CN114262930A - 镀覆装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及镀覆装置。本发明提供一种能够抑制气泡滞留在电场遮蔽板的下表面的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)；基板保持件(30)；以及电场遮蔽板(60)，配置于镀覆槽的内部的阳极(50)与基板(Wf)之间的部分，遮蔽在阳极与基板之间形成的电场的一部分，在俯视观察电场遮蔽板时，在镀覆槽的内部设置有未被电场遮蔽板遮蔽的非遮蔽区域(70)，在电场遮蔽板的下表面(61a)设置有倾斜面，该倾斜面相对于水平方向倾斜，并且构成为将存在于该下表面的气泡释放到非遮蔽区域。

Description

镀覆装置

技术领域

本发明涉及镀覆装置。本申请主张基于在2020年10月1日申请的日本专利申请编号第2020-166879号、以及2021年6月29日申请的日本专利申请编号第2021-107551号的优先权。日本专利申请编号第2020-166879号以及日本专利申请编号第2021-107551号的包括说明书、权利要求书、附图以及摘要的全部的公开内容通过参照而整体被本申请引用。

背景技术

以往，作为对基板实施镀覆处理的镀覆装置，公知有所谓的杯式的镀覆装置(例如，参照专利文献1)。这样的镀覆装置具备：镀覆槽，配置有阳极；和基板保持件，配置于比阳极靠上方的位置，将作为阴极的基板保持为基板的被镀覆面与阳极对置。

另外，以往，公知有如下技术：为了抑制由于端子效应而镀膜的外周部的膜厚变厚，将遮蔽在阳极与基板之间形成的电场的一部分的电场遮蔽板(在专利文献2中，称为调节板)配置在阳极与基板之间(例如，参照专利文献2)。

专利文献1：日本特开2008-19496号公报

专利文献2：日本特开2019-218618号公报

考虑在专利文献1所例示的现有的杯式的镀覆装置中，应用专利文献2所例示的技术，将电场遮蔽板配置在镀覆槽的内部的阳极与基板之间的部分。然而，在这样的镀覆装置的情况下，存在镀覆液中的气泡滞留在电场遮蔽板的下表面的担忧。这样，在气泡滞留在电场遮蔽板的下表面的情况下，存在由于该气泡而导致电场遮蔽板的功能受到阻碍，基板的镀覆品质变差的担忧。

发明内容

本发明是鉴于上述状况而完成的，其目的之一在于提供一种能够抑制气泡滞留在电场遮蔽板的下表面的技术。

(方式1)

为了实现上述目的，本发明的一个方式所涉及的镀覆装置具备：镀覆槽，存积有镀覆液，并且配置有阳极；基板保持件，配置于比上述阳极靠上方的位置，将作为阴极的基板保持为上述基板的被镀覆面与上述阳极对置；以及电场遮蔽板，配置于上述镀覆槽的内部的上述阳极与上述基板之间的部分，遮蔽在上述阳极与上述基板之间形成的电场的一部分，在从比上述电场遮蔽板靠上方侧观察上述镀覆槽的内部的俯视观察时，在上述镀覆槽的内部设置有未被上述电场遮蔽板遮蔽的非遮蔽区域，在上述电场遮蔽板的下表面设置有倾斜面，该倾斜面相对于水平方向倾斜，并且构成为将存在于上述电场遮蔽板的下表面的气泡释放到上述非遮蔽区域。

根据该方式，能够通过倾斜面将存在于电场遮蔽板的下表面的气泡有效地释放到非遮蔽区域。由此，能够抑制气泡滞留在电场遮蔽板的下表面。其结果，能够抑制由于滞留在电场遮蔽板的下表面的气泡而导致电场遮蔽板的功能受到阻碍，由此能够抑制基板的镀覆品质变差。

(方式2)

在上述方式1中，上述电场遮蔽板可以从上述镀覆槽的外周部朝向上述镀覆槽的中心侧延伸。

(方式3)

在上述方式2中，上述倾斜面可以以随着趋向上述镀覆槽的中心侧，距上述镀覆槽的底部的距离变大的方式倾斜。

(方式4)

在上述方式2或3中，上述倾斜面可以以随着趋向上述镀覆槽的周向上的一方侧，距上述镀覆槽的底部的距离变大的方式倾斜。

(方式5)

在上述方式4中，上述倾斜面可以以随着趋向上述镀覆槽的周向上的另一方侧，距上述镀覆槽的底部的距离变大的方式倾斜。

(方式6)

在上述方式2或3中，上述电场遮蔽板可以与上述镀覆槽的外周部的周向的整体连接，并且在上述俯视观察时具有环形形状。

(方式7)

在上述方式2～5中的任一方式中，上述电场遮蔽板可以与上述镀覆槽的外周部的周向的一部分连接，并且在上述俯视观察时具有非环形形状。

(方式8)

在上述方式2～5中的任一方式中，上述电场遮蔽板可以具有：环形形状部，与上述镀覆槽的外周部的周向的整体连接，并且在上述俯视观察时具有环形形状；和非环形形状部，与上述环形形状部的周向的一部分连接，在上述俯视观察时具有非环形形状。

(方式9)

