CN114105680B - 一种抛光面防滑防污的瓷砖及其制备方法和用途 - Google Patents

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Abstract

一种抛光面防滑防污的瓷砖及其制备方法和用途，制备方法通过步骤1‑5，将钠长石、钾长石、氧化硅、硅灰石、氧化镁、氧化铝、高岭土、霞石粉和氧化锌组合的原料进行混合，经五次抛光及抛光时附带的试剂，制得具有抛光面、防滑性和防污性的瓷砖；瓷砖是由上述的制备方法制备而成。本方案还提出民一种瓷砖在制备抛光面防滑防污的装饰板中的用途。本方案提出一种抛光面防滑防污砖的制备方法，用于制备具有高光泽度、防滑和防污功能瓷砖，通过特定的面釉配方，结合砖面的五次特别处理的抛光加工，制得抛光面防滑防污砖，解决了现有技术中的瓷砖不同时具备高光泽度、防滑和防污性能的问题。

Description

一种抛光面防滑防污的瓷砖及其制备方法和用途
技术领域
本发明涉及瓷砖技术领域，尤其涉及一种抛光面防滑防污的瓷砖及其制备方法和用途。
背景技术
随着工业的发展，抛光面瓷砖由于其光泽度高，结合其纹理结构所表现出的装饰效果大受消费者喜爱；但抛光面瓷砖其光泽度是基于表面光滑，然而表面光滑会给抛光面瓷砖带来防滑性下降；而若提高防滑性，会导致出现光泽度下降，防污性差的问题，即现有的瓷砖基本难以达到光泽度高、防滑性高和防污性高的性能。
发明内容
本发明的目的在于提出一种抛光面防滑防污砖的制备方法，用于制备具有高光泽度、防滑和防污功能瓷砖，通过特定的面釉配方，结合砖面的五次特别处理的抛光加工，制得抛光面防滑防污砖。
本发明还提出一种抛光面防滑防污的瓷砖，其由上述的抛光面防滑防污砖的制备方法制备而成。
本发明还提出一种瓷砖在制备抛光面防滑防污的装饰板中的用途。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
一种抛光面防滑防污砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：配制面釉；面釉，按重量份数，其原料包括：20～25份的钠长石、10～15份的钾长石、25～30份的氧化硅、10～15份的硅灰石、1～2份的氧化镁、3～5份的氧化铝、5～10份的高岭土、5～8份的霞石粉和2～4份的氧化锌；将面釉原料添加球磨剂，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.15～0.18％；
步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，烘干后，在1120～1150℃烧结；
步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块的粒度为20～800目；
步骤4：
使用100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；
使用40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；
使用5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，根据需要调整光泽度；
步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖。
优选地，所述步骤3中，从粒度大的弹性磨块至粒度小的弹性磨块依次对砖面进行抛光。
更优地，所述步骤3中，所使用的弹性磨块包括：2～3组的24目弹性磨块、2～3组的300目弹性磨块、2～3组的400目弹性磨块、3～4组的600目弹性磨块和4～5组的800目弹性磨块。
优选地，所述步骤2中，面釉采用淋釉的方式布施于砖面，施釉量为(0.8～1.0)kg/m2。
优选地，所述步骤5中，清洗砖面时，将清洗液垂直下落至砖面，用软质材料清刷砖面。
优选地，所述步骤5中，防污剂为有机氟碳树脂。
更优地，所述步骤5中，防污剂包括：有机氟碳树脂和有机硅氧烷。
一种抛光面防滑防污的瓷砖，由上述的抛光面防滑防污砖的制备方法制备而成。
一种瓷砖在制备抛光面防滑防污的装饰板中的用途，所述瓷砖由上述的抛光面防滑防污砖的制备方法制备而成。
本发明提供的技术方案可以包括以下有益效果：
本方案提出一种抛光面防滑防污砖的制备方法，用于制备具有高光泽度、防滑和防污功能瓷砖，通过特定的面釉配方，结合砖面的五次特别处理的抛光加工，制得抛光面防滑防污砖，解决了现有技术中的瓷砖不同时具备高光泽度、防滑和防污性能的问题。
具体实施方式
对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
下面通过具体实施方式来进一步说明本方案的技术方案。
一种抛光面防滑防污砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：配制面釉；面釉，按重量份数，其原料包括：20～25份的钠长石、10～15份的钾长石、25～30份的氧化硅、10～15份的硅灰石、1～2份的氧化镁、3～5份的氧化铝、5～10份的高岭土、5～8份的霞石粉和2～4份的氧化锌；将面釉原料添加球磨剂，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.15～0.18％；
