CN114003144B - 一种触控结构、触控显示装置和制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种触控结构、触控显示装置和制作方法，以改善现有技术中的触控结构在扇出区会存在色差的问题。所述触控结构，包括：多个触控电极，与所述触控电极电连接的触控引线，所述触控引线在扇出区与绑定端子电连接；至少部分所述触控引线在所述扇出区包括沿第一方向延伸的第一延伸部，以及沿第二方向延伸、连接所述第一延伸部与所述绑定端子的第二延伸部；在由所述触控电极所在区域指向所述绑定端子的方向上，各所述第一延伸部在靠近所述绑定端子一侧的延伸长度逐渐减小，各所述第一延伸部在延伸长度减小的区域形成走线缺失区，所述走线缺失区在至少部分相邻两个所述第二延伸部之间的间隙设置有浮置电极块。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种触控结构、触控显示装置和制作方法。
背景技术
平面显示器(F1at Pane1 Disp1ay，FPD)己成为市场上的主流产品，平面显示器的种类也越来越多，如液晶显示器(Liquid Crysta1 Disp1ay，LCD)、有机发光二极管(Organic Light Emitted Diode，OLED)显示器、等离子体显示面板(P1asma Disp1ayPane1，PDP)及场发射显示器(Field Emission Display，FED)等。
但现有技术的触控线面板，在触控结构的扇出区(Fanout区)，有线路区和无线路区域会形成色差，影响产品品质。
发明内容
本发明提供一种触控结构、触控显示装置和制作方法，以改善现有技术中的触控结构在扇出区会存在色差的问题。
本发明实施例提供一种触控结构，包括：多个触控电极，与所述触控电极电连接的触控引线，所述触控引线在扇出区与绑定端子电连接；
至少部分所述触控引线在所述扇出区包括沿第一方向延伸的第一延伸部，以及沿第二方向延伸、连接所述第一延伸部与所述绑定端子的第二延伸部；在由所述触控电极所在区域指向所述绑定端子的方向上，各所述第一延伸部在靠近所述绑定端子一侧的延伸长度逐渐减小，各所述第一延伸部在延伸长度减小的区域形成走线缺失区，所述走线缺失区在至少部分相邻两个所述第二延伸部之间的间隙设置有浮置电极块。
在一种可能的实施方式中，所述走线缺失区内，所述走线缺失区内，所述浮置电极块的面积与相邻的所述第二延伸部的延伸长度正相关。
在一种可能的实施方式中，所述浮置电极块包括多个相互分割的子浮置电极块。
在一种可能的实施方式中，所述子浮置电极块包括金属走线构成的第一网格，所述第一网格的边断开。
在一种可能的实施方式中，所述触控电极包括金属走线构成的第二网格，所述第一网格的密度与所述第二网格的密度相同。
在一种可能的实施方式中，所述触控结构包括第一触控结构层，以及第二触控结构层；
所述触控电极包括第一触控电极，以及第二触控电极，所述触控引线包括与所述第一触控电极电连接的第一触控引线，以及与所述第二触控电极电连接的第二触控引线；所述浮置电极块包括位于所述第一触控引线相邻两个所述第二延伸部之间的第一浮置电极块，以及位于所述第二触控引线相邻两个所述第二延伸部之间的第二浮置电极块；
所述第一触控电极、所述第一触控引线、所述第一浮置电极块位于所述第一触控结构层，所述第二触控电极，所述第二触控引线、所述第二浮置电极块位于所述第二触控结构层。
在一种可能的实施方式中，所述第一触控结构层还包括第一走线屏蔽部，所述第二浮置电极块在所述第一走线屏蔽部的正投影落于所述第一走线屏蔽部内；
所述第二触控结构层还包括第二走线屏蔽部，所述第一浮置电极块在所述第二走线屏蔽部的正投影落于所述第二走线屏蔽部内。
在一种可能的实施方式中，所述第一浮置电极与所述第一触控结构层内的第一功能信号线的最小间距范围为20μm～30μm；其中，所述第一功能信号线包括第一触控电极，所述第一触控引线，和/或所述第一走线屏蔽部；
