CN114097103A - 有机发光器件 - Google Patents
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Abstract
本发明提供有机发光器件。
Description
技术领域
与相关申请的相互引用
本申请主张基于2020年6月23日的韩国专利申请第10-2020-0076673号和2021年6月23日的韩国专利申请第10-2021-0081273号的优先权，包含该韩国专利申请的文献中公开的全部内容作为本说明书的一部分。
本发明涉及有机发光器件。
背景技术
通常情况下，有机发光现象是指利用有机物质将电能转换为光能的现象。利用有机发光现象的有机发光器件具有宽视角、优异的对比度、快速响应时间，亮度、驱动电压和响应速度特性优异，因此正在进行大量的研究。
有机发光器件通常具有包括阳极和阴极以及位于上述阳极与阴极之间的有机物层的结构。为了提高有机发光器件的效率和稳定性，上述有机物层大多情况下由分别利用不同的物质构成的多层结构形成，例如，可以由空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层等形成。对于这样的有机发光器件的结构而言，如果在两电极之间施加电压，则空穴从阳极注入有机物层，电子从阴极注入有机物层，当所注入的空穴和电子相遇时会形成激子(exciton)，该激子重新跃迁至基态时就会发出光。
对用于如上所述的有机发光器件的有机物，持续要求开发新的材料。
现有技术文献
专利文献
(专利文献1)韩国专利公开号第10-2000-0051826号
发明内容
技术课题
本发明涉及改善了驱动电压、效率和寿命的有机发光器件。
课题的解决方法
为了解决上述课题，本发明提供下述的有机发光器件：
一种有机发光器件，其中，包括：
阳极、阴极、以及上述阳极与阴极之间的发光层，
上述发光层包含由下述化学式1表示的化合物和由下述化学式2表示的化合物，
[化学式1]
在上述化学式1中，
Ar1和Ar2各自独立地为取代或未取代的C6-60芳基；或者取代或未取代的包含选自N、O和S中的任一个或更多个的C2-60杂芳基，
L1和L2各自各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
L3为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
R1各自独立地为氢或氘，或者相邻的两个结合而形成苯环，其余为氢或氘，
R2各自独立地为氢或氘，或者相邻的两个结合而形成苯环，其余为氢或氘，
[化学式2]
在上述化学式2中，
Ar3和Ar4各自独立地为取代或未取代的C6-60芳基、或者取代或未取代的包含选自O和S中的任一个或更多个的C2-60杂芳基，
L4至L6各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基。
发明效果
上述的有机发光器件可以实现效率的提高、低的驱动电压和/或寿命特性的提高。
附图说明
图1图示了由基板1、阳极2、发光层3和阴极4构成的有机发光器件的例子。
图2图示了由基板1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、发光层3、电子传输层7、电子注入层8和阴极4构成的有机发光器件的例子。
图3图示了由基板1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、电子阻挡层9、发光层3、空穴阻挡层10、电子传输层7、电子注入层8和阴极4构成的有机发光器件的例子。
具体实施方式
下面，为了帮助理解本发明而更详细地进行说明。
在本说明书中，
表示与其它取代基连接的键。
在本说明书中，“取代或未取代的”这一用语是指被选自氘；卤素基团；腈基；硝基；羟基；羰基；酯基；酰亚胺基；氨基；氧化膦基；烷氧基；芳氧基；烷基硫氧基(
Alkyl thioxy)；芳基硫氧基(
Aryl thioxy)；烷基磺酰基(
Alkyl sulfoxy)；芳基磺酰基(
Aryl sulfoxy)；甲硅烷基；硼基；烷基；环烷基；烯基；芳基；芳烷基；芳烯基；烷基芳基；烷基胺基；芳烷基胺基；杂芳基胺基；芳基胺基；芳基膦基；或者包含N、O和S原子中的1个以上的杂环基中的1个以上的取代基取代或未取代，或者被上述例示的取代基中的2个以上的取代基连接而成的取代基取代或未取代。例如，“2个以上的取代基连接而成的取代基”可以为联苯基。即，联苯基可以为芳基，也可以被解释为2个苯基连接而成的取代基。
在本说明书中，羰基的碳原子数没有特别限定，但优选碳原子数为1至40。具体而言，可以为如下结构的取代基，但并不限定于此。
在本说明书中，酯基中，酯基的氧可以被碳原子数1至25的直链、支链或环状的烷基、或者碳原子数6至25的芳基取代。具体而言，可以为下述结构式的取代基，但并不限定于此。
在本说明书中，酰亚胺基的碳原子数没有特别限定，但优选碳原子数为1至25。具体而言，可以为如下结构的取代基，但并不限定于此。
在本说明书中，甲硅烷基具体有三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、乙烯基二甲基甲硅烷基、丙基二甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、二苯基甲硅烷基、苯基甲硅烷基等，但并不限定于此。
在本说明书中，硼基具体有三甲基硼基、三乙基硼基、叔丁基二甲基硼基、三苯基硼基、苯基硼基等，但并不限定于此。
在本说明书中，作为卤素基团的例子，有氟、氯、溴或碘。
在本说明书中，上述烷基可以为直链或支链，碳原子数没有特别限定，但优选为1至40。根据一实施方式，上述烷基的碳原子数为1至20。根据另一实施方式，上述烷基的碳原子数为1至10。根据另一实施方式，上述烷基的碳原子数为1至6。作为烷基的具体例，有甲基、乙基、丙基、正丙基、异丙基、丁基、正丁基、异丁基、叔丁基、仲丁基、1-甲基-丁基、1-乙基-丁基、戊基、正戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、己基、正己基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、4-甲基-2-戊基、3,3-二甲基丁基、2-乙基丁基、庚基、正庚基、1-甲基己基、环戊基甲基、环己基甲基、辛基、正辛基、叔辛基、1-甲基庚基、2-乙基己基、2-丙基戊基、正壬基、2,2-二甲基庚基、1-乙基-丙基、1,1-二甲基-丙基、异己基、2-甲基戊基、4-甲基己基、5-甲基己基等，但并不限定于此。
在本说明书中，上述烯基可以为直链或支链，碳原子数没有特别限定，但优选为2至40。根据一实施方式，上述烯基的碳原子数为2至20。根据另一实施方式，上述烯基的碳原子数为2至10。根据另一实施方式，上述烯基的碳原子数为2至6。作为具体例，有乙烯基、1-丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、3-甲基-1-丁烯基、1,3-丁二烯基、烯丙基、1-苯基乙烯-1-基、2-苯基乙烯-1-基、2,2-二苯基乙烯-1-基、2-苯基-2-(萘-1-基)乙烯-1-基、2,2-双(二苯-1-基)乙烯-1-基、茋基、苯乙烯基等，但并不限定于此。
