CN108628035B - 光致发光设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种光致发光设备。该光致发光设备包括基底基板、第一颜色转换图案以及封盖层，第一颜色转换图案布置在基底基板上并且具有颜色转换材料，其中第一停止图案形成在第一颜色转换图案上，封盖层布置在第一颜色转换图案上用于封盖第一颜色转换图案，其中在俯视图中与第一颜色转换图案重叠的第一孔穿过封盖层而形成。第一停止图案在俯视图中与第一孔相邻布置。

Description

光致发光设备
技术领域
本发明构思的示例实施例涉及一种光致发光设备。更具体地，本发明构思的示例实施例涉及一种使用量子点的光致发光设备。
背景技术
近来，已经制造了具有轻重量和小尺寸的显示设备。由于性能和有竞争力的价格，阴极射线管(CRT)显示设备已经被使用。然而，CRT显示设备具有尺寸或便携性方面的弱点。因此，由于其小尺寸、轻重量和低功耗，诸如等离子显示设备、液晶显示设备和有机发光显示设备之类的显示设备已经被高度关注。
显示设备可以进一步包括光致发光设备。光致发光设备可以包括诸如量子点的颜色转换结构，用于转换光的颜色，以供显示图像。可以由光致发光设备实现期望的图像颜色。因此，可能改进图像的颜色再现性、改进发光效率以及改进显示质量。然而，颜色转换结构可能具有其中未固化部件在制造工艺中保留的问题，并且由于脱气而具有有效未填充面积(AUA)缺陷，从而导致显示质量的恶化。
发明内容
本发明构思的一个或多个示例实施例提供一种能够减少AUA缺陷和显示质量退化的光致发光设备。
本发明构思的一个或多个示例实施例还提供一种制造光致发光设备的方法。
本发明构思的一个或多个示例实施例还提供一种具有光致发光设备的显示设备。
根据本发明构思的示例实施例，一种光致发光设备包括基底基板、第一颜色转换图案以及封盖层，第一颜色转换图案布置在基底基板上并且具有颜色转换材料，其中第一停止图案形成在第一颜色转换图案处，封盖层布置在第一颜色转换图案上以用于封盖第一颜色转换图案，其中在俯视图中与第一颜色转换图案重叠的第一孔穿过封盖层而形成。第一停止图案在俯视图中布置为与第一孔相邻。
在示例实施例中，在俯视图中，第一停止图案可以在第一方向上延伸，并且在垂直于第一方向的第二方向上与第一孔间隔开。
在示例实施例中，第一停止图案可以是形成在第一颜色转换图案处的开口图案或沟槽图案。
在示例实施例中，第一停止图案的宽度可以是大约10至15um(微米)。
在示例实施例中，光致发光设备可以进一步包括布置在基底基板上并且在第二方向上延伸的第一光阻挡图案。在俯视图中，第一颜色转换图案可以在第二方向上延伸。第一光阻挡图案可以在垂直于第二方向的第一方向上与第一颜色转换图案相邻。
在示例实施例中，第一光阻挡图案可以进一步在第一方向上延伸以形成晶格结构。第一光阻挡图案、第一孔和第一停止图案可以彼此重叠。
在示例实施例中，光致发光设备可以进一步包括蓝光阻挡图案、第二颜色转换图案以及第三颜色转换图案，蓝光阻挡图案布置在基底基板上，第二颜色转换图案包括绿色量子点颗粒和/或绿色磷光体，第三颜色转换图案布置在基底基板上并且包括散射颗粒和/或蓝色颜料。第一颜色转换图案可以包括红色量子点颗粒和/或红色磷光体。第一颜色转换图案和第二颜色转换图案可以与蓝光阻挡图案重叠。
在示例实施例中，在与第二颜色转换图案重叠的封盖层处可以进一步形成第二孔。
在示例实施例中，第一停止图案可以形成在第一颜色转换图案以及在第一颜色转换图案之下的蓝光阻挡图案处。第一停止图案可以是形成在第一颜色转换图案处的开口图案和形成在蓝光阻挡图案处的开口图案，或者可以是形成在第一颜色转换图案处的开口图案和形成在蓝光阻挡图案处的沟槽图案。
在示例性的实施例中，在俯视图中，第一颜色转换图案可以在基本上垂直于第一方向的第二方向上延伸。第一停止图案可以包括1A停止图案和1B停止图案。1A停止图案可以在第二方向上与第一孔间隔开。1B停止图案可以在第二方向上相对于1A停止图案与第一孔间隔开。
在示例实施例中，1A停止图案和/或1B停止图案可以延伸至第一颜色转换图案的边缘。
根据本发明构思的示例实施例，一种显示设备包括生成光的背光单元、第一基底基板、薄膜晶体管层、第二基底基板、第一颜色转换图案、封盖层、液晶层以及光阻挡层，第一基底基板布置在背光单元上，薄膜晶体管层布置在第一基底基板上并且包括薄膜晶体管，第二基底基板与第一基底基板相对，第一颜色转换图案布置在第二基底基板上并且具有颜色转换材料，其中第一停止图案形成在第一颜色转换图案处，封盖层布置在第一颜色转换图案上以用于封盖第一颜色转换图案，其中在俯视图中与第一颜色转换图案重叠的第一孔穿过封盖层而形成，液晶层布置在第一基底基板与第二基底基板之间，光阻挡层与薄膜晶体管、第一停止图案和第一孔重叠。
在示例实施例中，第一停止图案可以是形成在第一颜色转换图案处的开口图案或沟槽图案。
在示例实施例中，显示设备可以进一步包括蓝光阻挡图案、第二颜色转换图案以及第三颜色转换图案，蓝光阻挡图案布置在第二基底基板上，第二颜色转换图案包括绿色量子点颗粒和/或绿色磷光体，第三颜色转换图案布置在第二基底基板上并且包括散射颗粒和/或蓝色颜料。第一颜色转换图案可以包括红色量子点颗粒和/或红色磷光体，并且第一颜色转换图案和第二颜色转换图案与蓝光阻挡图案重叠。背光单元可以发出蓝光。
在示例实施例中，光阻挡层可以包括布置在液晶层与第二基底基板之间的第一光阻挡图案，以及布置在液晶层与第一基底基板之间的第二光阻挡图案。第一孔和第一停止图案可以与第二光阻挡图案重叠。
在示例实施例中，显示设备可以包括用于显示图像的多个像素区域以及在像素区域之间具有晶格结构的光阻挡区域。第一孔和第一停止图案可以每隔数个像素区域重复地形成。
根据本发明构思的示例实施例，一种制造光致发光设备的方法包括：形成包括用于转换入射光颜色的颜色转换材料的第一颜色转换图案以及在第一颜色转换图案上形成用于封盖第一颜色转换图案的封盖层，其中第一孔穿过封盖层形成以暴露第一颜色转换图案的一部分。为开口图案或沟槽图案的第一停止图案形成在与第一孔相邻的第一颜色转换图案处。
在示例实施例中，可以通过涂覆包含量子点颗粒和/或磷光体的光致抗蚀剂材料、曝光并显影该光致抗蚀剂材料而形成第一颜色转换图案。当形成第一颜色转换图案时可以同时图案化第一停止图案。