所述第二浮置电极与所述第二触控结构层内的第二功能信号线的最小间距范围为20μm～30μm；其中，所述第二功能信号线包括第二触控电极，所述第二触控引线，和/或所述第二走线屏蔽部。
在一种可能的实施方式中，所述第一触控结构层包括具有第一凹槽的第一绝缘层，所述第二触控结构层具有第二凹槽的第二绝缘层；
所述第一触控电极位于所述第一凹槽，所述第二触控电极位于所述第二凹槽。
在一种可能的实施方式中，所述触控结构还包括位于所述第一凹槽内覆盖所述第一触控电极的第一遮光图案，以及位于所述第二凹槽内覆盖所述第二触控电极的第二遮光图案。
在一种可能的实施方式中，所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间还具有间隔层。
在一种可能的实施方式中，所述第一绝缘层的最大厚度范围为16μm～20μm；所述第二绝缘层的最大厚度范围为16μm～20μm。
在一种可能的实施方式中，所述触控结构还包括位于所述第一触控结构层远离所述第二触控结构层一侧的显示结构层；所述第一触控结构层与所述显示结构层之间通过光学胶层贴合。
本发明实施例还提供一种触控显示装置，包括如本发明实施例提供的所述触控结构。
本发明实施例还提供一种如本发明实施例提供的所述触控结构的制作方法，包括：
形成触控结构层，其中，所述触控结构层包括：个触控电极，与所述触控电极电连接的触控引线，其中，至少部分所述触控引线在所述扇出区包括沿第一方向延伸的第一延伸部，以及沿第二方向延伸、连接所述第一延伸部与所述绑定端子的第二延伸部；在由所述触控电极所在区域指向所述绑定端子的方向上，各所述第一延伸部在靠近所述绑定端子一侧的延伸长度逐渐减小，各所述第一延伸部在延伸长度减小的区域形成走线缺失区，所述走线缺失区在至少部分相邻两个所述第二延伸部之间的间隙设置有浮置电极块；
形成显示结构层；
将所述触控结构层与所述显示结构层贴合。
在一种可能的实施方式中，所述形成触控结构层，包括：
提供第一基材和第二基材；
在所述第一基材的表面涂第一绝缘层，并通过卷压或平面压印方式在所述第一绝缘层上压出第一凹槽，并在所述第一凹槽内依次填充第一触控电极和所述第一遮光图案；以及在所述第二基材的表面涂第二绝缘层，并通过卷压或平面压印方式在所述第二绝缘层上压出第二凹槽，并在所述第二凹槽内依次填充第二触控电极和所述第二遮光图案；
去除所述第一基材，并在所述第二遮光图案背离所述第二触控电极的一侧形成间隔层，并将所述第一绝缘层与所述间隔层进行贴合；
去除所述第二基材。
本发明实施例有益效果如下：本发明实施例中，对于触控引线在扇出区形成的走线缺失区，在至少部分相邻两个第二延伸部之间的间隙设置有浮置电极块，进而可以改善走线缺失区与走线密集区，因走线密集程度不同造成的色差，进而提高触控结构的显示品质。
附图说明
图1为本发明实施例提供的触控结构的结构示意图之一；
图2为本发明实施例提供的触控结构的结构示意图之二；
图3为本发明实施例提供的触控结构的结构示意图之三；
图4为本发明实施例提供的浮置电极块包括多个子浮置电极块的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的子浮置电极块包括多个断线网格的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的触控结构的结构示意图之四；
图7为本发明实施例提供的触控结构的结构示意图之五；
图8为本发明实施例提供的触控结构的结构示意图之六；
图9为本发明实施例提供的触控结构的结构示意图之七；
图10为本发明实施例提供的第一浮置电极与功能信号线的间距示意图；
图11为本发明实施例提供的第二浮置电极与功能信号线的间距示意图；