在本说明书中，环烷基没有特别限定，但优选为碳原子数3至60的环烷基，根据一实施方式，上述环烷基的碳原子数为3至30。根据另一实施方式，上述环烷基的碳原子数为3至20。根据另一实施方式，上述环烷基的碳原子数为3至6。具体而言，有环丙基、环丁基、环戊基、3-甲基环戊基、2,3-二甲基环戊基、环己基、3-甲基环己基、4-甲基环己基、2,3-二甲基环己基、3,4,5-三甲基环己基、4-叔丁基环己基、环庚基、环辛基等，但并不限定于此。
在本说明书中，芳基没有特别限定，但优选为碳原子数6至60的芳基，可以为单环芳基或多环芳基。根据一实施方式，上述芳基的碳原子数为6至30。根据一实施方式，上述芳基的碳原子数为6至20。关于上述芳基，作为单环芳基，可以为苯基、联苯基、三联苯基等，但并不限定于此。作为上述多环芳基，可以为萘基、蒽基、菲基、芘基、苝基、
基、芴基等，但并不限定于此。
在本说明书中，芴基可以被取代，2个取代基可以彼此结合而形成螺结构。在上述芴基被取代的情况下，可以成为
等，但并不限定于此。
在本说明书中，杂环基是包含O、N、Si和S中的1个以上作为杂元素的杂环基，碳原子数没有特别限定，但优选碳原子数为2至60。作为杂环基的例子，有噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、噻唑基、
唑基、
二唑基、三唑基、吡啶基、联吡啶基、嘧啶基、三嗪基、吖啶基、哒嗪基、吡嗪基、喹啉基、喹唑啉基、喹喔啉基、酞嗪基、吡啶并嘧啶基、吡啶并吡嗪基、吡嗪并吡嗪基、异喹啉基、吲哚基、咔唑基、苯并
唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、苯并咔唑基、苯并噻吩基、二苯并噻吩基、苯并呋喃基、菲咯啉基(phenanthroline)、异
唑基、噻二唑基、吩噻嗪基和二苯并呋喃基等，但不仅限于此。
在本说明书中，芳烷基、芳烯基、烷基芳基、芳基胺基中的芳基与上述芳基的例示相同。在本说明书中，芳烷基、烷基芳基、烷基胺基中的烷基与上述烷基的例示相同。在本说明书中，杂芳基胺中的杂芳基可以适用上述关于杂环基的说明。在本说明书中，芳烯基中的烯基与上述烯基的例示相同。在本说明书中，亚芳基为2价基团，除此以外，可以适用上述关于芳基的说明。在本说明书中，亚杂芳基为2价基团，除此以外，可以适用上述关于杂环基的说明。在本说明书中，烃环不是1价基团，而是2个取代基结合而成，除此以外，可以适用上述关于芳基或环烷基的说明。在本说明书中，杂环不是1价基团，而是2个取代基结合而成，除此以外，可以适用上述关于杂环基的说明。
下面，按照各构成对本发明详细地进行说明。
阳极和阴极
在本发明中使用的阳极和阴极是指在有机发光器件中所使用的电极。
作为上述阳极物质，通常为了使空穴能够顺利地向有机物层注入，优选为功函数大的物质。作为上述阳极物质的具体例，有钒、铬、铜、锌、金等金属或它们的合金；氧化锌、氧化铟、氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等金属氧化物；ZnO:Al或SnO2:Sb等金属与氧化物的组合；聚(3-甲基噻吩)、聚[3,4-(亚乙基-1,2-二氧)噻吩](PEDOT)、聚吡咯和聚苯胺等导电性高分子等，但不仅限于此。
作为上述阴极物质，通常为了使电子容易地向有机物层注入，优选为功函数小的物质。作为上述阴极物质的具体例，有镁、钙、钠、钾、钛、铟、钇、锂、钆、铝、银、锡和铅等金属或它们的合金；LiF/Al或LiO2/Al等多层结构物质等，但不仅限于此。
空穴注入层
根据本发明的有机发光器件根据需要可以在上述阳极与后述的空穴传输层之间包括空穴注入层。
上述空穴注入层是注入来自电极的空穴的层，作为空穴注入物质，优选为如下化合物：具有传输空穴的能力，具有注入来自阳极的空穴的效果，具有对于发光层或发光材料的优异的空穴注入效果，防止发光层中生成的激子向电子注入层或电子注入材料迁移，而且薄膜形成能力优异的化合物。此外，优选空穴注入物质的HOMO(最高占有分子轨道，highest occupied molecular orbital)介于阳极物质的功函数与周围有机物层的HOMO之间。
作为空穴注入物质的具体例，有金属卟啉(porphyrin)、低聚噻吩、芳基胺系有机物、六腈六氮杂苯并菲系有机物、喹吖啶酮(quinacridone)系有机物、苝(perylene)系有机物、蒽醌及聚苯胺和聚噻吩系导电性高分子等，但不仅限于此。
空穴传输层
根据本发明的有机发光器件可以在上述阳极与后述的发光层之间、或后述的电子抑制层与上述空穴注入层之间包括空穴传输层。
上述空穴传输层是接收来自空穴注入层的空穴并将空穴传输至发光层的层，空穴传输物质是能够从阳极或空穴注入层接收空穴并将其转移至发光层的物质，对空穴的迁移率大的物质是合适的。
作为上述空穴传输物质的具体例，有芳基胺系有机物、导电性高分子、以及同时存在共轭部分和非共轭部分的嵌段共聚物等，但不仅限于此。
电子阻挡层
上述电子抑制层是为了防止从阴极注入的电子不在发光层中再结合而转移至空穴传输层，从而置于空穴传输层与发光层之间的层的层，也称为电子抑制层。电子阻挡层优选与电子传输层电子相比亲电子能力小的物质。
发光层
在本发明中使用的发光层是指能够从阳极和阴极接受空穴和电子并使它们结合而发出可见区域的光的层。通常情况下，发光层包含主体材料和掺杂剂材料，在本发明中包含由上述化学式1表示的化合物和由上述化学式2表示的化合物作为主体。
优选地，上述化学式1由选自下述化学式1-1至1-9中的任一个表示：
在上述化学式1-1至1-9中，Ar1、Ar2、L1、L2和L3与上面所定义的相同。
优选地，Ar1和Ar2可以各自独立地为取代或未取代的C6-20芳基；或者取代或未取代的包含选自N、O和S中的任一个或更多个的C2-20杂芳基。
更优选地，Ar1和Ar2可以各自独立地为苯基、联苯基、萘基、菲基、苯基咔唑基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基或苯并萘并呋喃基。
优选地，L1和L2可以各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-20亚芳基。
更优选地，L1和L2可以各自独立地为单键、亚苯基或亚萘基。
最优选地，L1和L2可以各自独立地为单键或选自下述基团中的任一个：
优选地，L3可以为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基。
更优选地，L3可以为单键、亚苯基、亚联苯基或亚萘基。
最优选地，L3可以为单键或选自下述基团中的任一个：
由上述化学式1表示的化合物的代表性的例子如下所示：
作为一个例子，由上述化学式1表示的化合物可以通过如下述反应式1所示的制造方法进行制造，除此以外，其余化合物也可以类似地制造。
[反应式1]
在上述反应式1中，Ar1、Ar2、L1至L3、R1和R2与上述化学式1中的定义相同，X1为卤素，优选地，X1为氯或溴。