在示例实施例中，可以通过涂覆包含量子点颗粒和/或磷光体的光致抗蚀剂材料、曝光并显影该光致抗蚀剂材料而形成第一颜色转换图案。并且随后，可以通过移除第一颜色转换图案的一部分而形成第一停止图案。
在示例实施例中，方法可以进一步包括：在基底基板上形成蓝光阻挡图案、在蓝光阻挡图案上形成包括绿色量子点颗粒和/或绿色磷光体的第二颜色转换图案、在基底基板上形成包括散射颗粒和/或蓝色颜料的第三颜色转换图案、在封盖层上形成平坦化层、在平坦化层上形成引线栅格偏光器以及在引线栅格偏光器上形成绝缘层。
根据本发明构思，一种显示设备包括具有第一孔的封盖层以及第一颜色转换图案，在第一颜色转换图案处形成第一停止图案。第一孔形成在封盖层处，使得可以减少由于从第一颜色转换图案脱气引起的有效未填充面积(AUA)缺陷。第一停止图案形成在第一颜色转换图案中。因此，即使第一颜色转换图案在第一孔周围的一部分恶化，因为第一颜色转换图案的恶化部分仅形成在光阻挡区域中，因此可以防止由于第一颜色转换图案的恶化引起的显示质量退化。
此外，第一停止图案可以具有即使在形成第一停止图案的步骤期间出现取向误差也能够维持显示设备的质量的图案形状。
应该理解的是，前述一般性描述和以下详细描述二者均是示例性和解释性的，并且意在提供对于如所请求保护的发明的进一步解释。
附图说明
通过参照附图详细描述本发明构思的示例实施例，本发明构思的以上和其他特征将变得更加明显，其中：
图1是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的框图；
图2是图示图1的显示设备的一部分的像素区域的俯视图；
图3A是沿着图2的线条I-I’截取的剖视图；
图3B是沿着图2的线条II-II’截取的剖视图；
图3C是沿着图2的线条III-III’截取的剖视图；
图4是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图；
图5A是沿着图4的线条I-I’截取的剖视图；
图5B是沿着图4的线条II-II’截取的剖视图；
图5C是沿着图4的线条III-III’截取的剖视图；
图6是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图；
图7A是沿着图6的线条I-I’截取的剖视图；
图7B是沿着图6的线条II-II’截取的剖视图；
图7C是沿着图6的线条III-III’截取的剖视图；
图8是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图；
图9A是沿着图8的线条I-I’截取的剖视图；
图9B是沿着图8的线条II-II’截取的剖视图；
图9C是沿着图8的线条III-III’截取的剖视图；
图10是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图；
图11A是沿着图10的线条I-I’截取的剖视图；
图11B是沿着图10的线条II-II’截取的剖视图；
图11C是沿着图10的线条III-III’截取的剖视图；
图12是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图；
图13A是沿着图12的线条I-I’截取的剖视图；
图13B是沿着图12的线条II-II’截取的剖视图；
图13C是沿着图12的线条III-III’截取的剖视图；
图14是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图；
图15A是沿着图14的线条I-I’截取的剖视图；
图15B是沿着图14的线条II-II’截取的剖视图；
图15C是沿着图14的线条III-III’截取的剖视图；
图16是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图；
图17A是沿着图16的线条I-I’截取的剖视图；
图17B是沿着图16的线条II-II’截取的剖视图；
图17C是沿着图16的线条III-III’截取的剖视图；
图18是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图；
图19A、图19B、图19C、图19D和图19E是图示制造图2的显示设备的方法的剖视图；
图20A、图20B、图20C和图20D是图示制造图6的显示设备的方法的剖视图；
图21A、图21B、图21C和图21D是图示制造图8的显示设备的方法的剖视图；以及
图22A、图22B、图22C和图22D是图示制造图14的显示设备的方法的剖视图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图详细解释本发明构思。
图1是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的框图。
参照图1，显示设备可以包括显示面板10和显示面板驱动器。显示面板驱动器可以包括时序控制器20、栅极驱动器30、伽马参考电压发生器40和数据驱动器50。显示设备可以进一步包括背光单元(参照图3A的BLU)。
显示面板10可以包括多条栅极线GL、多条数据线DL以及电连接至栅极线GL和数据线DL的多个像素。栅极线GL可以在第一方向D1上延伸，并且数据线DL可以在与第一方向D1交叉的第二方向D2上延伸。
显示面板10可以包括第一基底基板、面向第一基底基板的第二基底基板以及布置在第一基底基板与第二基底基板之间的液晶层。栅极线、数据线、像素的像素电极以及开关元件可以形成在第一基底基板上。公共电极可以形成在第二基底基板上。
时序控制器20可以从外部设备(未示出)接收输入图像数据IMG和输入控制信号CONT。输入图像数据IMG可以包括红色图像数据、绿色图像数据和蓝色图像数据。输入控制信号CONT可以包括主时钟信号和数据使能信号。输入控制信号CONT可以进一步包括垂直同步信号和水平同步信号。
时序控制器20可以基于输入图像数据IMG和输入控制信号CONT而生成第一控制信号CONT1、第二控制信号CONT2、第三控制信号CONT3和数据信号DATA。
