CN113994128B - 真空泵装置 - Google Patents
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Abstract
在真空泵装置中能够以比较简单的构造实现均等排气。真空泵部(1)具备外转子(12)和内定子(11);升降式闸阀部(2)具备阀体(21)和阀座(22),阀体(21)沿着真空泵部(1)的旋转轴方向相对于阀座(22)升降。而且,内定子(11)具备贯通孔(11c),所述贯通孔(11c)沿着真空泵部(1)的旋转轴方向;对阀体(21)进行支承的支承部件(23)的至少一部分被配置于贯通孔(11c)。
Description
技术领域
本发明涉及真空泵装置及升降式闸阀。
背景技术
例如在半导体制造装置等的处理腔室的下部,为了调整该腔室内的压力,设有闸阀和真空泵装置。
某个真空泵装置具备使阀体在旋转轴方向上升降的升降式的闸阀(例如参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平11-62881号公报。
发明内容
发明要解决的课题
在闸阀为开状态的情况下,优选的是不论闸阀的开度如何都将腔室内的气体在周向上均等地排气。因此,优选的是不配置在周向上不均匀地阻碍气体的流动那样的构造部件,而在真空泵的中心部分配置对阀体进行支承的支承部件。
但是,如果要在真空泵的中心部分配置这样的支承部件,则如上述的真空泵装置那样,需要用来封闭的设备、构造,以使得气体不会从真空泵装置的转子与支承部件之间的间隙泄漏,所以真空泵装置的构造变得复杂。
本发明是鉴于上述的问题而做出的,目的是得到能够以比较简单的构造实现均等排气的真空泵装置及升降式闸阀。
用来解决课题的手段
有关本发明的真空泵装置具备:真空泵部,具备转子和定子;以及升降式闸阀部,具备阀体和阀座,阀体沿着真空泵部的旋转轴方向相对于阀座升降。而且,定子具备贯通孔,所述贯通孔沿着真空泵部的旋转轴方向;对阀体或阀座进行支承的支承部件的至少一部分被配置于贯通孔。
有关本发明的升降式闸阀具备:大致圆筒状的阀体,被配置在真空泵的外侧;大致圆盘状的阀座;以及支承部件,对阀座进行支承。而且,支承部件的至少一部分被配置于真空泵的定子的贯通孔。
发明效果
根据本发明,能够得到能够以比较简单的构造实现均等排气的真空泵装置及升降式闸阀。
本发明的上述或其他目的、特征及优越性根据以下的详细的说明和附图会变得更清楚。
附图说明
图1是表示有关本发明的实施方式1的真空泵装置的结构的剖视图。
图2是表示有关本发明的实施方式2的真空泵装置的结构的剖视图。
图3是表示有关本发明的实施方式3的真空泵装置的结构的剖视图。
图4是表示有关本发明的实施方式4的真空泵装置的结构的剖视图。
具体实施方式
以下,基于附图说明本发明的实施方式。
实施方式1.
图1是表示有关本发明的实施方式1的真空泵装置的结构的剖视图。图1所示的真空泵装置具备真空泵部1和升降式闸阀部2。
真空泵部1具备内定子11和外转子12。内定子11具备定子叶片11a,外转子12具备转子叶片12a。由定子叶片11a和转子叶片12a构成涡轮分子泵部13,在涡轮分子泵部13的后段形成有螺纹槽泵部14。另外,也可以不形成螺纹槽泵部14。
此外,在内定子11设有线圈11b,在外转子12设有线圈12b,由线圈11b、12b形成马达,借助该马达而外转子12旋转。此外,在内定子11及外转子12的一方或两方,设有轴承15及密封部16。
真空泵部1的上端的吸气口17具有大致圆环状的形状,具有在周向上大致均匀的宽度。进入到吸气口17的气体分子被真空泵部1从下部的排气口18排出。
进而,内定子11具备贯通孔11c,所述贯通孔11c沿着真空泵部1的旋转轴方向(即,外转子12的旋转轴,内定子11的中心轴)。即,内定子11被配置在真空泵部1的中央,贯通孔11c被形成在内定子11的中央。
另一方面,升降式闸阀部2具备阀体21和阀座22,阀体21沿着真空泵部1的旋转轴方向相对于阀座22升降。阀座22能够与腔室3连接。
而且,在实施方式1中,对阀体21进行支承的支承部件23的至少一部分被配置于贯通孔11c。
具体而言,圆柱状的支承部件23与大致圆盘状的阀体21的大致中心连接,经由内定子11的中心部分的上部开口部11d延伸到贯通孔11c的内部。