上述反应式1作为胺取代反应，优选在钯催化剂和碱的存在下进行，用于胺取代反应的反应基团可以根据本技术领域中已知的技术进行变更。上述制造方法可以在后述的制造例中更具体化。
优选地，Ar3和Ar4可以各自独立地为取代或未取代的C6-20芳基、或者取代或未取代的包含选自O和S中的任一个或更多个的C2-20杂芳基。
更优选地，Ar3和Ar4可以各自独立地为苯基、联苯基、三联苯基、萘基、菲基、二甲基芴基、二苯基芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、或苯并萘并呋喃基。
最优选地，Ar3和Ar4可以各自独立地为苯基、联苯基、三联苯基、萘基、菲基、9,9-二甲基-9H-芴基、9,9-二苯基-9H-芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、或苯并[b]萘并[2,3-d]呋喃基。
优选地，L4至L6可以各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-20亚芳基。
更优选地，L4至L6可以各自独立地为单键、亚苯基或二甲基亚芴基。
最优选地，L4至L6可以各自独立地为单键、亚苯基、或9,9-二甲基-9H-亚芴基。
由上述化学式2表示的化合物的代表性的例子如下所示：
作为一个例子，由上述化学式2表示的化合物可以通过如下述反应式2所示的制造方法进行制造，除此以外，其余化合物也可以类似地制造。
[反应式2]
在上述反应式2中，Ar3、Ar4和L4至L6与上述化学式2中的定义的相同，X2为卤素，X2优选为氯或溴。
上述反应式2为胺取代反应，优选在钯催化剂和碱的存在下进行，用于胺取代反应的反应基团可以根据本技术领域中已知的技术进行变更。上述制造方法可以在后述的制造例中更具体化。
在上述发光层中，由上述化学式1表示的化合物和由上述化学式2表示的化合物的重量比为1:99至99:1、5:95至95:5、或10:90至90:10。
上述掺杂剂材料只要是在有机发光器件中使用的物质，就没有特别限制。作为一个例子，有芳香族胺衍生物、苯乙烯基胺化合物、硼配合物、荧蒽化合物、金属配合物等。具体而言，芳香族胺衍生物是具有取代或未取代的芳基氨基的芳香族稠环衍生物，有具有芳基氨基的芘、蒽、
二茚并芘等，苯乙烯基胺化合物是在取代或未取代的芳基胺上取代有至少1个芳基乙烯基的化合物，被选自芳基、甲硅烷基、烷基、环烷基和芳基氨基中的1个或2个以上的取代基取代或未取代。具体而言，有苯乙烯基胺、苯乙烯基二胺、苯乙烯基三胺、苯乙烯基四胺等，但并不限定于此。此外，作为金属配合物，有铱配合物、铂配合物等，但并不限定于此。
作为一个例子，可以使用如下所示的化合物中的一个作为掺杂剂材料，但并不限定于此：
空穴阻挡层
上述空穴阻挡层是为了防止从阳极注入的空穴不在发光层中再结合而转移至电子传输层，从而置于电子传输层与发光层之间的层，也称为空穴抑制层。在空穴阻挡层中优选使用电离能大的物质。
电子传输层
根据本发明的有机发光器件，可以在上述发光层与阴极之间包括电子传输层。
上述电子传输层是从阴极或形成在阴极上的电子注入层接收电子并将电子传输至发光层且抑制空穴从发光层中的传输的层，电子传输物质是能够从阴极良好地接收电子并将其转移至发光层的物质，对电子的迁移率大的物质是合适的。
作为上述电子传输物质的具体例，有8-羟基喹啉的Al配合物、包含Alq3的配合物、有机自由基化合物、羟基黄酮-金属配合物等，但不仅限于此。电子传输层可以如现有技术中所使用的那样与任意期望的阴极物质一同使用。特别是，合适的阴极物质的例子是具有低功函数且伴有铝层或银层的通常的物质。具体为铯、钡、钙、镱和钐，在各情况下均伴有铝层或银层。
电子注入层
根据本发明的有机发光器件根据需要可以在上述电子传输层与阳极之间进一步包括电子注入层。
上述电子注入层是注入来自电极的电子的层，优选使用如下化合物：具有传输电子的能力，具有注入来自阴极的电子的效果，具有对发光层或发光材料的优异的电子注入效果，防止发光层中生成的激子向空穴注入层迁移，而且薄膜形成能力优异的化合物。
可以用于上述电子注入层的物质的具体例，有芴酮、蒽醌二甲烷、联苯醌、噻喃二氧化物、
唑、
二唑、三唑、咪唑、苝四羧酸、亚芴基甲烷、蒽酮等和它们的衍生物、金属配位化合物和含氮五元环衍生物等，但并不限定于此。
作为上述金属配位化合物，有8-羟基喹啉锂、双(8-羟基喹啉)锌、双(8-羟基喹啉)铜、双(8-羟基喹啉)锰、三(8-羟基喹啉)铝、三(2-甲基-8-羟基喹啉)铝、三(8-羟基喹啉)镓、双(10-羟基苯并[h]喹啉)铍、双(10-羟基苯并[h]喹啉)锌、双(2-甲基-8-喹啉)氯化镓、双(2-甲基-8-喹啉)(邻甲酚)镓、双(2-甲基-8-喹啉)(1-萘酚)铝、双(2-甲基-8-喹啉)(2-萘酚)镓等，但并不限定于此。
另一方面，在本发明中，“电子注入和传输层”是同时起到上述电子注入层和上述电子传输层的作用的层，可以单独使用起到上述各层的作用的物质，或者可以混合使用，但并不限定于此。
有机发光器件
将根据本发明的有机发光器件的结构例示于图1至图3。图1图示了由基板1、阳极2、发光层3和阴极4构成的有机发光器件的例子。此外，图2图示了由基板1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、发光层3、电子传输层7、电子注入层8和阴极4构成的有机发光器件的例子。图3图示了由基板1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、电子阻挡层9、发光层3、空穴阻挡层10、电子传输层7、电子注入层8和阴极4构成的有机发光器件的例子。
根据本发明的有机发光器件可以通过依次层叠上述的构成而制造。这时可以如下制造：利用溅射法(sputtering)或电子束蒸发法(e-beam evaporation)之类的PVD(physical Vapor Deposition：物理气相沉积)方法，在基板上蒸镀金属或具有导电性的金属氧化物或它们的合金而形成阳极，然后在该阳极上形成上述的各层，之后在其上蒸镀可用作阴极的物质而制造。
除了这些方法以外，还可以以与上述构成相反的顺序在基板上依次蒸镀阴极物质到阳极物质而制造有机发光器件(WO 2003/012890)。此外，主体和掺杂剂不仅可以利用真空蒸镀法，还可以利用溶液涂布法来形成发光层。在这里，所谓溶液涂布法是指旋涂法、浸涂法、刮涂法、喷墨印刷法、丝网印刷法、喷雾法、辊涂法等，但不仅限于此。
另一方面，根据本发明的有机发光器件，可以是底部发光(bottom emission)器件、顶部发光(top emission)器件、或双向发光器件，特别是，可以为要求相对较高的发光效率的底部发光器件。
下面，为了帮助理解本发明而提出优选的实施例。但是，下述的实施例只是为了更容易地理解本发明而提供的，本发明的内容并不限定于此。
[制造例]
制造例1-1