时序控制器20可以基于输入控制信号CONT而生成用于控制栅极驱动器30操作的第一控制信号CONT1，并且将第一控制信号CONT1输出至栅极驱动器30。第一控制信号CONT1可以进一步包括垂直启动信号和栅极时钟信号。
时序控制器20可以基于输入控制信号CONT而生成用于控制数据驱动器50操作的第二控制信号CONT2，并且将第二控制信号CONT2输出至数据驱动器50。第二控制信号CONT2可以包括水平启动信号和负载信号。
时序控制器20可以基于输入图像数据IMG而生成数据信号DATA。时序控制器20可以将数据信号DATA输出至数据驱动器50。
时序控制器20可以基于输入控制信号CONT而生成用于控制伽马参考电压发生器40操作的第三控制信号CONT3，并且将第三控制信号CONT3输出至伽马参考电压发生器40。
栅极驱动器30可以响应于从时序控制器20接收的第一控制信号CONT1而生成驱动栅极线GL的栅极信号。栅极驱动器30可以顺序地将栅极信号输出至栅极线GL。
伽马参考电压发生器40可以响应于从时序控制器20接收的第三控制信号CONT3而生成伽马参考电压VGREF。伽马参考电压发生器40可以将伽马参考电压VGREF提供至数据驱动器50。伽马参考电压VGREF可以具有与数据信号DATA的电平对应的数值。
在示例性实施例中，伽马参考电压发生器40可以布置在时序控制器20中，或者可以布置在数据驱动器50中。
数据驱动器50可以从时序控制器20接收第二控制信号CONT2和数据信号DATA，并且从伽马参考电压发生器40接收伽马参考电压VGREF。数据驱动器50可以使用伽马参考电压VGREF将数据信号DATA转换成具有模拟类型的数据电压。数据驱动器50可以将数据电压输出至数据线DL。
显示设备可以包括多个像素区域。像素区域可以以2行*3列的矩阵设置。像素区域可以包括第一像素区域PX1、第二像素区域PX2、第三像素区域PX3、第四像素区域PX4、第五像素区域PX5以及第六像素区域PX6。分离像素区域并且阻挡光的光阻挡区域(参照图3A的BA)可以形成在第一像素区域PX1至第六像素区域PX6之间。
图2是图示图1的显示设备的一部分的像素区域的俯视图。图3A是沿着图2的线条I-I’截取的剖视图。图3B是沿着图2的线条II-II’截取的剖视图。图3C是沿着图2的线条III-III’截取的剖视图。
参照图2至图3C，显示设备的第一像素区域至第六像素区域(PX1至PX6)可以沿着第一方向D1和第二方向D2以2行*3列的矩阵设置。第二方向D2可以基本上垂直于第一方向D1。在第一像素区域PX1至第六像素区域PX6中，可以发出用于显示图像的光。尽管在本实施例中从第一像素区域PX1和第四像素区域PX4发出红色光、从第二像素区域PX2和第五像素区域PX5发出绿色光、并且从第三像素区域PX3和第六像素区域PX6发出蓝色光，但根据本发明构思的实施例的显示设备不限于此并且可以进行不同地配置。分离像素区域并且阻挡光的光阻挡区域BA可以形成在第一像素区域PX1至第六像素区域PX6之间。
显示设备可以包括光致发光设备、液晶层LC、第二光阻挡图案LB2、薄膜晶体管层TFTL、第一基底基板100、第一偏光器POL1和背光单元BLU。
光致发光设备可以包括抗反射层AR、第二基底基板200、第一光阻挡图案LB1、蓝光阻挡图案210、第一颜色转换图案R、第二颜色转换图案G、第三颜色转换图案B、封盖层220、平坦化层230、第二偏光器POL2以及绝缘层240。
第二基底基板200可以包括透明绝缘基板。例如，第二基底基板200可以包括玻璃基板、石英基板、透明树脂基板等。用于第二基底基板200的透明树脂基板的示例可以包括聚酰亚胺基树脂、丙烯基树脂、聚丙烯酸酯基树脂、聚碳酸酯基树脂、聚醚基树脂、包含磺酸的树脂、聚乙二醇对苯二甲酸酯基树脂等。
抗反射层AR可以布置在第二基底基板200上。抗反射层AR由于显示设备的内部结构而减少对外部光的反射，并且可以包括较倾斜的偏光器以及与较倾斜偏光器重叠的1/4波延迟器。
第一光阻挡图案LB1可以布置在第二基底基板200上。在俯视图中，第一光阻挡图案LB1可以在第二方向D2上延伸并且可以布置于在第一方向D1上彼此相邻布置的两个像素区域之间。第一光阻挡图案LB1可以包括阻挡光的材料。例如，第一光阻挡图案LB1可以是金属黑矩阵并且包括金属。
尽管图中未示出，但半透明层可以进一步布置在第二基底基板200上。半透明层可以部分地透射并且部分地反射穿过该半透明层的光。半透明层可以包括诸如银Ag等的金属。
蓝光阻挡图案210可以布置在其上布置了第一光阻挡图案LB1的第二基底基板200上。在俯视图中，蓝光阻挡图案210可以布置在第一像素区域PX1、第二像素区域PX2、第四像素区域PX4和第五像素区域PX5中。蓝光阻挡图案210可以通过交替地层叠具有不同折射率的至少两个层而形成。所透射的光的排除了蓝光波段的波段穿过蓝光阻挡图案210透射，并且蓝光波段被蓝光阻挡图案210阻挡。被蓝光阻挡图案210阻挡的蓝光可以被反射并光学回收。
第一颜色转换图案R可以在第一像素区域PX1和第四像素区域PX4中布置在蓝光阻挡图案210上。第一颜色转换图案R可以是红色转换图案。第一颜色转换图案R可以将从背光单元BLU提供的蓝光转换为红光。例如，第一颜色转换图案R可以包括诸如红色量子点颗粒和/或红色磷光体的颜色转换材料。
在俯视图中，第一颜色转换图案R可以在第二方向D2上从第一像素区域PX1延伸至第四像素区域PX4。因此，第一颜色转换图案R也可以形成在第一像素区域PX1与第四像素区域PX4之间的光阻挡区域BA中。第一颜色转换图案R可以在光阻挡区域BA中具有第一停止图案STPR。在俯视图中，第一停止图案STPR可以形成为与封盖层220的稍后将提及的第一孔220R相邻，并且可以在第一方向D1上延伸。第一停止图案STPR可以是形成在第一颜色转换图案R中的开口图案，作为未形成第一颜色转换图案R的一部分。在俯视图中，第一停止图案STPR可以包括沿着第二方向D2形成在与第一孔220R相等距离处的两个图案，并且可以与第二光阻挡图案LB2重叠。
