CN113966489A - 感光性树脂组合物、树脂固化膜及图像显示元件 - Google Patents

感光性树脂组合物、树脂固化膜及图像显示元件 Download PDF

Info

Publication number
CN113966489A
CN113966489A CN202080043274.2A CN202080043274A CN113966489A CN 113966489 A CN113966489 A CN 113966489A CN 202080043274 A CN202080043274 A CN 202080043274A CN 113966489 A CN113966489 A CN 113966489A
Authority
CN
China
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
constituent unit
meth
copolymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202080043274.2A
Other languages
English (en)
Inventor
仓本拓树
周正伟
川口恭章
木下健宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Publication of CN113966489A publication Critical patent/CN113966489A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • G03F7/0758Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds with silicon- containing groups in the side chains
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

本发明涉及一种感光性树脂组合物,其特征在于,包含:(A)共聚物,其含有源自具有酸基的聚合性不饱和化合物的构成单元(a‑1)、下述式(1)或(2)表示的构成单元(a‑2)、以及源自其他聚合性不饱和化合物的构成单元(a‑3),其中,将全部构成单元的合计设为100摩尔%时,含有20摩尔%~80摩尔%的构成单元(a‑2),该共聚物的重均分子量为1000~50000,且分子量分布(Mw/Mn)为1.5~3.0;(B)含有选自碳数3~10的伯醇和碳数3~10的仲醇中的至少1种的溶剂;(C)反应性稀释剂,以及(D)光聚合引发剂。[式(1)中,R1表示氢原子或甲基,n为1~10的整数。式(2)中,R2表示氢原子或甲基,m为1~10的整数]。

Description

感光性树脂组合物、树脂固化膜及图像显示元件
技术领域
本发明涉及感光性树脂组合物、树脂固化膜和图像显示元件。
背景技术
近年来,随着液晶显示器的普及,正在积极地研究用作液晶显示器的构成部件的滤色器、设置于滤色器上的外涂层、层间绝缘膜等。
例如,外涂层和层间绝缘膜在其性质方面要求高的表面硬度,在通过光刻工艺制作的情况下也要求碱显影性。作为具有这样的性能的材料,专利文献1中提出了一种感光性树脂组合物,其包含树脂(A)、硅烷偶联剂(B)、聚合性化合物(C)、光聚合引发剂(D)和溶剂(E)。
通常,液晶显示器通过在分别制作的滤色器基板与TFT(Thin-Film-Transistor:薄膜晶体管)基板之间夹持液晶,将这些基板贴合而制造。在滤色器基板上形成有用于使液晶取向的聚酰亚胺膜等取向膜。在形成取向膜时,滤色器基板被暴露于聚酰亚胺树脂中含有的N-甲基吡咯烷酮(NMP)等极性高的溶剂中,因此要求滤色器基板具有耐溶剂性(耐NMP性)。专利文献2中公开了一种滤色器用感光性树脂组合物,其包含:含有特定构成单元的重均分子量为1000~50000且分子量分布(Mw/Mn)为1.5~3.0的共聚物、包括碳数3~10的含羟基溶剂的溶剂、反应性稀释剂、光聚合引发剂、和着色剂。
然而,在以往的感光性树脂组合物中,仍存在无法提供具有优异的耐溶剂性的树脂固化膜的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2019-53266号公报
专利文献2:国际公开第2018/110097号
发明内容
发明要解决的课题
本发明是为了解决上述课题而完成的,其目的在于提供一种可获得具有高硬度和优异耐溶剂性的树脂固化膜、且显影性良好的感光性树脂组合物。
进而,本发明的目的在于提供具有高硬度和优异的耐溶剂性的树脂固化膜、以及具备该树脂固化膜的图像显示元件。
解决课题的手段
本发明包括以下方案。
[1]感光性树脂组合物,其特征在于,包含:
(A)共聚物,其含有源自具有酸基的聚合性不饱和化合物的构成单元(a-1)、下述式(1)或(2)表示的构成单元(a-2)、以及源自其他聚合性不饱和化合物的构成单元(a-3),其中,将全部构成单元的合计设为100摩尔%时,含有20摩尔%~80摩尔%的构成单元(a-2),该共聚物的重均分子量为1000~50000,且分子量分布(Mw/Mn)为1.5~3.0,
(B)含有选自碳数3~10的伯醇和碳数3~10的仲醇中的至少1种的溶剂,
(C)反应性稀释剂,和
(D)光聚合引发剂,
[化1]
Figure BDA0003395720040000021
[化2]
Figure BDA0003395720040000031
[式(1)中,R1表示氢原子或甲基,n为1~10的整数。式(2)中,R2表示氢原子或甲基,m为1~10的整数。]