上述方式1～8中的任一方式可以进一步具备多孔质电阻体，该多孔质电阻体配置在上述镀覆槽的内部中上述阳极与上述基板之间，上述电场遮蔽板配置于比上述电阻体靠下方侧，或者比上述电阻体靠上方侧的位置。

(方式10)

上述方式1～5中的任一方式可以进一步具备多孔质电阻体，该多孔质电阻体配置在上述镀覆槽的内部中上述阳极与上述基板之间，上述电场遮蔽板配置于比上述电阻体靠下方侧的位置，或者比上述电阻体靠上方侧的位置，上述电场遮蔽板与上述电阻体的外周缘的周向的整体连接，并且在上述俯视观察时具有环形形状。

(方式11)

上述方式1～5中的任一方式可以进一步具备多孔质电阻体，该多孔质电阻体配置在上述镀覆槽的内部中上述阳极与上述基板之间，上述电场遮蔽板配置于比上述电阻体靠下方侧，或者比上述电阻体靠上方侧的位置，上述电场遮蔽板与上述电阻体的外周缘的周向的一部分连接，并且在上述俯视观察时具有非环形形状。

附图说明

图1是表示实施方式所涉及的镀覆装置的整体结构的立体图。

图2是表示实施方式所涉及的镀覆装置的整体结构的俯视图。

图3是表示实施方式所涉及的镀覆装置中的一个镀覆模块的结构的示意性剖视图。

图4A是实施方式所涉及的电场遮蔽板的示意性俯视图。

图4B是将实施方式所涉及的电场遮蔽板沿径向切断面切断的示意性剖视图。

图5是实施方式的变形例1所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的示意性剖视图。

图6是实施方式的变形例2所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的示意性俯视图。

图7A是实施方式的变形例3所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的示意性俯视图。

图7B是将实施方式的变形例3所涉及的电场遮蔽板沿径向切断面切断的示意性剖视图。

图7C是将实施方式的变形例3所涉及的电场遮蔽板沿周向切断面切断的示意性剖视图。

图8A是实施方式的变形例4所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的示意性剖视图。

图8B是实施方式的变形例5所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的示意性剖视图。

图8C是实施方式的变形例6所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的示意性剖视图。

图9A是实施方式的变形例7所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的示意性俯视图。

图9B是实施方式的变形例8所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的示意性俯视图。

图10是实施方式的变形例9所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的示意性俯视图。

图11是表示实施方式的变形例10所涉及的镀覆装置的镀覆槽的周边结构的示意性剖视图。

图12A是放大表示实施方式的变形例11所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的周边结构的示意性剖视图。

图12B是放大表示实施方式的变形例12所涉及的镀覆装置的电场遮蔽板的周边结构的示意性剖视图。

图13是表示实施方式的变形例13所涉及的镀覆装置的镀覆槽的周边结构的示意性剖视图。

附图标记说明

10…镀覆槽；11…底部；12…外周部；30…基板保持件；50…阳极；60…电场遮蔽板；61a…下表面；62…倾斜面；65…环形形状部；66…非环形形状部；70…非遮蔽区域；80…电阻体；1000…镀覆装置；Wf…基板；Wfa…被镀覆面；Ps…镀覆液；Bu…气泡。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。此外，在以下的实施方式、实施方式的变形例中，往往对相同或对应的结构标注相同的附图标记并适当省略说明。另外，附图是为了容易理解实施方式的特征而示意性地图示的，各构成要素的尺寸比率等不限于与实际的相同。另外，在几个附图中，作为参考用，图示了X-Y-Z的正交坐标。该正交坐标中的，Z方向相当于上方，－Z方向相当于下方(重力作用的方向)。

图1是表示本实施方式的镀覆装置1000的整体结构的立体图。图2是表示本实施方式的镀覆装置1000的整体结构的俯视图(顶视图)。如图1及图2所示，镀覆装置1000具备装载口100、输送机械臂110、对准器120、预湿模块200、预浸模块300、镀覆模块400、清洗模块500、旋转冲洗干燥模块600、输送装置700以及控制模块800。

装载口100是用于将收容于未图示的FOUP等盒的基板搬入于镀覆装置1000或者从镀覆装置1000向盒搬出基板的模块。在本实施方式中，4台装载口100沿水平方向排列配置，但装载口100的数量及配置是任意的。输送机械臂110是用于输送基板的机械臂，构成为在装载口100、对准器120以及输送装置700之间交接基板。输送机械臂110及输送装置700能够在输送机械臂110与输送装置700之间交接基板时，经由临时放置台(未图示)进行基板的交接。

对准器120是用于使基板的定向平面、凹口等的位置与规定的方向对准的模块。在本实施方式中，2台对准器120沿水平方向排列配置，但对准器120的数量及配置是任意的。预湿模块200通过利用纯水或脱气水等处理液润湿镀覆处理前的基板的被镀覆面，将在基板表面形成的图案内部的空气置换为处理液。预湿模块200构成为实施通过在镀覆时将图案内部的处理液置换为镀覆液而容易向图案内部供给镀覆液的预湿处理。在本实施方式中，2台预湿模块200沿上下方向排列配置，但预湿模块200的数量及配置是任意的。