第一颜色转换图案R的未封盖部分可以在制造工艺期间由封盖层220的第一孔220R暴露。第一颜色转换图案R的颜色转换材料可以在制造工艺期间或者在制造工艺之后被氧化或者通过第一孔220R周围的配合体脱附而改变，使得颜色转换材料可以恶化。因此，降低了第一颜色转换图案R的与第一孔220R相邻的一部分的发光效率，使得显示质量可能降低。然而，根据本示例，第一颜色转换图案R的其中出现恶化的部分通过第一停止图案STPR无法再在第二方向D2上扩展，第一停止图案STPR是第一颜色转换图案R的开口图案。第一颜色转换图案R的其中出现恶化的部分可以沿着第一方向D1扩展，第一方向D1是第一停止图案STPR的延伸方向。因此，出现恶化的部分可以仅在光阻挡区域BA中在第一方向D1上扩展，并且第一停止图案STPR可以防止出现恶化的部分在第二方向D2上扩展至像素区域。因此，尽管形成了第一孔220R，但可以防止由于第一颜色转换图案R恶化引起的显示设备的显示质量退化。
第二颜色转换图案G可以在第二像素区域PX2和第五像素区域PX5中布置在蓝光阻挡图案210上。第二颜色转换图案G可以是绿色转换图案。第二颜色转换图案G可以将从背光单元BLU提供的蓝光转换为绿光。例如，第二颜色转换图案G可以包括诸如绿色量子点颗粒和/或绿色磷光体的颜色转换材料。
在俯视图中，第二颜色转换图案G可以在第二方向D2上从第二像素区域PX2延伸至第五像素区域PX5。因此，第二颜色转换图案G也可以形成在第二像素区域PX2与第五像素区域PX5之间的光阻挡区域BA中。第二颜色转换图案G可以在光阻挡区域BA中具有第二停止图案STPG。在俯视图中，第二停止图案STPG可以形成为与封盖层220的稍后将提及的第二孔220G相邻，并且可以在第一方向D1上延伸。第二停止图案STPG可以是形成在第二颜色转换图案G中的开口图案，作为未形成第二颜色转换图案G的一部分。在俯视图中，第二停止图案STPG可以包括沿着第二方向D2形成在与第二孔220G相等距离处的两个图案，并且可以与第二光阻挡图案LB2重叠。
第三颜色转换图案B可以在第三像素区域PX3和第六像素区域PX6中布置在第二基底基板200上。第三颜色转换图案B可以包括散射颗粒，散射颗粒改变蓝光的传播方向而不改变由背光单元BLU所提供的蓝光的波段的波长。散射颗粒可以是TiO2等的颗粒，并且散射颗粒的尺寸可以类似于红色量子点颗粒或绿色量子点颗粒的尺寸。此外，第三颜色转换图案B可以进一步包括用于将穿过第三颜色转换图案B的光转换为蓝光的蓝色颜料。
尽管第一颜色转换图案R、第二颜色转换图案G和第三颜色转换图案B在第二方向D2上重复地布置以在本实施例中形成条带形状，但颜色转换图案的设置结构不限于此并且可以进行不同地修改。
封盖层220可以布置在第一颜色转换图案R、第二颜色转换图案G和第三颜色转换图案B上。封盖层220可以覆盖第一颜色转换图案R、第二颜色转换图案G和第三颜色转换图案B以用于封盖。第一孔220R、第二孔220G和第三孔220B可以穿过封盖层220形成。尽管第一孔至第三孔220R、220G和220B中的每一个具有方形，但其不限于此并且可以进行不同地修改。例如，第一孔至第三孔220R、220G和220B中的每一个可以具有圆、椭圆、三角、星形等形状。第一孔至第三孔220R、220G和220B可以在第二方向D2上布置在光阻挡区域BA的中心处。因此，可以最大化从第一孔220R至第二光阻挡图案LB2的两个边缘的距离。因此，即使第一颜色转换图案R的一部分恶化，也可以最小化恶化对第一像素区域PX1或第四像素区域PX4的影响。
在此，可以由在180(摄氏度)或更低温度下的工艺形成第一颜色转换图案至第三颜色转换图案R、G和B以增强发光效率。因此，甚至在包含颜色转换材料的溶剂的固化工艺之后，未固化的溶剂也可以保留，并且由于脱气可以引起有效未填充面积(AUA)缺陷。在本实施例中，可以通过第一孔至第三孔220R、220G和220B流出在第一颜色转换图案至第三颜色转换图案R、G和B中所生成的脱气。因此，可以减少AUA缺陷。
封盖层220可以是光再循环滤波器。例如，封盖层220可以是黄光再循环滤波器。光再循环滤波器可以反射从背光单元BLU生成的并且由第一颜色转换图案至第三颜色转换图案R、G和B以及蓝光阻挡图案210朝向液晶层LC反射的光，因此提高显示设备的亮度。
平坦化层230可以布置在封盖层220上。平坦化层230可以被平坦化在封盖层220的上表面上，并且可以包括有机绝缘材料或无机绝缘材料。
第二偏光器POL2可以布置在平坦化层230上。第二偏光器POL2可以是引线栅格偏光器。引线栅格偏光器可以包括在一个方向上延伸的多条细线，多条细线由金属形成并且以规则间隔设置。细线可以具有大约50nm(纳米)至150nm的节距。节距指的是一条细线的宽度与相邻细线之间的距离之和。
绝缘层240可以布置在第二偏光器POL2上来覆盖第二偏光器POL2以用于封盖。绝缘层240可以包括有机绝缘材料或无机绝缘材料。
此外，光致发光设备可以进一步根据显示设备的驱动模式而在绝缘层240上包括公共电极。
第一基底基板100可以包括透明绝缘基板。例如，第一基底基板100可以包括玻璃基板、石英基板、透明树脂基板等。用于第一基底基板100的透明树脂基板的示例可以包括聚酰亚胺基树脂、丙烯基树脂、聚丙烯酸酯基树脂、聚碳酸酯基树脂、聚醚基树脂、包含磺酸的树脂、聚乙二醇对苯二甲酸酯基树脂等。
薄膜晶体管层TFTL可以布置在第一基底基板100上。尽管图中未详细示出，但薄膜晶体管层TFTL可以包括诸如栅极线和数据线的用于驱动显示设备的信号线以及薄膜晶体管，薄膜晶体管包括栅电极、有源图案、源电极和漏电极，并且电连接至信号线。薄膜晶体管可以电连接至像素电极，并且薄膜晶体管和像素电极可以形成为对应于各个像素区域(第一像素区域PX1至第六像素区域PX6)。例如，薄膜晶体管可以通过重叠与第一像素区域PX1相邻的光阻挡区域(例如第二光阻挡图案LB2)而形成。连接至薄膜晶体管的像素电极可以形成在第一像素区域PX1中。
第二光阻挡图案LB2可以布置在第二基底基板200上。第二光阻挡图案LB2可以包括阻挡光的材料。在俯视图中，第二光阻挡图案LB2可以在第一方向D1上延伸，并且可以形成在光阻挡区域BA中。第二光阻挡图案LB2可以与封盖层220的第一孔220R、第一停止图案STPR、第二孔220G、第二停止图案STPG、第三孔220B以及第三停止图案STPB重叠。此外，第二光阻挡图案LB2可以与薄膜晶体管重叠。
第一偏光器POL1可以布置在第一基底基板100上。第一偏光器POL1可以是诸如普通聚乙烯醇(PVA)偏光板的吸收类型的偏光板，或者诸如引线栅格偏光元件的反射类型的偏光板。
