间隙。
图14为本发明实施例六LED显示屏的光强分布示意图。本实施例中平板玻璃作为导光板，导光板与LED发光单元出光侧之间存在间隙，导光板尺寸为3mm，LED发光单元尺寸与实施例一中相同时，LED屏幕的光强分布如图14所示，与实施例一中导光板与LED发光单元出光侧之间没有间隙的情况相比，本实施例中LED显示屏的出光强度和色彩更加均匀。
综上所述，本发明提供一种LED显示屏及其制备方法，制备工艺简单，本发明制备工艺简单，在减小LED显示屏的画面颗粒感和有效防止LED发光单元之间的光串扰的基础上，提升了LED显示屏的像素填充率。
Claims (14)
1.一种LED显示屏，包括：
LED阵列，所述LED阵列包括多个LED发光单元；
导光板，设置在LED阵列的出光侧；
遮光层，分布在所述导光板中；
其特征在于，所述遮光层用于将所述导光板分割成多个像素区域，每个所述像素区域与所述LED阵列中的每个LED发光单元一一对应。
2.如权利要求1所述的LED显示屏，其特征在于，所述遮光层将所述导光板分割成矩形的多个像素区域。
3.如权利要求1所述的LED显示屏，其特征在于，所述遮光层将所述导光板分割成正六边形的多个像素区域。
4.如权利要求1-3任一所述的LED显示屏，其特征在于，所述导光板上设置有贯穿厚度方向的图案化凹槽阵列，所述遮光层设置在所述导光板的所述凹槽阵列中。
5.如权利要求1-3任一所述的LED显示屏，其特征在于，所述导光板上设置有沿厚度方向的非贯穿图案化凹槽阵列，所述遮光层设置在所述导光板的所述凹槽阵列中。
6.如权利要求5所述的LED显示屏，其特征在于，所述遮光层与所述导光板的上表面或/和下表面之间留有间隙，所述间隙的尺寸小于2mm。
7.如权利要求1-3任一所述的LED显示屏，其特征在于，所述遮光层的壁厚沿LED阵列的方向相同。
8.如权利要求7所述的LED显示屏，其特征在于，所述遮光层的壁厚为0.2-1.2mm，优选为0.4-1.0mm。
9.如权利要求1-3任一所述的LED显示屏，其特征在于，所述遮光层的壁厚沿LED阵列的方向逐渐增大。
10.如权利要求9所述的LED显示屏，其特征在于，所述遮光层入光侧的壁厚w1的尺寸范围为0.7mm-1.2mm。
11.如权利要求9所述的LED显示屏，其特征在于，所述遮光层出光侧的壁厚w2的尺寸范围为0.2mm-0.4mm。
12.如权利要求1-3任一所述的LED显示屏，其特征在于，所述LED阵列与所述导光板之间留有间隙。
13.一种LED显示屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
在所述LED阵列上形成导光板；
在所述导光板的厚度方向上形成图案化凹槽阵列；
将遮光层浆料注入所述凹槽阵列中，去除所述导光板的所述凹槽阵列中不需要的遮光层浆料，使遮光层浆料固化，形成遮光层。
14.一种LED显示屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供一带有牺牲层的透明导光板；
在所述导光板的厚度方向上形成图案化凹槽阵列；
将遮光层浆料注入所述凹槽阵列中，去除所述导光板的所述凹槽阵列中不需要的遮光层浆料，使遮光层浆料固化，形成遮光层；
去除所述牺牲层，将包含有所述遮光层的所述导光板通过胶粘或机械连接的方式设置在LED阵列上。
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