在氮气氛下，将9H-咔唑(9H-carbazole)(10g，59.8mmol)、化合物物质(sub)1(25.6g，62.8mmol)、磷酸钾(Potassium Phosphate)(38.1g，179.4mmol)加入到200ml的二甲苯(Xylene)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(bis(tri-tert-butylphosphine)palladium(0))(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了17.7g的化合物1-1(收率55％，MS:[M+H]+＝539)。
制造例1-2
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质2(25.6g，62.8mmol)、磷酸钾(38.1g，179.4mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了19g的化合物1-2(收率59％，MS:[M+H]+＝539)。
制造例1-3
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质3(27.2g，62.8mmol)、磷酸钾(38.1g，179.4mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了18.5g的化合物1-3(收率55％，MS:[M+H]+＝564)。
制造例1-4
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质4(30.4g，62.8mmol)、磷酸钾(38.1g，179.4mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了20.9g的化合物1-4(收率57％，MS:[M+H]+＝615)。
制造例1-5
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质5(29.5g，62.8mmol)、叔丁醇钠(sodium tert-butoxide)(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了23.3g的化合物1-5(收率65％，MS:[M+H]+＝601)。
制造例1-6
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质6(29.5g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了20.5g的化合物1-6(收率57％，MS:[M+H]+＝601)。
制造例1-7
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质7(27.2g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了19.2g的化合物1-7(收率57％，MS:[M+H]+＝565)。
制造例1-8
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质8(32.7g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了26.4g的化合物1-8(收率68％，MS:[M+H]+＝651)。
制造例1-9
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质9(30.4g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了24.6g的化合物1-9(收率67％，MS:[M+H]+＝615)。
制造例1-10
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质10(30.4g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了23.5g的化合物1-10(收率67％，MS:[M+H]+＝615)。
制造例1-11
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质11(27.2g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了17.5g的化合物1-11(收率52％，MS:[M+H]+＝565)。
制造例1-12
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质12(27.9g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了18.2g的化合物1-12(收率53％，MS:[M+H]+＝575)。
制造例1-13
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质13(29.5g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了19.4g的化合物1-13(收率54％，MS:[M+H]+＝601)。
制造例1-14
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质14(35.1g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了28.4g的化合物1-14(收率69％，MS:[M+H]+＝690)。
制造例1-15
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质15(31g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了26.1g的化合物1-15(收率70％，MS:[M+H]+＝625)。
制造例1-16
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质16(31.4g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了22.2g的化合物1-16(收率59％，MS:[M+H]+＝631)。
制造例1-17
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质17(26.4g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了18.1g的化合物1-17(收率55％，MS:[M+H]+＝551)。
制造例1-18
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质18(32g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了24.5g的化合物1-18(收率64％，MS:[M+H]+＝641)。
制造例1-19