将钠长石、钾长石、氧化硅、硅灰石、氧化镁、氧化铝、高岭土、霞石粉和氧化锌按照上述的比例制得的釉料经球磨后，釉面可形成的气泡多，进而能提高砖面抛光后的微孔数量，进而提高防滑防污性能；同时，面釉按上述的配方经抛光工艺可以达到光泽度；面料为抛光面、防滑和防污提供了基底。
步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，烘干后，在1120～1150℃烧结；
在面釉原料添加占面釉原料总质量的0.10～0.20％的羧甲基纤维素钠、0.10～0.40％的三聚磷酸钠和30-50％的水。
基于钠长石、钾长石、氧化硅、硅灰石、氧化镁、氧化铝、高岭土、霞石粉和氧化锌的配方，配方经球磨后，配方的高温粘度最佳，经烧结后，可以获得更多的小气泡，并保留在釉里面，进而可以在多次抛光步骤中形成更多微孔；具体地，将面釉原料添加球磨机，加水置于球磨机中进行球磨，球磨剂选用羧甲基纤维素钠和三聚磷酸钠为公知球磨剂可以代替的试剂，加水可以调节配方具有更佳的施工参数。
步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块的粒度为20～800目；
使用不同粒度的弹性磨块，充分地将不同尺寸的微孔露出，以便后续添加氧化铝抛光液和防污剂，以使更多的氧化铝抛光液和防污剂置于微孔中，提高砖面对氧化铝抛光液和防污剂的承载能力。
步骤4：
使用100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；
第二次抛光所使用的氧化铝抛光液中，氧化铝抛光液的氧化铝粒径相对于第三次抛光和第四次抛光所使用的氧化铝粒径大；因此，第二次抛光中加入的100～120μm的氧化铝抛光液是配合第二次抛光用于粗抛光；主要目的是把表面孔径较小的微孔抛大，以及削平，以便于后续对氧化铝和防污剂的承载。
使用40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；
第三次抛光所使用的氧化铝抛光液，粒径为40～60μm，粒径小于第二次抛光的氧化铝粒径，粒径大于第四次抛光的氧化铝粒径，即粒径介于第二次抛光与第四次抛光的氧化铝粒径之间，能对第三次抛光前砖表面机械划伤的部分进行抛平修复，以便后续可以保持高光泽度，以及能将防污剂均匀布施于微孔中，提升防污效果。
使用5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，根据需要调整光泽度；
第四次抛光中，使用5～10nm的氧化铝，氧化铝的粒径最小，为纳米级别，可以在抛光的同时负载于砖面的微孔中，更容易填充微孔，并于抛光过程中形成孔径更小的纳米级微孔，一方面可以提升光泽度；另一方面后续纳米级微孔被填充后，产品的防滑性可有效地提升；本步骤可以根据需要调节光泽度，例如抛光至90度、91度、92度、93度、94度或95度等，当然光泽度亦可为90度以下。
步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖。
清洗砖面能将砖表面残留的氧化铝排出，避免与后续的防污剂相抵；第五次抛光中，抛光配合了防污剂，将防污剂填充于微孔中，防污剂中的溶剂会随着抛光的高温蒸发脱离于微孔，防污剂的溶质留置于微孔，提升了砖面的防污效果。
本方案提出一种抛光面防滑防污砖的制备方法，用于制备具有高光泽度、防滑和防污功能瓷砖，通过特定的面釉配方，结合砖面的五次特别处理的抛光加工，制得抛光面防滑防污砖，解决了现有技术中的瓷砖不同时具备高光泽度、防滑和防污性能的问题。
优选地，所述步骤3中，从粒度大的弹性磨块至粒度小的弹性磨块依次对砖面进行抛光。
目数越小，粒度越大，即本方案可优选先使用粒度较大的弹性磨块进行抛光，再使用粒度较小的弹性磨块进行抛光，按如此粒度逐渐递减的抛光方法，可以实现更容易控制抛光研磨的深度，以及减少瓷砖表面的机械划痕同，为后续控制光泽度及承载防污剂提供最优的基面。
更优地，所述步骤3中，所使用的弹性磨块包括：2～3组的24目弹性磨块、2～3组的300目弹性磨块、2～3组的400目弹性磨块、3～4组的600目弹性磨块和4～5组的800目弹性磨块。
使用不同粒度的弹性磨块及不同的组次进行抛光，按上述弹性磨块组成，可以有效地控制抛光研磨的深度，以及减少表面的机械划痕；若弹性磨块的粒度未筛选而直接使用时的话，会对砖面造成不同程度的机械划痕。
优选地，所述步骤2中，面釉采用淋釉的方式布施于砖面，施釉量为(0.8～1.0)kg/m2。
施釉量最优为(0.8～1.0)kg/ m2，可以为(0.7～1.1)kg/ m2，该施釉量较大，可以有效地确保产生的气泡不容易从釉料中冒出，这样在抛光的时候会有很多微孔呈现出来。而相对于现有普遍施釉量(0.5～0.6)kg/ m2，本方案按钠长石、钾长石、氧化硅、硅灰石、氧化镁、氧化铝、高岭土、霞石粉和氧化锌的配方基于施釉量为(0.8～1.0)kg/ m2可以产生更多的微孔结构，所制得的面料为抛光面、防滑和防污提供了基底。
优选地，所述步骤5中，清洗砖面时，将清洗液垂直下落至砖面，用软质材料清刷砖面。