液晶层LC可以布置在绝缘层240与薄膜晶体管层TFTL之间。液晶层LC可以包括具有光学各向异性的液晶分子。液晶分子由电场驱动，使得通过使光穿过液晶层LC或阻挡光穿过液晶层LC而显示图像。尽管图中未示出，但显示设备可以进一步包括布置在液晶层LC之上和之下的取向层。
背光单元BLU可以布置在第一基底基板100之下以将光提供至液晶层LC。更具体地，背光单元BLU可以生成蓝色波段中的蓝光以将蓝光提供至液晶层LC方向。
根据本实施例，第一孔形成在显示设备的封盖层中，使得可以减少由于在第一颜色转换图案中所生成的脱气引起的AUA缺陷。第一停止图案STPR形成在第一颜色转换图案中。因此，即使第一颜色转换图案在第一孔周围的一部分恶化，因为第一颜色转换图案的恶化部分仅形成在光阻挡区域中，因此可以防止由于第一颜色转换图案恶化引起的显示质量退化。
图4是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图。图5A是沿着图4的线条I-I’截取的剖视图。图5B是沿着图4的线条II-II’截取的剖视图。图5C是沿着图4的线条III-III’截取的剖视图。
参照图4至图5C，除了在第三颜色转换图案中未形成第三停止图案并且在封盖层中未形成第三孔之外，显示设备可以与图2的显示设备基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
显示设备的第一像素区域PX1至第六像素区域PX6可以在第一方向D1和第二方向D2上以2行*3列的矩阵形式设置。分离像素区域的光阻挡区域BA可以形成在第一像素区域PX1至第六像素区域PX6之间。
显示设备可以包括光致发光设备、液晶层LC、第二光阻挡图案LB2、薄膜晶体管层TFTL、第一基底基板100、第一偏光器POL1和背光单元BLU。
光致发光设备可以包括抗反射层AR、第二基底基板200、第一光阻挡图案LB1、蓝光阻挡图案210、第一颜色转换图案R、第二颜色转换图案G、第三颜色转换图案B、封盖层220、平坦化层230、第二偏光器POL2以及绝缘层240。
第三颜色转换图案B可以在第三像素区域PX3和第六像素区域PX6中布置在第二基底基板200上。第三颜色转换图案B可以包括散射颗粒。第三颜色转换图案B可以进一步包括蓝色颜料。不同于第一颜色转换图案R和第二颜色转换图案G，在第三颜色转换图案B中未形成停止图案。
可以穿过封盖层220形成与第一颜色转换图案R重叠的第一孔220R和与第二颜色转换图案G重叠的第二孔220G。不同于图2的实施例，未形成对应于第三颜色转换图案B的孔。
不同于第一颜色转换图案R或第二颜色转换图案G，第三颜色转换图案B不包括量子点或荧光材料。此外，第三颜色转换图案B形成为透明的，使得在第三像素区域PX3和第六像素区域PX6中背光单元BLU的蓝光穿过第三颜色转换图案B。因此，第三颜色转换图案B退化对于显示质量退化的影响可以是小的。因此，可以不对应于第三颜色转换图案B形成孔和停止图案。
图6是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图。图7A是沿着图6的线条I-I’截取的剖视图。图7B是沿着图6的线条II-II’截取的剖视图。图7C是沿着图6的线条III-III’截取的剖视图。
参照图6、图7A、图7B和图7C，除了第一停止图案STPR和第二停止图案STPG形成在蓝光阻挡图案210中之外，显示设备可以与图4的显示设备基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
第一停止图案STPR可以形成在第一颜色转换图案R处。第一停止图案STPR可以布置在光阻挡区域BA中。第一停止图案STPR可以是形成在第一颜色转换图案R中的开口图案，作为未形成第一颜色转换图案R的一部分。此外，开口图案可以在第一颜色转换图案R之下穿过蓝光阻挡图案210形成。因此，对应于第一停止图案STPR，开口图案可以形成在第一颜色转换图案R处，并且开口图案也可以穿过蓝光阻挡图案210而形成。
第二停止图案STPG可以形成在第二颜色转换图案G处。第二停止图案STPG可以布置在光阻挡区域BA中。第二停止图案STPG可以是形成在第二颜色转换图案G中的开口图案，作为未形成第二颜色转换图案G的一部分。此外，开口图案可以在第二颜色转换图案G之下穿过蓝光阻挡图案210形成。因此，对应于第二停止图案STPG，开口图案可以形成在第二颜色转换图案G处，并且开口图案也可以穿过蓝光阻挡图案210形成。
封盖层220可以覆盖第一颜色转换图案R和第二颜色转换图案G。在此，封盖层220可以在形成第一停止图案STPR和第二停止图案STPG的部分中穿过第一停止图案STPR和第二停止图案STPG与蓝光阻挡图案210和第二基底基板200接触。
图8是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图。图9A是沿着图8的线条I-I’截取的剖视图。图9B是沿着图8的线条II-II’截取的剖视图。图9C是沿着图8的线条III-III’截取的剖视图。
参照图8至图9C，除了第一停止图案STPR和第二停止图案STPG穿过蓝光阻挡图案210的一部分形成之外，显示设备可以与图6的显示设备基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
第一停止图案STPR可以形成在第一颜色转换图案R处。第一停止图案STPR可以布置在光阻挡区域BA中。第一停止图案STPR可以是形成在第一颜色转换图案R中的开口图案，作为未形成第一颜色转换图案R的一部分。此外，开口图案可以在第一颜色转换图案R之下穿过蓝光阻挡图案210的一部分形成(例如部分地穿过蓝光阻挡图案210的厚度形成)。因此，对应于第一停止图案STPR，开口图案可以形成在第一颜色转换图案R处，并且对应于开口图案的沟槽可以形成在蓝光阻挡图案210中。因此，蓝光阻挡图案210可以在第一停止图案STPR处具有第二厚度t2并且在其他部分中具有比第二厚度t2厚的第一厚度t1。