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质19(31.1g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了25.1g的化合物1-19(收率67％，MS:[M+H]+＝627)。
制造例1-20
在氮气氛下，将9H-咔唑(10g，59.8mmol)、化合物物质20(33g，62.8mmol)、叔丁醇钠(7.5g，77.7mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.6g，1.2mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了20g的化合物1-20(收率51％，MS:[M+H]+＝657)。
制造例1-21
在氮气氛下，将7H-苯并[c]咔唑(7H-benzo[c]carbazole)(10g，46mmol)、化合物物质21(18.1g，48.3mmol)、磷酸钾(29.3g，138.1mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了14.3g的化合物1-21(收率56％，MS:[M+H]+＝555)。
制造例1-22
在氮气氛下，将7H-苯并[c]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质7(21g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了14.7g的化合物1-22(收率52％，MS:[M+H]+＝615)。
制造例1-23
在氮气氛下，将7H-苯并[c]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质22(26.9g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了22g的化合物1-23(收率65％，MS:[M+H]+＝737)。
制造例1-24
在氮气氛下，将7H-苯并[c]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质23(16.6g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了12.1g的化合物1-24(收率50％，MS:[M+H]+＝525)。
制造例1-25
在氮气氛下，将7H-苯并[c]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质24(16.6g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了12.5g的化合物1-25(收率52％，MS:[M+H]+＝525)。
制造例1-26
在氮气氛下，将7H-苯并[c]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质25(25.1g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了20.3g的化合物1-26(收率63％，MS:[M+H]+＝701)。
制造例1-27
在氮气氛下，将7H-苯并[c]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质26(25.4g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了18.2g的化合物1-27(收率56％，MS:[M+H]+＝707)。
制造例1-28
在氮气氛下，将5H-苯并[b]咔唑(5H-benzo[b]carbazole)(10g，46mmol)、化合物物质27(17.8g，48.3mmol)、磷酸钾(29.3g，138.1mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了16.9g的化合物1-28(收率67％，MS:[M+H]+＝549)。
制造例1-29
在氮气氛下，将5H-苯并[b]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质28(20.3g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了19.3g的化合物1-29(收率70％，MS:[M+H]+＝601)。
制造例1-30
在氮气氛下，将5H-苯并[b]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质29(21.7g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了17.7g的化合物1-30(收率61％，MS:[M+H]+＝631)。
制造例1-31
在氮气氛下，将5H-苯并[b]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质30(24.6g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了20g的化合物1-31(收率63％，MS:[M+H]+＝690)。
制造例1-32
在氮气氛下，将5H-苯并[b]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质31(25.1g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了21.3g的化合物1-32(收率66％，MS:[M+H]+＝701)。
制造例1-33
在氮气氛下，将5H-苯并[b]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质32(19g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了14g的化合物1-33(收率53％，MS:[M+H]+＝575)。
制造例1-34
在氮气氛下，将5H-苯并[b]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质33(22.7g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了15.3g的化合物1-34(收率51％，MS:[M+H]+＝651)。
制造例1-35
在氮气氛下，将5H-苯并[b]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质17(20.3g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了18.2g的化合物1-35(收率66％，MS:[M+H]+＝601)。
制造例1-36
