CN114227515A - 一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置 - Google Patents

一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，包括支架，其中，所述支架中固定有面板，所述面板的中心设有支撑台，所述支撑台为碗型支架，手术支撑台一侧的支架上可上下滑动地设有升降台，所述升降台对应支撑台圆心位置可转动地连接有竖直的转轴，且所述转轴上设有旋转抛光组件，述旋转抛光组件包括固定铰接盘，所述固定铰接盘固定套设在转轴中，所述固定铰接盘的边缘圆周均匀分布地沿铰接有多根能够在垂直平面转动的抛光杆组件，所述抛光杆组件的末端设有抛光片。与现有技术相比，本发明对陶瓷器的固定稳定，能够对陶瓷器的不同高度和半径的平面进行均匀抛光，且抛光片在任意平面对陶瓷器的压力都保持在恒定值。

Description

一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置
技术领域
本发明涉及一种陶瓷加工技术领域，具体是一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置。
背景技术
经过釉面抛光的陶瓷器更加平整光滑，亮度高，更容易清洁，现有技术使用手持抛光轮对陶瓷器进行抛光，抛光不均匀，效率低，施工过程容易危害人体。现有的陶瓷自动抛光设备中，由于陶瓷器表面光滑且为曲面，难以对其进行稳定地固定，影响加工效果，并且由于陶瓷器为非线性曲面，使用线性驱动的设备对其进行抛光难以避免的会造成在不同高度平面中对陶瓷器压力大小不同，从而造成釉面光滑度不规则。
因此，有必要提供一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
发明内容
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，包括支架，其中，所述支架中固定有面板，所述面板的中心设有支撑台，所述支撑台为碗型支架，手术支撑台一侧的支架上可上下滑动地设有升降台，所述升降台对应支撑台圆心位置可转动地连接有竖直的转轴，且所述转轴上设有旋转抛光组件。
进一步的，作为优选，所述升降台上方通过升降伸缩杆与支架连接，所述升降伸缩杆的缸体固定在支架中，活塞杆固定到升降台；
所述升降台中固定有驱动电机，所述驱动电机的输出轴连接到转轴中。
进一步的，作为优选，所述支撑台下方贯穿到面板底部且与其可升降地连接，且支架中固定有竖直布置的支撑伸缩杆，所述支撑伸缩杆的活塞杆固定到支撑台的底部。
进一步的，作为优选，所述支撑台周围圆周分布有多个压力台，所述压力台可滑动地连接到面板上开设的导轨中，所述导轨沿压力台的径向延伸；
所述压力台上通过缓冲装置连接有压盘，且所述压盘高于支撑台。
进一步的，作为优选，述旋转抛光组件包括固定铰接盘，所述固定铰接盘固定套设在转轴中，所述固定铰接盘的边缘圆周均匀分布地沿铰接有多根能够在垂直平面转动的抛光杆组件，所述抛光杆组件的末端设有抛光片；
且，当每根抛光杆组件转动到竖直向下时，每片所述抛光片能够组成完整的曲面。
进一步的，作为优选，所述固定铰接盘下方的转轴中可上下滑动地套设有活动铰接盘，所述活动铰接盘的边缘铰接有多根支撑连杆，且每根所述支撑连杆的另一端一一对应地铰接到抛光杆组件中；
且，当活动铰接盘移动到滑动行程的最下方时，支撑连杆使每根抛光杆组件转动到竖直向下；
当活动铰接盘移动到滑动行程的最上方时，支撑连杆使每根抛光杆组件转动到水平。
进一步的，作为优选，所述活动铰接盘的侧边固定有竖直的拉杆，所述拉杆可活动地贯穿固定铰接盘到其上方；
所述拉杆的上端固定到升降盘中，所述升降盘可上下滑动地套设在转轴中，所述升降盘的上方可转动地套设有拨盘，所述拨盘通过调整伸缩杆与升降台的底部连接。
进一步的，作为优选，所述抛光杆组件包括固定杆，所述固定杆上端与固定铰接盘铰接，中部与活动铰接盘铰接，其一面开设有贯穿下端的滑槽，所述滑槽中可滑动地设有滑动杆，所述滑动杆的下端连接抛光片；
