CN114141809B - 一种显示面板的制备方法及显示面板 - Google Patents

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Abstract

本申请实施例公开了一种显示面板的制备方法及显示面板，显示面板的制备方法包括以下制备步骤：提供一阵列基板，所述阵列基板包括间隔分布的显示区和围绕所述显示区的非显示区；在所述阵列基板上制备间隔分布的挡墙单元和发光单元，所述挡墙单元对应设于所述非显示区中，发光单元设于相邻两个挡墙单元之间，且对应设于所述显示区；在挡墙单元的外表面制备一层第一反射层。

Description

一种显示面板的制备方法及显示面板
技术领域
本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板的制备方法及显示面板。
背景技术
在对现有技术的研究和实践过程中，本申请的发明人发现，目前，小尺寸LED显示因其具有高亮度、高色域、高对比度和高信赖性等优异性能，受到了各大面板厂商和LED厂商的关注。然而，由于micro LED巨量转移和修复等技术瓶颈的限制，仍然难以量产化。而Mini LED显示作为micro LED显示的过渡技术，近几年发展非常迅速。作为mini LED显示技术之一，QD-mini LED是将mini LED和量子点相结合的新型显示技术。它主要以蓝光miniLED作为背光，利用短波长的蓝光激发红或绿量子点产生相应的红光或绿光，从而实现色转换。这种显示技术相对红、绿、蓝三色mini LED直显技术而言，只需要廉价的蓝色mini LED芯片，再结合量子点色转换层，就可以实现全彩化，因此其工艺和成本有望降低。
由于mini LED的蓝宝石衬底厚度较大(约为100微米)，会导致侧向发光较为严重。为防止光串扰问题，一般会在相邻mini LED间隙中填充黑色挡墙。但是这种黑色挡墙材料会吸收大量的侧面蓝光，故会降低背光亮度，严重影响器件的光效。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板的制备方法及显示面板，可以解决现有技术中显示面板发光效率较低的技术问题。
本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括以下制备步骤：
提供一阵列基板，所述阵列基板包括间隔分布的显示区和围绕所述显示区的非显示区；在所述阵列基板上制备间隔分布的挡墙单元和发光单元，所述挡墙单元对应设于所述非显示区中，发光单元设于相邻两个挡墙单元之间，且对应设于所述显示区；在挡墙单元的外表面制备一层第一反射层。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述在阵列基板上制备间隔分布的挡墙单元和发光单元的具体制备步骤如下：
将发光单元转移至所述阵列基板的显示区中，每一发光单元均与一电极单元接触；利用喷涂工艺在相邻两个发光单元之间制备所述挡墙单元。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述在挡墙单元的外表面制备一层第一反射层的具体制备步骤如下：
将掩膜板置于所述挡墙单元远离所述阵列基板的一侧，其中，所述掩膜板的开口对应所述挡墙单元，在所述挡墙单元的外表面蒸镀第一反射层。
可选的，在本申请的一些实施例中，利用喷涂工艺在相邻两个发光单元之间涂布油墨形成所述挡墙单元。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述在阵列基板上制备间隔分布的挡墙单元和发光单元的具体制备步骤如下：
在所述阵列基板上涂布绝缘单元，所述绝缘单元设于所述显示区中，且覆盖所述电极单元；利用光刻工艺在相邻两个绝缘单元之间制备所述挡墙单元；在所述挡墙单元的外表面蒸镀所述第一反射层；利用剥离液去除所述绝缘单元；将发光单元转移至所述显示区，每一发光单元均与一电极单元接触。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述挡墙单元为透光材料。
可选的，在本申请的一些实施例中，在所述蒸镀所述第一反射层的步骤之后，还包括以下步骤：
通过激光去除挡墙单元远离所述阵列基板一侧表面处的第一反射层。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述挡墙单元的厚度为80～100um。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述在挡墙单元的外表面制备一层第一反射层的步骤之后，还包括以下制备步骤：
