TWI778203B - 具有光反射層而用於防止網格效應的顯示器 - Google Patents

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Abstract

一種顯示器,包含一薄膜電晶體基板、位於一頂基板上的一覆蓋層及位於覆蓋層上的一反射層。薄膜電晶體基板覆蓋一導光板且包含用於驅動顯示器的多個像素的薄膜電晶體。位於覆蓋層上的反射層朝顯示器的一觀看面反射輸出自導光板的光線。反射光線於至少一維度與介於顯示器的這些像素的多個主動區之間的一非主動區的部分重疊。

Description

具有光反射層而用於防止網格效應的顯示器
本發明大概是關於顯示器,特別是降低網格效應(screen door effect)的顯示器。
電子顯示器包含多個像素,且這些像素可各包含多個子像素(例如紅色子像素、綠色子像素等等)。各個子像素的排列可能影響電子顯示器的外觀及表現。子像素包含發光區(即,主動區)及非發光區(即,非主動區),且子像素的填充率(fill factor)表示子像素中發光區對整體區的比例。因此非發光區會限制子像素的填充率。此外,這些子像素的一些排列方式可能於特定的情況下增加固定圖案雜訊(fixed pattern noise)。舉例而言,像素的放大可能導致介於像素的各個子像素之間的非發光區被使用者看見,進而導致呈現於使用者的影像中產生網格(screen door)圖案(也就是固定圖案雜訊的增加)。如此使分隔顯示器子像素的非發光區能於顯示影像中被看見的現象便稱為網格效應(screen door effect)。
頭戴顯示器(Head-mounted displays,HMDs)可包含一電子顯示器。頭戴顯示器也可包含光學結構藉以放大來自電子顯示器的影像,進而增加使用者的視野(field of view)。因此,具有顯示器的頭戴顯示器可能有產生使分隔顯示器子像素的非主動區於顯示影像中被看見的網格效應的問題。
各實施例係關於具有反射層以降低網格效應的顯示器。位於一頂基板上的一覆蓋層包含多個凹陷區,且反射層覆蓋至少部分的凹陷區。反射層反射來自顯示器的多個子像素的光線,以覆蓋介於顯示器的這些子像素之主動區之間部分的非主動區。反射層可被用於取代顯示器的黑色矩陣層(black matrix layer)(例如吸收層)或與顯示器的黑色矩陣層(例如吸收層)結合。
反射層反射輸出於底部結構的光線的部分,以覆蓋介於這些子像素的主動區之間的非主動區的部分。底部結構包含多個子像素。底部結構的各子像素可對應於液晶單元(liquid crystal cells)及/或多個光源。
來自底部結構且入射於反射層上的光線的部分被反射以覆蓋介於這些子像素的主動區之間的非主動區的部分。因此,相較於來自不具有反射層的顯示器的像素的光線,來自具有反射層的顯示器的像素的光線能覆蓋更大的區域。具有反射層的顯示器增加顯示器的這些像素的填充率(fill factor),並降低顯示器的網格效應。由於限制於顯示器中的光線可能被反射層反射而傳向觀看者,進而具有反射層的顯示器也能增加顯示器的效率。
於一些實施例中,顯示器包含一薄膜電晶體(thin film transistor,TFT)基板(也就是底基板)、位於一頂基板上的一覆蓋層、以及位於覆蓋層上的一反射層。底基板覆蓋一導光板且包含薄膜電晶體以驅動顯示器的多個像素。反射層朝顯示器的一觀看面反射來自導光板的輸出光線。被反射的光線於至少一個維度與介於顯示器的這些像素之主動區之間的一非主動區的部分重疊。
於一些實施例中,顯示器包含一底基板、位於一頂基板上的一第一覆蓋層及一第二覆蓋層及介於第一覆蓋層及第二覆蓋層之間的一反射層。底基板包含驅動顯示器的多個像素發光的多個薄膜電晶體。反射層反射由顯示器的這些像素發出的光線,以於至少一個維度與介於顯示器的這些像素的主動區之間的一非主動區的部分重疊。
本發明揭露一種具有一光學反射層以降低網格效應(screen door)的顯示器。顯示器包含一反射層以朝顯示器的一觀看面反射來自顯示器的多個子像素之光線,進而降低網格效應。顯示器可具有一目標觀看距離(target viewing distance)(也就是從顯示器起算以觀看內容的最小距離)。當分隔顯示器中之子像素的暗區或非主動區於目標觀看距離下能在顯示器顯示的影像中被觀看者看見,即是產生網格效應。
相對於不具有反射層的顯示器,具有反射層的顯示器可使填充率增加。顯示器的子像素的填充率代表子像素中發光區對整體區的比例(例如子像素的發光區及非發光區)。相對於不具有反射層的顯示器,具有反射層的顯示器可大約具有20%的能量提升。舉例來說,反射層可藉由反射來自底部結構的子像素的光線至子像素的非主動區的一部分,而增加子像素的有效主動區(effective active area)。被反射的光線可為已以大角度傳播及/或陷於顯示器但現在能於從對應子像素的非主動區離開顯示器的光線。因此,由於子像素的非主動區隨著被反射的光線而被降低,且子像素的有效主動區增加,顯示器的填充率便能增加。相較於不具有反射層的顯示器,來自具有反射層的顯示器之光線也可更加準直(collimated)。
