CN214445530U - 研磨装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种研磨装置，所述研磨装置包括：载台，所述载台用于承载待研磨件；气道组件，所述气道组件设置于所述载台的上侧或者下侧；以及压力装置，所述压力装置与所述气道组件连通以向所述气道组件提供压力源，从而使得所述气道组件形成真空吸附通道或者吹气通道；其中，所述真空吸附通道或者所述吹气通道用于移除所述待研磨件周边的研磨液。通过相互连通的压力装置和气道组件，在待研磨件的边缘处形成真空吸附力或者高压风幕以移除待研磨件的边缘处多于的研磨液。

Description

研磨装置

技术领域

本实用新型属于研磨抛光技术领域，尤其涉及一种研磨装置。

背景技术

近年来，由于曲面显示屏能够提升用户视觉体验上的宽阔感，越来越受到消费者的欢迎。

曲面显示屏在其制作过程中，其盖板的外侧表面已出现划痕等不良。现有的修复划痕不良的方式主要是通过研磨装置对划痕进行研磨消除。

然，研磨过程中需要在盖板的外侧表面上施加研磨液，研磨液顺着盖板的边缘渗透至盖板及屏体之间处，因此，致使屏体电讯和/或外观异常，导致曲面显示屏修复失效。

因此，需要对现有的曲面显示屏的盖板划痕的修复方案进行改进。

实用新型内容

本实用新型提出一种研磨装置，避免显示模组的盖板划痕修复过程中，因研磨液渗入显示屏体导致的修复失效。

为解决上述问题，本实用新型技术方案提供了一种研磨装置，所述研磨装置包括：载台，所述载台用于承载待研磨件；气道组件，所述气道组件设置于所述载台的上侧或者下侧；以及压力装置，所述压力装置与所述气道组件连通以向所述气道组件提供压力源，从而使得所述气道组件形成真空吸附通道或者吹气通道；其中，所述真空吸附通道或者所述吹气通道用于移除所述待研磨件周边的研磨液。

作为可选的技术方案，还包括研磨头，所述研磨头和所述气道组件分别位于所述载台相背的上侧和下侧，或者，所述研磨头和所述气道组件共同位于所述载台的上侧或者下侧。

作为可选的技术方案，所述气道组件围绕所述待研磨件的周边设置。

作为可选的技术方案，所述待研磨件放置于所述载台上，所述待研磨件的边缘突出于所述载台的边缘。

作为可选的技术方案，所述气道组件包括壳体和位于壳体内部的气流通道，所述气流通道连通所述压力装置。

作为可选的技术方案，所述气流通道中气流的流出方向或者所述气流通道中气流的输入方向分别垂直于所述载台的承载面。

作为可选的技术方案，所述气流通道中气流的流出方向或者所述气流通道中气流的输入方向分别与所述载台的承载面之间的夹角为锐角。

作为可选的技术方案，所述压力装置包括第一管路、第二管路以及阀门，所述阀门控制所述第一管路和所述第二管路的其中之一和所述气道组件的所述气流通道连通。

作为可选的技术方案，还包括枢转机构，所述枢转结构连接所述壳体。

作为可选的技术方案，所述待研磨件为显示模组，所述显示模组包括相互贴合的盖板和显示屏体，其中，所述显示屏体靠近并固定于所述载台上。

与现有技术相比，本实用新型提出一种研磨装置，通过相互连通的压力装置和气道组件，在待研磨件的边缘处形成真空吸附力或者高压风幕以移除待研磨件的边缘处多余的研磨液。其中，当待研磨件为显示模组时，上述研磨装置可用于阻止多余的研磨液从盖板的边缘渗透入显示屏体内，避免因研磨液渗透导致屏体出现功能性电损伤的问题，实现对显示屏体的保护，提高了修复良率。

以下结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细描述，但不作为对本实用新型的限定。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有的显示模组的盖板研磨装置的侧视示意图。

图2为显示模组的边缘和盖板研磨装置的卡槽固定的示意图。

图3为本实用新型一实施例中的研磨装置的剖面示意图。

图4为本实用新型另一实施例中研磨装置的剖面示意图。

图5为本实用新型又一实施例中研磨装置的剖面示意图。

图6为本实用新型又一实施例中研磨装置的剖面示意图。

图7为图3中研磨装置的载台的俯视示意图。

图8为图3中研磨装置的管道组件的俯视示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合实施例及附图，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