[2]根据[1]所述的感光性树脂组合物,其中,所述构成单元(a-1)的酸基为羧基,所述(A)共聚物含有10摩尔%~50摩尔%的所述构成单元(a-1),且所述(A)共聚物的酸值为20KOHmg/g~300KOHmg/g。
[3]根据[1]或[2]所述的感光性树脂组合物,其中,所述(B)溶剂含有碳数3~10的伯醇。
[4]根据[1]~[3]任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述构成单元(a-3)为源自具有环结构的聚合性不饱和化合物的构成单元。
[5]根据[1]~[4]任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述构成单元(a-3)为源自选自苯乙烯、苯乙烯衍生物、乙烯基甲苯、含芳族基团的(甲基)丙烯酸酯和含环状烃基的(甲基)丙烯酸酯中的至少1种聚合性不饱和化合物的构成单元。
[6]根据[1]~[5]任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述构成单元(a-3)为源自选自苯乙烯、乙烯基甲苯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸环己酯和(甲基)丙烯酸二环戊基酯中的至少1种聚合性不饱和化合物的构成单元。
[7]根据[1]~[6]任一项所述的感光性树脂组合物,其中,含有1摩尔%~70摩尔%的所述构成单元(a-3)。
[8]根据[1]~[7]任一项所述的感光性树脂组合物,其中,将除所述(B)溶剂以外的成分的总量设为100质量份时,所述(A)共聚物的含量为5质量份~85质量份,所述(C)反应稀释剂的含量为5质量份~85质量份,所述(D)光聚合引发剂的含量为0.1质量份~30质量份。
[9]根据[1]~[8]任一项所述的感光性树脂组合物,其还含有(E)着色剂。
[10]树脂固化膜,其特征在于,其为[1]~[9]任一项所述的感光性树脂组合物的固化物。
[11]图像显示元件,其特征在于,具备[10]所述的树脂固化膜。
发明效果
根据本发明,可以提供一种可获得具有高硬度和优异耐溶剂性的树脂固化膜、且显影性良好的感光性树脂组合物。另外,根据本发明,能够提供具有高硬度和优异的耐溶剂性的树脂固化膜、以及具备该树脂固化膜的图像显示元件。
具体实施方式
下面,详细说明本发明的实施方式。但是,本发明并不限定于以下所示的实施方式。
<感光性树脂组合物>
本实施方式的感光性树脂组合物含有(A)共聚物、(B)溶剂、(C)反应性稀释剂和(D)光聚合引发剂。本实施方式的感光性树脂组合物根据需要还含有(E)着色剂。本实施方式的感光性树脂组合物通过光照射而聚合固化,形成树脂固化膜。
[(A)共聚物]
本实施方式的(A)共聚物含有:源自具有酸基的聚合性不饱和化合物的构成单元(a-1)(以下也简称为“构成单元(a-1)”)、下述式(1)或(2)表示的构成单元(a-2)(以下也简称为“构成单元(a-2)”)、源自其他聚合性不饱和化合物的构成单元(a-3)(以下也简称为“构成单元(a-3)”)。
[化3]
Figure BDA0003395720040000051
[化4]
Figure BDA0003395720040000052
式(1)中,R1表示氢原子或甲基,n为1~10的整数。式(2)中,R2表示氢原子或甲基,m为1~10的整数。
作为构成单元(a-1)的原料的(A-1)具有酸基的聚合性不饱和化合物只要是具有酸基和烯属不饱和基团的单体,就没有特别限定。(A-1)化合物所具有的酸基没有特别限定,优选为羧基、磷酸基(-O-P(=O)(OH)2)、磺酸基(-S(=O)2OH)等。从显影性的观点考虑,酸基特别优选为羧基。
(A-1)作为化合物的具体例,例如可举出(甲基)丙烯酸、巴豆酸、肉桂酸、乙烯基磺酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基酸式磷酸酯等。其中,从获得的容易性和制造(A)共聚物时的反应性的观点考虑,优选(甲基)丙烯酸。予以说明,本说明书中,“(甲基)丙烯酸”是指选自甲基丙烯酸和丙烯酸中的至少1种,“(甲基)丙烯酸酯”是指选自甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯中的至少1种,“(甲基)丙烯酰基”是指选自甲基丙烯酰基和丙烯酰基中的至少1种。
作为构成单元(a-2)的原料的(A-2)化合物为下述式(3)或(4)表示的化合物。
[化5]
Figure BDA0003395720040000061
式(3)中,R1表示氢原子或甲基,n为1~10的整数。R1优选为甲基。n优选为2~6的整数,更优选为3。
[化6]
Figure BDA0003395720040000062
式(4)中,R2表示氢原子或甲基,m为1~10的整数。R2优选为甲基。m优选为2~6的整数,更优选为3。
作为上述(A-2)化合物的具体例,可举出[(甲基)丙烯酰氧基]甲基三乙氧基硅烷、[(甲基)丙烯酰氧基]乙基三乙氧基硅烷、[(甲基)丙烯酰氧基]丙基三乙氧基硅烷、[(甲基)丙烯酰氧基]辛基三乙氧基硅烷、[(甲基)丙烯酰氧基]丙基甲基二乙氧基硅烷、[(甲基)丙烯酰氧基]乙基甲基二乙氧基硅烷、[(甲基)丙烯酰氧基]壬基甲基二乙氧基硅烷等。其中,从获得容易度的观点考虑,优选3-[(甲基)丙烯酰氧基]丙基三乙氧基硅烷和3-[(甲基)丙烯酰氧基]丙基甲基二乙氧基硅烷。
(A)共聚物通过含有构成单元(a-2),可得到具有期望的硬度和耐溶剂性的树脂固化膜。另外,能够得到经时变化少且稳定的(A)共聚物,制成感光性树脂组合物时的保存稳定性也良好。