顯示器架構
圖1為根據一個或多個實施例之具有光學反射層124及三個覆蓋層112、122、126的顯示器100之部分的剖面示意圖。於其他實施例中,顯示器100相較於與此描述的架構包含額外或更少的元件。相似地,相對於於此描述的架構,多個功能可以不同的方法分佈於不同的元件及/或層狀結構。
圖1之顯示器100為一液晶顯示器裝置且包含一底部結構101、一覆蓋層122、一反射層124、一覆蓋層126、一頂基板128及一頂偏振器130。反射層124朝顯示器100的一觀看面180反射輸出自底部結構101的光線,以與一子像素160的一非主動區164重疊,進而降低顯示器100的網格效應。於圖1所呈現的剖面示意圖中,反射層124位於顯示器100中的這些子像素之多個列(row)之間。一正交截面(orthogonal cross section)於顯示器的這些子像素的多個行(columns)之間也可包含一反射層。另外,反射層可不位於這些子像素的這些行之間,且一黑色矩陣層可位於顯示器中的這些子像素的這些行之間。底部結構101包含一光源102、一導光板104、一底偏振器106、一底基板108、一薄膜電晶體層109、一液晶層110、一覆蓋層112及一彩色濾光層114。底部結構101包含對應於多個液晶單元(liquid crystal cells)的多個子像素。於其他實施例中,底部結構101可包含多個主動發光元件。舉例來說,底部結構101可包含多個主動光源的一陣列,而不是包含一光源102及導光板104。這些光源例如可為垂直空腔表面發射雷射(vertical cavity surface-emitting lasers,VCSELs)、有機發光二極體(organic light emitting diodes,OLEDs)、發光二極體( light emitting diodes,LEDs)、或一些上述之結合。這些主動光源可各對應於多個子像素。於一些實施例中,這些主動光源可各對應於單一的子像素,且底部結構101可無須包含一液晶層。
光源102為用於在一波長範圍中發出光線的電子裝置。於一些實施例中,該波長範圍包含所有可見光的波長(例如390-760奈米(nm))。舉例而言,光源可為發出白色光線(例如包含波長介於390-760nm之間且具有相同或相似之強度(intensity)的光線)的一白色發光二極體或有機發光二極體。另外,光源102可為發出藍色光(例如450-495奈米)的一藍色發光二極體或一藍光有機發光二極體以與一量子點層(quantum dot layer)(例如包含紅色及綠色量子點的薄膜(film))被使用,藉以將一些發出的光線轉換成紅色光及綠色光,而使被添加色彩的光線結合出白色光。另外,光源102可包含多個光源(例如紅色、綠色及藍色發光二極體或有機發光二極體),以使光源發出的光線能結合成白色光。
導光板104為一板體,可用於自該板體的一第一表面接收光線,並將接收的光線均勻地導引出板體的一第二表面。導光板104的一側面連接於光源102。導光板104自導光板104的該側面接收來自光源102的光線,並將接收的光線均勻地導引出導光板104的一頂面。導光板104可由丙烯酸樹脂(acrylic)、玻璃或一些其他能限制來自光源102的光線之材料所製成。導光板104的一表面(例如頂或底)包含一圖案以將接收的光線均勻地導引出導光板104的頂面。該圖案可為藉由導光板104的表面上之多個蝕刻線(etching lines)所形成的一光柵。靠近光源102的這些蝕刻線間的間隔大於較遠離光源的這些蝕刻線間的間隔。也就是說,較遠離光源102的這些蝕刻線較密集以對離開導光板104的頂表面之光線產生更均勻地散播。另外,導光板104的一表面上可以繞射墨(diffusive ink)印有一圖案。被印製的圖案越遠離光源102則越密集。於一些實施例中,導光板的一表面為反光的。舉例來說,導光板的一底面可以一反射層(例如金屬層)覆蓋以為100%(或有效地接近100%)反光的。反射層朝導光板104的一頂面反射自光源102發出的光線以離開導光板104。
於圖1所示的實施例中,顯示器100為一側入式發光二極體背光(edge-lit LED backlight)。也就是說,光源102形成於顯示器100的一邊緣,且導光板104將發自光源102的光線導引而均勻地離開導光板104的一頂面。於其他實施例中,顯示器100可為一背入式發光二極體(back-lit LED),其光源102及導光板104被白色發光二極體(或紅色、綠色及藍色發光二極體)的一完整陣列所取代。單一的白色、紅色、綠色或藍色發光二極體可對應於多個子像素,且一繞射板(diffusing plate)可覆蓋發光二極體的陣列以均勻地散佈所發出的光線。於一些實施例中,單一的白色、紅色、綠色或藍色發光二極體(或有機發光二極體)可對應於單一的子像素。