预浸模块300例如构成为实施利用硫酸、盐酸等处理液对在镀覆处理前的基板的被镀覆面形成的种子层表面等存在的电阻大的氧化膜进行蚀刻除去而对镀覆基底表面进行清洗或活化的预浸处理。在本实施方式中，2台预浸模块300沿上下方向排列配置，但预浸模块300的数量及配置是任意的。镀覆模块400对基板实施镀覆处理。在本实施方式中，沿上下方向排列3台且沿水平方向排列4台而配置的12台镀覆模块400的组件为两组，合计设置有24台镀覆模块400，但镀覆模块400的数量及配置是任意的。

清洗模块500构成为为了除去镀覆处理后的基板上残留的镀覆液等而对基板实施清洗处理。在本实施方式中，2台清洗模块500沿上下方向排列配置，但清洗模块500的数量及配置是任意的。旋转冲洗干燥模块600是用于使清洗处理后的基板高速旋转而使其干燥的模块。在本实施方式中，2台旋转冲洗干燥模块600沿上下方向排列配置，但旋转冲洗干燥模块的数量及配置是任意的。输送装置700是用于在镀覆装置1000内的多个模块之间输送基板的装置。控制模块800构成为控制镀覆装置1000的多个模块，例如能够由具备与操作人员之间的输入输出接口的一般的计算机或专用计算机构成。

对镀覆装置1000进行的一系列镀覆处理的一个例子进行说明。首先，将收容于盒的基板搬入于装载口100。接着，输送机械臂110从装载口100的盒取出基板，并将基板输送至对准器120。对准器120使基板的定向平面、凹口等的位置与规定的方向对准。输送机械臂110将由对准器120对准了方向的基板交接给输送装置700。

输送装置700将从输送机械臂110接收到的基板输送给预湿模块200。预湿模块200对基板实施预湿处理。输送装置700将实施了预湿处理的基板输送给预浸模块300。预浸模块300对基板实施预浸处理。输送装置700将实施了预浸处理的基板输送给镀覆模块400。镀覆模块400对基板实施镀覆处理。

输送装置700将实施了镀覆处理的基板输送给清洗模块500。清洗模块500对基板实施清洗处理。输送装置700将实施了清洗处理的基板输送给旋转冲洗干燥模块600。旋转冲洗干燥模块600对基板实施干燥处理。输送装置700将实施了干燥处理的基板交接给输送机械臂110。输送机械臂110将从输送装置700接收到的基板输送给装载口100的盒。最后，将收容基板的盒从装载口100搬出。

此外，在图1、图2中说明的镀覆装置1000的结构只不过是一个例子，镀覆装置1000的结构不限定于图1、图2的结构。

接着，对镀覆模块400进行说明。此外，本实施方式所涉及的镀覆装置1000所具有的多个镀覆模块400具有相同的结构，因此对一个镀覆模块400进行说明。

图3是表示本实施方式所涉及的镀覆装置1000中的一个镀覆模块400的结构的示意性剖视图。本实施方式所涉及的镀覆装置1000是杯式的镀覆装置。镀覆装置1000的镀覆模块400具备镀覆槽10、溢流槽20、基板保持件30、旋转机构40以及升降机构45。

本实施方式所涉及的镀覆槽10由在上方具有开口的有底的容器构成。具体而言，镀覆槽10具有底部11和从该底部11的外周缘向上方延伸的外周部12(换言之，外周侧壁部)，该外周部12的上部开口。此外，镀覆槽10的外周部12的形状没有特别限定，本实施方式所涉及的外周部12作为一个例子，具有圆筒形状。在镀覆槽10的内部存积有镀覆液Ps。

作为镀覆液Ps，只要是含有构成镀膜的金属元素的离子的溶液即可，其具体例没有特别限定。在本实施方式中，作为镀覆处理的一个例子，使用镀铜处理，作为镀覆液Ps的一个例子，使用硫酸铜溶液。

在镀覆槽10的内部配置有阳极50。具体而言，本实施方式所涉及的阳极50配置于镀覆槽10的底部11。另外，本实施方式所涉及的阳极50配置为沿水平方向延伸。

阳极50的具体种类没有特别限定，可以是不溶解阳极，也可以是溶解阳极。在本实施方式中，作为阳极50的一个例子，使用不溶解阳极。该不溶解阳极的具体种类没有特别限定，能够使用白金、氧化铱等。

溢流槽20配置于镀覆槽10的外侧，由有底的容器构成。溢流槽20是为了暂时存积超过镀覆槽10的外周部12的上端的镀覆液Ps(即，从镀覆槽10溢出的镀覆液Ps)而设置的槽。暂时存积于溢流槽20的镀覆液Ps从溢流槽20用的排出口(未图示)排出后，再次循环至镀覆槽10。

基板保持件30将作为阴极的基板Wf保持为基板Wf的被镀覆面Wfa与阳极50对置。换言之，基板保持件30将基板Wf保持为基板Wf的被镀覆面Wfa朝向下方。旋转机构40连接于基板保持件30。旋转机构40是用于使基板保持件30旋转的机构。另外，升降机构45连接于旋转机构40。升降机构45由沿铅垂方向(Z轴的方向)延伸的支柱46支承。升降机构45是用于使基板保持件30及旋转机构40沿铅垂方向升降的机构。此外，基板Wf及阳极50与通电装置(未图示)电连接。通电装置是用于在执行镀覆处理时，使电流在基板Wf与阳极50之间流动的装置。

