CN114250036A - 一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方及生产工艺 - Google Patents
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000009472 formulation Methods 0.000 title claims description 7
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 18
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 32
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 22
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 21
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 16
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 16
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical group CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 9
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical group NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 amine compound Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 claims description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Substances CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 claims description 4
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 3
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 claims description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 abstract description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
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Abstract
本发明公开了一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，包括如下原料组成：A组分：纳米二氧化硅溶胶、去离子水和酸度调节剂，B组分：有机钛、水解延缓剂和水溶性有机溶剂，所述纳米二氧化硅溶胶是指硅粉法生产的二氧化硅溶胶，按重量百分比该分散液二氧化硅含量为30‑40%，本发明结构科学合理，使用安全方便，解决超洁亮处理后砖面光泽度差和砖面通透性差的问题，本发明采用复合纳米技术，利用各种纳米材料各自不同的特性，在纳米溶胶和常温常压的状态下对单一种纳米颗粒进行修饰改性，从而得到稳定的具有高光泽度和高通透性的纳米陶瓷抛光液，克服了单组份纳米陶瓷抛光液光泽度差和通透性差的问题。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷抛光技术领域，具体为一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方及生产工艺。
背景技术
无机纳米溶胶或分散液已代替普通防污蜡被广泛用于陶瓷抛光砖的表面的防护处理，通过一种镀膜抛光机让无机纳米颗粒渗透到抛光砖的微细气孔中，形成连续致密的纳米膜，增强抛光砖防污性能，同时获得理想的光泽度，这技术在建筑陶瓷被称为超洁亮技术；
目前超洁亮技术所使用的纳米陶瓷抛光液多为单组分纳米液，在使用过程中存在光泽度差和处理后的抛光砖通透性不强的问题。
发明内容
本发明提供一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方及生产工艺，可以有效解决上述背景技术中提出目前超洁亮技术所使用的纳米陶瓷抛光液多为单组分纳米液，在使用过程中存在光泽度差和处理后的抛光砖通透性不强的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，包括如下原料组成：A组分：纳米二氧化硅溶胶、去离子水和酸度调节剂；
B组分：有机钛、水解延缓剂和水溶性有机溶剂。
根据上述技术方案，所述原料配比如下：
A组分(重量比)：
1、30-40%含量纳米二氧化硅溶胶：480-600份；
去离子水：500-600份；
酸度调节剂：1-3份；
B组分（重量比）：
有机钛：0.960份；
水解延缓剂：0.1-0.3份；
水溶性有机溶剂：0.8-1.5份。
根据上述技术方案，所述纳米二氧化硅溶胶可以更换为分散液。
根据上述技术方案，所述纳米二氧化硅溶胶是指硅粉法生产的二氧化硅溶胶，按重量百分比该分散液二氧化硅含量为30-40%。
根据上述技术方案，所述分散液是指离子交换法生产的固体纳米二氧化硅水分散液，按重量百分比该分散液二氧化硅含量为30-40%。