底偏振器106為一偏振過濾器(polarizing filter),可用於傳遞一第一偏振的光線。底偏振器106包含一頂面及一底面。底偏振器106的底面面向導光板104的一頂面且可接收來自導光板104的頂面之均勻光線。底偏振器106令一第一偏振的光線通過偏振過濾器以離開偏振過濾器的頂面。
一底基板108為一透明材料,例如為玻璃或塑膠,可用於傳遞光線並支撐其他沉積及處理於其上的層狀結構。底基板108包含一頂面及一底面。底基板108的底面面向底偏振器106的頂面且接收自底偏振器106的頂面離開的第一偏振之光線。底基板108傳遞第一偏振的光線離開底基板108的頂面。
於所述的實施例中,薄膜電晶體層109提供能量至液晶層110中的液晶單元。液晶單元為位於顯示器100的對應子像素中的液晶材料。薄膜電晶體層109沉積於底基板108的頂面上。薄膜電晶體層109可包含半導體材料,例如為非晶矽(amorphous silicon)、多晶矽(polysilicon)、氧化物半導體(oxide semiconductor)、有機半導體(organic semiconductor))、源極(source)、汲極(drain)以及閘極材料(gate material),其中閘極材料例如為金屬或導電氧化物(conductive oxide))極絕緣材料(例如氧化物、高介電常數材料(high-k dielectric material)、聚對二甲苯(parylene)。薄膜電晶體層109可包含一平面化材料(planarizing material)(例如覆蓋層)以覆蓋形成於底基板108上的多個薄膜電晶體,並形成薄膜電晶體層109的平面的一頂面。於一些情況中,一覆蓋層被形成而當作薄膜電晶體層109的一頂面,並更用於對齊於相鄰於薄膜電晶體層109的一液晶層110中的一液晶材料。薄膜電晶體層109包含用於提供能量至位於液晶層110中的一個或多個液晶單元的多個驅動薄膜電晶體。薄膜電晶體包含可為薄膜電晶體層109及/或液晶層110之部分的一導電陽極及陰極。於一些實施例中,一些或全部的薄膜電晶體由不透明的(opaque)材料製成,並形成於顯示器100中對應於顯示器100的一非主動區164的多個區域中。於一些實施例中,一些或全部的薄膜電晶體由對由發光裝置發出的光線至少部分透明的材料所組成。舉例來說,可於薄膜電機體中使用氧化銦錫(Indium Tin Oxide)或一些其他透明導電材料,而不使用不透明金屬。
液晶層110包含響應電場而改變方向的液晶材料。液晶層110具有一頂面及一底面。液晶層110的底面形成於薄膜電晶體層109的一頂面上。底基板108及薄膜電晶體層109傳遞第一偏振(離開底偏振器106)的光線至液晶層110的底面。可於一個或多個子像素的多個電子之間施加一電場以改變於液晶層110的一對應部分中的液晶材料的一方向。改變液晶材料的方向能改變穿過液晶層110的光線之偏振。於圖1所示的範例中,入射於液晶層110的底面上的第一偏振的光線被改變成一第二偏振(例如藉由實施一電場至液晶層110),而使第二偏振的光線離開液晶層110的頂面。如此一來,離開液晶層110的頂面的偏振光可藉由施加電場而被控制,進而包含不同數量的第二偏振的光線。
一覆蓋層112為用於平面化一表面的透明材料。於本實施例中,覆蓋層112覆蓋一彩色濾光層114以為液晶材料提供一平面。覆蓋層112可由壓克力材料(acryl material)製成。覆蓋層112的底面為面向液晶層110的頂面的平面。覆蓋層112的底面接收離開液晶層110的第二偏振之光線。為第二偏振且被接收的光線離開覆蓋層112的一頂面。
一彩色濾光層114包含多個色彩過濾器114a、114b、114c。雖然圖1所繪示的顯示器100的部分僅呈現三個色彩過濾器,彩色濾光層114可包含更多的色彩過濾器(例如顯示器100的各個子像素之一色彩過濾器)。呈現於以一顯示器100的行方向(例如y方向)所截的此橫截面的色彩過濾器114a、114b、114c可對應於相同顏色的色彩過濾器(例如於這些子像素的相同行中皆為紅色),且於一相鄰的橫截面中的這些色彩過濾器(例如於y方向中鄰近的這些子像素之行)可對應於不同顏色的色彩過濾器(例如皆為綠色或皆為藍色)。於x方向中所示的橫截面中,相鄰的色彩過濾器可對應於不同顏色(例如紅色、綠色及藍色色彩過濾器)。彩色濾光層114的一底面面向覆蓋層112的一頂面以接收一第二偏振的光線。