且，所述滑动杆滑动到其行程的最下端时，固定杆与滑动杆的长度大于支撑台放置的陶瓷器的最大半径；
所述滑动杆滑动到其行程的最上端时，固定杆与滑动杆的长度小于支撑台放置的陶瓷器的最小半径。
进一步的，作为优选，所述滑动杆上固定有导向块，所述导向块中可滑动地贯穿有导向轴，所述导向轴的上端固定在固定杆中，所述导向块上方的导向轴外围套设有压力弹簧，且所述压力弹簧在自然状态下使得滑动杆滑动到其行程的最下端；
所述压力弹簧上端设有压力传感器，所述压力传感器能够对升降伸缩杆进行反馈控制。
进一步的，作为优选，所述抛光片铰接到滑动杆下端，所述抛光片下方还通过与其铰接的转动连杆与滑动杆连接，所述转动连杆与可滑动地连接到滑动杆侧壁，且转动连杆与滑动杆间还固定有转动弹簧，所述转动弹簧提供使抛光片向上转动的力。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明中，当支撑台上放置有碗装陶瓷器时，调整压力台的位置能够使其压住陶瓷器的边缘，并通过支撑伸缩杆调整支撑台的高度从而调整压盘对陶瓷器边缘的压力，使陶瓷器能够稳定地放置在支撑台上。
本发明中，通过调整伸缩杆的伸缩能够在转轴转动过程中拉动活动铰接盘上下滑动，以改变抛光杆组件的转角，从而改变抛光片的高度和张开程度，能够对陶瓷器的不同高度和半径的平面进行均匀抛光，且压力传感器对升降伸缩杆进行反馈控制，使得抛光片在任意平面对陶瓷器的压力都保持在恒定值。
附图说明
图1为一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置的结构示意图；
图2为旋转抛光组件的结构示意图；
图3为抛光杆组件的结构示意图；
图中：1、支架；2、面板；21、导轨；3、支撑台；31、支撑伸缩杆；4、升降台；41、转轴；42、升降伸缩杆；43、驱动电机；44、调整伸缩杆；5、旋转抛光组件；6、压力台；61、缓冲装置；62、压盘；51、固定铰接盘；52、抛光杆组件；53、抛光片；54、活动铰接盘；55、支撑连杆；56、升降盘；57、拉杆；58、拨盘；521、固定杆；522、滑槽；523、滑动杆；524、导向块；525、导向轴；526、压力弹簧；527、压力传感器；528、转动连杆；529、转动弹簧。
具体实施方式
请参阅图1，本发明实施例中，一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，包括支架1，所述支架1中固定有面板2，所述面板2的中心设有支撑台3，所述支撑台3为碗型支架，手术支撑台3一侧的支架1上可上下滑动地设有升降台4，所述升降台4对应支撑台3圆心位置可转动地连接有竖直的转轴41，且所述转轴41上设有旋转抛光组件5。
本实施例中，所述升降台4上方通过升降伸缩杆42与支架1连接，所述升降伸缩杆42的缸体固定在支架1中，活塞杆固定到升降台4；
所述升降台4中固定有驱动电机43，所述驱动电机43的输出轴连接到转轴41中。
本实施例中，所述支撑台3下方贯穿到面板2底部且与其可升降地连接，且支架1中固定有竖直布置的支撑伸缩杆31，所述支撑伸缩杆31的活塞杆固定到支撑台3的底部。
本实施例中，所述支撑台3周围圆周分布有多个压力台6，所述压力台6可滑动地连接到面板2上开设的导轨21中，所述导轨21沿压力台6的径向延伸；
所述压力台6上通过缓冲装置61连接有压盘62，且所述压盘62高于支撑台3；
也就是说，当支撑台3上放置有碗装陶瓷器时，调整压力台6的位置能够使其压住陶瓷器的边缘，并通过支撑伸缩杆31调整支撑台3的高度从而调整压盘62对陶瓷器边缘的压力，使陶瓷器能够稳定地放置在支撑台3上。
请参阅图2，本实施例中，所述旋转抛光组件5包括固定铰接盘51，所述固定铰接盘51固定套设在转轴41中，所述固定铰接盘51的边缘圆周均匀分布地沿铰接有多根能够在垂直平面转动的抛光杆组件52，所述抛光杆组件52的末端设有抛光片53；
且，当每根抛光杆组件52转动到竖直向下时，每片所述抛光片53能够组成完整的曲面。
本实施例中，所述固定铰接盘51下方的转轴41中可上下滑动地套设有活动铰接盘54，所述活动铰接盘54的边缘铰接有多根支撑连杆55，且每根所述支撑连杆55的另一端一一对应地铰接到抛光杆组件52中；