图12为本发明实施例提供的触控结构的制作流程示意图之一；
图13为本发明实施例提供的触控结构的制作流程示意图之二；
图14为本发明实施例提供的触控结构的制作流程示意图之三；
图15为本发明实施例提供的触控结构设置有银胶块的示意图；
图16为本发明实施例提供的通过卷压方式形成线路沟槽的示意图；
图17为本发明实施例提供的通过平面压印方式形成线路沟槽的示意图；
图18为本发明实施例提供的触控结构的结构示意图之八。
具体实施方式
为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
为了保持本公开实施例的以下说明清楚且简明，本公开省略了已知功能和已知部件的详细说明。
参见图1、图2和图3所示，本发明实施例提供一种触控结构，包括：多个触控电极1，与触控电极1电连接的触控引线2，触控引线2在扇出区S与绑定端子4电连接；
至少部分触控引线2在扇出区S包括沿第一方向A1延伸的第一延伸部31，以及沿第二方向A2延伸、连接第一延伸部31与绑定端子4的第二延伸部32；在由触控电极1所在区域指向绑定端子4的方向上(也即平行于第二方向A2的方向)，各第一延伸部31在靠近绑定端子4一侧的延伸长度逐渐减小，各第一延伸部31在延伸长度减小的区域形成走线缺失区B，走线缺失区B在至少部分相邻两个第二延伸部32之间的间隙设置有浮置电极块5。
本发明实施例中，对于触控引线2在扇出区S形成的走线缺失区B，在至少部分相邻两个第二延伸部32之间的间隙设置有浮置电极块5，进而可以改善走线缺失区B与走线密集区(例如图2中走线缺失区B两侧的区域)，因走线密集程度不同造成的色差，进而提高触控结构的显示品质。
需要说明的是，图2和图3为触控结构的较多个触控引线形成的走线缺失区示意图，其中，为了清楚地示意出走线缺失区B，未示出更多其它结构，但本发明不以此为限；图1为触控结构的整体示意图，其中，图1为了更清晰地示意出触控电极、触控引线以及浮置电极块的设置，仅是以触控结构具有9个第一触控电极11，12个第二触控电极12为例进行的示意性说明，在具体实施时，触控结构可以具有更多个第一触控电极11以及第二触控电极12，本发明不以此为限。
在具体实施时，触控电极可以包括第一触控电极11，以及第二触控电极12，具体的，第一触控电极11可以为发射电极Tx，第二触控电极12具体可以为接收电极Rx；触控引线2可以包括与第一触控电极11对应电连接的第一触控引线21，以及与第二触控电极12对应电连接的第二触控引线22；走线缺失区B具体可以包括由多个第一触控引线21在扇出区S形成的第一走线缺失区B1，以及由第二触控引线22在扇出区S形成的第二走线缺失区B2以及第三走线缺失区B3；浮置电极块5具体可以包括位于第一触控走线21的相邻第二延伸部32之间的第一浮置电极块51，以及包括位于第二触控走线22的相邻第二延伸部32之间的第二浮置电极块52。
在一种可能的实施方式中，走线缺失区B内，浮置电极块5的面积与相邻的第二延伸部32的延伸长度正相关。例如，对于图1中的第三走线缺失区B3，其浮置电极块5的面积与其左侧的第二延伸部32的延伸长度正相关，即，第二延伸部32的延伸长度越长，与其相邻的浮置电极块5的面积越大。如此，可以实现与因各第一延伸部31延伸长度不同而形成的走线缺失区B形状相匹配，形成较为均一的颜色。
在一种可能的实施方式中，参见图4和图5所示，其中，浮置电极块5包括多个相互分割的子浮置电极块51，子浮置电极块51包括金属走线构成的第一网格510，第一网格510的边断开。本公开实施例中，浮置电极块5包括多个相互分割的子浮置电极块51，即，将浮置电极块5打碎，按区域大小，分为多个子浮置电极块51，减小面积，避免一大片的浮置电极块5造成不必要的讯号耦合效应；子浮置电极块51包括金属走线构成的第一网格510，第一网格510的边断开，即，用第一网格510填充子浮置电极块51时，将第一网格510切碎，使其不连接在一起，避免子浮置电极块51造成不必要的讯号耦合效应。