清洗液垂直冲击砖面时，可以微孔里面的抛光残留物冲出来，避免残留物对微孔造成二次磨损，又避免残留物对后续防污剂的布施有阻碍，提高了瓷砖的洁净度。其中，清洗液为公知具有清洗功能的试剂，例如水等；软质材料为可发生形变的材料，例如刷子，海绵等。
更优地，所述步骤5中，防污剂为有机氟碳树脂。
有机氟碳树脂具有更强的渗透性，结合步骤5以前所形成的微孔，有机氟碳树脂能有效地渗透并填充于微孔内，能为瓷砖提供防污效果；同时，在抛光过程中产生的热量较高，可以将用于溶解有机氟碳树脂的溶剂挥发掉，保持较纯的有机氟碳树脂存在于微孔。
进一步优化地，所述步骤5中，防污剂包括：有机氟碳树脂和有机硅氧烷。
当砖面表面完成多次抛光后，表面形成的微孔防污性能较差，而本方案优选将有机氟碳树脂和有机硅氧烷混合使用，利用有机氟碳树脂和有机硅氧烷材料的特点，提高瓷砖表面的防污性；其中，有机氟碳树脂和有机硅氧烷的混合比可以根据实际需要调配，例如为1：10、1：9、1：8、1：7、1：6、1：5、1：4、1：3、1：2、1：1，或者是10：1、9：1、8：1、7：1、6：1、5：1、4：1、3：1、2：1等。
一种抛光面防滑防污的瓷砖，由上述的抛光面防滑防污砖的制备方法制备而成。
一种瓷砖在制备抛光面防滑防污的装饰板中的用途，所述瓷砖由上述的抛光面防滑防污砖的制备方法制备而成。
装饰板为由瓷砖铺贴形成的地板、外墙板、内墙板等具有装饰效果的基材，同时具备了高光泽度、防滑和防污性能。
性能测试：
1、静摩擦系数，根据《GB/T 4100-2015陶瓷砖》中(附录M)陶瓷砖附录M摩擦系数的测定中的标准对产品进行静摩擦系数测定。
2、防污性，根据《GB/T 3810.14-2016陶瓷砖试验方法第14部分：耐污染性的测定》的标准对产品进行防污性能测定。
3、光泽度，根据《GB/T 13891-2008建筑饰面材料镜向光泽度测定方法》的标准对产品进行光泽度性能测定。
实施例A：
实施例A1：
一种抛光面防滑防污砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：配制面釉；面釉，按重量份数，其原料包括：22份的钠长石、13份的钾长石、27份的氧化硅、13份的硅灰石、1.5份的氧化镁、4份的氧化铝、8份的高岭土、7份的霞石粉和3份的氧化锌；在面釉原料添加占面釉原料总质量的0.10％羧甲基纤维素钠、0.30％的三聚磷酸钠和40％的水，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.16％；
步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，施釉量为350×350mm的容器加入100克，施釉量为0.816kg/ m2，烘干后，在1130℃烧结；
步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块包括：2组的24目弹性磨块、3组的300目弹性磨块、2组的400目弹性磨块、4组的600目弹性磨块和4组的800目弹性磨块；
步骤4：
步骤4-1：使用4个磨盘将100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；
步骤4-2：使用3个磨盘将40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；
步骤4-3：使用6个磨盘将5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，调整光泽度至90°；
步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖；防污剂由有机氟碳树脂和有机硅氧烷按1：2结合。
实施例A2
一种抛光面防滑防污砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：配制面釉；面釉，按重量份数，其原料包括：20份的钠长石、15份的钾长石、30份的氧化硅、10份的硅灰石、2份的氧化镁、3份的氧化铝、10份的高岭土、8份的霞石粉和2份的氧化锌；在面釉原料添加占面釉原料总质量的0.20％的羧甲基纤维素钠、0.10％的三聚磷酸钠和30％的水，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.15％；
步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，施釉量为350×350mm的容器加入120克，施釉量为0.98kg/ m2，烘干后，在1150℃烧结；
步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块包括：3组的24目弹性磨块、3组的300目弹性磨块、3组的400目弹性磨块、4组的600目弹性磨块和5组的800目弹性磨块；
步骤4：
使用6个磨盘将100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；
使用4个磨盘将40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；