另外，镀覆装置1000在镀覆槽10的内部的阳极50与基板Wf之间具备电场遮蔽板60。该电场遮蔽板60具有遮蔽在阳极50与基板Wf之间形成的电场的一部分的功能。电场遮蔽板60的具体材质没有特别限定，若列举具体例，则能够使用聚醚醚酮、聚氯乙烯等树脂。这样，通过镀覆装置1000具备电场遮蔽板60，能够抑制由于端子效应而镀膜的外周部的膜厚变厚。该电场遮蔽板60的详细内容在后面叙述。

在执行镀覆处理时，首先，旋转机构40使基板保持件30旋转，并且升降机构45使基板保持件30向下方移动，使基板Wf浸渍于镀覆槽10的镀覆液Ps。接下来，通过通电装置，使电流在阳极50与基板Wf之间流动。由此，在基板Wf的被镀覆面Wfa形成镀膜。

然而，存在在镀覆液Ps的内部包含气泡Bu(该附图标记在后述的图4B中图示)的情况。具体而言，该气泡Bu是在向镀覆槽10供给镀覆液Ps时镀覆液Ps中包含的气泡Bu，或者是在镀覆处理的执行中从阳极50产生的气泡Bu。假设在该镀覆液Ps中包含的气泡Bu滞留在电场遮蔽板60的下表面61a的情况下，存在电场遮蔽板60的功能受到阻碍，基板Wf的镀覆品质变差的担忧。因此，为了解决该问题，本实施方式所涉及的镀覆装置1000具备以下说明的结构。

图4A是电场遮蔽板60的示意性俯视图。参照图3及图4A，电场遮蔽板60配置为从镀覆槽10的外周部12朝向镀覆槽10的径向上中心侧延伸。另外，本实施方式所涉及的电场遮蔽板60作为一个例子，与镀覆槽10的外周部12的周向的整体连接，并在俯视观察时具有环形形状。具体而言，电场遮蔽板60的外周面61c(俯视观察时圆形形状的外周面61c)与镀覆槽10的外周部12的内周面12a的周向的整体连接。另外，本实施方式所涉及的电场遮蔽板60的内周部61d在俯视观察时具有圆形形状。

此外，上述结构是电场遮蔽板60的一个例子，电场遮蔽板60不需要一定与镀覆槽10的外周部12的周向的整体连接。例如，电场遮蔽板60也可以与镀覆槽10的外周部12的周向的一部分连接(或者，与该外周部12的周向间歇地连接)，在俯视观察时具有非环形形状。

另外，在从比电场遮蔽板60靠上方侧观察镀覆槽10的内部的俯视观察时，在镀覆槽10的内部设置有未被电场遮蔽板60遮蔽的区域亦即非遮蔽区域70。在本实施方式中，环形形状的电场遮蔽板60的内侧的区域为该非遮蔽区域70。

图4B是将电场遮蔽板60沿着沿铅垂方向延伸且沿镀覆槽10的径向延伸的“径向切断面”切断的示意性剖视图。具体而言，图4B示意性地表示图4A的A1-A1线剖面。在电场遮蔽板60的下表面61a至少设置有一个相对于水平方向(X-Y方向)倾斜的倾斜面62。本实施方式所涉及的倾斜面62作为一个例子，仅设置一个。具体而言，本实施方式所涉及的电场遮蔽板60的下表面61a整体成为倾斜面62。

倾斜面62构成为将存在于电场遮蔽板60的下表面61a的气泡Bu释放到非遮蔽区域70。具体而言，本实施方式所涉及的倾斜面62以随着趋向镀覆槽10的中心侧(径向上中心侧)，距镀覆槽10的底部11的距离(h)变大的方式倾斜。换言之，本实施方式所涉及的倾斜面62从电场遮蔽板60的下表面61a中的位于最下方侧的部分(顶点63a)朝向非遮蔽区域70倾斜。

另外，本实施方式所涉及的电场遮蔽板60的上表面61b成为水平面。由此，本实施方式所涉及的电场遮蔽板60具有随着趋向镀覆槽10的中心侧，厚度变薄的剖面形状。另外，本实施方式所涉及的电场遮蔽板60在沿径向切断面切断的剖面中，电场遮蔽板60的上表面61b、下表面61a(倾斜面62)以及外周面61c呈三角形的形状。

根据以上说明的本实施方式，能够通过倾斜面62将存在于电场遮蔽板60的下表面61a的气泡Bu有效地释放到非遮蔽区域70。由此，能够抑制气泡Bu滞留在电场遮蔽板60的下表面61a。其结果，能够抑制由于滞留在电场遮蔽板60的下表面61a的气泡Bu而导致电场遮蔽板60的功能受到阻碍。由此，能够抑制基板Wf的镀覆品质变差。

此外，上述的电场遮蔽板60是一个例子，电场遮蔽板只要具有构成为将存在于电场遮蔽板的下表面的气泡释放到非遮蔽区域的倾斜面即可，不限定于上述的例子。另外，镀覆装置也只要具备具有这样的倾斜面的电场遮蔽板即可，不限定于上述的例子。因此，以下对电场遮蔽板、镀覆装置的各种变形例进行说明。此外，这些变形例也只不过是个例子，电场遮蔽板、镀覆装置的结构不限定于这些变形例。