在一种可能的实施方式中，触控电极1可以包括金属走线构成的第二网格(图中未示出)，第一网格510的密度与第二网格的密度相同，如此，可以落使走线缺失区B的色差与触控区的沿一致，避免不同区域之间的色差。具体的，扇出区S也可以包括其它功能信号线，例如，第一走线屏蔽部，以及第二走线屏蔽部，第一走线屏蔽部，以及第二走线屏蔽部也可以设置有金属网格，第一网格510的密度也可以与第一走线屏蔽部以及第一走线屏蔽部内的金属网格密度一致。
在一种可能的实施方式中，参见图6所示，触控结构包括第一触控结构层111，以及第二触控结构层112；触控电极包括第一触控电极11，以及第二触控电极12，触控引线2包括与第一触控电极11电连接的第一触控引线21，以及与第二触控电极12电连接的第二触控引线22；浮置电极块5包括位于第一触控引线21相邻两个第二延伸部32之间的第一浮置电极块51，以及位于第二触控引线22相邻两个第二延伸部32之间的第二浮置电极块52；第一触控电极11、第一触控引线21、第一浮置电极块51位于第一触控结构层111，第二触控电极12，第二触控引线22、第二浮置电极块52位于第二触控结构层112。
在一种可能的实施方式中，参见图7、图8和图9所示，其中，图8为仅第一触控结构层111的结构示意图，图9为仅第二触控结构层112的结构示意图，图7为包括第一触控结构层111以及第二触控结构层112的叠层结构示意图，第一触控结构层111还包括第一走线屏蔽部P1，第二浮置电极块52在第一走线屏蔽部P1的正投影落于第一走线屏蔽部P1内，即第一走线屏蔽部P1覆盖第二浮置电极块52，避免第二浮置电极块52对触控结构的其它结构造成不必要的讯号耦合效应；第二触控结构层112还包括第二走线屏蔽部P2，第一浮置电极块51在第二走线屏蔽部P2的正投影落于第二走线屏蔽部P2内，即，第二走线屏蔽部P2覆盖第一浮置电极块51，避免第一浮置电极块51对触控结构的其它结构造成不必要的讯号耦合效应。具体的，第一走线屏蔽部P1可以为T形，第二走线屏蔽部P2分别位于T形的第一走线屏蔽部P1的两侧。
在一种可能的实施方式中，结合图10所示，第一浮置电极51与第一触控结构层111内的第一功能信号线的最小间距d1范围为20μm～30μm；其中，第一功能信号线可以包括第一触控电极11，第一触控引线21，和/或第一走线屏蔽部P1；结合图11所示，第二浮置电极52与第二触控结构层112内的第二功能信号线的最小间距d2范围为20μm～30μm；其中，第二功能信号线包括第二触控电极12，第二触控引线22，和/或第二走线屏蔽部P2。
在一种可能的实施方式中，结合图6所示，第一触控结构层111包括具有第一凹槽K1的第一绝缘层101，第二触控结构层112具有第二凹槽K2的第二绝缘层102；第一触控电极11位于第一凹槽K1，第二触控电极12位于第二凹槽K2。具体的，第一绝缘层101的材料可以为紫外胶层，第二绝缘层102的材料可以为紫外胶层。本发明实施例中，通过在第一绝缘层101形成第一凹槽K1，在第二绝缘层102形成第二凹槽K2，并将第一触控电极11设置于第一凹槽K1，将第二触控电极12设置于第二凹槽K2，可以实现触控结构的无基材结构，可以降低触控结构的厚度，实现超薄触控结构。
在一种可能的实施方式中，结合图6所示，触控结构还包括位于第一凹槽K1内覆盖第一触控电极11的第一遮光图案13，以及位于第二凹槽K2内覆盖第二触控电极12的第二遮光图案14。具体的，第一遮光图13的材料可以为黑墨，第二遮光图案14的材料可以为黑墨。
在一种可能的实施方式中，结合图6所示，第一绝缘层101与第二绝缘层102之间还具有间隔层7。具体的，间隔层7的材料可以为紫外胶层。