各個色彩過濾器114a、114b、114c令波長介於特定範圍(也就是色帶(color band))中的光線能穿過過濾器,並阻擋波長位於色帶外的光線穿過過濾器。色彩過濾器114a、114b、114c可與相同的色帶(例如紅色頻帶)有關。另外,色彩過濾器114a、114b、114c可分別與一第一色帶(color band)、一第二色帶及一第三色帶有關(例如紅色、綠色及藍色色帶)。各色彩過濾器可藉由沉積及圖形化包含吸收性顏料(absorptive pigments)的一彩色光阻(colored photoresist)而形成。色彩過濾器的吸收性顏料吸收波長位於色彩過濾器的色帶外的光線,而防止位於色帶外的光線穿過色彩過濾器。離開彩色濾光層114的光線為位於色彩過濾器的色帶中的第二偏振的光線。
這些覆蓋層122、126為用於傳遞光線的透明材料,而反射層124可朝顯示器100的一觀看面180反射由底部結構101輸出的光線150。覆蓋層122提供反射層124一形狀。覆蓋層126提供平面以形成彩色濾光層114。覆蓋層122形成於頂基板128上且包含多個凹陷區,且反射層124覆蓋凹陷區。位於覆蓋層122中的凹陷區於覆蓋層122的表面形成一角度。相似地,覆蓋凹陷區的反射層124也與覆蓋層122的表面形成一相同的角度。如此一來,覆蓋層122的凹陷區便可提供反射層124一形狀。一覆蓋層126覆蓋覆蓋層122的凹陷區中的反射層124,並與覆蓋層122形成一相同的平面。覆蓋層122及覆蓋層126的厚度可為3~15微米或更厚。覆蓋層122及覆蓋層126提供一平面,以使彩色濾光層114可接著輕易地形成於平面上。覆蓋層122的一底面面向一彩色濾光層114的一頂面。如先前所述,覆蓋層112覆蓋彩色濾光層114以為液晶層110形成一平面。覆蓋層122、126、112可以壓克力或其他透明材料製成,且可具有與頂基板128的折射率相同之折射率。於一些實施例中,覆蓋層122、覆蓋層126及覆蓋層112可分別指第一覆蓋層、第二覆蓋層及第三覆蓋層。
反射層124反射自底部結構101輸出的光線以降低顯示器100的網格效應。反射層124形成於凹陷區中以與凹陷區具有相似的形狀。對覆蓋層122及覆蓋層126的一平面而言,一凹陷區及反射層124的一表面124a形成相同的角度。反射層124的一表面124b平行於頂基板128的一表面。表面124b可當作顯示器100的一黑色矩陣以防止光線於顯示器100的非主動區漏出(leakage)(例如防止雜散光(stray light)離開顯示器100)。一黑色矩陣為防止光線於一顯示器的一非主動區漏出的一不透明層。黑色矩陣可為一吸收性塗層(absorptive coating),且包含吸收光線的吸收微粒(absorptive particles)、反射光線的一反射層或一些上述之結合。反射層124可由任何能反射來自底部結構101的光線的材料製成。舉例來說,反射層124可為一種金屬及/或金屬薄膜(metal film)(例如銀、鋁、金等等)。
頂基板128為一透明材料,例如為玻璃或塑膠,且包含一頂面及一底面。頂基板128及覆蓋層112、122、126可具有相同的折射率。頂基板128的底面面向覆蓋層126的一頂面且接收穿過覆蓋層126的反射光線。
頂偏振器130為用於傳遞第二偏振的光線之偏振過濾器。頂偏振器130覆蓋頂基板128的頂面且可接收穿過頂基板128的反射光線。頂偏振器130可使第二偏振的光線穿過偏振過濾器以離開偏振過濾器的頂面。頂偏振器130的第二偏振可不同於底偏振器106的第一偏振。頂偏振器130及底偏振器106可為相同類型的偏振過濾器,且二偏振過濾器的傳遞軸於顯示器100中可彼此正交。
於一些實施例中,頂偏振器130可當作一封裝層。於另外的實施例中,顯示器100可更包含形成於頂偏振器130的頂部的封裝層。封裝層保護顯示器100不受環境因素(例如灰塵、水器等等)影響。封裝層對發自顯示器100的光線為透明,且例如可自透明玻璃、藍寶石(sapphire)、塑膠、偏光鏡(polarizer)、一些其他對發光裝置發出的光線透明的材料或一些上述之結合所形成。
光線150a自一彩色濾光層114的一頂面離開底部結構101。覆蓋層122的底面於離開底部結構101的一對應的色彩過濾器之一色帶接收一第二偏振的光線150a。於一色帶且為第二偏振的光線150a被傳遞而通過覆蓋層126以入射於反射層124的表面124a上。反射層124朝覆蓋層122的頂面反射光線150b。被反射的光線150覆蓋子像素160的一非主動區164的部分。
一子像素160包含一主動區162及一非主動區164。主動區162對應於子像素160中光線發出自底部結構101的區域。非主動區164對應於子像素160中光線被阻擋而無法離開底部結構101的區域。於一些實施例中,顯示器100的非主動區164可包含一黑色矩陣、多個薄膜電晶體(例如驅動電晶體)、或不透明(opaque or not transparent)的佈線(wiring)。反射層124於覆蓋層122相鄰的凹陷區之間反射輸出自底部結構101的光線(例如反射光線150)。