使用8个磨盘将5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，根据需要调整光泽度；
步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖；防污剂由有机氟碳树脂和有机硅氧烷按1：3结合。
实施例A3：
一种抛光面防滑防污砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：配制面釉；面釉，按重量份数，其原料包括：25份的钠长石、10份的钾长石、25份的氧化硅、15份的硅灰石、1份的氧化镁、5份的氧化铝、5份的高岭土、5份的霞石粉和4份的氧化锌；在面釉原料添加占面釉原料总质量的0.15％羧甲基纤维素钠、0.20％的三聚磷酸钠和50％的水，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.18％；
步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，施釉量为0.111kg/ m2，烘干后，在1120℃烧结；
步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块包括：2组的24目弹性磨块、2组的300目弹性磨块、2组的400目弹性磨块、4组的600目弹性磨块和5组的800目弹性磨块；
步骤4：
使用6个磨盘将100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；
使用4个磨盘将40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；
使用7个磨盘将5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，根据需要调整光泽度；
步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖；防污剂由有机氟碳树脂和有机硅氧烷按2：1结合。
实施例A4：
一种抛光面防滑防污砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：配制面釉；面釉，按重量份数，其原料包括：22份的钠长石、13份的钾长石、27份的氧化硅、13份的硅灰石、1.5份的氧化镁、4份的氧化铝、8份的高岭土、7份的霞石粉和3份的氧化锌；将在面釉原料添加占面釉原料总质量的0.10％羧甲基纤维素钠、0.30％的三聚磷酸钠和40％的水，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.16％；
步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，施釉量为350×350mm的容器加入100克，施釉量为0.816kg/ m2，烘干后，在1130℃烧结；
步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块包括：2组的20目弹性磨块、2组的50目弹性磨块、2组的100目弹性磨块、1组的200目弹性磨块、2组的300目弹性磨块、2组的400目弹性磨块、3组的500目弹性磨块、2组的600目弹性磨块和2组的700目弹性磨块；
步骤4：
使用4个磨盘将100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；
使用3个磨盘将40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；
使用6个磨盘将5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，调整光泽度至90°；
步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖；防污剂由有机氟碳树脂和有机硅氧烷按1：2结合。
对比例A
对比例A1：对比例A1与实施例A1基本相同，区别在于对比例A1没有执行步骤4-1。
对比例A2：对比例A2与实施例A1基本相同，区别在于对比例A2没有执行步骤4-2。
对比例A3：对比例A3与实施例A1基本相同，区别在于对比例A3没有执行步骤4-3。
对比例A4：对比例A4与实施例A1基本相同，区别在于对比例A4没有执行步骤5。
将实施例A和对比例A进行性能测试，结果如表1。
表1-实施例A与对比例A的性能测试
Figure DEST_PATH_IMAGE001
说明：
1、由实施例A1与对比例A1对比可知，对比例A1没有执行步骤4-1，而步骤4-1主要是使用4个磨盘将100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光，主要目的是把表面孔径较小的微孔抛大，以及削平，以便于后续对氧化铝和防污剂的承载；而由于对比例A1没有执行步骤4-1，导致了静摩擦系数和防污性下降，静摩擦系数仅为0.61(干法)和0.38(湿法)，防污性只有三级；其说明了，在第二次抛光结合加入的100～120μm氧化铝抛光液能提高对氧化铝和防污剂的承载，对产品最终的防滑性和防污性有影响。