在一种可能的实施方式中，结合图6所示，触控结构还包括位于第一触控结构层111远离第二触控结构层112一侧的显示结构层6；第一触控结构层111与显示结构层6之间通过光学胶层8贴合。具体的，触控结构还可以包括位于第二触控结构层112远离第一触控结构层111一侧的偏光片93。具体的，显示结构层6可以包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。
在一种可能的实施方式中，第一绝缘层101的最大厚度范围为16μm～20μm；第二绝缘层102的最大厚度范围为16μm～20μm。其中，第一绝缘层101的最大厚度可以理解为非第一凹槽K1所在区域处的厚度，第二绝缘层102的最大厚度可以理解为非第二凹槽K2所在区域处的厚度。具体的，间隔层7的厚度可以为6μm～8μm。具体的，第一触控电极11与第一遮光图案13的厚度之和可以为1.5μm～3μm。具体的，光学胶层8的厚度可以为20μm～30μm，例如，具体可以为25μm。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种触控显示装置，包括如本发明实施例提供的触控结构。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种如本发明实施例提供的触控结构的制作方法，参见图12所示，包括：
步骤S100、形成触控结构层，其中，触控结构层包括：个触控电极，与触控电极电连接的触控引线，其中，至少部分触控引线在扇出区包括沿第一方向延伸的第一延伸部，以及沿第二方向延伸、连接第一延伸部与绑定端子的第二延伸部；在由触控电极所在区域指向绑定端子的方向上，各第一延伸部在靠近绑定端子一侧的延伸长度逐渐减小，各第一延伸部在延伸长度减小的区域形成走线缺失区，走线缺失区在至少部分相邻两个第二延伸部之间的间隙设置有浮置电极块；
步骤S200、形成显示结构层；
步骤S300、将触控结构层与显示结构层贴合。
在一种可能的实施方式中，参见图13所示，关于步骤S100，形成触控结构层，包括：
步骤S110、提供第一基材和第二基材；
步骤S120、在第一基材的表面涂第一绝缘层，并通过卷压或平面压印方式在第一绝缘层上压出第一凹槽，并在第一凹槽内依次填充第一触控电极和第一遮光图案；以及在第二基材的表面涂第二绝缘层，并通过卷压或平面压印方式在第二绝缘层上压出第二凹槽，并在第二凹槽内依次填充第二触控电极和第二遮光图案；
步骤S130、去除第一基材，并在第二遮光图案背离第二触控电极的一侧形成间隔层，并将第一绝缘层与间隔层进行贴合；
步骤S140、去除第二基材。
具体的，为了更清楚地理解本发明实施顺利提供的触控显示装置的制作方法，以下进行进一步说明如下：
无基材触控结构层的触控结构工艺流程如图14所示，其中，
①～③将大宽幅聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene glycol terephthalate，PET)卷料分成对应机种所需要的宽度，作为第一基材和第二基材，对卷料进行老化缩水，减少后工序材料的涨缩，然后处理基材表面，改变其性能，便于下工序压印；
④～⑦PET基材处理完毕后，分别在基材上制作第一触控结构层(BTM层，TX或Rx)和第二触控结构层(TOP层，RX或TX，其中，BTM层为TX层时，TOP层为RX，BTM层为RX层时，TOP层为TX)，在PET基材表面涂紫外胶层(UV胶层)，并在UV胶层压出所需要的线路沟槽，将导电银浆填充到线路沟槽中，形成触控电极(sensor)。之后，在绑定区(bonding区)位置覆盖一层银胶块T，如图15所示，加强bonding区域与柔性电路板(FPC)的导通性及附着力。然后进行烘烤，使银浆中的有机物蒸发，进一步固化黑墨(银墨)，使电性稳定，然后进行电性测试。
具体的，线路沟槽的形成方案可以包括：