提供一对立基板，在所述对立基板上制备图案化的遮光单元和色阻单元；在所述遮光单元的外表面制备第二反射层，所述第二反射层覆盖所述遮光单元裸露于所述对立基板的外表面；在相邻两个遮光单元之间填充量子点材料，所述量子点材料对应所述色阻单元，固化所述量子点材料后得到量子点单元；将所述对立基板与所述阵列基板对组贴合，其中，所述量子点单元对应所述发光单元，所述遮光单元对应所述挡墙单元。
相应的，本申请实施例还提供一种显示面板，通过上述显示面板的制备方法制备形成。
本发明的有益效果在于，本发明的显示面板的制备方法及显示面板通过制备高膜厚的挡墙单元，在挡墙单元外表面制备一层反射层，在遮光单元的外表面同样制备一层反射层，从而将发光单元照向非显示区的光线反射至显示区中，避免了显示面板在非显示区出现漏光问题，同时也提升了显示面板在显示区的亮度。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例1提供的阵列基板结构示意图；
图2是本申请实施例1提供的对立基板结构示意图；
图3是本申请实施例1提供的显示面板结构示意图；
图4是本申请实施例1提供的制备发光单元步骤的结构示意图；
图5是本申请实施例1提供的制备第一反射层步骤的结构示意图；
图6是本申请实施例2提供的阵列基板结构示意图；
图7是本申请实施例2提供的对立基板结构示意图；
图8是本申请实施例2提供的制备绝缘单元步骤的结构示意图；
图9是本申请实施例2提供的制备挡墙单元步骤的结构示意图；
图10是本申请实施例2提供的制备第一反射层步骤的结构示意图。
附图标记说明：
阵列基板100、100a； 对立基板200、200a；
显示区101、101a； 非显示区102、102a；
电极单元110、110a； 挡墙单元120、120a；
发光单元130、130a； 第一反射层140、140a；
掩膜板300； 开口310；
遮光单元210、210a； 色阻单元220、220a；
量子点单元230、230a； 第二反射层211；
绝缘单元111。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本申请实施例提供一种显示面板的制备方法及显示面板。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
实施例1
如图1至图3所示，本实施例中，本发明的显示面板包括阵列基板100和对立基板200，阵列基板100包括显示区101和非显示区102，阵列基板100上设有间隔分布的电极单元110，电极单元110与阵列基板100内部的薄膜晶体管单元连接，用以传输电信号，阵列基板100上还设有挡墙单元120和发光单元130，挡墙单元120间隔分布在阵列基板100的一层表面，且对应设于非显示区102中，发光单元130设于显示区中，且每一发光单元130对应连接至一电极单元110。
挡墙单元120设置在相邻两个发光单元130之间，用以避免相邻两个发光单元130的光线相互串扰，为了提升发光单元130的出光效率，本实施例中，在挡墙单元120的外表面覆盖了一层高反射率的第一反射层140，从而将发光单元130照射至挡墙单元120侧壁方向的光线反射至发光单元130上方，进一步提升了显示面板的亮度。
对立基板200用以与阵列基板100对组贴合，其中，对立基板200朝向阵列基板100的一侧表面设有遮光单元210、色阻单元220以及量子点单元230。遮光单元210对应非显示区102，且遮光单元210远离对立基板200的一侧表面与挡墙单元120远离阵列基板100的一侧表面相贴合，从而避免显示面板在非显示区102漏光。色阻单元220包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，分别间隔设于相邻两个遮光单元210之间，量子点单元230包括红色量子点单元、绿色量子点单元和蓝色量子点单元，其中所述红色量子点单元对应设于红色色阻单元上方，绿色量子点单元对应设于绿色色阻单元上方，蓝色量子点单元对应设于蓝色色阻单元上方。在对立基板200与阵列基板100对组贴合后，发光单元130发出的光线经过量子点单元230和色阻单元220后，会被过滤成对应颜色的光线，从而形成显示面板色彩丰富的画面。
特别的，目前显示面板分为普通分辨率显示面板和高解析度显示面板，本实施例中，主要针对普通分辨率的显示面板提供了制备方法，其具体制备步骤如下：
S11)提供一阵列基板100，阵列基板100包括间隔分布的显示区101和围绕显示区101的非显示区102，其中，阵列基板100包括一出光面，所述出光面上设有间隔分布的电极单元110，电极单元110对应显示区101。