在氮气氛下，将11H-苯并[a]咔唑(11H-benzo[a]carbazole)(10g，46mmol)、化合物物质34(22.7g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了15g的化合物1-36(收率50％，MS:[M+H]+＝651)。
制造例1-37
在氮气氛下，将11H-苯并[a]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质35(21.7g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了20.3g的化合物1-37(收率70％，MS:[M+H]+＝631)。
制造例1-38
在氮气氛下，将11H-苯并[a]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质36(27.1g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了20.4g的化合物1-38(收率60％，MS:[M+H]+＝741)。
制造例1-39
在氮气氛下，将11H-苯并[a]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质37(25.4g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了17.9g的化合物1-39(收率55％，MS:[M+H]+＝707)。
制造例1-40
在氮气氛下，将11H-苯并[a]咔唑(10g，46mmol)、化合物物质38(24.6g，48.3mmol)、叔丁醇钠(5.7g，59.8mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，0.9mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了15.9g的化合物1-40(收率50％，MS:[M+H]+＝691)。
制造例1-41
在氮气氛下，将7H-二苯并[b,g]咔唑(7H-dibenzo[b,g]carbazole)(10g，37.4mmol)、化合物物质39(14.7g，39.3mmol)、磷酸钾(23.8g，112.2mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g，0.7mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了11.5g的化合物1-41(收率51％，MS:[M+H]+＝605)。
制造例1-42
在氮气氛下，将7H-二苯并[b,g]咔唑(10g，37.4mmol)、化合物物质40(19g，39.3mmol)、叔丁醇钠(4.7g，48.6mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g，0.7mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了13.9g的化合物1-42(收率52％，MS:[M+H]+＝715)。
制造例1-43
在氮气氛下，将6H-二苯并[b,h]咔唑(6H-dibenzo[b,h]carbazole)(10g，37.4mmol)、化合物物质41(14.1g，39.3mmol)、磷酸钾(23.8g，112.2mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g，0.7mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了13.6g的化合物1-43(收率62％，MS:[M+H]+＝589)。
制造例1-44
在氮气氛下，将6H-二苯并[b,h]咔唑(10g，37.4mmol)、化合物物质42(19.6g，39.3mmol)、叔丁醇钠(4.7g，48.6mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g，0.7mmol)。2小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了19.1g的化合物1-44(收率70％，MS:[M+H]+＝731)。
制造例1-45
在氮气氛下，将13H-二苯并[a,h]咔唑(13H-dibenzo[a,h]carbazole)(10g，37.4mmol)、化合物物质43(16g，39.3mmol)、磷酸钾(23.8g，112.2mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g，0.7mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了14.1g的化合物1-45(收率59％，MS:[M+H]+＝639)。
制造例1-46
在氮气氛下，将13H-二苯并[a,h]咔唑(10g，37.4mmol)、化合物物质44(17.7g，39.3mmol)、叔丁醇钠(4.7g，48.6mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g，0.7mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了13.7g的化合物1-46(收率54％，MS:[M+H]+＝681)。
制造例1-47
在氮气氛下，将7H-二苯并[c,g]咔唑(7H-dibenzo[c,g]carbazole)(10g，37.4mmol)、化合物物质45(14.1g，39.3mmol)、磷酸钾(23.8g，112.2mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g，0.7mmol)。3小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了12.1g的化合物1-47(收率55％，MS:[M+H]+＝589)。
制造例2-1
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(2-bromotriphenylene)(10g，32.6mmol)、化合物胺(amine)1(11g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了12.5g的化合物2-1(收率70％，MS:[M+H]+＝548)。
制造例2-2
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺2(12.7g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了13g的化合物2-2(收率67％，MS:[M+H]+＝598)。
制造例2-3
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺3(13.6g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了13.4g的化合物2-3(收率66％，MS:[M+H]+＝624)。