作为构成单元(a-3)的原料的(A-3)其他聚合性不饱和化合物为(A-1)化合物和(A-2)化合物以外的聚合性不饱和化合物,且为不具有酸基和烷氧基甲硅烷基且可与(A-1)化合物和(A-2)化合物共聚的聚合性不饱和化合物。
(A-3)作为其他聚合性不饱和化合物的具体例,例如可举出:
苯乙烯;苯乙烯的α-、o-、m-、p-烷基、硝基、氰基、酰胺衍生物;乙烯基甲苯;(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸三苯基甲酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸蒽酯等含芳族基团的(甲基)丙烯酸酯;(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸降冰片酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等含环状烃基的(甲基)丙烯酸酯;
(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸烷基酯;(甲基)丙烯酸2-异氰酸根合乙酯、(甲基)丙烯酸3-异氰酸根合丙酯等含异氰酸基的(甲基)丙烯酸酯;使用封端剂将上述含异氰酸基的(甲基)丙烯酸酯的异氰酸基封端而得到的含封端异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯;(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸N,N-二异丙基酰胺等(甲基)丙烯酰胺类;(甲基)丙烯酸枯基酯、(甲基)丙烯酸3-(N,N-二甲氨基)丙酯、单(甲基)丙烯酸甘油酯、单(甲基)丙烯酸丁三醇酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲氨基乙酯等(甲基)丙烯酸酯类;
丁二烯等二烯类;降冰片烯、降冰片烯(双环[2.2.1]庚-2-烯)、5-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、四环[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯、二环戊二烯、三环[5.2.1.02,6]癸-8-烯、四环[4.4.0.12,5.17,10.01,6]十二碳-3-烯、五环[6.5.1.13,6.02,7.09,13]十五碳-4-烯等不饱和环状烃化合物;氯乙烯、偏二氯乙烯、氟乙烯、偏二氟乙烯、乙烯基吡啶、乙酸乙烯酯、乙烯基甲苯等乙烯基化合物;柠康酸二乙酯、马来酸二乙酯、富马酸二乙酯、衣康酸二乙酯等不饱和二羧酸二酯;马来酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐等不饱和多元酸酐等。
其中,从树脂固化膜的硬度的观点考虑,(A-3)其他聚合性不饱和化合物优选为具有环结构的聚合性不饱和化合物。环结构是指芳环以及饱和脂环式结构。环结构的数量优选为1或2。饱和脂环式结构的碳数优选为5~8。具体而言,优选苯乙烯、苯乙烯衍生物、乙烯基甲苯、含芳族基团的(甲基)丙烯酸酯、含环状烃基的(甲基)丙烯酸酯、不饱和环状烃化合物等具有环结构的聚合性不饱和化合物,更优选选自苯乙烯、苯乙烯衍生物、乙烯基甲苯、含芳族基团的(甲基)丙烯酸酯和含有环状烃基的(甲基)丙烯酸酯中的至少1种。从树脂固化膜的硬度和耐溶剂性、以及作为感光性树脂组合物的保存稳定性的观点考虑,(A-3)其他聚合性不饱和化合物最优选为选自苯乙烯、乙烯基甲苯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸环己酯和(甲基)丙烯酸二环戊基酯中的至少1种。
这些(A-3)化合物可单独使用1种,也可以组合使用2种以上。
将(A)共聚物的全部构成单元的合计设为100摩尔%时,构成单元(a-2)的比例为20摩尔%~80摩尔%,优选为20摩尔%~70摩尔%,更优选为25摩尔%~50摩尔%。若构成单元(a-2)的比例小于20摩尔%,则无法得到树脂固化膜的期望的硬度和耐溶剂性。另一方面,若构成单元(a-2)的比例超过80摩尔%,则构成单元(a-1)的比例不足,得不到良好的显影性,另外感光性树脂组合物的保存稳定性差。
将(A)共聚物的全部构成单元的合计设为100摩尔%时,构成单元(a-1)的比例优选为10摩尔%~50摩尔%,更优选为20摩尔%~40摩尔%,最优选为25摩尔%~35摩尔%。当构成单元(a-1)的比例为上述范围内时,可得到良好的显影性。另外,将(A)共聚物的全部构成单元的合计设为100摩尔%时,构成单元(a-3)的比例优选为1摩尔%~70摩尔%,更优选为10摩尔%~60摩尔%,最优选为25摩尔%~50摩尔%。当构成单元(a-3)的比例为上述范围内时,可得到良好的显影性、树脂固化膜的硬度和耐溶剂性。
(A)共聚物的重均分子量(Mw)为1000~50000,优选为2000~30000,更优选为3000~15000。若(A)共聚物的重均分子量(Mw)小于1000,则树脂固化膜的耐溶剂性变差,或显影后的曝光部残膜率低。另一方面,若(A)共聚物的重均分子量(Mw)超过50000,则显影时间过长,丧失实用性。本实施方式的(A)共聚物的重均分子量(Mw)的值是使用凝胶渗透色谱(GPC)在下述条件下测定并按聚苯乙烯换算而计算出的值。
柱:Shodex(注册商标)LF-804+LF-804(昭和电工株式会社制)
柱温:40℃
样品:(A)共聚物的含量为0.2质量%的四氢呋喃溶液
展开溶剂:四氢呋喃
