CN114102396A - 显示模组表面处理设备及显示模组表面处理方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供的一种显示模组表面处理设备及显示模组表面处理方法，通过设置专门的气体喷吹组件，在完成研磨后可以使用气体喷吹组件对显示模组喷吹气体，从而加速残留在显示模组上的液体蒸发消散的速度。如此，在使用气体喷吹组件完成喷吹之后再将显示模组从显示模组承载组件上取下，可以避免在残留的液体侵入到显示模组中。

Description

显示模组表面处理设备及显示模组表面处理方法

技术领域

本申请涉及显示设备制造领域，具体而言，涉及一种显示模组表面处理设备及显示模组表面处理方法。

背景技术

OLED柔性模组，在生产过程中盖板的指纹防护(Anti-fingerprint，AF)涂层可能出现划伤，影响产品使用效果。对于盖板有划伤的显示模组通常需要针对划伤部位采用专门的修复工艺进行修复，修复过程一般包括退镀(将盖板表面AF涂层打掉)、研磨(将划伤位置打磨平整)、清洁、镀膜(重新喷涂AF涂层)、烘烤等步骤。其中，在执行研磨时需要将显示模组设置于夹具上，并使用研磨液或清洗液辅助完成研磨清洗。研磨完成时需要将显示模组从夹具上取下后再执行后续修复动作。但是，取下显示模组的过程中，盖板四周残留的研磨液或清洗液可能会流入显示模组内部，对显示模组造成影响。

发明内容

为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本申请实施例提供一种显示模组表面处理设备，所述显示模组表面处理设备包括显示模组承载组件及气体喷吹组件；

所述显示模组承载组件包括用于放置显示模组的承载面；

所述气体喷吹组件包括至少一个进气机构及多个与所述进气机构连通的喷气机构，多个所述喷气机构环绕所述承载面设置，且多个所述喷气机构的喷气方向朝向所述承载面。

在一种可能的实现方式中，所述气体喷吹组件还包括主体框架，所述主体框架中设置有气体通道；

所述进气机构包括与所述气体通道连通的进气口，所述喷气机构包括从所述气体通道贯穿至所述主体框架朝向所述承载面一侧的喷气口。

在一种可能的实现方式中，多个所述喷气机构的喷气方向与所述承载面呈锐角。

在一种可能的实现方式中，多个所述喷气机构的喷气方向朝向所述承载面的边缘。

在一种可能的实现方式中，所述显示模组表面处理设备还包括与所述进气机构连接的气体供给机构，所述气体供给机构用于向所述进气机构提供喷吹气体。

在一种可能的实现方式中，所述气体供给机构包括喷吹控制组件，所述喷吹控制组件用控制所述气体供给机构的气体输出速度。

在一种可能的实现方式中，所述显示模组表面处理设备还包括研磨组件，所述研磨组件包括研磨盘，所述研磨盘用于对设置于所述承载面的显示模组表面进行研磨。

在一种可能的实现方式中，所述研磨组件还包括液体输送机构，所述液体输送机构用于在研磨过程中向所述显示模组表面输送研磨液或清洗液。

本申请的另一目的在于提供农一种显示模组表面处理方法，采用本申请提供的所述显示模组表面处理设备对待研磨的显示模组进行表面研磨，所述方法包括：

将待研磨的显示模组设置于所述显示模组承载组件的承载面上；

控制研磨盘在使用清洗液的情况下对所述显示模组的表面进行研磨清洗；

控制所述气体喷吹组件向所述显示模组喷吹气体，将清洗液吹干。

在一种可能的实现方式中，在所述控制研磨盘在使用清洗液的情况下对所述显示模组的表面进行研磨清洗的同时，所述方法还包括：

控制所述气体喷吹组件以第一喷气速度喷气；

所述控制所述气体喷吹组件向所述显示模组喷吹气体的步骤包括：

控制所述气体喷吹组件以第二喷气速度向所述显示模组喷吹气体；其中，所述第二喷气速度大于所述第一喷气速度。

本申请实施例提供的显示模组表面处理设备及显示模组表面处理方法中，设置了专门的气体喷吹组件，在完成研磨后可以通过气体喷吹组件对显示模组喷吹气体，从而加速残留在显示模组上的液体蒸发消散的速度。如此，在使用气体喷吹组件完成喷吹之后再将显示模组从显示模组承载组件上取下，可以避免在残留的液体侵入到显示模组中。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本申请实施例提供的显示模组表面处理设备的示意图之一；