如图1和图2所示，曲面显示屏10通常包括相互贴合的盖板11和屏体12以及其他功能控制元件（未图示），其中，盖板11往往贴合于屏体12的外侧。由于盖板11位于最外侧，在制程中其外侧表面上易出现划痕等不良。目前，对盖板11的外侧表面上的划痕不良进行修复已成为挽回盖板不良的重要手段之一。修复的过程需要经过去镀、研磨、再去镀、AF膜蒸度（Anti-FingerPrint Coating）等制程。

研磨制程中，首先，曲面显示屏10的边缘部分通常插入于载台30上的橡胶圈20上的凹槽21中，以使曲面显示屏10被定位于载台30上。其次，将研磨液（未图示）涂布盖板11的外侧表面上。然后，利用研磨头40对盖板11的外侧表面上的划痕位置进行研磨修复。

上述研磨制程中，研磨液受重力和研磨力作用，往往会沿着盖板11的弯曲部分滑落到凹槽21中，并在凹槽21内积蓄，研磨液容易自曲面显示屏10的边缘13朝向盖板11和屏体12之间渗透，致使屏体12电讯和/或外观异常，导致曲面显示屏10修复失效。另外，研磨过程结束后，擦拭去除研磨液的过程中，容易刮蹭到屏体12边缘处线路区，进而引发屏体12功能性不良，导致修复失效。经实验验证，现有的曲面显示屏的盖板划痕修复失效的概率约为50%，其中，大部分是由于研磨制程中研磨液进入屏体导致的修复失效。

如图2所示，将曲面显示屏10的边缘嵌入橡胶圈20的凹槽21中，由于屏体12的边缘接触凹槽21，也存在刮伤屏体12边缘处线路区引起屏体亮线等功能性不良风险。

有鉴于此，本实用新型重新提出一种新的研磨装置以克服上述问题。

如图3所示，本实用新型提出一种研磨装置，其包括载台200、气道组400和压力装置300，载台200用于承载待研磨件100；气道组件400设置于载台200的下侧；压力装置300和气道组件400连通以向气道组件400提供压力源，从而使得气道组件形成真空吸附通道或者吹气通道；其中，真空吸附通道或者吹气通道用于移除待研磨件100周边的研磨液。

本实施例中，通过压力装置300向气道组件400提供负压源，使得气道组件400形成真空吸附通道，吸附从待研磨件100的周边滑落的研磨液；或者，通过压力装置300向气道组件400提供压缩气体，使得气道组件400形成吹气通道，并在待研磨件100的周边形成高压风幕，使得待研磨件100周边滑落的研磨液被高压风幕吹走。

在一较佳的实施方式中，待研磨件100例如是显示模组100，其包括相互贴合的盖板110和显示屏体120，显示屏体120靠近载台200，并固定于载台200上。其中，显示模组100例如是曲面显示模组，盖板110例如是2.5D曲面玻璃盖板或者3D曲面玻璃盖板；显示屏体120例如是曲面OLED显示屏，包括但不限于柔性曲面OLED显示屏。

在对盖板110研磨修复盖板110外侧表面上划痕的过程中，研磨液可通过喷嘴喷涂于盖板110的外侧表面上，研磨头600通过升降机构下移并接触外侧表面进行研磨，其中，在重力和研磨力作用下，多余的研磨液顺着盖板110的外侧表面滑动到盖板110的边缘处时，此时，压力装置300向气道组件400提供压力源，使得气道组件400在盖板110的边缘处形成真空吸附力或者高压风幕，通过真空吸附力或者高压风幕移除盖板110边缘的研磨液，避免研磨液从盖板110的边缘处朝向显示屏体120内渗透，使得显示屏体120不会出现功能性电损伤和/或外观损伤风险，实现了对显示屏体120的电性和/或外观保护。

即，本实用新型中的研磨装置实现了对盖板110的划痕研磨修复，且不会造成盖内110内侧的显示屏体120功能性电损伤，提高了修复良率。

如图3和图7所示，载台200上设置多个气孔210，多个气孔210连通真空装置（未图示），真空装置向多个气孔210提供负压，使得显示屏体120被真空吸附而固定于载台200上。由于显示模组100是真空吸附固定在载台200上，不需要额外的定位机构，因此，显示模组100的边缘不与其他机构接触，避免了显示模组100的边缘损伤，特别是可以避免对显示屏体120边缘走线区的损伤。