检测器:差示折射计(商品名:Shodex(注册商标)RI-71S,昭和电工株式会社制)
流速:1mL/分钟
本实施方式的(A)共聚物的分子量分布(Mw/Mn)为1.5~3.0,优选为1.5~2.5,更优选为1.5~2.0。若(A)共聚物的分子量分布(Mw/Mn)小于1.5,则必须精确设定重均分子量(Mw)、酸值等作为目标的数值范围的最佳化、制造(A)共聚物时的反应条件等,从研究工时和所得效果的平衡考虑是不现实的。另一方面,若(A)共聚物的分子量分布(Mw/Mn)超过3.0,则显影性产生偏差。分子量分布(Mw/Mn)由上述GPC测定的色谱测定。
本实施方式的(A)共聚物的酸值没有特别限定,优选为20KOHmg/g~300KOHmg/g,更优选为40KOHmg/g~200KOHmg/g,最优选为60KOHmg/g~150KOHmg/g。(A)共聚物的酸值为20KOHmg/g以上时,可得到更良好的显影性。另一方面,(A)共聚物的酸值为300KOHmg/g以下时,曝光部分(光固化部分)不溶于碱性显影液。
予以说明,(A)共聚物的酸值是根据JISK6901 5.3使用溴百里酚蓝和酚红的混合指示剂测定的值,是指中和(A)共聚物1g中含有的酸性成分所需的氢氧化钾的mg数。
本实施方式的(A)共聚物具有不饱和基团时,其不饱和基团的当量没有特别限定,优选为100g/mol~4000g/mol,更优选为200g/mol~3000g/mol。(A)共聚物的不饱和基团的当量为100g/mol以上时,有效地进一步提高耐热分解性和耐热黄变性。另一方面,(A)共聚物的不饱和基团当量为4000g/mol以下时,有效地进一步提高灵敏度。
本实施方式的(A)共聚物的甲硅烷基当量没有特别限定,优选为300g/mol~1000g/mol,更优选为350g/mol~900g/mol,最优选为400g/mol~800g/mol。(A)共聚物的甲硅烷基当量为300g/mol以上时,有效地进一步提高感光性树脂组合物的保存稳定性。另一方面,(A)共聚物的甲硅烷基当量为1000g/mol以下时,有效地进一步提高树脂固化膜的硬度和耐溶剂性。
予以说明,(A)共聚物的甲硅烷基当量(g/mol)是将(A)共聚物的质均分子量除以每1分子(A)共聚物的甲硅烷基的平均个数而得到的(A)共聚物的分子量,是基于后述的(A-2)化合物的投入量算出的计算值。
上述(A)共聚物可通过在溶剂的存在下使含有(A-1)化合物、(A-2)化合物和(A-3)化合物的单体混合物按照本技术领域中公知的自由基聚合方法共聚而制备。例如,将(A-1)化合物、(A-2)化合物和(A-3)化合物溶解于(B)溶剂中制备溶液,然后向该溶液中添加聚合引发剂,在50℃~130℃下反应1小时~20小时即可。(A)共聚物中的各化合物的重复数、各个化合物键合的顺序没有特别限定。另外,制备不含构成单元(a-1)、构成单元(a-2)和构成单元(a-3)中的任一种的共聚物,然后通过改性反应将缺少的构成单元导入共聚物内,由此可以制备包含构成单元(a-1)、构成单元(a-2)和构成单元(a-3)的(A)共聚物。
用于制造(A)共聚物的单体的配比可以以与规定上述构成单元(a-1)~(a-3)的含有比率的理由相同的理由来规定。即,将(A-1)~(A-3)化合物的合计设为100摩尔%时,(A-2)化合物的配比为20摩尔%~80摩尔%,优选为25摩尔%~70摩尔%,更优选为30摩尔%~50摩尔%。(A-1)化合物的配比优选为10摩尔%~50摩尔%,更优选为15摩尔%~45摩尔%,最优选为20摩尔%~40摩尔%。(A-3)化合物的配比优选为1摩尔%~70摩尔%,更优选为15摩尔%~60摩尔%,最优选为30摩尔%~50摩尔%。
制造(A)共聚物时使用的溶剂只要是对聚合反应惰性的溶剂就没有特别限定。如果使用与后述的感光性树脂组合物所含的溶剂相同的溶剂,则无需分离除去聚合反应用溶剂,因而是优选的。另外,通过使用选自碳数3~10的伯醇和碳数3~10的仲醇中的至少1种溶剂,能够容易地得到(A)共聚物的重均分子量(Mw)和分子量分布(Mw/Mn)被控制在规定范围内、并且具有期望的保存稳定性的感光性树脂组合物。使用不含碳数3~10的伯醇和仲醇的溶剂制造(A)共聚物时,有时发生胶凝化或者所得共聚物的重均分子量(Mw)和分子量分布(Mw/Mn)不在规定范围内,而且感光性树脂组合物的保存稳定性降低。从感光性树脂组合物的保存稳定性的观点考虑,优选使用以碳数3~10的伯醇或碳数3~10的仲醇为主成分的溶剂,更优选使用以碳数3~10的伯醇为主成分的溶剂。
作为碳数3~10的伯醇和碳数3~10的仲醇的具体例,可举出:丙醇、丁醇、己醇、辛醇、十二烷醇、苄醇等一元醇类;乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、二甘醇单甲基醚、二甘醇单正丁醚、三甘醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚、二丙二醇单甲基醚、3-甲氧基-1-丁醇等(聚)亚烷基二醇单烷基醚类等。其中,从获得的容易性和制造(A)共聚物时的稳定性的观点考虑,优选(聚)亚烷基二醇单烷基醚类。这些醇可单独使用1种,也可以组合使用2种以上。另外,上述醇包括各种异构体,但不含相当于叔胺的异构体。例如,丙醇中,除了1-丙醇以外,还包括2-丙醇。