图2为本申请实施例提供的显示模组承载组件的示意图；

图3为本申请实施例提供的喷吹组件的示意图；

图4为本申请实施例提供的显示模组表面处理设备的示意图之二；

图5为本申请实施例提供的喷吹组件的透视图；

图6为本申请实施例提供的研磨组件的示意图；

图7为本申请实施例提供的膜层喷涂组件的示意图之一；

图8本申请实施例提供的膜层喷涂组件的示意图之二；

图9为本申请实施例提供的显示模组表面处理方法的步骤流程示意图。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例中的不同特征之间可以相互结合。

请参见图1，图1为本实施例提供的一种显示模组表面处理设备的示意图，该显示模组表面处理设备可以包括显示模组承载组件100及气体喷吹组件200。

请参见图2，所述显示模组承载组件100包括用于放置显示模组的承载面101。具体地，待研磨的显示模组被设置于所述承载面101后，可以通过真空吸附的方式固定于所述承载面101上。可选地，所述承载面101与所述显示模组接触的位置可以设置有具有一定柔性的密封胶圈，如硅胶材质的密封胶圈。

请参照图3，所述气体喷吹组件200可以包括至少一个进气机构210及多个喷气机构220，多个所述喷气机构220可以与所述进气机构210连通。多个所述喷气机构220环绕所述承载面101设置，且多个所述喷气机构220的喷气方向朝向所述承载面101。气体可以从所述进气机构210流入后，可以通过多个所述喷气机构220喷射向所述承载面101。即，显示模组设置于所述承载面101时，从多个所述喷气机构220喷出的气体可以被喷射至所述显示模组所在的位置。

基于上述设计，在本申请实施例提供的显示模组表面处理设备中，设置了专门的气体喷吹组件200，在完成研磨后可以通过气体喷吹组件200对显示模组喷吹气体，从而加速残留在显示模组上的研磨液或清洗液蒸发消散的速度。如此，在使用气体喷吹组件200完成喷吹之后再将显示模组从显示模组承载组件100上取下，可以避免在残留的研磨液或清洗液浸入到显示模组中。

在一种可能的实现方式中，请参照图5，所述气体喷吹组件200还包括主体框架230，所述主体框架230中设置有气体通道240。所述进气机构210包括与所述气体通道240连通的进气口，所述喷气机构220包括从所述气体通道240贯穿至所述主体框架230朝向所述承载面101一侧的喷气口。具体地，所述主体框架230可以是矩形框架结构，其内框尺寸不小于所述承载面101的尺寸。所述主体框架230中可以开设气体通道240，所述气体通道240可沿所述主体框架230的内部延伸并环绕所述承载面101。优选地，所述气体喷吹组件200可以包括与所述气体通道240不同位置连接的至少两个所述进气机构210。

在另一种可能的实现方式中，所述气体喷吹组件200还包括主体管道，所述进气机构210包括与所述气体通道240连通的进气口，所述喷气机构220包括从所述主体管道朝向所述承载面101延伸的喷气管道。优选地，在本实施例中，所述气体喷吹组件200可以包括与所述主体管道不同位置连接的至少两个所述进气机构210。

在一种可能的实现方式中，再次参照图4，多个所述喷气机构220的喷气方向与所述承载面101呈锐角。如此，在所述喷气机构220执行喷吹时可以将残留的研磨液或清洗液迅速吹离显示模组表面。

在一种可能的实现方式中，多个所述喷气机构220的喷气方向朝向所述承载面101的边缘。如此，在所述喷气机构220执行喷吹时会着重将残留在显示模组边缘可能入侵到显示模组内的研磨液或清洗液迅速吹干。

在一种可能的实现方式中，所述显示模组表面处理设备还包括与所述进气机构210连接的气体供给机构，所述气体供给机构用于向所述进气机构210提供喷吹气体。例如，所述气体供给机构可以为气泵，或者所述气体供给机构也可以为专门的压缩气体存储装置。