2、由实施例A1与对比例A2对比可知，对比例A2没有执行步骤4-2，而步骤4-2主要是使用粒径介于第二次和第四次抛光氧化铝抛光液之间，为的40～60μm，并进行第三次抛光；步骤4-2能对第三次抛光前砖表面机械划伤的部分进行抛平修复，以便后续可以保持高光泽度，以及能将防污剂均匀布施于微孔中，提升防污效果。而由于对比例A2没有执行步骤4-2，虽然防滑性和光泽度与实施例A1相近，但会导致了防污性下降，对比例A2的防污性只有二级。
3、由实施例A1与对比例A3对比可知，对比例A3没有执行步骤4-3，而步骤4-3主要是使用粒径最小的5～10nm的氧化铝抛光液，并进行第四次抛光；此步骤的氧化铝抛光液中氧化铝为纳米材料，更容易填充微孔，并于抛光过程中形成孔径更小的纳米级微孔，一方面可以提升光泽度；另一方面后续纳米级微孔被填充后，产品的防滑性可有效地提升。而由于对比例A2没有执行步骤4-3，一方面其光泽度和防滑性下降，后续的防污剂没有负载于纳米级的微孔中，防污下降。
4、由实施例A1与对比例A4对比可知，对比例A4没有执行步骤4-4，步骤4-4需要进行砖面清洗，用于将砖表面残留的氧化铝排出，避免与后续的防污剂相抵，且步骤4-4还没有添加防污剂，即砖面仅带有氧化铝，导致了防污性和防滑性下降。而实施例A1将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，在抛光的过程中，防污剂的溶剂会随着抛光的高温蒸发脱离于微孔，防污剂的溶质留置于微孔，提升了砖面的防污效果，防污性可以达到五级。
5、由实施例A1与实施例A4对比可知，实施例A1在步骤3中的弹性磨块包括：2组的24目弹性磨块、3组的300目弹性磨块、2组的400目弹性磨块、4组的600目弹性磨块和4组的800目弹性磨块；实施例A4在步骤3中的弹性磨块包括：2组的20目弹性磨块、2组的50目弹性磨块、2组的100目弹性磨块、1组的200目弹性磨块、2组的300目弹性磨块、2组的400目弹性磨块、3组的500目弹性磨块、2组的600目弹性磨块和2组的700目弹性磨块；实施例A1所使用的弹性磨块配比参数更优，对砖面进行第一次抛光后，对砖面造成不同程度的机械划痕最小，各方面性能都最优；而实施例A4所使用的弹性磨块配比参数相对实施例A1的较复杂，且性能比实施例A1低，但仍为较优的实施例。
对比例B1：
一种抛光面防滑防污砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：使用现有的一种面釉；面釉，以重量份计的原料包括：钠长石17份、石英粉10份、高岭土11份、氧化铝8份、高铝钾砂15份、球粘土8份、氧化锌6份、滑石5份和方解石2份。将在面釉原料添加占面釉原料总质量的0.10％羧甲基纤维素钠、0.30％的三聚磷酸钠和40％的水，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.16％；
步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，施釉量为350×350mm的容器加入100克，施釉量为0.816kg/ m2，烘干后，在1130℃烧结；
步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块包括：2组的24目弹性磨块、3组的300目弹性磨块、2组的400目弹性磨块、4组的600目弹性磨块和4组的800目弹性磨块；
步骤4：
使用4个磨盘将100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；
使用3个磨盘将40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；
使用6个磨盘将5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，调整光泽度至90°；
步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖；防污剂由有机氟碳树脂和有机硅氧烷按1：2结合。
对比例B2：
一种抛光面防滑防污砖的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：配制面釉；面釉，按重量份数，其原料包括：22份的钠长石、13份的钾长石、27份的氧化硅、13份的硅灰石、1.5份的氧化镁、4份的氧化铝、8份的高岭土、7份的霞石粉和3份的氧化锌；将在面釉原料添加占面釉原料总质量的0.10％羧甲基纤维素钠、0.30％的三聚磷酸钠和40％的水，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.16％；
步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，施釉量为350×350mm的容器加入60克，施釉量为0.490kg/ m2，烘干后，在1130℃烧结；
步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块包括：2组的24目弹性磨块、3组的300目弹性磨块、2组的400目弹性磨块、4组的600目弹性磨块和4组的800目弹性磨块；
步骤4：