根据上述技术方案，所述有机钛为异丙氧基钛、钛酸丁酯、硫酸氧钛易水解有机钛化合物中的一种或几种，且钛含量计其在产品中的浓度为100-150ppm。
根据上述技术方案，所述水解延缓剂是指乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺有机胺类化合物，水溶性有机溶剂是指乙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇小分子水溶性醇类。
根据上述技术方案，一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方的生产工艺，包括如下步骤：
S1、将纳米二氧化硅溶胶用高速分散搅拌机分散于去离子水中，搅拌分散，作为A组份；
S2、在高速磁力搅拌下将有机钛溶解于水溶性有机溶剂中，再缓慢滴入水解延缓剂，滴加完后继续搅拌直到反应完成，作为B组份；
S3、在快速搅拌下将配好的B组份缓慢滴加到配好的A组份中，滴加完毕，再搅拌均化；
S4、上述反应完毕后，在快速搅拌下用酸度调节剂将产品酸度进行调节，即得到高光泽度高通透性的纳米陶瓷抛光液。
根据上述技术方案，所述S1中搅拌分散时间为8-15分钟；
所述S2中搅拌时间为8-12分钟；
所述S3中滴加时间为18-23分钟，搅拌均化时间为8-12分钟；
所述S4中酸度调节到PH=2.0-4.0。
根据上述技术方案，所述酸度调节剂为硫酸、硝酸、盐酸中的一种。
与现有技术相比，本发明的有益效果：本发明结构科学合理，使用安全方便，解决超洁亮处理后砖面光泽度差和砖面通透性差的问题，本发明采用复合纳米技术，利用各种纳米材料各自不同的特性，在纳米溶胶和常温常压的状态下对单一种纳米颗粒进行修饰改性，从而得到稳定的具有高光泽度和高通透性的纳米陶瓷抛光液，克服了单组份纳米陶瓷抛光液光泽度差和通透性差的问题。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。
在附图中：
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。
实施例1：
如图1所示，本发明提供技术方案，一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，包括如下原料组成：A组分：纳米二氧化硅溶胶、去离子水和酸度调节剂；
B组分：有机钛、水解延缓剂和水溶性有机溶剂。
根据上述技术方案，原料配比如下：
A组分(重量比)：
1、35%含量纳米二氧化硅溶胶：550份；
去离子水：550份；
酸度调节剂：2份；
B组分（重量比）：
有机钛：0.960份；
水解延缓剂：0.271份；
水溶性有机溶剂：1份。
根据上述技术方案，纳米二氧化硅溶胶是指硅粉法生产的二氧化硅溶胶，按重量百分比该分散液二氧化硅含量为35%。
根据上述技术方案，有机钛为异丙氧基钛，且钛含量计其在产品中的浓度为120ppm。
根据上述技术方案，水解延缓剂是指乙醇胺、二乙醇胺，水溶性有机溶剂是指乙醇、异丁醇小分子水溶性醇类。
根据上述技术方案，一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方的生产工艺，包括如下步骤：
S1、将纳米二氧化硅溶胶用高速分散搅拌机分散于去离子水中，搅拌分散，作为A组份；
S2、在高速磁力搅拌下将有机钛溶解于水溶性有机溶剂中，再缓慢滴入水解延缓剂，滴加完后继续搅拌直到反应完成，作为B组份；
S3、在快速搅拌下将配好的B组份缓慢滴加到配好的A组份中，滴加完毕，再搅拌均化；
S4、上述反应完毕后，在快速搅拌下用酸度调节剂将产品酸度进行调节，即得到高光泽度高通透性的纳米陶瓷抛光液。
根据上述技术方案，S1中搅拌分散时间为10分钟；
S2中搅拌时间为10分钟；
S3中滴加时间为20分钟，搅拌均化时间为10分钟；
S4中酸度调节到PH=3.0。
根据上述技术方案，酸度调节剂为硫酸。
实施例2：
如图1所示，本发明提供技术方案，一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，包括如下原料组成：A组分：纳米二氧化硅溶胶、去离子水和酸度调节剂；
B组分：有机钛、水解延缓剂和水溶性有机溶剂。
根据上述技术方案，所述原料配比如下：
A组分(重量比)：
1、30-40%含量纳米二氧化硅溶胶：500份；
去离子水：500份；
酸度调节剂：2份；
B组分（重量比）：
有机钛：0.960份；
水解延缓剂：0.271份；
水溶性有机溶剂：1份。
根据上述技术方案，所述纳米二氧化硅溶胶可以更换为分散液。
根据上述技术方案，所述分散液是指离子交换法生产的固体纳米二氧化硅水分散液，按重量百分比该分散液二氧化硅含量为30-40%。
根据上述技术方案，所述有机钛为硫酸氧钛易水解有机钛化合物中，且钛含量计其在产品中的浓度为130ppm。
根据上述技术方案，所述水解延缓剂是指乙醇胺，水溶性有机溶剂是指乙醇。
根据上述技术方案，一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方的生产工艺，包括如下步骤：
S1、将纳米二氧化硅溶胶用高速分散搅拌机分散于去离子水中，搅拌分散，作为A组份；
S2、在高速磁力搅拌下将有机钛溶解于水溶性有机溶剂中，再缓慢滴入水解延缓剂，滴加完后继续搅拌直到反应完成，作为B组份；
S3、在快速搅拌下将配好的B组份缓慢滴加到配好的A组份中，滴加完毕，再搅拌均化；
S4、上述反应完毕后，在快速搅拌下用酸度调节剂将产品酸度进行调节，即得到高光泽度高通透性的纳米陶瓷抛光液。
根据上述技术方案，所述S1中搅拌分散时间为10分钟；
所述S2中搅拌时间为10分钟；
所述S3中滴加时间为20分钟，搅拌均化时间为10分钟；
所述S4中酸度调节到PH=3.5。