S12)如图4所示，将发光单元130转移至阵列基板100的显示区101中，每一发光单元130均与一电极单元110连接。
S13)利用喷涂工艺在相邻两个发光单元130之间涂布油墨形成挡墙单元120，挡墙单元120隔绝相邻两个不同颜色的发光单元130，避免不同颜色光线串扰，影响显示质量。
S14)如图5所示，将掩膜板300置于挡墙单元120远离阵列基板100的一侧，其中，掩膜板300的开口310对应挡墙单元120，在挡墙单元120的外表面蒸镀第一反射层140，第一反射层140覆盖在挡墙单元120的全部外表面，其中，第一反射层140的材料为高反射率金属材料，本实施例中，第一反射层140采用银材料，其反射率大于90％。覆盖在挡墙单元120侧壁的第一反射层140可以反射发光单元130，覆盖在挡墙单元120底部，即挡墙单元120朝向阵列基板100一侧的第一反射层140可以反射来自阵列基板100方向的光线，避免非显示区102漏光。在本发明的另一优选实施例中，可以采用激光去除挡墙单元120顶部，即挡墙单元120远离阵列基板100一侧表面的第一反射层140，避免光线在照射挡墙单元120顶部时被反射，从而导致非显示区102漏光。
S15)提供一对立基板200，在对立基板200上通过黄光工艺制备图案化的遮光单元210和色阻单元220，遮光单元210对应非显示区102，色阻单元220包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，分别间隔设于相邻两个遮光单元210之间，且对应显示区101。
S16)在相邻两个遮光单元210之间通过喷墨打印量子点材料，所述量子点材料对应所述色阻单元220，通过紫外线照射固化所述量子点材料后得到量子点单元230。量子点单元230包括红色量子点单元、绿色量子点单元和蓝色量子点单元，其中所述红色量子点单元对应红色色阻单元，绿色量子点单元对应绿色色阻单元，蓝色量子点单元对应蓝色色阻单元。
S17)将对立基板200与阵列基板100对组贴合，其中，量子点单元230对应发光单元130，所遮光单元210对应且贴合至挡墙单元120顶面。
本实施例的有益效果在于，本实施例的显示面板的制备方法及显示面板采用喷涂结合掩膜板法制备挡墙单元，在挡墙单元外表面制备一层反射层，从而将发光单元照向非显示区的光线反射至显示区中，避免了显示面板在非显示区出现漏光问题，同时也提升了显示面板在显示区的亮度。
实施例2
如图6和图7所示，本实施例中的显示面板与实施例1中的显示面板结构大体相似，不同点在于，本实施例中的显示面板为高解析度的显示面板，在结构上，相比于实施例1中的对立基板200，本实施例的对立基板200a在遮光单元210a上同样覆盖了一层第二反射层211，从而进一步提升显示面板的整体显示亮度，提升高解析度显示面板的显示精度，同时，本实施例中的显示面板采用了与实施例1不同的制备方法制备而成，本实施例中的显示面板的制备方法能够制备出超高分辨率的显示面板，其具体制备步骤如下：
S21)提供一阵列基板100a，阵列基板100a包括间隔分布的显示区101a和围绕显示区101a的非显示区102a，其中，阵列基板100a包括一出光面，所述出光面上设有间隔分布的电极单元110a，电极单元110a对应显示区101a。
S22)如图8所示，在阵列基板100a上涂布绝缘单元111，绝缘单元111设于显示区101a中，且覆盖电极单元110a，用以保护裸露的电极单元110a。
S23)如图9所示，利用光刻工艺在相邻两个电极单元110a之间制备挡墙单元120a，挡墙单元120a的厚度即高度为80～100um，本实施例中，挡墙单元120a为透光材料，从而提升在曝光过程中，挡墙单元120a底部材料能够被完全固化，增强了挡墙单元120a的稳定性，同时本实施例中的挡墙单元120a不含有色填料，使得成型后的挡墙单元120a表面平整度高，在后续蒸镀第一反射层140a时不会出现破膜的风险。
S24)如图10所示，在挡墙单元120a的全部外表面上蒸镀一层第一反射层140a，蒸镀完成后采用激光照射的方式去除挡墙单元120a顶面的第一反射层140a，避免光线在照射挡墙单元120a顶部时被反射，从而导致非显示区102漏光。
S25)利用剥离液去除绝缘单元111，使得电极单元110a裸露。
S26)将发光单元130a转移至阵列基板100a的显示区101a中，每一发光单元130a均与一电极单元110a连接。
S26)提供一对立基板200a，在对立基板200a上通过光刻工艺制备图案化的遮光单元210a和色阻单元220a，遮光单元210a对应非显示区102a，色阻单元220a包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，分别间隔设于相邻两个遮光单元210a之间，且对应显示区101a。