於一些實施例中,黑色矩陣層(為繪示)可形成於這些子像素的多個主動區之間,以吸收光線而防止光線於非主動區漏出。舉例來說,彩色濾光層114可包含一黑色矩陣層。該黑色矩陣層為防止光線於非主動區漏出的一不透明的層狀結構。黑色矩陣可為由不同類型的色彩過濾器(紅綠藍(RGB))組合成的一吸收材料,或是為包含吸收白色光線的黑色素(black pigment)之黑色光刻材料(black photolithographic material)。於其他實施例中,此黑色矩陣層(例如吸收層)可被形成以覆蓋反射層124而取代覆蓋層126的形成,或形成於覆蓋層126之前。另外,一黑色矩陣層可取代反射層124的部分124b(也可指表面124b)。
圖1中的實施例為一液晶顯示器裝置,但是於其他實施例中,顯示器可為一種不同類型的顯示器。舉例而言,顯示器可為利用多個驅動薄膜電晶體控制各個子像素的強度(intensity)的一種顯示器。這些子像素可為一白色光線源,且利用彩色濾光層將發出的白色光線過濾成位於一色帶中的光線。這些子像素可為一藍色光線源,且具有包含用於紅色及綠色子像素的一量子點色彩過濾器(quantum dot color filter)(例如用於轉換藍色光至紅色及綠色光的紅色及綠色量子點)的一彩色濾光層。因此,於一些實施例中,顯示器可不包含一個或多個下列元件:光源102、導光板104、底偏振器106、液晶層110及頂偏振器130。
圖2為根據一個或多個實施例之具有光學反射層124及兩個覆蓋層的顯示器200之部分的剖面示意圖。除了圖2的覆蓋層226取代圖1的覆蓋層126、112之外,圖2的顯示器200與圖1的顯示器100相同。覆蓋層226覆蓋彩色濾光層114(例如色彩過濾器114a、114b、114c)及反射層124以形成一平面。反射層124於覆蓋層122相鄰的凹陷區之間反射輸出自底部結構202的光線。於一些實施例中,覆蓋層122及覆蓋層126可分別指第一覆蓋層及第二覆蓋層。
圖3A為根據一個或多個實施例之具有連續光學反射層324的顯示器300之部分的上視圖。顯示器300包含多個子像素。圖3A中所繪示的部分僅呈現三個像素301(例如每個列一個)。然而,顯示器300包含許多像素(例如數百萬個像素)。各個像素301包含一藍色子像素(子像素B)、一綠色子像素(子像素G)及一紅色子像素(子像素R)。各個子像素B、G、R包含一主動區310及一非主動區320。連續且為光學的一反射層324介於這些子像素B、G、R的這些主動區310之間。反射層324包含二部分324a、324b。圖3A的部分324a、324b可對應於圖1及圖2中的部分124a(也可指表面124a)及部分124b,且其為沿一行方向(例如y方向)的橫截面。包含部分324a、324b的反射層324介於這些像素301的多個列之間或相同色彩的這些子像素之間。
於圖3A的實施例中,反射層324可覆蓋顯示器的部分300,且該部分以部分330呈現於不同色彩的這些子像素R、G、B(例如同一像素中的子像素)的這些主動區310之間。圖1及圖2所示的實施例中,一反射層324並沒有覆蓋以部分330呈現於同一個像素的這些子像素R、G、B之間的顯示器300之一部分。反而,一黑色矩陣層覆蓋顯示器的部分330。
於一些實施例中,一黑色矩陣層(例如吸收層)被用於取代一部分324b或與部分324b結合。於一些實施例中,一黑色矩陣層(例如吸收層)被用於取代介於同一個像素的這些子像素R、G、B之主動區310之間的部分330或與部分330結合。反射層324可位於相同色彩的相鄰子像素之主動區之間的區域中,且一黑色矩陣層可位於介於不同色彩的子像素的主動區310之間的區域中。
相較於具有不連續的反射層的顯示器,具有連續的反射層的顯示器可具有較低的阻抗(resistance)以及靜電放電(electrostatic discharge)的問題。此外,具有連續的反射層的顯示器可具有較高的風險於顯示器中產生統計上顯示不均(statistic mura)(例如亮度不均)。
圖3B為根據一個或多個實施例之具有不連續光學反射層352的顯示器350之部分的上視圖。顯示器350包含多個子像素。圖3B中僅繪示三個像素351(於每一列中)。然而,顯示器350包含許多像素(例如數百萬個像素)。於一實施例中,反射層352位於介於相同色彩的相鄰子像素之主動區之間的區域中。一黑色矩陣或反射層354位於介於不同色彩的子像素之主動區之間的區域中。於結構中不連續的一反射層352可降低顯示器具有靜電放電及顯示不均等問題的風險。反射層352中垂直地重疊於包含多個薄膜電晶體或不透明元件的底部結構之部分的區域可為不連續的。如此一來,反射層352中可不需要當作一黑色矩陣使用的區域(例如底部結構中已經能阻擋光線的區)可為不連續的。