且，当活动铰接盘54移动到滑动行程的最下方时，支撑连杆55使每根抛光杆组件52转动到竖直向下；
当活动铰接盘54移动到滑动行程的最上方时，支撑连杆55使每根抛光杆组件52转动到水平。
本实施例中，所述活动铰接盘54的侧边固定有竖直的拉杆57，所述拉杆57可活动地贯穿固定铰接盘51到其上方；
所述拉杆57的上端固定到升降盘56中，所述升降盘56可上下滑动地套设在转轴41中，所述升降盘56的上方可转动地套设有拨盘58，所述拨盘58通过调整伸缩杆44与升降台4的底部连接；
也就是说，通过调整伸缩杆44的伸缩能够在转轴41转动过程中拉动活动铰接盘54上下滑动，以改变抛光杆组件52的转角，从而改变抛光片53的高度和张开程度。
本实施例中，所述抛光杆组件52包括固定杆521，所述固定杆521上端与固定铰接盘51铰接，中部与活动铰接盘54铰接，其一面开设有贯穿下端的滑槽522，所述滑槽522中可滑动地设有滑动杆523，所述滑动杆523的下端连接抛光片53；
且，所述滑动杆523滑动到其行程的最下端时，固定杆521与滑动杆523的长度大于支撑台3放置的陶瓷器的最大半径；
所述滑动杆523滑动到其行程的最上端时，固定杆521与滑动杆523的长度小于支撑台3放置的陶瓷器的最小半径。
本实施例中，所述滑动杆523上固定有导向块524，所述导向块524中可滑动地贯穿有导向轴525，所述导向轴525的上端固定在固定杆521中，所述导向块524上方的导向轴525外围套设有压力弹簧526，且所述压力弹簧526在自然状态下使得滑动杆523滑动到其行程的最下端；
所述压力弹簧526上端设有压力传感器527，所述压力传感器527能够对升降伸缩杆42进行反馈控制，从而使压力弹簧526产生的抛光片53对陶瓷器的压力保持在恒定值；
具体的，当压力传感器527压力大于恒定值，升降伸缩杆42驱动升降台4上移，而压力传感器527压力小于恒定值，升降伸缩杆42驱动升降台4下移。
本实施例中，所述抛光片53铰接到滑动杆523下端，所述抛光片53下方还通过与其铰接的转动连杆528与滑动杆523连接，所述转动连杆528与可滑动地连接到滑动杆523侧壁，且转动连杆528与滑动杆523间还固定有转动弹簧529，所述转动弹簧529提供使抛光片53向上转动的力，使得抛光片53能够与陶瓷器的弧面保持紧密贴合。
具体实施时，先将支撑台3下降到最低，压力台6移动到最远，升降台4上升到最高，旋转抛光组件5收缩到最下方；
在支撑台3上放置碗状陶瓷器，移动压力台6到陶瓷器边缘，升高支撑台3使压盘62对陶瓷器边缘施加一定压力；
驱动升降台4下降到抛光片53与陶瓷器底部贴合且施加一定压力，驱动电机43驱动转轴41旋转使抛光片53转动抛光陶瓷器内部；
驱动调整伸缩杆44在转轴41转动过程中拉动活动铰接盘54上滑，改变抛光杆组件52的转角，以使抛光片53逐渐上移且张开至陶瓷器边缘；
压力传感器527对升降伸缩杆42进行反馈控制，从而使压力弹簧526产生的抛光片53对陶瓷器的压力保持在恒定值。
以上所述的，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，包括支架(1)，其特征在于，所述支架(1)中固定有面板(2)，所述面板(2)的中心设有支撑台(3)，所述支撑台(3)为碗型支架，手术支撑台(3)一侧的支架(1)上可上下滑动地设有升降台(4)，所述升降台(4)对应支撑台(3)圆心位置可转动地连接有竖直的转轴(41)，且所述转轴(41)上设有旋转抛光组件(5)。
2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述升降台(4)上方通过升降伸缩杆(42)与支架(1)连接，所述升降伸缩杆(42)的缸体固定在支架(1)中，活塞杆固定到升降台(4)；
所述升降台(4)中固定有驱动电机(43)，所述驱动电机(43)的输出轴连接到转轴(41)中。
3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述支撑台(3)下方贯穿到面板(2)底部且与其可升降地连接，且支架(1)中固定有竖直布置的支撑伸缩杆(31)，所述支撑伸缩杆(31)的活塞杆固定到支撑台(3)的底部。