(变形例1)

图5是实施方式的变形例1所涉及的镀覆装置1000A的电场遮蔽板60A的示意性剖视图。具体而言，图5示意性地表示对本变形例所涉及的电场遮蔽板60A沿径向切断面切断的剖面，更具体而言，与图4B同样地，示意性地表示A1-A1线剖面。

本变形例所涉及的电场遮蔽板60A由于倾斜面62的上方侧的端部不与上表面61b的中心侧的端部连接，因此在剖面中呈梯形的形状。其结果，电场遮蔽板60A的内周部61d不是线，而是面(即，内周面)。在本变形例中，电场遮蔽板60A具有倾斜面62，由此也能够起到与上述镀覆装置1000同样的作用效果。

(变形例2)

图6是实施方式的变形例2所涉及的镀覆装置1000B的电场遮蔽板60B的示意性俯视图。本变形例所涉及的电场遮蔽板60B在俯视观察时具有环形形状这一点上，与图4A所示的电场遮蔽板60相同，但在电场遮蔽板60B的内周部61d不是圆形形状，而是具有次摆线形状这一点上，与电场遮蔽板60不同。在本变形例中，电场遮蔽板60B具有倾斜面62，由此也能够起到与上述镀覆装置1000同样的作用效果。

此外，本变形例所涉及的电场遮蔽板60B也可以进一步具备上述变形例1所涉及的特征。

(变形例3)

图7A是实施方式的变形例3所涉及的镀覆装置1000C的电场遮蔽板60C的示意性俯视图。本变形例所涉及的电场遮蔽板60C在与镀覆槽10的外周部12的内周面12a的周向的一部分连接，并且在俯视观察电场遮蔽板60C时具有非环形形状这一点上，与图4A所示的电场遮蔽板60不同。

电场遮蔽板60C的非环形形状的具体例没有特别限定，在本变形例中，作为一个例子，为扇形的形状。即，电场遮蔽板60C构成为在俯视观察时，仅遮蔽特定的方位。此外，在本变形例中，该扇形的中心没有到达镀覆槽10的中心。

图7B是将电场遮蔽板60C沿径向切断面切断的示意性剖视图。具体而言，图7B示意性地表示图7A的A2-A2线剖面。电场遮蔽板60C的倾斜面62具有与上述图4B的倾斜面62相同的结构。因此，省略电场遮蔽板60C的倾斜面62的说明。

图7C是将电场遮蔽板60C沿着沿铅垂方向延伸且沿镀覆槽10的周向延伸的“周向切断面”切断的示意性剖视图。具体而言，图7C示意性地表示图7A的A3-A3线剖面。本变形例所涉及的电场遮蔽板60C的下表面61a不朝向周向倾斜，而是成为水平。

在本变形例中，电场遮蔽板60C具有倾斜面62，由此也能够起到与上述镀覆装置1000同样的作用效果。

(变形例4)

图8A是实施方式的变形例4所涉及的镀覆装置1000D的电场遮蔽板60D的示意性剖视图。具体而言，图8A示意性地表示对本变形例所涉及的电场遮蔽板60D沿径向切断面切断的剖面，具体而言，与图7B同样地，示意性地表示A2-A2线剖面。

本变形例所涉及的电场遮蔽板60D与图5中说明的变形例1所涉及的电场遮蔽板60A同样地，倾斜面62的上方侧的端部不与上表面61b的中心侧的端部连接，由此在剖面中呈梯形的形状。其结果，电场遮蔽板60D的内周部61d不是线，而是面(内周面)。在本变形例中，也能够起到与上述变形例3所涉及的镀覆装置1000C同样的作用效果。

(变形例5)

图8B是实施方式的变形例5所涉及的镀覆装置1000E的电场遮蔽板60E的示意性剖视图。具体而言，图8B示意性地表示将电场遮蔽板60E沿周向切断面切断的剖面，更具体而言，示意性地表示A3-A3线剖面。

本变形例所涉及的电场遮蔽板60E在下表面61a设置有倾斜面62a及倾斜面62b这一点上，与电场遮蔽板60C、电场遮蔽板60D不同。

此外，虽然省略了图示，但本变形例所涉及的电场遮蔽板60E如图7B、图8A那样，下表面61a倾斜。但是，不限定于该结构，电场遮蔽板60E也可以在沿径向切断面切断的剖面中，如图7C那样，下表面61a成为水平。

倾斜面62a及倾斜面62b是相对于水平方向倾斜，并且构成为将存在于电场遮蔽板60E的下表面61a的气泡Bu释放到非遮蔽区域70的倾斜面。具体而言，倾斜面62a及倾斜面62b以在沿周向切断面切断的剖面中，从电场遮蔽板60E的下表面61a中的位于最下方侧的部分(顶点63b)朝向非遮蔽区域70延伸的方式倾斜。

更具体而言，倾斜面62a以随着从顶点63b朝向“周向上的一方侧”，距镀覆槽10的底部11的距离(h)变大的方式倾斜。另一方面，倾斜面62b以随着从顶点63b朝向“周向上的另一方侧”，距镀覆槽10的底部11的距离(h)变大的方式倾斜。