而且,在贯通孔11c的内部配置有升降装置24,升降装置24使支承部件23升降。例如,支承部件23及升降装置24是轴杆马达等这样的致动器,升降装置24被电气地控制,借助电磁力使支承部件23升降,由此使阀体21升降。
进而,在阀体21与内定子11之间,设有在旋转轴方向上伸缩自如的波纹管25,波纹管25具有大致圆筒折皱形状,将贯通孔11c的上部开口部11d气密封闭。
通过借助升降装置24而阀体21下降、与阀座22接触,升降式闸阀部2成为闭状态,通过借助升降装置24而阀体21上升、从阀座22离开,升降式闸阀部2成为开状态,进而,通过由升降装置24调整阀体21的位置,调整升降式闸阀部2的开度。
此外,阀座22的开口部具有与阀体21的形状匹配的形状,当升降式闸阀部2为闭状态时,阀体21与阀座22之间的空隙消失,当升降式闸阀部2为开状态时,阀体21与阀座22之间的流路宽度成为在周向上大致均匀。由此,实现均等排气。
接着,对有关实施方式1的真空泵装置的动作进行说明。
该真空泵装置与腔室3连接,未图示的控制装置对升降装置24进行控制,使阀体21上升或下降,调整升降式闸阀部2的开度。此时,匹配于阀体21的升降而波纹管25伸缩。
当升降式闸阀部2为开状态时,圆盘状的阀体21的周围开口,直到在周向上均匀的吸气口17为止形成在周向上均匀的气体流路。
由此,借助真空泵部1实现均等排气。
例如,在阀体21的上方配置有圆盘状的台、在台上载置有处理对象物的情况下,在周向上周围的气压分布成为大致均匀,在腔室3内的处理中变得不需要的气体被真空泵部1均等地排气。
如以上这样,根据上述实施方式1,真空泵部1具备外转子12和内定子11,升降式闸阀部2具备阀体21和阀座22,阀体21沿着真空泵部1的旋转轴方向相对于阀座22升降。而且,内定子11具备贯通孔11c,所述贯通孔11c沿着真空泵部1的旋转轴方向,对阀体21进行支承的支承部件23的至少一部分被配置于贯通孔11c。
由此,通过在不旋转的内定子11形成贯通孔11c,能够在真空泵部1的中心部分配置支承部件23,所以能以比较简单的构造实现均等排气。
实施方式2.
在有关实施方式2的真空泵装置中,真空泵部1的涡轮分子泵部13的构造与实施方式1不同。
图2是表示有关本发明的实施方式2的真空泵装置的结构的剖视图。如图2所示,在实施方式2中,内定子11具备中间筒11e,在中间筒11e的内周侧和外周侧的两方配置有定子叶片11a及转子叶片12a,没有设置实施方式1的密封部16那样的密封部。
另外,关于有关实施方式2的真空泵装置的其他的结构及动作,与实施方式1是同样的,所以省略其说明。
实施方式3.
图3是表示有关本发明的实施方式3的真空泵装置的结构的剖视图。
如图3所示,在实施方式3的升降式闸阀部2中,阀座41具有大致圆盘状的形状,阀体42具有大致圆筒状的形状,对阀座41进行支承的支承部件43与阀座41的大致中心连接,支承部件43的至少一部分被配置于内定子11的贯通孔11c。贯通孔11c具备上部开口部31,支承部件43将贯通孔11c的上部开口部31贯通,支承部件43因为不升降所以被固定,上部开口部31的壁面和支承部件43的间隙被固定地气密封闭。
此外,在该实施方式3中,阀座41被作为配置在腔室3内的台使用。
而且,在实施方式3中,阀体42被配置在真空泵部1的外侧,沿着真空泵部1的旋转轴方向升降。
此外,在真空泵部1的外周部,设有能够收容阀体42的外周收容部44,在外周收容部44内设有使阀体42升降的升降装置45。
升降装置45被电气地控制,例如是以与轴杆马达同样的原理、借助电磁力使阀体42升降的致动器。
在该实施方式3中,通过借助升降装置45而阀体42上升、与阀座41接触,升降式闸阀部2成为闭状态,通过借助升降装置45而阀体42下降、从阀座41离开,升降式闸阀部2成为开状态,进而,通过由升降装置45调整阀体42的位置,调整升降式闸阀部2的开度。
另外,也可以在阀座41的底面设置突起,使阀座41与阀体42接触的接触面为锥状。此外,也可以通过阀体42与阀座41的侧面接触而将流路闭塞,使升降式闸阀部2成为闭状态。在此情况下,也可以使阀座41与阀体42接触的接触面为锥状。