S27)在遮光单元210a的外表面通过光刻工艺制备第二反射层211，第二反射层211覆盖遮光单元210a裸露于对立基板200a的外表面。
S28)在相邻两个遮光单元210a之间通过喷墨打印量子点材料，所述量子点材料对应所述色阻单元220a，固化所述量子点材料后得到量子点单元230a。量子点单元230a包括红色量子点单元、绿色量子点单元和蓝色量子点单元，其中所述红色量子点单元对应红色色阻单元，绿色量子点单元对应绿色色阻单元，蓝色量子点单元对应蓝色色阻单元。
S29)将对立基板200a与阵列基板100a对组贴合，其中，量子点单元230a对应发光单元130a，所遮光单元210a对应且贴合至挡墙单元120a顶面。
本实施例的有益效果在于，本实施例的显示面板的制备方法及显示面板采用光刻法制备高膜厚的挡墙单元，在挡墙单元外表面制备一层反射层，在遮光单元的外表面同样制备一层反射层，从而将发光单元照向非显示区的光线反射至显示区中，避免了显示面板在非显示区出现漏光问题，同时也提升了显示面板在显示区的亮度。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板的制备方法及显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (9)

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：
提供一阵列基板，所述阵列基板包括间隔分布的显示区和围绕所述显示区的非显示区；
在所述阵列基板上制备间隔分布的挡墙单元和发光单元，所述挡墙单元对应设于所述非显示区中，发光单元设于相邻两个挡墙单元之间，且对应设于所述显示区；
在挡墙单元的外表面制备一层第一反射层；
提供一对立基板，在所述对立基板上制备图案化的遮光单元和色阻单元；
在所述遮光单元的外表面制备第二反射层，所述第二反射层覆盖所述遮光单元裸露于所述对立基板的外表面；
在相邻两个遮光单元之间填充量子点材料，所述量子点材料对应所述色阻单元，固化所述量子点材料后得到量子点单元；
将所述对立基板与所述阵列基板对组贴合，其中，所述量子点单元对应所述发光单元，所述遮光单元对应所述挡墙单元。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，所述阵列基板上设有电极单元，其特征在于，所述在阵列基板上制备间隔分布的挡墙单元和发光单元的具体制备步骤如下：
将发光单元转移至所述阵列基板的显示区中，每一发光单元均与一电极单元接触；
利用喷涂工艺在相邻两个发光单元之间制备所述挡墙单元。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在挡墙单元的外表面制备一层第一反射层的具体制备步骤如下：
将掩膜板置于所述挡墙单元远离所述阵列基板的一侧，其中，所述掩膜板的开口对应所述挡墙单元，在所述挡墙单元的外表面蒸镀第一反射层。
4.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
利用喷涂工艺在相邻两个发光单元之间涂布油墨形成所述挡墙单元。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，所述阵列基板上设有电极单元，其特征在于，所述在阵列基板上制备间隔分布的挡墙单元和发光单元的具体制备步骤如下：
在所述阵列基板上涂布绝缘单元，所述绝缘单元设于所述显示区中，且覆盖所述电极单元；
利用光刻工艺在相邻两个绝缘单元之间制备所述挡墙单元；
在所述挡墙单元的外表面蒸镀所述第一反射层；
利用剥离液去除所述绝缘单元；
将发光单元转移至所述显示区，每一发光单元均与一电极单元接触。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
所述挡墙单元为透光材料。
7.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述蒸镀所述第一反射层的步骤之后，还包括以下步骤：
通过激光去除挡墙单元远离所述阵列基板一侧表面处的第一反射层。
8.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
所述挡墙单元的厚度为80～100um。
9.一种显示面板，其特征在于，通过权利要求1～8中任一项所述的显示面板的制备方法制备而成。
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