第二停止图案STPG可以形成在第二颜色转换图案G处。第二停止图案STPG可以布置在光阻挡区域BA中。第二停止图案STPG可以是形成在第二颜色转换图案G中的开口图案，作为未形成第二颜色转换图案G的一部分。此外，开口图案可以在第二颜色转换图案G之下穿过蓝光阻挡图案210的一部分形成。因此，对应于第二停止图案STPG，开口图案可以形成在第二颜色转换图案G处，并且对应于开口图案的沟槽可以形成在蓝光阻挡图案210处。因此，蓝光阻挡图案210可以在第二停止图案STPG处具有第二厚度t2并在其他部分中具有比第二厚度t2厚的第一厚度t1。
封盖层220可以覆盖第一颜色转换图案R和第二颜色转换图案G。在此，封盖层220可以在形成第一停止图案STPR和第二停止图案STPG的部分中穿过第一停止图案STPR和第二停止图案STPG与蓝光阻挡图案210接触。
图10是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图。图11A是沿着图10的线条I-I’截取的剖视图。图11B是沿着图10的线条II-II’截取的剖视图。图11C是沿着图10的线条III-III’截取的剖视图。
参照图10至图11C，除了第一停止图案STPR1和STPR2的形状以及第二停止图案STPG1和STPG2的形状之外，显示设备可以与图4的显示设备基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
第一停止图案可以包括1A停止图案STPR1和1B停止图案STPR2。1A停止图案STPR1可以延伸至第一颜色转换图案R的第一边缘。1B停止图案STPR2可以延伸至第一颜色转换图案R的在第一方向D1上与第一边缘相对的第二边缘。因此，当第一停止图案是开口时，第一颜色转换图案R的边缘可以打开。
在俯视图中，1A停止图案STPR1和1B停止图案STPR2中的每一个连接至第一颜色转换图案R的一个边缘，使得第一颜色转换图案R可以在第二方向D2上连续地形成。
第二停止图案可以包括2A停止图案STPG1和2B停止图案STPG2。2A停止图案STPG1和2B停止图案STPG2可以类似于第一颜色转换图案R的情况而形成。
图12是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图。图13A是沿着图12的线条I-I’截取的剖视图。图13B是沿着图12的线条II-II’截取的剖视图。图13C是沿着图12的线条III-III’截取的剖视图。
参照图12至图13C，除了第一停止图案STPR和第二停止图案STPG的形状之外，显示设备可以与图4的显示设备基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
第一停止图案STPR可以延伸至第一颜色转换图案R的一个边缘。第二停止图案STPG可以延伸至第二颜色转换图案G的一个边缘。
根据上述实施例，停止图案STPR和STPG可以以各种形状形成在各个位置处。此外，因为一个停止图案在第一方向D1上的长度小于颜色转换图案R、G和B在第一方向D1上的宽度，因此即使在停止图案形成工艺期间由于取向误差部分地改变停止图案的位置，停止图案也可以执行防止颜色转换图案的恶化扩散的功能。在此，停止图案在第二方向D2上的宽度如所需的那样适当地设置大小。例如，考虑工艺条件，停止图案可以以大约10至15um(微米)形成。
图14是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图。图15A是沿着图14的线条I-I’截取的剖视图。图15B是沿着图14的线条II-II’截取的剖视图。图15C是沿着图14的线条III-III’截取的剖视图。
参照图14至图15C，除了第一停止图案STPR和第二停止图案STPG是代替开口图案的沟槽图案之外，显示设备可以与图4的显示设备基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
第一停止图案STPR可以是形成在第一颜色转换图案R处的沟槽图案。因此，第一颜色转换图案R可以在第一停止图案STPR处具有第二厚度t2，并在其他区域处具有比第二厚度t2厚的第一厚度t1。
第二停止图案STPG可以是形成在第二颜色转换图案G处的沟槽图案。因此，第二颜色转换图案G可以在第二停止图案STPG处具有第二厚度t2，并在其他区域处具有比第二厚度t2厚的第一厚度t1。
根据本实施例，停止图案STPR和STPG以沟槽图案代替开口图案而形成。然而，因为颜色转换图案R或G在停止图案处的厚度比其外周薄，因此当停止图案不仅是开口图案而且也是沟槽图案时，可以防止颜色转换图案的恶化在第二方向D2上的扩散。
图16是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图。图17A是沿着图16的线条I-I’截取的剖视图。图17B是沿着图16的线条II-II’截取的剖视图。图17C是沿着图16的线条III-III’截取的剖视图。
第一光阻挡图案LB1可以在第一方向D1和第二方向D2上延伸以形成晶格结构。因此，第一光阻挡图案LB1可以针对整个光阻挡区域BA而形成。在此，第一光阻挡图案LB1可以包括低反射率材料。因此，如在图2中所示实施例的情形中，因为在本实施例中第一光阻挡图案LB1的面积大于在其中显示设备包括额外的第二光阻挡图案(参见图2中LB2)的情形，因此可以使用具有比图2的第一光阻挡图案LB1的反射率低的低反射率的材料。
图18是图示根据本发明构思的示例实施例的显示设备的一部分的像素区域的俯视图。
参照图18，除了覆盖层的孔和颜色转换图案的停止图案每隔数个像素区域形成一个之外，显示设备可以与图4的显示设备基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
显示设备可以包括多个像素区域。像素区域可以以3行*6列的矩阵设置。像素区域可以包括第一像素区域PX1、第二像素区域PX2、第三像素区域PX3、第四像素区域PX4、第五像素区域PX5、第六像素区域PX6、第七像素区域PX7、第八像素区域PX8、第九像素区域PX9、第十像素区域PX10、第十一像素区域PX11、第十二像素区域PX12、第十三像素区域PX13、第十四像素区域PX14、第十五像素区域PX15、第十六像素区域PX16、第十七像素区域PX17以及第十八像素区域PX18。分离像素区域并阻挡光的光阻挡区域BA可以在第一像素区域PX1至第十八像素区域PX18之间形成。