制造(A)共聚物时使用的溶剂中还可以包含其他溶剂。作为其他溶剂,例如可举出:叔丁醇、双丙酮醇等叔醇类;乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯等(聚)亚烷基二醇单烷基醚乙酸酯类;二甘醇二甲基醚、二甘醇甲基乙基醚、二甘醇二乙基醚、四氢呋喃等其他醚类;甲乙酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮等酮类;2-羟基丙酸甲酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸正丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙酸正戊酯、乙酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-氧代丁酸乙酯等酯类;甲苯、二甲苯等芳族烃类;N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺等羧酰胺类等。其中,从制造(A)共聚物时的稳定性的观点考虑,优选丙二醇单甲基醚乙酸酯等(聚)亚烷基二醇单烷基醚乙酸酯系溶剂。
制造(A)共聚物时使用的溶剂中的选自碳数3~10的伯醇和碳数3~10的仲醇中的至少1种的含量优选为10质量%~100质量%,更优选为20质量%~100质量%。当选自碳数3~10的伯醇和碳数3~10的仲醇中的至少1种的含量在上述范围内时,能够容易地将(A)共聚物的重均分子量(Mw)和分子量分布(Mw/Mn)控制在规定范围内,并进一步提高感光性树脂组合物的保存稳定性。
制造(A)共聚物时使用的溶剂的量没有特别限定,在将(A-1)化合物、(A-2)化合物和(A-3)化合物的加入量的合计设为100质量份时,优选为30质量份~1000质量份,更优选为50质量份~800质量份。通过使溶剂的使用量为30质量份以上,能够防止异常的聚合反应,稳定地进行聚合反应,同时还能够防止(A)共聚物的着色、胶凝化。另外,通过使溶剂的使用量为1000质量份以下,可抑制因链转移作用造成的(A)共聚物的分子量降低,并且可将(A)共聚物的粘度控制在适当范围内。
作为制造(A)共聚物时可使用的聚合引发剂,没有特别限定,例如可举出:2,2’-偶氮双(异丁腈)、2,2’-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮双(异丁酸)二甲酯、过氧化苯甲酰、过氧化-2-乙基己酸叔丁酯等。这些聚合引发剂可单独使用1种,也可以组合使用2种以上。
制造(A)共聚物时使用的聚合引发剂的量没有特别限定,在将(A-1)化合物、(A-2)化合物和(A-3)化合物的加入量的合计设为100质量份时,优选为0.1质量份~20质量份,更优选为0.5质量份~16质量份。
在将该感光性树脂组合物中的除(B)溶剂以外的成分的总量设为100质量份时,本实施方式的感光性树脂组合物中的(A)共聚物的配合量优选为5质量份~85质量份,更优选为15质量份~75质量份,最优选为20质量份~65质量份。当(A)共聚物的配合量在上述范围内时,感光性树脂组合物的固化性变得更适当。
[(B)溶剂]
本实施方式的感光性树脂组合物中配合的(B)溶剂可以直接使用上述制造(A)共聚物时(共聚反应)使用的溶剂,也可以进一步添加上述例示的溶剂。另外,当添加其他成分时,也可以是共存于其中的溶剂。
在将该感光性树脂组合物中的除(B)溶剂以外的成分的总量设为100质量份时,本实施方式的感光性树脂组合物中的(B)溶剂的配合量优选为30质量份~1000质量份,更优选为50质量份~800质量份,最优选为100质量份~700质量份。当(B)溶剂的配合量在上述范围内时,感光性树脂组合物的粘度变得更适当。
[(C)反应性稀释剂]
作为本实施方式的感光性树脂组合物中配合的(C)反应性稀释剂,只要是含有烯属不饱和双键的化合物,就没有特别限定,优选含有选自乙烯基和(甲基)丙烯酰氧基中的至少1种的反应性稀释剂。作为(C)反应性稀释剂的具体例,例如可举出:苯乙烯、α-甲基苯乙烯、α-氯甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、二乙烯基苯、邻苯二甲酸二烯丙酯、二烯丙基苯膦酸酯等芳族乙烯基系单体类;乙酸乙烯酯、己二酸乙烯酯等多元羧酸单体类;(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸β-羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯等(甲基)丙烯酸酯单体;乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三(羟乙基)异氰尿酸酯的三(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯类;氰尿酸三烯丙基酯等。其中,特别优选具有多个(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯类。这些(C)反应性稀释剂可单独使用1种,也可以组合使用2种以上。
在将该感光性树脂组合物中的除(B)溶剂以外的成分的总量设为100质量份时,本实施方式的感光性树脂组合物中的(C)反应性稀释剂的配合量优选为5质量份~85质量份,更优选为15质量份~75质量份,最优选为20质量份~65质量份。当(C)反应性稀释剂的配合量在上述范围内时,感光性树脂组合物的粘度和光固化性变得更适当。
[(D)光聚合引发剂]