根据本变形例，电场遮蔽板60E具有倾斜面62a及倾斜面62b，因此能够通过倾斜面62a及倾斜面62b将存在于电场遮蔽板60E的下表面61a的气泡Bu有效地释放到非遮蔽区域70。

此外，在本变形例中，电场遮蔽板60E也可以仅具备倾斜面62a及倾斜面62b中的任一方。

(变形例6)

图8C是实施方式的变形例6所涉及的镀覆装置1000F的电场遮蔽板60F的示意性剖视图。具体而言，图8C示意性地表示将电场遮蔽板60F沿周向切断面切断的剖面，更具体而言，示意性地表示A3-A3线剖面。

本变形例所涉及的电场遮蔽板60F在还具备倾斜面62c这一点上，与图8B所示的电场遮蔽板60E不同。该倾斜面62c在沿周向切断面切断的剖面(图8C)中，不倾斜，但在沿径向切断面切断的剖面中，与图7B、图8A的倾斜面62同样地倾斜。即，该倾斜面62c以在沿径向切断面切断的剖面中，随着趋向镀覆槽10的中心侧，距镀覆槽10的底部11的距离(h)变大的方式倾斜。

根据本变形例，具备倾斜面62a、倾斜面62b以及倾斜面62c，由此能够通过倾斜面62a、倾斜面62b以及倾斜面62c，将存在于电场遮蔽板60F的下表面61a的气泡Bu有效地释放到非遮蔽区域70。

(变形例7)

图9A是实施方式的变形例7所涉及的镀覆装置1000G的电场遮蔽板60G的示意性俯视图。本变形例所涉及的电场遮蔽板60G在俯视观察时，具有扇形的形状这一点上，与图7A所示的电场遮蔽板60C相同。另一方面，本变形例所涉及的电场遮蔽板60G在该扇形的中心进一步延伸到镀覆槽10的中心侧，具体而言，该扇形的中心到达镀覆槽10的中心这一点上，与电场遮蔽板60C不同。

在本变形例中，也能够起到与图7A中说明的镀覆装置1000C同样的作用效果。

此外，本变形例所涉及的电场遮蔽板60G也可以进一步具备上述变形例4～6所涉及的特征。

(变形例8)

图9B是实施方式的变形例8所涉及的镀覆装置1000H的电场遮蔽板60H的示意性俯视图。本变形例所涉及的电场遮蔽板60H在电场遮蔽板60H的内周部61d成为沿铅垂方向延伸的面(即，内周面)这一点上，与图7A所示的电场遮蔽板60C不同。即，本变形例所涉及的电场遮蔽板60H在俯视观察时具有截顶扇形(顶点被切断的扇形)的形状。此外，该内周部61d可以是平面(非曲面)，也可以是曲面(例如圆筒状的曲面)。

在本变形例中，也能够起到与图7A中说明的镀覆装置1000C同样的作用效果。

此外，本变形例所涉及的电场遮蔽板60H也可以进一步具备上述变形例4～6所涉及的特征。

(变形例9)

图10是实施方式的变形例9所涉及的镀覆装置1000I的电场遮蔽板60I的示意性俯视图。本变形例所涉及的电场遮蔽板60I在具备环形形状部65和非环形形状部66这一点上，与上述实施方式、变形例不同。环形形状部65是与镀覆槽10的外周部12的周向的整体连接，并且在俯视观察电场遮蔽板60I时具有环形形状的部位。非环形形状部66是与环形形状部65的周向的一部分连接，在俯视观察时具有非环形形状的部位。

具体而言，本变形例所涉及的环形形状部65具有与图4A所示的电场遮蔽板60相同的形状。另外，本变形例所涉及的非环形形状部66具有与图7A所示的电场遮蔽板60C相同的形状。即，本变形例所涉及的电场遮蔽板60I由电场遮蔽板60以及电场遮蔽板60C的组合构成。

此外，电场遮蔽板60I的具体的制造方法没有特别限定，例如可以在分别制作了环形形状部65和非环形形状部66之后，使两者接合。或者，也可以通过从块状的部件切出电场遮蔽板60I，一体地制作具有环形形状部65和非环形形状部66的电场遮蔽板60I。或者，也可以通过射出成型等塑性加工，一体地制作具有环形形状部65和非环形形状部66的电场遮蔽板60I。

根据本变形例，通过环形形状部65的倾斜面62和非环形形状部66的倾斜面62，能够将存在于电场遮蔽板60I的下表面61a的气泡Bu有效地释放到非遮蔽区域70。

此外，本变形例所涉及的电场遮蔽板60I的环形形状部65也可以进一步具备变形例1或变形例2所涉及的特征。另外，非环形形状部66也可以进一步具备变形例4～8所涉及的特征。

另外，在上述本变形例中，环形形状部65以及非环形形状部66双方都具备倾斜面62，但本变形例不限定于该结构。例如，也可以仅环形形状部65以及非环形形状部66中的任一方具备倾斜面62。

(变形例10)

图11是表示实施方式的变形例10所涉及的镀覆装置1000J的镀覆槽10的周边结构的示意性剖视图。此外，在图11中，省略了旋转机构40、升降机构45、支柱46等的图示。本变形例所涉及的镀覆装置1000J在还具备电阻体80这一点上，与图3中说明的镀覆装置1000不同。