4.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述支撑台(3)周围圆周分布有多个压力台(6)，所述压力台(6)可滑动地连接到面板(2)上开设的导轨(21)中，所述导轨(21)沿压力台(6)的径向延伸；
所述压力台(6)上通过缓冲装置(61)连接有压盘(62)，且所述压盘(62)高于支撑台(3)。
5.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，述旋转抛光组件(5)包括固定铰接盘(51)，所述固定铰接盘(51)固定套设在转轴(41)中，所述固定铰接盘(51)的边缘圆周均匀分布地沿铰接有多根能够在垂直平面转动的抛光杆组件(52)，所述抛光杆组件(52)的末端设有抛光片(53)；
且，当每根抛光杆组件(52)转动到竖直向下时，每片所述抛光片(53)能够组成完整的曲面。
6.根据权利要求5所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述固定铰接盘(51)下方的转轴(41)中可上下滑动地套设有活动铰接盘(54)，所述活动铰接盘(54)的边缘铰接有多根支撑连杆(55)，且每根所述支撑连杆(55)的另一端一一对应地铰接到抛光杆组件(52)中；
且，当活动铰接盘(54)移动到滑动行程的最下方时，支撑连杆(55)使每根抛光杆组件(52)转动到竖直向下；
当活动铰接盘(54)移动到滑动行程的最上方时，支撑连杆(55)使每根抛光杆组件(52)转动到水平。
7.根据权利要求6所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述活动铰接盘(54)的侧边固定有竖直的拉杆(57)，所述拉杆(57)可活动地贯穿固定铰接盘(51)到其上方；
所述拉杆(57)的上端固定到升降盘(56)中，所述升降盘(56)可上下滑动地套设在转轴(41)中，所述升降盘(56)的上方可转动地套设有拨盘(58)，所述拨盘(58)通过调整伸缩杆(44)与升降台(4)的底部连接。
8.根据权利要求5所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述抛光杆组件(52)包括固定杆(521)，所述固定杆(521)上端与固定铰接盘(51)铰接，中部与活动铰接盘(54)铰接，其一面开设有贯穿下端的滑槽(522)，所述滑槽(522)中可滑动地设有滑动杆(523)，所述滑动杆(523)的下端连接抛光片(53)；
且，所述滑动杆(523)滑动到其行程的最下端时，固定杆(521)与滑动杆(523)的长度大于支撑台(3)放置的陶瓷器的最大半径；
所述滑动杆(523)滑动到其行程的最上端时，固定杆(521)与滑动杆(523)的长度小于支撑台(3)放置的陶瓷器的最小半径。
9.根据权利要求8所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述滑动杆(523)上固定有导向块(524)，所述导向块(524)中可滑动地贯穿有导向轴(525)，所述导向轴(525)的上端固定在固定杆(521)中，所述导向块(524)上方的导向轴(525)外围套设有压力弹簧(526)，且所述压力弹簧(526)在自然状态下使得滑动杆(523)滑动到其行程的最下端；
所述压力弹簧(526)上端设有压力传感器(527)，所述压力传感器(527)能够对升降伸缩杆(42)进行反馈控制。
10.根据权利要求8所述的一种用于陶瓷加工的旋转式的釉面抛光装置，其特征在于，所述抛光片(53)铰接到滑动杆(523)下端，所述抛光片(53)下方还通过与其铰接的转动连杆(528)与滑动杆(523)连接，所述转动连杆(528)与可滑动地连接到滑动杆(523)侧壁，且转动连杆(528)与滑动杆(523)间还固定有转动弹簧(529)，所述转动弹簧(529)提供使抛光片(53)向上转动的力。
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