制造例2-4
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺4(12.7g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了11.7g的化合物2-4(收率60％，MS:[M+H]+＝598)。
制造例2-5
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺5(15.3g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了13.2g的化合物2-5(收率60％，MS:[M+H]+＝674)。
制造例2-6
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺6(10.1g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10.9g的化合物2-6(收率64％，MS:[M+H]+＝522)。
制造例2-7
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺7(13.6g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了12.6g的化合物2-7(收率62％，MS:[M+H]+＝624)。
制造例2-8
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺8(13.6g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了11.2g的化合物2-8(收率55％，MS:[M+H]+＝624)。
制造例2-9
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺9(11.8g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10.6g的化合物2-9(收率57％，MS:[M+H]+＝572)。
制造例2-10
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺10(10.9g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10.3g的化合物2-10(收率58％，MS:[M+H]+＝546)。
制造例2-11
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺11(14.4g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10.7g的化合物2-11(收率51％，MS:[M+H]+＝648)。
制造例2-12
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(15g，48.8mmol)和(4-氯苯基)硼酸((4-chlorophenyl)boronicacid)(7.6g，48.8mmol)加入到300ml的THF中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(potassium carbonate)(13.5g，97.7mmol)溶解于40ml的水而进行投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.5mmol)。反应10小时后，冷却至常温，分离有机层和水层后，将有机层进行蒸馏。，将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了12.4g的化合物物质1-1(收率75％，MS:[M+H]+＝339)。
在氮气氛下，将物质1-1(10g，29.5mmol)、化合物胺12(7.6g，31mmol)、叔丁醇钠(3.7g，38.4mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10g的化合物2-12(收率62％，MS:[M+H]+＝548)。
制造例2-13
在氮气氛下，将物质1-1(10g，29.5mmol)、化合物胺13(11.5g，31mmol)、叔丁醇钠(3.7g，38.4mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10.9g的化合物2-13(收率55％，MS:[M+H]+＝674)。
制造例2-14
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺15(12g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了12.6g的化合物2-14(收率67％，MS:[M+H]+＝578)。
制造例2-15
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺17(13.2g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了11.7g的化合物2-15(收率59％，MS:[M+H]+＝612)。
制造例2-16
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺18(11.9g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10.5g的化合物2-16(收率56％，MS:[M+H]+＝576)。
制造例2-17
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺19(12.5g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了12.1g的化合物2-17(收率63％，MS:[M+H]+＝592)。
制造例2-18
在氮气氛下，将2-溴三亚苯(10g，32.6mmol)、化合物胺20(13g，34.2mmol)、叔丁醇钠(4.1g，42.3mmol)加入到200ml的二甲苯中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了11.1g的化合物2-18(收率56％，MS:[M+H]+＝608)。
[实施例]
实施例1
将ITO(氧化铟锡，indium tin oxide)以
的厚度被涂布成薄膜的玻璃基板放入溶解有洗涤剂的蒸馏水中，利用超声波进行洗涤。这时，洗涤剂使用菲希尔公司(Fischer Co.)制品，蒸馏水使用了利用密理博公司(Millipore Co.)制造的过滤器(Filter)过滤两次的蒸馏水。将ITO洗涤30分钟后，用蒸馏水重复两次而进行10分钟超声波洗涤。在蒸馏水洗涤结束后，用异丙醇、丙酮、甲醇的溶剂进行超声波洗涤并干燥后，输送至等离子体清洗机。此外，利用氧等离子体，将上述基板清洗5分钟后，将基板输送至真空蒸镀机。