根据上述技术方案，所述酸度调节剂为硫酸。
与现有技术相比，本发明的有益效果：本发明结构科学合理，使用安全方便，解决超洁亮处理后砖面光泽度差和砖面通透性差的问题，本发明采用复合纳米技术，利用各种纳米材料各自不同的特性，在纳米溶胶和常温常压的状态下对单一种纳米颗粒进行修饰改性，从而得到稳定的具有高光泽度和高通透性的纳米陶瓷抛光液，克服了单组份纳米陶瓷抛光液光泽度差和通透性差的问题。
与现有技术相比，本发明的有益效果：本发明结构科学合理，使用安全方便，解决超洁亮处理后砖面光泽度差和砖面通透性差的问题，本发明采用复合纳米技术，利用各种纳米材料各自不同的特性，在纳米溶胶和常温常压的状态下对单一种纳米颗粒进行修饰改性，从而得到稳定的具有高光泽度和高通透性的纳米陶瓷抛光液，克服了单组份纳米陶瓷抛光液光泽度差和通透性差的问题。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，其特征在于：包括如下原料组成：A组分：纳米二氧化硅溶胶、去离子水和酸度调节剂；
B组分：有机钛、水解延缓剂和水溶性有机溶剂。
2.根据权利要求1所述的一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，其特征在于，所述原料配比如下：
A组分(重量比)：
1、30-40%含量纳米二氧化硅溶胶：480-600份；
去离子水：500-600份；
酸度调节剂：1-3份；
B组分（重量比）：
有机钛：0.960份；
水解延缓剂：0.1-0.3份；
水溶性有机溶剂：0.8-1.5份。
3.根据权利要求2所述的一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，其特征在于，所述纳米二氧化硅溶胶可以更换为分散液。
4.根据权利要求2所述的一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，其特征在于，所述纳米二氧化硅溶胶是指硅粉法生产的二氧化硅溶胶，按重量百分比该分散液二氧化硅含量为30-40%。
5.根据权利要求3所述的一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，其特征在于，所述分散液是指离子交换法生产的固体纳米二氧化硅水分散液，按重量百分比该分散液二氧化硅含量为30-40%。
6.根据权利要求2所述的一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，其特征在于，所述有机钛为异丙氧基钛、钛酸丁酯、硫酸氧钛易水解有机钛化合物中的一种或几种，且钛含量计其在产品中的浓度为100-150ppm。
7.根据权利要求2所述的一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，其特征在于，所述水解延缓剂是指乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺有机胺类化合物，水溶性有机溶剂是指乙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇小分子水溶性醇类。
8.一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方的生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：
S1、将纳米二氧化硅溶胶用高速分散搅拌机分散于去离子水中，搅拌分散，作为A组份；
S2、在高速磁力搅拌下将有机钛溶解于水溶性有机溶剂中，再缓慢滴入水解延缓剂，滴加完后继续搅拌直到反应完成，作为B组份；
S3、在快速搅拌下将配好的B组份缓慢滴加到配好的A组份中，滴加完毕，再搅拌均化；
S4、上述反应完毕后，在快速搅拌下用酸度调节剂将产品酸度进行调节，即得到高光泽度高通透性的纳米陶瓷抛光液。
9.根据权利要求8所述的一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方的生产工艺，其特征在于，所述S1中搅拌分散时间为8-15分钟；
所述S2中搅拌时间为8-12分钟；
所述S3中滴加时间为18-23分钟，搅拌均化时间为8-12分钟；
所述S4中酸度调节到PH=2.0-4.0。
10.根据权利要求8所述的一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方的生产工艺，其特征在于，所述酸度调节剂为硫酸、硝酸、盐酸中的一种。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010991127.XA CN114250036A (zh) | 2020-09-20 | 2020-09-20 | 一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方及生产工艺 |
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|---|---|
| CN114250036A true CN114250036A (zh) | 2022-03-29 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010991127.XA Pending CN114250036A (zh) | 2020-09-20 | 2020-09-20 | 一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方及生产工艺 |
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