孔220可以穿过封盖层形成，使得第一颜色转换图案R或第二颜色转换图案G可以由孔220暴露。停止图案STP可以形成于在第二方向D2上与孔220相邻的第一颜色转换图案R处或第二颜色转换图案G处。孔220和停止图案STP可以沿着第一方向D1和第二方向D2每隔数个像素区域而形成。在本实施例中，对应于第一颜色转换图案R，孔220和停止图案STP在与第一像素区域PX1、第十像素区域PX10和第十三像素区域PX13中的每一个相邻的光阻挡区域BA中形成。对应于第二颜色转换图案G，孔220和停止图案STP在与第五像素区域PX5、第八像素区域PX8和第十七像素区域PX17中的每一个相邻的光阻挡区域BA中形成。
在本实施例中，尽管孔和停止图案针对具有相同颜色并在第一方向或第二方向上彼此相邻布置的两个像素区域中的每一个形成，但其不限于此。孔和停止图案可以以各种方式设置。
图19A、图19B、图19C、图19D和图19E是图示制造图2的显示设备的方法的剖视图。
参照图19A，可以在第二基底基板200上形成第一光阻挡图案LB1。可以在第二基底基板200上形成光阻挡层，并且随后可以通过光刻工艺或者使用额外掩模的刻蚀工艺而部分地刻蚀光阻挡层。因此，可以获得第一光阻挡图案LB1。可以通过堆叠多个金属层而形成光阻挡层。
蓝光阻挡图案210可以形成在其上形成第一光阻挡图案LB1的第二基底基板200上。蓝光阻挡图案210可以通过交替地层叠具有不同折射率的至少两个层而形成。可以通过涂覆包含阻挡蓝光材料的光致抗蚀剂材料以及曝光并显影该光致抗蚀剂材料而形成蓝光阻挡图案210。
参照图19B，可以在其上形成蓝光阻挡图案210的第二基底基板200上形成第一颜色转换图案R和第二颜色转换图案G。可以在第二基底基板200上形成第三颜色转换图案B。
可以通过涂覆包含红色量子点颗粒和/或红色磷光体的光致抗蚀剂材料以及曝光并显影该光致抗蚀剂材料而形成第一颜色转换图案R。可以通过涂覆包含绿色量子点颗粒和/或绿色磷光体的光致抗蚀剂材料、曝光并显影该光致抗蚀剂材料而形成第二颜色转换图案G。可以通过涂覆包含蓝色颜料和/或散射颗粒的光致抗蚀剂材料、曝光并显影该光致抗蚀剂材料而形成第三颜色转换图案B。在一些示例实施例中，可以通过喷墨打印方法等形成蓝光阻挡图案210、第一颜色转换图案R、第二颜色转换图案G和第三颜色转换图案B。
在此，第一停止图案STPR(和/或第二停止图案STPG和第三停止图案STPB)可以形成在第一颜色转换图案R(和/或第二颜色转换图案G和第三颜色转换图案B)处。可以在上面提及的曝光和显影工艺中同时图形化第一停止图案STPR。在一些示例实施例中，可以形成第一颜色转换图案R，并且随后可以通过激光工艺等移除第一颜色转换图案R的一部分以形成第一停止图案STPR。
参照图19C，可以在第一颜色转换图案至第三颜色转换图案R、G和B以及第一光阻挡图案LB1上形成封盖层220。可以穿过封盖层220形成暴露第一颜色转换图案R(和/或第二颜色转换图案G和第三颜色转换图案B)的第一孔220R(和/或第二孔220G和第三孔220B)。第一孔220R可以取决于形成封盖层220的材料而以各种方式形成。
参照图19D，可以在封盖层220上形成平坦化层230。可以在平坦化层230上形成第二偏光器POL2。可以在第二偏光器POL2上形成绝缘层240。因此，可以形成光致发光设备。
参照图19E，可以在第一基底基板100上形成薄膜晶体管层TFTL。可以在薄膜晶体管层TFTL以及光致发光设备的绝缘层240上形成液晶层LC。可以在第一基底基板100上附接第一偏光器POL1。可以提供发出蓝光的背光单元BLU。显示设备的配置可以由传统的普通方法制造。因此，可以制造显示设备。
图20A、图20B、图20C和图20D是图示制造图6的显示设备的方法的剖视图。
参照图20A至图20D，除了第一停止图案STPR的形状之外，该方法可以与图19A至图19E的方法基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
可以在其上形成第一光阻挡图案LB1的第二基底基板200上形成蓝光阻挡图案210、第一颜色转换图案R、第二颜色转换图案G和第三颜色转换图案B。可以通过在形成第一颜色转换图案R之后移除第一颜色转换图案R的一部分和蓝光阻挡图案210的一部分而形成第一停止图案STPR。在一些示例实施例中，具有对应于第一停止图案STPR的开口图案的第一颜色转换图案R可以形成在具有对应于第一停止图案STPR的开口图案的蓝光阻挡图案210上，以形成第一停止图案STPR。
并且随后，可以形成显示设备的其他配置。可以通过传统的普通方法制造上述结构。因此，可以制造显示设备。
图21A、图21B、图21C和图21D是图示制造图8的显示设备的方法的剖视图。
参照图21A至图21D，除了第一停止图案STPR的形状之外，该方法可以与图19A至图19E的方法基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
可以在其上形成第一光阻挡图案LB1的第二基底基板200上形成蓝光阻挡图案210、第一颜色转换图案R、第二颜色转换图案G和第三颜色转换图案B。可以通过在形成第一颜色转换图案R之后移除第一颜色转换图案R的一部分和蓝光阻挡图案210的一部分而形成第一停止图案STPR。在一些示例实施例中，具有对应于第一停止图案STPR的开口图案的第一颜色转换图案R可以形成在具有对应于第一停止图案STPR的沟槽图案的蓝光阻挡图案210上，以形成第一停止图案STPR。
并且随后，可以形成显示设备的其他配置。可以通过传统的普通方法制造上述结构。因此，可以制造显示设备。
图22A、图22B、图22C和图22D是图示制造图14的显示设备的方法的剖视图。
参照图22A至图22D，除了第一停止图案STPR的形状之外，该方法可以与图19A至图19E的方法基本上相同。因此，将省略关于相同要素的任何进一步的详细描述。
可以通过在形成第一颜色转换图案R之后移除第一颜色转换图案R的一部分而形成第一停止图案STPR。在一些示例实施例中，当形成第一颜色转换图案R时，可以使用半色调掩模形成对应于第一停止图案STPR的沟槽图案。