作为本实施方式的感光性树脂组合物中配合的(D)光聚合引发剂,没有特别限定,例如可举出:苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚等苯偶姻及其烷基醚类;苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1,1-二氯苯乙酮、4-(1-叔丁基二氧基-1-甲基乙基)苯乙酮等苯乙酮类;1-羟基环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等烷基苯基酮类;2-甲基蒽醌、2-戊基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、1-氯蒽醌等蒽醌类;2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮等噻吨酮类;苯乙酮二甲基缩酮、苄基二甲基缩酮等缩酮类;二苯甲酮、4-(1-叔丁基二氧基-1-甲基乙基)二苯甲酮、3,3’,4,4’-四(叔丁基二氧羰基)二苯甲酮等二苯甲酮类;1,2-辛二酮、1-[4-(苯硫基)-2-(邻苯甲酰肟)]、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基],1-(o-乙酰肟)等肟酯类;2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-丙烷-1-酮;2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮-1;2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等酰基氧化膦类;
Figure BDA0003395720040000141
吨酮类等。这些(D)光聚合引发剂可单独使用1种,也可以组合使用2种以上。
在将该感光性树脂组合物中的除(B)溶剂以外的成分的总量设为100质量份时,本实施方式的感光性树脂组合物中的(D)光聚合引发剂的配合量优选为0.1质量份~30质量份,更优选为0.5质量份~20质量份,最优选为1质量份~15质量份。当(D)光聚合引发剂的配合量在上述范围内时,感光性树脂组合物的光固化性变得更适当。
[(E)着色剂]
本实施方式的感光性树脂组合物根据需要还可以含有(E)着色剂。作为(E)着色剂,可以使用公知的染料和颜料。在使用染料作为(E)着色剂的情况下,与使用颜料的情况相比,可以得到亮度高的着色图案,而且显示出良好的碱显影性。
作为染料,从在(B)溶剂、碱显影液中的溶解性、与感光性树脂组合物中的其他成分的相互作用、耐热性等的观点考虑,优选使用具有羧基等酸性基团的酸性染料、酸性染料的与氮化合物的盐、酸性染料的磺酰胺等。作为这样的染料,例如可举出:酸性茜素紫N;酸性黑1、2、24、48;酸性蓝1、7、9、25、29、40、45、62、70、74、80、83、90、92、112、113、120、129、147;酸性铬紫K;酸性品红;酸性绿1、3、5、25、27、50;酸性橙6、7、8、10、12、50、51、52、56、63、74、95;酸性红1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、69、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、183、198、211、215、216、217、249、252、257、260、266、274;酸性紫6B、7、9、17、19;酸性黄1、3、9、11、17、23、25、29、34、36、42、54、72、73、76、79、98、99、111、112、114、116;食品黄3和它们的衍生物等。其中,优选偶氮系、
Figure BDA0003395720040000151
吨系、蒽醌系或酞菁系的酸性染料。这些染料根据目标像素的颜色,可以单独使用1种,也可以组合使用2种以上。
作为颜料,例如可举出:C.I.颜料黄1、3、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、83、86、93、94、109、110、117、125、128、137、138、139、147、148、150、153、154、166、173、194、214等黄色颜料;C.I.颜料橙13、31、36、38、40、42、43、51、55、59、61、64、65、71、73等橙色颜料;C.I.颜料红9、97、105、122、123、144、149、166、168、176、177、180、192、209、215、216、224、242、254、255、264、265等红色颜料;C.I.颜料蓝15、15:3、15:4、15:6、60等蓝色颜料;C.I.颜料紫1、19、23、29、32、36、38等紫色颜料;C.I.颜料绿7、36、58等绿色颜料;C.I.颜料棕23、25等茶色颜料;C.I.颜料黑1、7、炭黑、钛黑、氧化铁等黑色颜料等。这些颜料根据目标像素的颜色可以单独使用1种,也可以组合使用2种以上。另外,也可以并用染料和颜料。
在将该感光性树脂组合物中的除(B)溶剂以外的成分的总量设为100质量份时,本实施方式的感光性树脂组合物中的(E)着色剂的配合量优选为5质量份~75质量份,更优选为5质量份~65质量份,最优选为10质量份~55质量份。
在使用颜料作为(E)着色剂的情况下,从提高颜料的分散性的观点考虑,可以在感光性树脂组合物中配合公知的分散剂。作为分散剂,优选使用经时的分散稳定性优异的高分子分散剂。作为高分子分散剂,例如可举出:氨基甲酸酯系分散剂、聚乙烯亚胺系分散剂、聚氧乙烯烷基醚系分散剂、聚氧乙二醇二酯系分散剂、山梨糖醇酐脂族酯系分散剂、脂族改性酯系分散剂等。作为这样的高分子分散剂,可以使用以EFKA(EFKA公司制)、Disperbyk(BYK Chemie公司制)、Disparlon(楠本化成株式会社制)、SOLSPERSE(Zeneca公司制)等商品名销售的高分子分散剂。