使用4个磨盘将100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；
使用3个磨盘将40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；
使用6个磨盘将5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，调整光泽度至90°；
步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖；防污剂由有机氟碳树脂和有机硅氧烷按1：2结合。
将实施例A1、对比例B1和对比例B2进行性能测试，结果如表2。
Figure 919681DEST_PATH_IMAGE002
说明：
1、由实施例A1与对比例B1对比可知，对比例B1使用了现有的一种面釉，该面釉的组分与实施例A1的组分并不同，导致对比例B1与实施例A1实际制得的面釉层性能不同。而本方案中，按钠长石、钾长石、氧化硅、硅灰石、氧化镁、氧化铝、高岭土、霞石粉和氧化锌的配方基于施釉量为(0.8～1.0)kg/ m2可以产生更多的微孔结构，所制得的面料为抛光面、防滑和防污提供了基底，而对比例B1的面釉明显不能适应用于本方案抛光面防滑防污砖的制备方法中，其静摩擦系数为0.68(干法)和0.47(湿法)，防污性只有三级。
2、由实施例A1与对比例B2对比可知，对比例B2在步骤2中的施釉量为350×350mm的容器加入60克，施釉量为0.490kg/ m2；对比例B2的防滑性和防污性都下降，其静摩擦系数为0.63(干法)和0.40(湿法)，防污性只有三级。然而本方案为了确保气泡的形成，加大了施釉量；而增大施釉量是为了使所产生的气泡不容易冒出来，这样在抛光的时候会有很多微孔呈现出来；实施例A1在相同规格的容器中，加入100克的面釉，施釉量可达0.816kg/m2，施釉量是对比例B2的1.5倍，反而静摩擦系数可达0.81(干法)和0.60(湿法)，防污性只有五级，说明了使用本方案中的面釉需要控制施釉量，在相同容器的基础上施釉量会比一般的面釉施釉量多，最优为将施釉量控制为(0.8～1.0)kg/m2。
以上结合具体实施例描述了本方案的技术原理。这些描述只是为了解释本方案的原理，而不能以任何方式解释为对本方案保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本方案的其它具体实施方式，这些方式都将落入本方案的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种抛光面防滑防污砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1：配制面釉；面釉，按重量份数，其原料包括：20～25份的钠长石、10～15份的钾长石、25～30份的氧化硅、10～15份的硅灰石、1～2份的氧化镁、3～5份的氧化铝、5～10份的高岭土、5～8份的霞石粉和2～4份的氧化锌；将面釉原料添加球磨剂，置于球磨机中，球磨获得面釉；球磨参数为过325目，筛余0.15～0.18%；
步骤2：将步骤1制得的面釉布施于砖面，烘干后，在1120～1150℃烧结；面釉采用淋釉的方式布施于砖面，施釉量为(0.8～1.0)kg/m2；
步骤3：使用不同粒度的弹性磨块对砖面进行第一次抛光，弹性磨块的粒度为20～800目；
步骤4：
使用100～120μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第二次抛光；
使用40～60μm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第三次抛光；
使用5～10nm的氧化铝抛光液布施于砖面，进行第四次抛光，根据需要调整光泽度；
步骤5：清洗砖面；将防污剂布施于砖面，进行第五次抛光，制得抛光面防滑防污砖。
2.根据权利要求1所述的一种抛光面防滑防污砖的制备方法，其特征在于，所述步骤3中，从粒度大的弹性磨块至粒度小的弹性磨块依次对砖面进行抛光。
3.根据权利要求2所述的一种抛光面防滑防污砖的制备方法，其特征在于，所述步骤3中，所使用的弹性磨块包括：2～3组的24目弹性磨块、2～3组的300目弹性磨块、2～3组的400目弹性磨块、3～4组的600目弹性磨块和4～5组的800目弹性磨块。
4.根据权利要求1所述的一种抛光面防滑防污砖的制备方法，其特征在于，所述步骤5中，清洗砖面时，将清洗液垂直下落至砖面，用软质材料清刷砖面。
5.根据权利要求1-4任意一项所述的一种抛光面防滑防污砖的制备方法，其特征在于，所述步骤5中，防污剂为有机氟碳树脂。
6.根据权利要求1-4任意一项所述的一种抛光面防滑防污砖的制备方法，其特征在于，所述步骤5中，防污剂包括：有机氟碳树脂和有机硅氧烷。
7.一种抛光面防滑防污的瓷砖，其特征在于，由权利要求1-6任意一项所述的抛光面防滑防污砖的制备方法制备而成。
8.一种瓷砖在制备抛光面防滑防污的装饰板中的用途，其特征在于，所述瓷砖由权利要求1-6任意一项所述的抛光面防滑防污砖的制备方法制备而成。
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