圖3C為根據一個或多個實施例之具有說明有效主動區380的光學反射層之顯示器375的部分的上視圖。有效主動區380可對應於圖1及圖2中所示的有效主動區168。主動區310可對應於圖1及圖2中所示的主動區162。有效主動區380沿一行方向自主動區310擴張。
圖4根據一個或多個實施例繪示加工顯示器的光學反射層的示範性製程。此示例僅為說明性的,且其他製成可用於形成顯示器的光學反射層。相同地,各個實施例可包含不同及/或額外的步驟,或可以不同的次序執行這些步驟。
一覆蓋層122形成於頂基板128上(步驟410)。一光罩(mask)形成於覆蓋層122上(步驟420)。該光罩可藉由沉積光阻(photoresist);通過光罩(photo mask)曝光光阻;並顯影(develope)光阻所製成。覆蓋層122被蝕刻以於覆蓋層122中形成多個凹陷區(步驟430)。一反射層124沉積於該光罩、覆蓋層122及頂基板128上。移除該光罩以使一反射層124保留於覆蓋層122中的凹陷區中,但不位於覆蓋層122的其他表面(步驟440)。一覆蓋層120沉積於反射層124之上以與覆蓋層122形成一平面(步驟450)。因此,光學反射層便被製成於一顯示器100的一頂基板128上。頂基板128上在光學反射層形成後接續的處理步驟可包含彩色濾光層114及一覆蓋層112的形成,以形成面向一液晶層110的一平面。包含反射層124的頂基板128例如可被使用於圖1中的一液晶顯示器。反射層124反射輸出自底部結構101的光線以覆蓋一子像素的一非主動區,進而降低顯示器的網格效應。
圖5根據一個或多個實施例繪示具有光學反射層的顯示器對網格效應的降低。除了圖5代表具有一反射層的一顯示器與不具有一反射層的一顯示器比較的模擬結果,圖5與圖3C所繪示的結構相似。圖5包含三個列的多個像素,且這些像素各具有三個子像素(例如B、G、R)。於不具有一反射層的一顯示器中(例如左邊的影像),一子像素的一主動區的高度為x,且相同色彩的子像素的這些主動區之間的一非主動區的高度為y。於具有反射層的顯示器中,一子像素的一主動區的高度增加至x’,且相同色彩的子像素的這些主動區之間的一非主動區的高度下降至y’。舉例來說,顯示器從不具有反射層變成具有反射層後,顯示器中的主動區之高度可由23微米(micrometers)增加至30微米。而顯示器從不具有反射層變成具有反射層後,顯示器中介於相同色彩的子像素的這些主動區之間的非主動區的高度可由23微米下降至16微米。如此便能使得子像素的主動區於垂直方向上增加約30%。整體而言,子像素的填充率可增加約20%。
圖6A為根據一個或多個實施例之具有光反射層624的顯示器600之部分的示範性等軸視圖。反射層624包含反射層624a的部分及反射層624b的部分。反射層624可與圖1及圖2中的反射層124為相同的反射層。繪示於圖6A中的一底平面601呈現一顯示器的一底部結構中的多個子像素的主動區610及非主動區620。來自位於底平面601的一子像素的主動區610之光線650的部分朝一觀看者反射出反射層624的部分624a。來自底平面601的主動區610的光線640的部分可直接穿過反射層624中的多個開口。
圖6B為根據一個或多個實施例之具有光學反射層624之顯示器600的部分的示範性等軸視圖。於圖6B中,能更清楚的看到對應於介於不同色彩的多個子像素之間的非主動區的部分630。部分630可對應於圖3A中所示的部分330,且其可對應於位於不同顏色的這些子像素之間的一黑色矩陣層(例如介於同一像素的這些子像素之間)。
圖6C為具有光學反射層624的顯示器600之部分的示範性側視圖4。圖6C所示的側視圖為由反射層624中對應於底平面601的主動區610的一區所取的橫截面。主動區610對應於沒被反射層624覆蓋的一區。主動區610也對應於不被部分630覆蓋的一區,且部分630呈現於可對應於介於多個子像素之間的一黑色矩陣層之反射層624中。反射層624的一部分624a反射來自底平面601的主動區601之光線650,以覆蓋非主動區620的部分。來自底平面601的主動區610之光線640直接通過反射層624中的多個開口。
額外的構造資訊
以上對本發明各個實施例之敘述僅用於說明;其並非對所揭露的精準形式為完全的或用於限定本發明。熟悉本技藝者可意識到可根據上述之揭露進行許多修改與變化。
本敘述的一些部分於訊息上就演算法及操作的象徵性代表而言描述本發明的實施例。這些演算法式的敘述及代表普遍的被熟悉資料處理的技藝者所使用,以對其他熟悉此技藝者有效地表達作品的內容。當功能性地、計算地或邏輯地描述這些操作,將被了解係被電腦程式或相似的電性電路、微編碼(microcode)或相似物實施。此外,排列這些操作也被證實能不失主要特徵而方便地當作模組來表達。被描述的操作及其相關的模組可被實施於軟體、韌體、硬體或任何上述之結合。