含有着色剂的感光性树脂组合物中的分散剂的配合量可根据颜料等的种类适当调整。
本实施方式的感光性树脂组合物中,除了上述成分以外,为了赋予规定的特性,还可以配合公知的流平剂、热聚合抑制剂等公知的添加剂。感光性树脂组合物中的这些添加剂的配合量只要在不阻碍本发明效果的范围内就没有特别限定。
本实施方式的感光性树脂组合物可以通过使用公知的混合装置混合上述成分来制备,或者,也可以在先制备含有(A)共聚物和(B)溶剂的组合物后,即,在(B)溶剂的存在下使含有(A-1)化合物、(A-2)化合物和(A-3)化合物的单体混合物共聚后,添加(C)反应性稀释剂、(D)光聚合引发剂和任选成分的(E)着色剂,进行混合来制备。在后者的制备方法中,可以根据需要在共聚后追加添加(B)溶剂。
本实施方式的感光性树脂组合物由于具有碱显影性,因此可通过使用碱性水溶液进行显影。特别是,本实施方式的感光性树脂组合物的灵敏度和显影性优异,并且能够提供耐溶剂性优异的图案。因此,本实施方式的感光性树脂组合物适合用作有机EL显示装置、液晶显示装置、组装于固体摄像元件的滤色器及其外涂层、用于制造层间绝缘膜的抗蚀剂。
<树脂硬化膜>
本实施方式的树脂固化膜通过涂布上述感光性树脂组合物并使其光固化、烘烤而形成。在通过光刻法形成图案时,在基材上涂布上述感光性树脂组合物而形成涂膜,然后隔着规定图案的光掩模对涂膜进行曝光而使曝光部分光固化。接着将未曝光部分用碱性水溶液显影,然后烘烤,由此可形成具有规定图案的树脂固化膜。
作为感光性树脂组合物的涂布方法,没有特别限定,可使用丝网印刷法、辊涂法、幕涂法、喷涂法、旋涂法、狭缝涂布法等。
在涂布感光性树脂组合物而形成涂膜后,根据需要可以使用循环式烘箱、红外线加热器、加热板等加热手段来加热涂膜,以使(B)溶剂挥发。加热条件没有特别限定,可以根据感光性树脂组合物的组成而适当设定。例如,可以将涂膜在50℃~120℃的温度下加热30秒~30分钟。
作为对由感光性树脂组合物形成的涂膜曝光所使用的光源,没有特别限定,例如可以使用低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、氙气灯、金属卤化物灯等。另外,曝光量也没有特别限定,可以根据感光性树脂组合物的组成而适当设定。
作为显影所用的碱性水溶液,没有特别限定,例如可使用:碳酸钠、碳酸钾、碳酸钙、氢氧化钠、氢氧化钾等水溶液;乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺等胺系化合物的水溶液;四甲基氢氧化铵等季铵盐的水溶液;3-甲基-4-氨基-N,N-二乙基苯胺、3-甲基-4-氨基-N-乙基-N-β-羟乙基苯胺、3-甲基-4-氨基-N-乙基-N-β-甲烷磺酰胺乙基苯胺、3-甲基-4-氨基-N-乙基-N-β-甲氧基乙基苯胺以及它们的硫酸盐、盐酸盐或对甲苯磺酸盐等对苯二胺系化合物的水溶液等。其中,优选使用对苯二胺系化合物的水溶液。予以说明,在这些碱性水溶液中,根据需要可以添加消泡剂或表面活性剂。另外,优选在用上述碱性水溶液进行显影之后用水洗涤并干燥。
烘烤条件没有特别限定,根据感光性树脂组合物的组成进行加热处理即可。例如,可以在130℃~250℃的温度下加热10分钟~60分钟。
在感光性树脂组合物中配合(E)着色剂而形成黑底(黑色矩阵)或滤色器等树脂固化膜的情况下,通过对每种颜色重复涂布、曝光、显影和烘烤的工序,可依次形成期望的着色图案(像素)。
[图像显示元件]
本实施方式的图像显示元件具备上述的树脂固化膜。作为本实施方式的图像显示元件,只要具备上述的树脂固化膜,就没有特别限定,例如可举出液晶显示元件、有机EL显示元件等。本实施方式的图像显示元件由于具备上述的树脂固化膜,因此具有高的硬度和优异的耐溶剂性。
实施例
以下,通过实施例和比较例更具体地说明本发明,但本发明并不限定于以下的实施例。
予以说明,在实施例和比较例中,甲硅烷基当量是将(A)共聚物的质均分子量除以每1分子(A)共聚物的甲硅烷基的平均个数而得到的(A)共聚物的分子量,是基于(A-2)化合物的投入量计算出的计算值。
以下示出(A)共聚物的合成例。
[合成例1]
向具备搅拌装置、滴液漏斗、冷凝器、温度计和气体导入管的烧瓶中加入3-甲氧基-1-丁醇750.0g,一边用氮气置换一边搅拌,升温至88℃。
接着,向含有甲基丙烯酸33.3g(0.39摩尔)、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷(信越化学工业株式会社制)149.7g(0.52摩尔)和苯乙烯40.3g(0.39摩尔)的单体混合物中添加2,2’-偶氮双(异丁酸)二甲酯(聚合引发剂)26.8g,将得到的物质用2小时从滴液漏斗滴加到上述烧瓶中。
滴加结束后,在88℃下搅拌5小时进行共聚反应,得到样品1(重均分子量(Mw):4500,数均分子量(Mn):2700,分子量分布(Mw/Mn):1.7,酸值:87KOHmg/g,甲硅烷基当量:480g/mol)。
[合成例2~17、比较合成例1~7]
除了使用表1~3中记载的原料以外,与合成例1同样地进行共聚反应,得到样品2~24。将得到的样品的重均分子量(Mw)、数均分子量(Mn)、分子量分布(Mw/Mn)、酸值(KOHmg/g)和甲硅烷基当量(g/mol)示于表1~3。另外,将用于制备(A)共聚物的(A-1)化合物~(A-3)化合物的摩尔%示于表4~6。
Figure BDA0003395720040000201
Figure BDA0003395720040000211
Figure BDA0003395720040000221
Figure BDA0003395720040000231