方案一：卷压，如图16所示，滚筒(Roller)上的Sensor图案，在转动过程中压印至UV胶，UV光照射使其固化，适合量大且稳定持续性生产。
方案二：平面压印，如图17所示，Sensor图案制作在平板上，点UV胶后，将基材放置平板上，再使用滚轮进行压印固化，最后进行脱模。该方案整体切换比较灵活，但属于半人工状态，不适合量大持续性生产。
⑧将上层线路(TOP层)表面对应下层线路(BTM层)bonding位置冲切出来，便于下层线路bonding(具体见实施方案二)；
⑨撕掉TOP层最底部的PET基材，在上层线路和下层线路中间增加绝缘层(也即间隔层)，并贴合在一起；
触控结构层制作完成后，进行柔性电路板绑定(FPC Bonding)，再贴附至偏光片(POL)，然后撕掉BTM层下层的PET基材，使用光学胶层(OCA)贴至显示结构层，具体的，该显示结构层可以为液晶模组。
具体的，对于无基材触控结构层叠层架构及绑定区(Bonding区)设计可以如下：
方案一：如图18所示，TX/RX线路使用纳米银印刷至UV胶的沟槽里，无需其他基材，TX/RX之间的间隔层用于绝缘，防止TX/RX线路短路，再使用OCA贴附于彩膜基板(CF Glass)之上，在TOP层表面对应下层线路Bonding位置冲切出来，露出下层绑定垫94(BondingPad)，这样TOP层与BTM层绑定垫94不在同一平面，通过补偿刀头的方式，使刀头与BondingPad距离一致，进行Bonding。
方案二：如图6所示，通过涂胶、曝光、显影的方式，在走线区打孔，将BTM层的第一走线91(例如，可以包括BTM层的触控引线)走到TOP层，在TOP层制作第二走线92(例如，可以包括TOP层的触控引线)，使TOP/BTM层Bonding PAD位于同一水平面，再连接柔性电路板9进行Bonding。
在上层走线层扇出区(Fanout走线区)，印刷绝缘保护胶95，防止高温高湿及盐雾测试中腐蚀Fanout走线区。
本发明实施例有益效果如下：对于触控引线2在扇出区S形成的走线缺失区B，在至少部分相邻两个第二延伸部32之间的间隙设置有浮置电极块5，进而可以改善走线缺失区B与走线密集区(例如图2中走线缺失区B两侧的区域)，因走线密集程度不同造成的色差，进而提高触控结构的显示品质。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (16)
1.一种触控结构，其特征在于，包括：多个触控电极，与所述触控电极电连接的触控引线，所述触控引线在扇出区与绑定端子电连接；
至少部分所述触控引线在所述扇出区包括沿第一方向延伸的第一延伸部，以及沿第二方向延伸、连接所述第一延伸部与所述绑定端子的第二延伸部；在由所述触控电极所在区域指向所述绑定端子的方向上，各所述第一延伸部在靠近所述绑定端子一侧的延伸长度逐渐减小，各所述第一延伸部在延伸长度减小的区域形成走线缺失区，所述走线缺失区在至少部分相邻两个所述第二延伸部之间的间隙设置有浮置电极块。
2.如权利要求1所述的触控结构，其特征在于，所述走线缺失区内，所述浮置电极块的面积与相邻的所述第二延伸部的延伸长度正相关。
3.如权利要求2所述的触控结构，其特征在于，所述浮置电极块包括多个相互分割的子浮置电极块。
4.如权利要求3所述的触控结构，其特征在于，所述子浮置电极块包括金属走线构成的第一网格，所述第一网格的边断开。
5.如权利要求4所述的触控结构，其特征在于，所述触控电极包括金属走线构成的第二网格，所述第一网格的网格密度与所述第二网格的网格密度相同。
6.如权利要求1所述的触控结构，其特征在于，所述触控结构包括第一触控结构层，以及第二触控结构层；
所述触控电极包括第一触控电极，以及第二触控电极，所述触控引线包括与所述第一触控电极电连接的第一触控引线，以及与所述第二触控电极电连接的第二触控引线；所述浮置电极块包括位于所述第一触控引线的相邻两个所述第二延伸部之间的第一浮置电极块，以及位于所述第二触控引线的相邻两个所述第二延伸部之间的第二浮置电极块；