并且随后，可以形成显示设备的其他配置。可以通过传统的普通方法制造上述结构。因此，可以制造显示设备。
尽管未示出，但图4、图10、图12和图16的显示设备也可以类似于图19A至图22D中所示方法而制造。
根据本发明构思，一种显示设备包括具有第一孔的封盖层以及第一颜色转换图案，在第一颜色转换图案处形成第一停止图案。第一孔形成在封盖层处，使得可以减少由于从第一颜色转换图案脱气引起的有效未填充面积(AUA)缺陷。第一停止图案形成在第一颜色转换图案中。因此，即使第一颜色转换图案在第一孔周围的一部分恶化，因为第一颜色转换图案的恶化部分仅形成在光阻挡区域中，因此可以防止由于第一颜色转换图案恶化引起的显示质量退化。
此外，第一停止图案可以具有即使在形成第一停止图案的步骤期间出现取向误差也能够维持显示设备的质量的图案形状。
前述是本发明构思的示意说明并且不应理解为对本发明构思的限制。尽管已经描述了本发明构思的几个示例实施例，但本领域技术人员将容易意识到许多修改在示例实施例中是可能的而实质上并不脱离本发明构思的创新教导和优点。因此，所有这些修改意在包括在如权利要求中所限定的本发明构思的范围内。在权利要求中，装置加功能权项意在覆盖本文所述如执行所记载的功能并且不仅结构上等同而且也是等同结构的那些结构。因此，应该理解的是，前述是本发明构思的示意说明并且不应理解为限制于所公开的特定示例实施例，并且对于所公开示例实施例的修改以及其他示例实施例，意在包括在所附权利要求的范围内。本发明构思由以下权利要求和包括在其中的权利要求的等价形式所限定。

Claims (14)

1.一种光致发光设备，包括：
基底基板；
第一颜色转换图案，所述第一颜色转换图案布置在所述基底基板上并且具有颜色转换材料，其中，第一停止图案形成在所述第一颜色转换图案处，所述第一停止图案是形成在所述第一颜色转换图案处的开口图案或沟槽图案；以及
封盖层，所述封盖层布置在所述第一颜色转换图案上以用于封盖所述第一颜色转换图案，其中，在俯视图中与所述第一颜色转换图案重叠的第一孔穿过所述封盖层而形成，其中，所述第一停止图案在俯视图中与所述第一孔相邻布置。
2.根据权利要求1所述的光致发光设备，其中，在俯视图中，所述第一停止图案在第一方向上延伸，并且在垂直于所述第一方向的第二方向上与所述第一孔间隔开。
3.根据权利要求2所述的光致发光设备，其中，所述第一停止图案的宽度是10至15微米。
4.根据权利要求1所述的光致发光设备，进一步包括：
第一光阻挡图案，所述第一光阻挡图案布置在所述基底基板上并且在第二方向上延伸，并且
其中，在俯视图中，所述第一颜色转换图案在所述第二方向上延伸，并且
所述第一光阻挡图案在垂直于所述第二方向的第一方向上与所述第一颜色转换图案相邻。
5.根据权利要求4所述的光致发光设备，其中，所述第一光阻挡图案进一步在所述第一方向上延伸以形成晶格结构，并且
所述第一光阻挡图案、所述第一孔和所述第一停止图案彼此重叠。
6.根据权利要求1所述的光致发光设备，进一步包括：
蓝光阻挡图案，所述蓝光阻挡图案布置在所述基底基板上；
第二颜色转换图案，所述第二颜色转换图案包括绿色量子点颗粒和/或绿色磷光体；以及
第三颜色转换图案，所述第三颜色转换图案布置在所述基底基板上并且包括散射颗粒和/或蓝色颜料，
其中所述第一颜色转换图案包括红色量子点颗粒和/或红色磷光体，并且
所述第一颜色转换图案和所述第二颜色转换图案与所述蓝光阻挡图案重叠。
7.根据权利要求6所述的光致发光设备，其中，在与所述第二颜色转换图案重叠的所述封盖层处进一步形成第二孔。
8.根据权利要求6所述的光致发光设备，其中，所述第一停止图案进一步形成在所述第一颜色转换图案之下的所述蓝光阻挡图案处。
9.根据权利要求1所述的光致发光设备，其中，在俯视图中，所述第一颜色转换图案在垂直于第一方向的第二方向上延伸，所述第一停止图案包括1A停止图案和1B停止图案，
所述1A停止图案在所述第二方向上与所述第一孔间隔开，并且
所述1B停止图案在所述第二方向上相对于所述1A停止图案与所述第一孔间隔开。
10.根据权利要求9所述的光致发光设备，其中，所述1A停止图案和/或所述1B停止图案延伸至所述第一颜色转换图案的边缘。
11.一种显示设备，包括：
生成光的背光单元；
第一基底基板，所述第一基底基板布置在所述背光单元上；
薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层布置在所述第一基底基板上并且包括薄膜晶体管；
第二基底基板，所述第二基底基板与所述第一基底基板相对；
第一颜色转换图案，所述第一颜色转换图案布置在所述第二基底基板上并且具有颜色转换材料，其中，第一停止图案形成在所述第一颜色转换图案处，所述第一停止图案是形成在所述第一颜色转换图案处的开口图案或沟槽图案；
封盖层，所述封盖层布置在所述第一颜色转换图案上以用于封盖所述第一颜色转换图案，其中，在俯视图中与所述第一颜色转换图案重叠的第一孔穿过所述封盖层而形成；
液晶层，所述液晶层布置在所述第一基底基板与所述第二基底基板之间；以及
光阻挡层，所述光阻挡层与所述薄膜晶体管、所述第一停止图案和所述第一孔重叠。
12.根据权利要求11所述的显示设备，进一步包括：
蓝光阻挡图案，所述蓝光阻挡图案布置在所述第二基底基板上；
第二颜色转换图案，所述第二颜色转换图案包括绿色量子点颗粒和/或绿色磷光体；以及
第三颜色转换图案，所述第三颜色转换图案布置在所述第二基底基板上并且包括散射颗粒和/或蓝色颜料，
其中所述第一颜色转换图案包括红色量子点和/或红色磷光体，并且所述第一颜色转换图案和所述第二颜色转换图案与所述蓝光阻挡图案重叠，并且
所述背光单元发出蓝光。
13.根据权利要求11所述的显示设备，其中，所述光阻挡层包括布置在所述液晶层与所述第二基底基板之间的第一光阻挡图案，以及布置在所述液晶层与所述第一基底基板之间的第二光阻挡图案，并且
所述第一孔和所述第一停止图案与所述第二光阻挡图案重叠。
14.根据权利要求11所述的显示设备，其中，所述显示设备包括用于显示图像的多个像素区域以及在所述像素区域之间具有晶格结构的光阻挡区域，
所述第一孔和所述第一停止图案每隔数个像素区域重复地形成。
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