本实施例中，载台200的尺寸小于待研磨件100的尺寸，当待研磨件100放置于载台200上，待研磨件100的边缘101突出于载台200的边缘201，使得气道组件400产生的真空吸附力或者高压风幕能够直接作用在待研磨件100的边缘101，确保多余的研磨液可以被直接移除。

如图3所示，气道组件400位于载台200的下侧，此时，最优的实施方式为压力装置300向气道组件400提供负压源，以使气道组件400形成真空吸附通道，多余的研磨液在重力和研磨力作用下朝向待研磨件100的边缘101滑动，由于无需克服重力作用，因此，下侧的真空吸附通道可以迅速的将多余的研磨液吸附移除。

在一较佳的实施方式中，载台200远离待研磨件100一侧还设有支撑单元210，支撑单元210例如固定于研磨装置的框架结构上，以使载台200能够承载待研磨件100。

继续参照图3，研磨装置中研磨头600和气道组件400分别位于载台200的上侧和下侧，但不以此为限。在本实用新型的其他实施方式中，当载台的吸附面朝下，待研磨件被真空吸附于载台朝下的一侧表面上时，研磨头位于载台的下侧，气道组件位于载台的上侧。

如图3和图8所示，气道组件400围绕待研磨件100的周边设置。气道组件400包括多个贯穿孔410，多个贯穿孔410分布于待研磨件100的周边。本实施例中，气道组件400大致呈回字型，但不以此为限。在本实用新型其他实施例中，依据待研磨件的形状，气道组件还可以是其他相适配的形状。

需要说明的是，回字型的气道组件400可以是以一体式的结构，也可以是由多个相互分离的气道组件围设而成。其中，由多个相互分离的气道组件围设形成属于更优选的实施方式，可通过对多个相互分离的气道组件分别进行角度调节，以适应不同形状的待研磨件，提高研磨装置的通用性。

如图3所示，气道组件400例如包括壳体410和位于壳体410内部的气流通道420，气流通道420连通压力装置300。

本实施例中，气流通道420中气流流出的方向或者气流通道420中气流流入的方向垂直于载台200的承载面，即，气道组件400产生的气流方向垂直于载台200的承载面。其中，载台200的承载面上用于放置待研磨件100。

如图4所示，本实用新型的另一实施方式中，研磨装置中的气道组件400’的壳体410’内的气流通道420’产生的气流方向和载台200的承载面之间呈夹角A设置，其中，夹角A例如是锐角，夹角A为45°-60°（±5°）。另外，图4与图3中相同的标号属于相同元件，具有相似的功能，不另赘述。

如图5所示，在本实用新型的又一实施方式中，研磨装置中的气道组件400连接枢转结构500，较佳的，气道组件400包括壳体410和位于壳体410内气流通道420，壳体410远离载台200的部分连接枢转机构500。枢转机构500例如是连接于研磨装置的框架或者其他结构上。另外，图5与图3中相同的标号属于相同元件，具有相似的功能，不另赘述。

其中，转动枢转机构500使得气流通道420和载台200的承载面之间的夹角B为40°-90°（±5°）。即，枢转机构500控制气道组件400和载台200的承载面之间的夹角B在40°-90°（±5°）的角度区间内变化。

当气流通道420和载台200的承载面之间的夹角B为40°-90°之间变化时，一方面，气流通道420在待研磨件100边缘处形成的真空吸附力或高压风幕的方向被调节，进而能够更好的移除研磨液；另一方面，可兼容不同形状或者尺寸的待研磨件100，提高通用性。

在一较佳的实施方式中，枢转机构500例如包括螺丝（未图示）和转轴（未图示），拧松螺丝，当转轴转动到预定角度后，拧紧螺丝将转轴固定于预定角度。

另外，压力装置300例如包括第一管路（未图示）、第二管路（未图示）和阀门（未图示），阀门控制第一管路和第二管路的其中之一和气道组件400的气流通道420连通。其中，第一管路例如是朝向气流通道420提供负压源，以使气流通道420形成真空吸附通道，贯穿孔411处产生真空吸附力；第二管路例如是朝向气流通道420提供压缩气体（高压源），以使气流通道420形成吹气通道，在贯穿孔411处产生高压风幕。