在这样准备的ITO透明电极上，作为空穴注入层，将下述化合物HI-1以
的厚度形成，且将下述化合物A-1以1.5重量％进行p-掺杂(p-doping)。在上述空穴注入层上，将下述化合物HT-1进行真空蒸镀，从而形成膜厚度
的空穴传输层。接着，在上述空穴传输层上，以膜厚度
将下述化合物EB-1进行真空蒸镀而形成电子阻挡层。接着，在上述EB-1蒸镀膜上，将作为主体的在上述制造的化合物1-1、化合物2-1和作为掺杂剂的Dp-7化合物以49:49:2的重量比进行真空蒸镀，从而形成
厚度的红色发光层。在上述发光层上，以膜厚度
将下述化合物HB-1进行真空蒸镀而形成空穴阻挡层。接着，在上述空穴阻挡层上，将下述化合物ET-1和下述化合物LiQ以2:1的重量比进行真空蒸镀，从而以
的厚度形成电子注入和传输层。在上述电子注入和传输层上，依次将氟化锂(LiF)以
的厚度、将铝以
的厚度进行蒸镀，从而形成阴极。
在上述过程中，有机物的蒸镀速度维持
阴极的氟化锂维持
的蒸镀速度，铝维持
的蒸镀速度，在蒸镀时，真空度维持2×10-7～5×10-6托，从而制作了有机发光器件。
实施例2至实施例205
在实施例1的有机发光器件中，将表1中记载的第一主体和第二主体化合物以1:1的重量比进行共蒸镀而使用，除此以外，通过与上述实施例1相同的方法制造了有机发光器件。
比较例1至比较例30
在实施例1的有机发光器件中，将表2中记载的第一主体和第二主体化合物以1:1的重量比进行共蒸镀而使用，除此以外，通过与上述实施例1相同的方法制造了有机发光器件。表2的化合物B-1至B-3如下所示。
比较例31至比较例63
在实施例1的有机发光器件中，将表3中记载的第一主体和第二主体化合物以1:1的重量比进行共蒸镀而使用，除此以外，通过与上述实施例1相同的方法制造了有机发光器件。表3的化合物C-1至C-3如下所示。
[实验例]
对在上述实施例1至实施例205和比较例1至比较例63中制造的有机发光器件施加电流时，测定了电压、效率(15mA/cm2基准)，将其结果示于下述表1至表3。寿命T95是指亮度从初始亮度(6000尼特)减少至95％所需的时间。
[表1]
[表2]
[表3]
对根据实施例1至205和比较例1至63而制作的有机发光器件施加电流时，得到了上述表1至表3的结果。在上述实施例的红色有机发光器件中，是将作为以往广泛使用的物质的化合物EB-1用作电子阻挡层物质、将化合物Dp-7用作红色掺杂剂物质的结构。可以看出将本发明的由化学式1表示的化合物与由化学式2表示的化合物进行共蒸镀而用作红色发光层时，如表1所示，与比较例相比，驱动电压减少，且效率和寿命增加。此外，如表2所示，将比较例化合物B-1至B-3与本发明的化学式2的化合物进行共蒸镀而用作红色发光层时，与本发明的组合相比，显示出大体上驱动电压上升且效率和寿命降低的结果，如表3所示，将比较例化合物C-1至C-3与本发明的化学式1的化合物进行共蒸镀而用作红色发光层时，也显示出驱动电压上升且效率和寿命降低的结果。
从这样的结果可以推测出，本发明的作为第一主体的化学式1的化合物与作为第二主体的化学式2的化合物进行组合时，向红色发光层内的红色掺杂剂的能量传递有效地实现，因此改善驱动电压，提高效率和寿命。即，可以确认，与比较例化合物的组合相比，本发明的由化学式1表示的化合物与由化学式2表示的化合物的组合在发光层内通过更稳定的平衡，使电子与空穴结合而形成激子，从而大幅提高效率和寿命。结果可以确认将本发明的化学式1的化合物与化学式2的化合物组合而进行共蒸镀，从而用作红色发光层的主体时，可以改善有机发光器件的驱动电压、发光效率和寿命特性。
[符号说明]
1：基板2：阳极
3：发光层4：阴极
5：空穴注入层6：空穴传输层
7：电子传输层8：电子注入层
9：电子阻挡层10：空穴阻挡层。
Claims (9)
1.一种有机发光器件，其中，包括：阳极、阴极、以及所述阳极与阴极之间的发光层，
所述发光层包含由下述化学式1表示的化合物和由下述化学式2表示的化合物：
化学式1
在所述化学式1中，
Ar1和Ar2各自独立地为取代或未取代的C6-60芳基；或者取代或未取代的包含选自N、O和S中的任一个或更多个的C2-60杂芳基，
L1和L2各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
L3为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
R1各自独立地为氢或氘，或者相邻的两个结合而形成苯环，其余为氢或氘，
R2各自独立地为氢或氘，或者相邻的两个结合而形成苯环，其余为氢或氘，
化学式2
在所述化学式2中，
Ar3和Ar4各自独立地为取代或未取代的C6-60芳基、或者取代或未取代的包含选自O和S中的任一个或更多个的C2-60杂芳基，
L4至L6各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基。
2.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，所述化学式1为选自下述化学式1-1至1-9中的任一个：
在所述化学式1-1至1-9中，
Ar1、Ar2、L1、L2和L3与权利要求1中的定义相同。
3.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，Ar1和Ar2各自独立地为苯基、联苯基、萘基、菲基、苯基咔唑基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基或苯并萘并呋喃基。
4.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，L1和L2各自独立地为单键、亚苯基或亚萘基。
5.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，L3为单键、亚苯基、亚联苯基或亚萘基。
6.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，由所述化学式1表示的化合物为选自下述化合物组成的组中的任一个：
7.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，Ar3和Ar4各自独立地为苯基、联苯基、三联苯基、萘基、菲基、二甲基芴基、二苯基芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基或苯并萘并呋喃基。
8.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，L4至L6各自独立地为单键、亚苯基或亚二甲基芴基。
9.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，由所述化学式2表示的化合物为选自下述化合物组成的组中的任一个：
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