电阻体80配置在镀覆槽10的内部中阳极50与基板Wf之间。具体而言，本变形例所涉及的电阻体80配置于比电场遮蔽板60靠上方侧且比基板Wf靠下方侧的位置。其结果，本变形例所涉及的电场遮蔽板60配置于比电阻体80靠下方侧的位置。具体而言，本变形例所涉及的电场遮蔽板60配置为电场遮蔽板60的上表面61b连接于电阻体80的下表面80a。

此外，电场遮蔽板60的具体的制造方法没有特别限定，例如，能够使用以下的方法。例如，可以在分别制作了电阻体80和电场遮蔽板60之后，使两者接合。或者，也可以通过从块状的部件切出电阻体80及电场遮蔽板60，一体地制造电阻体80和电场遮蔽板60(即，也可以制造一体地连接的电阻体80及电场遮蔽板60)。或者，也可以通过射出成型等塑性加工，一体地制造电阻体80和电场遮蔽板60。

此外，通过如上述那样将电场遮蔽板60与电阻体80一体地制造(即，通过将电场遮蔽板60与电阻体80一体化)，同将电场遮蔽板60与电阻体80分体地制造的情况相比，能够获得以下的优点。具体而言，通过将电场遮蔽板60与电阻体80一体化，从而只要将电阻体80安装于镀覆槽10，则同时，电场遮蔽板60向镀覆槽10的安装完成，并且能够确定电场遮蔽板60在镀覆槽10的内部的安装位置。其结果，在将电场遮蔽板60安装到镀覆槽10后，不需要调整电场遮蔽板60与电阻体80的位置关系。这样，通过将电场遮蔽板60与电阻体80一体化，能够使电场遮蔽板60向镀覆槽10的安装容易化。

另外，本变形例所涉及的电阻体80配置为与阳极50平行。另外，本变形例所涉及的电阻体80与镀覆槽10的外周部12的周向的整体连接，在俯视观察时具有圆板状的形状。

该电阻体80由具有多个孔81的多孔质部件构成。具体而言，本变形例所涉及的孔81形成为将比电阻体80靠上方侧的区域与比电阻体80靠下方侧的区域连通。此外，电阻体80的具体材质没有特别限定，在本变形例中，作为一个例子，使用聚醚醚酮等树脂。

另外，本变形例所涉及的电场遮蔽板60与电阻体80的下表面80a连接，以便电场遮蔽板60的上表面61b遮蔽在电阻体80的外周部附近区域(距外周端规定距离，到达中心侧的区域)存在的孔81。

此外，本变形例所涉及的电场遮蔽板60与电阻体80的外周缘(具体而言电阻体80的下表面80a的外周缘)的周向的整体连接，在俯视观察时具有环形形状，但不一定限定于该结构。例如，本变形例所涉及的电场遮蔽板60也可以与电阻体80的外周缘的周向的一部分连接(或者，与该外周缘的周向间歇地连接)，在俯视观察时具有非环形形状。

根据本变形例，由于具备电阻体80，因此该电阻体80成为在执行镀覆处理时在阳极50与基板Wf之间产生的电场的电阻，能够实现基板Wf的面内的电场的均匀化。由此，能够实现镀膜的膜厚的均匀化。

另外，在本变形例中，与实施方式所涉及的镀覆装置1000同样地，电场遮蔽板60具有倾斜面62，由此也能够起到与实施方式所涉及的镀覆装置1000同样的作用效果。

此外，本变形例所涉及的镀覆装置1000J也可以具备变形例1～9所涉及的特征。换言之，变形例1～9所涉及的镀覆装置也可以具备本变形例所涉及的特征。

(变形例11)

图12A是放大表示实施方式的变形例11所涉及的镀覆装置1000K的电场遮蔽板60的周边结构的示意性剖视图。具体而言，图12A放大且示意性地图示与图11的B1相当的部位。本变形例所涉及的镀覆装置1000K在电场遮蔽板60的上表面61b经由密封部件85与电阻体80的下表面80a连接这一点上，与图11所示的镀覆装置1000J不同。

本变形例所涉及的密封部件85配置于电阻体80的下表面80a，以遮蔽在电阻体80的外周部附近区域存在的孔81。

密封部件85的具体材质只要具有密封性则没有特别限定，在本变形例中，使用具有一定程度的弹性的材质。具体而言，在本变形例中，作为密封部件85的材质的一个例子，使用弹性体。

在本变形例中，也能够起到与变形例10同样的作用效果。

此外，本变形例所涉及的镀覆装置1000K也可以具备变形例1～9所涉及的特征。换言之，变形例1～9所涉及的镀覆装置也可以具备本变形例所涉及的特征。

(变形例12)

图12B是放大表示实施方式的变形例12所涉及的镀覆装置1000L的电场遮蔽板60的周边结构的示意性剖视图。具体而言，图12B与图12A同样地，放大且示意性地图示与B1相当的部位。本变形例所涉及的镀覆装置1000L具备电阻体80L来代替电阻体80。电阻体80L在其外周部附近区域具备没有形成孔81的部分(称为非开口部82)这一点上，与上述变形例10所涉及的电阻体80不同。本变形例所涉及的电场遮蔽板60配置于该非开口部82的下表面80a。