在较佳的实施方式中，压力装置300向气道组件400提供的压力源的压力范围约为6kpa（千帕）。其中，压力源的压力范围可依据屏体的尺寸、形状不同做适应性调整。

在较佳的实施方式中，气道组件400靠近载台200的一端与载台200之间的间距D1约为4mm。其中，间距的范围可依据屏体的尺寸、形状不同做适应性调整。

经实验验证，当间距D1为，可使得真空吸附力或者高压风幕完整覆盖于待研磨件100的周边区域，研磨液的移除效果最佳。需要说明是的，气道组件还可以连接升降装置，升降装置调节气道组件400和载台之间的间距，适应不同尺寸、形状的待研磨件研磨过程中的研磨液的移除。

如图6所示，在本实用新型又一实施例中的研磨装置与图3中所示的研磨装置的区别在于，气道组件4000设置于载台200的上侧。图6与图3中相同的标号属于相同元件，具有相似的功能，不另赘述。

当气道组件4000位于载台200的上侧时，气道组件4000和研磨头600位于载台200的同一侧。

压力装置300和气道组件4000连通以向气道组件4000提供压力源，从而使得气道组件4000形成真空吸附通道或者吹气通道；其中，真空吸附通道或者吹气通道用于移除待研磨件100周边的研磨液。在一优选的实施方式中，压力装置300向气道组件4000提供压缩气体，气道组件400形成吹气风道并在待研磨件100的周边形成高压风幕，借助重力、研磨力和高压风幕的多重作用，得以快速将待研磨件100周边处的研磨液移除。

如图6所示，气道组件4000的结构和上述气道组件400的结构相似。本实施例中，气道组件4000例如包括壳体4100和位于壳体4100内的气流通道4200，气流通道4200连通压力装置300。

综上，本实用新型提出一种研磨装置，通过相互连通的压力装置和气道组件，在待研磨件的边缘处形成真空吸附力或者高压风幕以移除待研磨件的边缘处多于的研磨液。其中，当待研磨件为显示模组时，上述研磨装置可用于阻止多于的研磨液从盖板的边缘渗透入显示屏体内，避免因研磨液渗透导致屏体出现功能性电损伤的问题，实现对显示屏体的保护，提高了修复良率。

本实用新型已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本实用新型的范例。此外，上面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。必需指出的是，本实用新型还可有其他多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种研磨装置，其特征在于，所述研磨装置包括：

载台，所述载台用于承载待研磨件；

气道组件，所述气道组件设置于所述载台的上侧或者下侧；以及

压力装置，所述压力装置与所述气道组件连通以向所述气道组件提供压力源，从而使得所述气道组件形成真空吸附通道或者吹气通道；

其中，所述真空吸附通道或者所述吹气通道用于移除所述待研磨件周边的研磨液。

2.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，还包括研磨头，所述研磨头和所述气道组件分别位于所述载台相背的上侧和下侧，或者，所述研磨头和所述气道组件共同位于所述载台的上侧或者下侧。

3.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述气道组件围绕所述待研磨件的周边设置。

4.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述待研磨件放置于所述载台上，所述待研磨件的边缘突出于所述载台的边缘。

5.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述气道组件包括壳体和位于壳体内部的气流通道，所述气流通道连通所述压力装置。

6.如权利要求5所述的研磨装置，其特征在于，所述气流通道中气流的流出方向或者所述气流通道中气流的输入方向分别垂直于所述载台的承载面。

7.如权利要求5所述的研磨装置，其特征在于，所述气流通道中气流的流出方向或者所述气流通道中气流的输入方向分别与所述载台的承载面之间的夹角为锐角。

8.如权利要求5所述的研磨装置，其特征在于，所述压力装置包括第一管路、第二管路以及阀门，所述阀门控制所述第一管路和所述第二管路的其中之一和所述气道组件的所述气流通道连通。

9.如权利要求5所述的研磨装置，其特征在于，还包括枢转机构，所述枢转结构连接所述壳体。

10.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述待研磨件为显示模组，所述显示模组包括相互贴合的盖板和显示屏体，其中，所述显示屏体靠近并固定于所述载台上。

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