所述第一触控电极、所述第一浮置电极块位于所述第一触控结构层，所述第二触控电极，所述第二浮置电极块位于所述第二触控结构层。
7.如权利要求6所述的触控结构，其特征在于，所述第一触控结构层还包括第一走线屏蔽部，所述第二浮置电极块在所述第一走线屏蔽部的正投影落于所述第一走线屏蔽部内；
所述第二触控结构层还包括第二走线屏蔽部，所述第一浮置电极块在所述第二走线屏蔽部的正投影落于所述第二走线屏蔽部内。
8.如权利要求7所述的触控结构，其特征在于，所述第一浮置电极与所述第一触控结构层内的第一功能信号线的最小间距范围为20μm～30μm；其中，所述第一功能信号线包括第一触控电极，所述第一触控引线，和/或所述第一走线屏蔽部；
所述第二浮置电极与所述第二触控结构层内的第二功能信号线的最小间距范围为20μm～30μm；其中，所述第二功能信号线包括第二触控电极，所述第二触控引线，和/或所述第二走线屏蔽部。
9.如权利要求6所述的触控结构，其特征在于，所述第一触控结构层包括具有第一凹槽的第一绝缘层，所述第二触控结构层具有第二凹槽的第二绝缘层；
所述第一触控电极位于所述第一凹槽，所述第二触控电极位于所述第二凹槽。
10.如权利要求9所述的触控结构，其特征在于，所述触控结构还包括位于所述第一凹槽内覆盖所述第一触控电极的第一遮光图案，以及位于所述第二凹槽内覆盖所述第二触控电极的第二遮光图案。
11.如权利要求9所述的触控结构，其特征在于，所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间还具有间隔层。
12.如权利要求9所述的触控结构，其特征在于，所述第一绝缘层的最大厚度范围为16μm～20μm；所述第二绝缘层的最大厚度范围为16μm～20μm。
13.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-12任一项所述的触控结构。
14.如权利要求13所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控结构包括第一触控结构层，以及第二触控结构层；
所述触控显示装置还包括位于所述第一触控结构层远离所述第二触控结构层一侧的显示结构层；所述第一触控结构层与所述显示结构层之间通过光学胶层贴合。
15.一种如权利要求1-12任一项所述的触控结构的制作方法，其特征在于，包括：
形成触控结构层，其中，所述触控结构层包括：个触控电极，与所述触控电极电连接的触控引线，其中，至少部分所述触控引线在所述扇出区包括沿第一方向延伸的第一延伸部，以及沿第二方向延伸、连接所述第一延伸部与所述绑定端子的第二延伸部；在由所述触控电极所在区域指向所述绑定端子的方向上，各所述第一延伸部在靠近所述绑定端子一侧的延伸长度逐渐减小，各所述第一延伸部在延伸长度减小的区域形成走线缺失区，所述走线缺失区在至少部分相邻两个所述第二延伸部之间的间隙设置有浮置电极块；
形成显示结构层；
将所述触控结构层与所述显示结构层贴合。
16.如权利要求15所述的制作方法，其特征在于，所述形成触控结构层，包括：
提供第一基材和第二基材；
在所述第一基材的表面涂第一绝缘层，并通过卷压或平面压印方式在所述第一绝缘层上压出第一凹槽，并在所述第一凹槽内依次填充第一触控电极和第一遮光图案；以及在所述第二基材的表面涂第二绝缘层，并通过卷压或平面压印方式在所述第二绝缘层上压出第二凹槽，并在所述第二凹槽内依次填充第二触控电极和第二遮光图案；
去除所述第一基材，并在所述第二遮光图案背离所述第二触控电极的一侧形成间隔层，并将所述第一绝缘层与所述间隔层进行贴合；
去除所述第二基材。
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