此外,阀体42的上部开口部具有与阀座41的形状(在该实施方式中,阀座41的底面的形状,这里是平面)匹配的形状,当升降式闸阀部2为闭状态时,阀座41与阀体42之间的空隙消失,当升降式闸阀部2为开状态时,阀座41与阀体42之间的流路宽度成为在周向上大致均匀。
由此,实现均等排气。
另外,实施方式3的真空泵部1的结构与实施方式1是同样的。此外,实施方式3的真空泵部1的结构也可以与实施方式2是同样的。
接着,对有关实施方式3的真空泵装置的动作进行说明。
未图示的控制装置对升降装置45进行电气地控制,使阀体42上升或下降,调整升降式闸阀部2的开度。
当升降式闸阀部2为开状态时,作为圆盘状的台的阀座41的周围开口,直到在周向上均匀的吸气口17为止形成在周向上均匀的气体流路。由此,借助真空泵部1实现均等排气。
即,作为台的阀座41的周边的气压分布成为在周向上大致均匀,在腔室3内的处理中变得不需要的气体被真空泵部1均等地排气。
如以上这样,根据上述实施方式3,真空泵部1具备外转子12和内定子11,升降式闸阀部2具备阀体42和阀座41,阀体42沿着真空泵部1的旋转轴方向相对于阀座41升降。而且,内定子11具备贯通孔11c,所述贯通孔11c沿着真空泵部1的旋转轴方向,对阀座41进行支承的支承部件43的至少一部分配置于贯通孔11c。
由此,通过在不旋转的内定子11形成贯通孔11c,能够将支承部件43配置在真空泵部1的中心部分,所以能以比较简单的构造实现均等排气。
实施方式4.
图4是表示有关本发明的实施方式4的真空泵装置的结构的剖视图。
在实施方式4中,升降式闸阀部2具备具有大致圆环状的形状的阀体61,此外,具备与实施方式3同样的阀座41及支承部件43。
此外,在真空泵部1的外周部,设有能够将阀体61的支承部件62收容的外周收容部63,在外周收容部63内,设有使支承部件62即阀体61升降的升降装置64。支承部件62及升降装置64例如是轴杆马达,升降装置64被电气地控制,是借助电磁力使支承部件62升降的致动器。
在实施方式4中,阀体61被配置在真空泵部1的外侧,如果沿着真空泵部1的旋转轴方向升降、上升,则与阀座41及腔室3的内壁3a接触而将气体流路闭塞。另外,也可以将阀座41与阀体61接触的接触面做成锥状。同样,也可以在腔室3的内壁3a设置突起,将腔室3的内壁3a与阀体61接触的接触面设为锥状。
此外,当阀体61下降而升降式闸阀部2为开状态时,阀座41与阀体61之间的流路宽度成为在周向上大致均匀。由此,实现均等排气。
另外,关于有关实施方式4的真空泵装置的其他的结构及动作,与实施方式3是同样的,所以省略其说明。
另外,关于对于上述实施方式的各种各样的变更及修正,对于本领域技术人员而言是显而易见的。这样的变更及修正也可以不从其主题的主旨及范围脱离、并且不减弱意图的优点而进行。即,意图将这样的变更及修正包含在权利要求书中。
例如,有关上述实施方式1~4的真空泵装置是外转子型的真空泵装置,但也可以为内转子型的真空泵装置。
产业上的可利用性
本发明例如能够应用于真空泵装置。
附图标记说明
1 真空泵部
2 升降式闸阀部(升降式闸阀的一例)
3 腔室
11 内定子(定子的一例)
11c 贯通孔
12 外转子(转子的一例)
21、42、61 阀体
22、41 阀座
23、43 支承部件
24、45、64 升降装置
25 波纹管。
Claims (3)
1.一种真空泵装置,其特征在于,
具备:
真空泵部,具备转子和定子,将进入到吸气口的气体分子从排气口排出;以及
升降式闸阀部,具备阀体和阀座,前述阀体沿着前述真空泵部的旋转轴方向相对于前述阀座升降;
前述定子具备贯通孔,所述贯通孔沿着前述真空泵部的旋转轴;
对前述阀体进行支承的支承部件的至少一部分被配置于前述贯通孔;
设置有圆筒形状的波纹管,以防止前述气体分子进入到前述贯通孔的上部开口部。
2.如权利要求1所述的真空泵装置,其特征在于,
还具备使前述支承部件升降的升降装置;
前述支承部件与前述阀体的中心连接;
前述升降装置被配置在前述贯通孔的内部。
3.如权利要求1或2所述的真空泵装置,其特征在于,
当前述升降式闸阀部为开状态时,前述阀体与前述阀座之间的流路宽度在周向上均匀。
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