於此描述的任何步驟、操作或處理過程可單獨由一個或多個硬體或軟體模組或與其他裝置結合而被執行或實施。於一實施例中,一軟體模組與包含一電腦可讀取媒體的一電腦程式產品被實施,且電腦可讀取媒體包含能被一電腦處理器執行而執行任何或所有上述步驟、操作或處理過程的電腦程式編碼。
本發明的各個實施例也可關於一種執行此些操作的裝置。這個裝置可特別的根據需求被設計,及/或其可包含一般需求(general-purpose)的電腦裝置,而由儲存於電腦中的一電腦程式選擇性啟動或重新配置。如此的電腦程式可被儲存於一非暫時性(non-transitory)、實體的(tangible)電腦可讀儲存媒體,或任何其他適於儲存電子指示的且可連接至一電腦系統匯流排(bus)的媒體。此外,任何說明書中所指的電腦系統可包含單一的處理器或可為採用多個處理器設計以增加計算能力(computing capability)的架構。
本發明的實施例也可有關於於此說明的電腦處理過程所製造的一產品。如此的產品可包含由電腦處理過程所導致的訊息,且訊息被儲存於一非暫存性(non-transitory)、實體的(tangible)電腦可讀媒體,且可包含任何電腦程式產品的實施例或其他於此描述的資料結合。
最後,說明書中的用語係以易於閱讀及清楚說明的原則選擇,且其可不選擇來描繪(delineate)或限制發明主旨。因此本發明的範圍並非以上述之詳細描述所限制,而是根據任何請求項界定。因此,上述實施例之揭露為說明性的,而非用於限定由以下請求項所闡述的本發明的範圍。
100‧‧‧顯示器101‧‧‧底部結構102‧‧‧光源104‧‧‧導光板106‧‧‧底偏振器108‧‧‧底基板109‧‧‧薄膜電晶體層110‧‧‧液晶層112、120、122、126‧‧‧覆蓋層114‧‧‧彩色濾光層114a、114b、114c‧‧‧色彩過濾器124‧‧‧反射層124a‧‧‧表面、部分124b‧‧‧表面、部分128‧‧‧頂基板130‧‧‧頂偏振器150‧‧‧光線150a‧‧‧光線150b‧‧‧光線160‧‧‧子像素162‧‧‧主動區164‧‧‧非主動區168‧‧‧有效主動區180‧‧‧觀看面200‧‧‧顯示器202‧‧‧底部結構226‧‧‧覆蓋層300‧‧‧顯示器301‧‧‧像素B、G、R‧‧‧子像素310‧‧‧主動區320‧‧‧非主動區324‧‧‧反射層324a、324b‧‧‧部分330‧‧‧部分350‧‧‧顯示器352‧‧‧反射層354‧‧‧黑色矩陣或反射層380‧‧‧有效主動區410、420、430、440、450‧‧‧步驟600‧‧‧顯示器601‧‧‧底平面610‧‧‧主動區620‧‧‧非主動區624‧‧‧反射層624a‧‧‧部分630‧‧‧部分640‧‧‧光線650‧‧‧光線
圖1為根據一個或多個實施例之具有光學反射層及三個覆蓋層的顯示器之部分的剖面示意圖。 圖2為根據一個或多個實施例之具有光學反射層及兩個覆蓋層的顯示器之部分的剖面示意圖。 圖3A為根據一個或多個實施例之具有連續光學反射層的顯示器之部分的上視圖。 圖3B為根據一個或多個實施例之具有不連續光學反射層的顯示器之部分的上視圖。 圖3C為根據一個或多個實施例之具有說明有效主動區的光學反射層之顯示器的部分的上視圖。 圖4根據一個或多個實施例繪示加工顯示器的光學反射層的示範性製程。 圖5根據一個或多個實施例繪示具有光學反射層的顯示器對網格效應的降低。 圖6A為根據一個或多個實施例之具有光反射層的顯示器之部分的示範性等軸視圖。 圖6B為根據一個或多個實施例之具有光學反射層之顯示器的部分的示範性等軸視圖。 圖6C為根據一個或多個實施例之具有光學反射層的顯示器之部分的示範性側視圖。 這些圖式僅用於說明各個實施例。熟悉本技藝者將了解,在不脫離於此說明的原則下,於此說明的結構及方法可以另外的實施例被實施。
100‧‧‧顯示器
101‧‧‧底部結構
102‧‧‧光源
104‧‧‧導光板
106‧‧‧底偏振器
108‧‧‧底基板
109‧‧‧薄膜電晶體層
110‧‧‧液晶層
112、120、122、126‧‧‧覆蓋層
114‧‧‧彩色濾光層
114a、114b、114c‧‧‧色彩過濾器
124‧‧‧反射層
124a‧‧‧表面、部分
124b‧‧‧表面、部分
128‧‧‧頂基板
130‧‧‧頂偏振器
150‧‧‧光線
150a‧‧‧光線
150b‧‧‧光線
160‧‧‧子像素
162‧‧‧主動區
164‧‧‧非主動區
168‧‧‧有效主動區
180‧‧‧觀看面

Claims (20)