在本变形例中，也能够起到与变形例10同样的作用效果。

此外，本变形例所涉及的镀覆装置1000L也可以具备变形例1～9所涉及的特征。换言之，变形例1～9所涉及的镀覆装置也可以具备本变形例所涉及的特征。

(变形例13)

图13是表示实施方式的变形例13所涉及的镀覆装置1000M的镀覆槽10的周边结构的示意性剖视图。镀覆装置1000M在电场遮蔽板60配置于比电阻体80靠上方侧的位置这一点上，与图11所示的镀覆装置1000J不同。在本变形例中，电场遮蔽板60具有倾斜面62，由此也能够起到与变形例10所涉及的镀覆装置1000J同样的作用效果。

此外，本变形例所涉及的电场遮蔽板60可以与电阻体80的上表面80b的外周缘的周向的整体连接(在该情况下，电场遮蔽板60在俯视观察时具有环形形状)。或者，本变形例所涉及的电场遮蔽板60也可以与电阻体80的上表面80b的外周缘的周向的一部分连接(或者，与该外周缘的周向间歇地连接)，在俯视观察时具有非环形形状。

此外，本变形例所涉及的镀覆装置1000M也可以具备变形例1～9所涉及的特征。换言之，变形例1～9所涉及的镀覆装置也可以具备本变形例所涉及的特征。

以上，对本发明的实施方式、变形例进行了详细叙述，但本发明不限定于上述特定的实施方式、变形例，在权利要求书所记载的本发明的主旨的范围内，能够进行进一步的各种变形·变更。

Claims (11)

1.一种镀覆装置，其中，具备：

镀覆槽，存积有镀覆液，并且配置有阳极；

基板保持件，配置于比所述阳极靠上方的位置，将作为阴极的基板保持为所述基板的被镀覆面与所述阳极对置；以及

电场遮蔽板，配置在所述镀覆槽的内部的所述阳极与所述基板之间的部分，将在所述阳极与所述基板之间形成的电场的一部分遮蔽，

在从比所述电场遮蔽板靠上方侧观察所述镀覆槽的内部的俯视观察时，在所述镀覆槽的内部设置有未被所述电场遮蔽板遮蔽的非遮蔽区域，

在所述电场遮蔽板的下表面设置有倾斜面，所述倾斜面相对于水平方向倾斜，并且构成为将存在于所述电场遮蔽板的下表面的气泡释放到所述非遮蔽区域。

2.根据权利要求1所述的镀覆装置，其中，

所述电场遮蔽板从所述镀覆槽的外周部朝向所述镀覆槽的中心侧延伸。

3.根据权利要求2所述的镀覆装置，其中，

所述倾斜面以随着趋向所述镀覆槽的中心侧，而与所述镀覆槽的底部的距离变大的方式倾斜。

4.根据权利要求2所述的镀覆装置，其中，

所述倾斜面以随着趋向所述镀覆槽的周向上的一方侧，而与所述镀覆槽的底部的距离变大的方式倾斜。

5.根据权利要求4所述的镀覆装置，其中，

所述倾斜面以随着趋向所述镀覆槽的周向上的另一方侧，而与所述镀覆槽的底部的距离变大的方式倾斜。

6.根据权利要求2所述的镀覆装置，其中，

所述电场遮蔽板与所述镀覆槽的外周部的周向的整体连接，并且在所述俯视观察时具有环形形状。

7.根据权利要求2所述的镀覆装置，其中，

所述电场遮蔽板与所述镀覆槽的外周部的周向的一部分连接，并且在所述俯视观察时具有非环形形状。

8.根据权利要求2所述的镀覆装置，其中，

所述电场遮蔽板具有：

环形形状部，与所述镀覆槽的外周部的周向的整体连接，并且在所述俯视观察时具有环形形状；和

非环形形状部，与所述环形形状部的周向的一部分连接，在所述俯视观察时具有非环形形状。

9.根据权利要求1所述的镀覆装置，其中，

所述镀覆装置还具备多孔质电阻体，所述多孔质电阻体配置在所述镀覆槽的内部中所述阳极与所述基板之间，

所述电场遮蔽板配置于比所述电阻体靠下方侧的位置，或者比所述电阻体靠上方侧的位置。

10.根据权利要求1所述的镀覆装置，其中，

所述镀覆装置还具备多孔质电阻体，所述多孔质电阻体配置在所述镀覆槽的内部中所述阳极与所述基板之间，

所述电场遮蔽板配置于比所述电阻体靠下方侧的位置，或者比所述电阻体靠上方侧的位置，

所述电场遮蔽板与所述电阻体的外周缘的周向的整体连接，并且在所述俯视观察时具有环形形状。

11.根据权利要求1所述的镀覆装置，其中，

所述镀覆装置还具备多孔质电阻体，所述多孔质电阻体配置在所述镀覆槽的内部中所述阳极与所述基板之间，

所述电场遮蔽板配置于比所述电阻体靠下方侧的位置，或者比所述电阻体靠上方侧的位置，

所述电场遮蔽板与所述电阻体的外周缘的周向的一部分连接，并且在所述俯视观察时具有非环形形状。

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