进一步地，所述气体供给机构还可以包括喷吹控制组件，所述喷吹控制组件用控制所述气体供给机构的气体输出速度。例如，所述喷吹控制组件可以为控制流入所述进气机构210的气体流量的阀门，或者所述喷吹控制组件可以为控制所述气体供给机构气体供给速度的装置。

在本实施例中，所述喷吹控制组件可以在开始研磨前控制所述气体喷吹组件200以第一喷气速度喷气并在研磨过程中保持以第一喷气速度喷气，从而避免研磨过程中研磨液或清洗液侵入所述喷气机构220。在完成研磨后，所述喷吹控制组件可以控制所述气体喷吹组件200以第二喷气速度向所述显示模组喷吹气体，其中，所述第二喷气速度大于所述第一喷气速度，如此，可以迅速将残留的研磨液或清洗液吹干。

在一种可能的实现方式中，所述显示模组表面处理设备还包括研磨组件，所述研磨组件包括研磨盘，所述研磨盘用于对设置于所述承载面101的显示模组表面进行研磨。具体地，在本实施例中，所述研磨组件可以由专门驱动装置驱动并进行研磨，从而保证整个研磨深度均匀。

进一步地，在本实施例中，所述研磨组件还包括液体输送机构，所述液体输送机构用于在研磨过程中向所述显示模组表面输送研磨液或者清洗液。在一个例子中，请参照图6，所述研磨组件300可以包括研磨盘310和所述液输送机构320，所述液体输送机构320可以为设置于所述研磨组件300内部的输送管道，研磨液或清洗液可以通过所述液体输送机构320被输送至所述研磨盘310与所述显示模组400接触的位置。

优选地，在本实施例中，所述清洗液可以为纯水。在清洗过程中，通过纯水配合研磨盘可以清洗掉研磨产生的残留物，然后在清洗完成后通过所述喷吹控制组件对残留的纯水进行喷吹烘干，可以高效且容易地将所述显示模组表面清洗干净。

另外，在本实施例中，所述显示模组表面处理设备还可以包括膜层喷涂组件，请参照图7，所述膜层喷涂组件可以包括显示模组放置底座510及多个涂层喷头520。

所述显示模组400可以为曲面显示模组，请再次参照图7，所述显示模组放置底座510可以为与显示模组400形状相符的仿形底座，或者请参照图8，所述显示模组放置底座510可以为尺寸不超过所述显示模组400平面部分的平面底座。如此，将具有曲面的显示模组400设置于所述显示模组放置底座510上时不会改变所述显示模组的曲面形状。

请再次参照图7和图8，所述多个涂层喷头520可以以不同的角度朝向所述显示模组放置底座510。优选地，当所述显示模组400为U型曲面显示模组时，所述膜层喷涂组件可以包括3个所述涂层喷头520，其中有一个所述涂层喷头520的喷涂方向垂直于所述显示模组400的平面部分，另外两个所述涂层喷头520分别以一定角度朝向所述显示模组400的曲边部分。

如此，可以保证在重新喷涂AF涂层时，所述显示模组的平面部分和曲边部分的涂层保持均匀厚度。

在一种可能的实现方式中，所述显示模组承载组件100和所述显示模组防止底座510为不同的组件。在将所述显示模组400放置于所述显示模组承载组件100上完研磨清洗及烘干动作后，可以将所述显示模组400从所述显示模组承载组件100转移至所述显示模组放置底座510上，然后通过所述涂层喷头520进行重新喷涂AF涂层。

在另一种可能的实现方式中，所述显示模组承载组件100和所述显示模组防止底座510也可以为同一组件。在将所述显示模组400放置于所述显示模组承载组件100上完研磨清洗及烘干动作后，可以继续通过所述涂层喷头520对放置于所述显示模组承载组件100喷涂AF涂层。

基于相同的发明构思，本实施例还提供了一种采用本实施例所提供的所述的显示模组表面处理设备对待研磨的显示模组进行表面研磨的显示模组表面处理方法。请参照图9，该方法可以包括以下步骤。