  1. 一種顯示器,包含:一薄膜電晶體基板,覆蓋包含多個薄膜電晶體的一導光板,且該些薄膜電晶體用於驅動該顯示器的多個像素;一覆蓋層,位於一頂基板上;一反射層,位於該覆蓋層上,該覆蓋層用於接收從下結構直接輸出的光線,且該反射層用於朝該顯示器的一觀看面直接反射從該下結構所直接輸出的被接收的光線,被反射的光線存在於該觀看面並且於至少一個維度與該顯示器的該些像素的多個主動區之間的一非主動區之一部分重疊,其中該下結構包含該薄膜電晶體基板以及該導光板,並且該反射層在該下結構和該頂基板之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之顯示器,其中該覆蓋層被圖形化以包含多個凹陷區,且該反射層覆蓋至少部分的該些凹陷區。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之顯示器,更包含一第二覆蓋層,覆蓋該反射層,該第二覆蓋層用於與該覆蓋層形成一平面。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之顯示器,其中一彩色濾光層位於該平面上,且一第三覆蓋層用於形成覆蓋該彩色濾光層的一平面。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之顯示器,其中該彩色濾光層介於該覆蓋層及該第三覆蓋層之間。
  6. 如申請專利範圍第2項所述之顯示器,更包含一第二覆蓋層,覆蓋該反射層,該第二覆蓋層用於形成覆蓋位於該覆蓋層上的一彩色濾光層的一平面。
  7. 如申請專利範圍第2項所述之顯示器,其中該反射層用於反射輸出自該導光板的光線,並藉由通過該覆蓋層於該覆蓋層的相鄰該些凹陷區之間的一液晶材料被傳遞。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之顯示器,其中該顯示器的該些像素各包含多個子像素,該反射層介於同一色彩且相鄰的該些子像素的該些主動區之間,且一黑色矩陣層介於不同顏色且相鄰的該些子像素的該些主動區之間。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之顯示器,其中該顯示器的該些像素各包含多個子像素,且該反射層介於該些子像素的該些主動區之間。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之顯示器,其中該顯示器的各該像素包含多個子像素,且該反射層介於同一色彩的該些子像素的該些主動區之間。
  11. 一種顯示器,包含:一薄膜電晶體基板,包含多個薄膜電晶體,且該些薄膜電晶體用於驅動該顯示器的多個像素發光;一第一覆蓋層及一第二覆蓋層,位於一頂基板上;以及一反射層,介於該第一覆蓋層及該第二覆蓋層之間,該第一覆蓋層用於接收直接從下結構輸出之光線,並且該反射層用於直接反射直接從該下結構輸出之被接收的光線朝向該顯示器的一觀看面,被反射的光線存在於該觀看面並且重疊至少一個維度與該顯示器的 一黑色矩陣之一部分,其中該下結構包括該薄膜電晶體基板,並且該反射層在該下結構和該頂基板之間。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之顯示器,其中該第一覆蓋層被圖形化以包含多個凹陷區,且該反射層覆蓋至少一部分的該些凹陷區。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之顯示器,其中該第二覆蓋層用於與該第一覆蓋層形成一平面。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之顯示器,其中一彩色濾光層位於該平面上,且一第三覆蓋層用於形成覆蓋該彩色濾光層的一平面。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之顯示器,其中該彩色濾光層介於該第一覆蓋層及該第三覆蓋層之間。
  16. 如申請專利範圍第12項所述之顯示器,其中該第二覆蓋層用於形成一平面,且該平面覆蓋位於該第一覆蓋層上的一彩色濾光層。
  17. 如申請專利範圍第12項所述之顯示器,其中該反射層用於反射來自該些像素且通過該第一覆蓋層於該第一覆蓋層相鄰的該些凹陷區之間的光線。
  18. 如申請專利範圍第11項所述之顯示器,其中該顯示器的該些像素各包含多個子像素,該反射層介於同一色彩且相鄰的該些子像素的主動區之間,且一黑色矩陣層介於不同顏色且相鄰的該些子像素的主動區之間。
  19. 如申請專利範圍第11項所述之顯示器,其中該顯示器的該些像素各包含多個子像素,且該反射層介於該些子像素的主動區之間。
  20. 如申請專利範圍第11項所述之顯示器,其中該顯示器的該些像素各包含多個子像素,且該反射層介於不同之該些像素的該些子像素的主動區之間。
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