步骤S110，将待研磨的显示模组设置于所述显示模组承载组件100的承载面101上。

步骤S120，控制研磨盘在使用清洗液的情况下对所述显示模组的表面进行研磨。

步骤S130，控制所述气体喷吹组件200向所述显示模组喷吹气体，将清洗液吹干。

进一步地，在本实施例中，在执行步骤S120控制研磨盘在使用清洗液的情况下对所述显示模组的表面进行研磨的同时，所述方法还可以包括步骤S210。

步骤S210，控制所述气体喷吹组件200以第一喷气速度喷气。如此，可以避免研磨过程中清洗液进入所述喷气机构220。

另外，在步骤S130中可以控制所述气体喷吹组件200以第二喷气速度向所述显示模组喷吹气体。其中，所述第二喷气速度大于所述第一喷气速度。如此，可以迅速吹干残留在所述显示模组表面或周围的清洗液。

综上所述，本申请实施例提供的显示模组表面处理设备及显示模组表面处理方法中，设置了专门的气体喷吹组件，在完成研磨后可以通过气体喷吹组件对显示模组喷吹气体，从而加速残留在显示模组上的清洗液蒸发消散的速度。如此，在使用气体喷吹组件完成喷吹之后再将显示模组从显示模组承载组件上取下，可以避免在残留的清洗液侵入到显示模组中。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示模组表面处理设备，其特征在于，所述显示模组表面处理设备包括显示模组承载组件及气体喷吹组件；

所述显示模组承载组件包括用于放置显示模组的承载面；

所述气体喷吹组件包括至少一个进气机构及多个与所述进气机构连通的喷气机构，多个所述喷气机构环绕所述承载面设置，且多个所述喷气机构的喷气方向朝向所述承载面。

2.根据权利要求1所述的显示模组表面处理设备，其特征在于，所述气体喷吹组件还包括主体框架，所述主体框架中设置有气体通道；

所述进气机构包括与所述气体通道连通的进气口，所述喷气机构包括从所述气体通道贯穿至所述主体框架朝向所述承载面一侧的喷气口。

3.根据权利要求1所述的显示模组表面处理设备，其特征在于，多个所述喷气机构的喷气方向与所述承载面呈锐角。

4.根据权利要求1所述的显示模组表面处理设备，其特征在于，多个所述喷气机构的喷气方向朝向所述承载面的边缘。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的显示模组表面处理设备，其特征在于，所述显示模组表面处理设备还包括与所述进气机构连接的气体供给机构，所述气体供给机构用于向所述进气机构提供喷吹气体。

6.根据权利要求5所述的显示模组表面处理设备，其特征在于，所述气体供给机构包括喷吹控制组件，所述喷吹控制组件用控制所述气体供给机构的气体输出速度。

7.根据权利要求1-4任意一项所述的显示模组表面处理设备，其特征在于，所述显示模组表面处理设备还包括研磨组件，所述研磨组件包括研磨盘，所述研磨盘用于对设置于所述承载面的显示模组表面进行研磨。

8.根据权利要求7所述的显示模组表面处理设备，其特征在于，所述研磨组件还包括液体输送机构，所述液体输送机构用于在研磨过程中向所述显示模组表面输送研磨液或清洗液。

9.一种显示模组表面处理方法，其特征在于，采用权利要求1-8任意一项所述的显示模组表面处理设备对待研磨的显示模组进行表面研磨，所述方法包括：

将待研磨的显示模组设置于所述显示模组承载组件的承载面上；

控制研磨盘在使用清洗液的情况下对所述显示模组的表面进行研磨清洗；

控制所述气体喷吹组件向所述显示模组喷吹气体，将清洗液吹干。

10.根据权利要求9所述的显示模组表面处理方法，其特征在于，

在所述控制研磨盘在使用清洗液的情况下对所述显示模组的表面进行研磨清洗之前，所述方法还包括：

控制所述气体喷吹组件以第一喷气速度喷气；

所述控制所述气体喷吹组件向所述显示模组喷吹气体的步骤包括：

控制所述气体喷吹组件以第二喷气速度向所述显示模组喷吹气体；其中，所述第二喷气速度大于所述第一喷气速度。

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