Figure BDA0003395720040000241
Figure BDA0003395720040000251
<(A)共聚物的评价>
(1)保存稳定性
使用得到的样品1~24,按照以下方法评价保存稳定性。
在20ml玻璃容器中各称量10g样品,作为样品,测定粘度。予以说明,本说明书中,粘度是指使用E型粘度计(RE-80,东机产业制,转子类型:标准锥1°34’×R24,转子代码:1)在25℃下测定的值。接着,将玻璃容器加盖密封,将这些样品各自在保持40℃的恒温器中静置1周保存后,再次测定粘度。使用保存稳定性试验前后的粘度,根据下述式(1)求出增稠率。
式(1):增稠率(%)=([试验后的粘度]-[试验前的粘度])/[试验前的粘度])×100
该评价的标准如下所示。
○:增稠率小于20%
×:增稠率为20%以上
上述保存稳定性的评价结果示于表7~9。
Figure BDA0003395720040000271
Figure BDA0003395720040000281
Figure BDA0003395720040000291
使用得到的样品1~24,按照以下方法制备感光性树脂组合物。
<感光性树脂组合物的制备>
按照表10所示的配合成分和配比,制备感光性树脂组合物。
予以说明,表10中的(A)共聚物的配合量不包括合成(A)共聚物时所用的溶剂,表10中的(B)溶剂的配合量为合成(A)共聚物时所用的溶剂和追加配合的丙二醇单甲基醚的合计。
[表10]
Figure BDA0003395720040000301
<感光性树脂组合物的评价>
(1)铅笔硬度
在5cm见方的玻璃基板(无碱玻璃基板)上旋涂制备好的感光性树脂组合物,使其烘烤后的厚度为2.5μm,然后在90℃下加热3分钟而使溶剂挥发,由此在玻璃基板上形成涂膜。
接着,使用波长365nm的光以200mJ/m2的曝光量曝光涂膜,使曝光部分光固化,然后在烘烤温度230℃的干燥器中在空气气氛下放置30分钟,制作固化涂膜。根据JIS K5600-5-4,使用铅笔硬度计(No.553-M,安田精机制作所制),测定得到的固化涂膜的铅笔硬度。
该评价标准如下所示。
○:铅笔硬度3H以上
×:铅笔硬度小于3H
上述铅笔硬度的评价结果示于表7~9。
使用得到的样品1~24,按照以下方法制备含有着色剂的感光性树脂组合物。
<含有着色剂的感光性树脂组合物的制备>
按照表11表示的配合成分和配比,制备使用染料(VALIFAST BLUE2620)作为(E)着色剂的含有着色剂的感光性树脂组合物。
予以说明,表11中的(A)共聚物的配合量不包括合成(A)共聚物时所用的溶剂,表11中的(B)溶剂的配合量为合成(A)共聚物时所用的溶剂和追加配合的丙二醇单甲基醚的合计。
[表11]
Figure BDA0003395720040000311
<含有着色剂的感光性树脂组合物的评价>
(1)碱显影性
在5cm见方的玻璃基板(无碱玻璃基板)上旋涂制备好的含有着色剂的感光性树脂组合物,使其曝光后的厚度为2.5μm,然后在90℃下加热3分钟而使溶剂挥发,由此在玻璃基板上形成涂膜。
接着,在距涂膜100μm的距离配置规定图案的光掩模,隔着该光掩模曝光涂膜(曝光量150mJ/cm2),使曝光部分光固化。
接着,在温度23℃和压力0.3MPa下喷雾含有0.1质量%的氢氧化钾的水溶液,由此溶解未曝光部分使其显影,此时,测定直至图案开始出现所需的时间,即显影开始时间。
该评价标准如下所示。
○:显影开始时间小于60秒
×:显影开始时间为60秒以上
上述碱显影性的评价结果示于表7~9。
(2)耐溶剂性
在5cm见方的玻璃基板(无碱玻璃基板)上旋涂制备好的含有着色剂的感光性树脂组合物,使其烘烤后的厚度为2.5μm,然后在90℃下加热3分钟而使溶剂挥发,由此在玻璃基板上形成涂膜。
接着,使用波长365nm的光以150mJ/m2的曝光量曝光涂膜,使曝光部分光固化,然后在烘烤温度230℃的干燥器中在空气气氛下放置30分钟,制作固化涂膜。
在容量500mL的带盖玻璃瓶中加入200mL的N-甲基-2-吡咯烷酮,在60℃的条件下静置。在其中浸渍上述的带有固化涂膜的试验片,然后在维持在60℃的状态下静置30分钟。
使用分光光度计(UV-1650PC,岛津制作所制)测定试验片在浸入N-甲基-2-吡咯烷酮之前和之后的颜色变化(ΔE*ab)。
该评价标准如下所示。
○:ΔE*ab小于3.0
×:ΔE*ab为3.0以上
上述耐溶剂性的评价结果示于表7~9。
由表7和8的结果可知,合成例1~17得到的(A)共聚物显示出优异的保存稳定性,使用合成例1~17得到的(A)共聚物的感光性树脂组合物获得了具有高硬度的树脂固化膜,进而,使用合成例1~17得到的(A)共聚物的含有着色剂的感光性树脂组合物获得了碱显影性和耐溶剂性优异的图案(实施例1~17)。
与此相比,使用3-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷和3-(甲基丙烯酰氧基)丙基甲基二甲氧基硅烷代替(A-2)化合物的比较合成例1和2的(A)共聚物的保存稳定性不充分(比较例1和2)。
推测这是因为甲氧基型烷氧基甲硅烷基比乙氧基型的反应性高所致。另外,不使用至少含有碳数3~10的伯醇或仲醇中的任一种的溶剂的比较合成例3和4的(A)共聚物的保存稳定性也不充分(比较例3和4)。推测这是因为叔醇溶剂和非醇溶剂在水中的溶剂化弱,烷氧基甲硅烷基的水解反应容易进行的缘故。
使用不含(A-1)化合物的比较合成例5的(A)共聚物的着色感光性树脂组合物的耐溶剂性良好,但碱显影性不充分(比较例5)。使用(A-2)化合物的含有比率为10摩尔%的比较合成例6的(A)共聚物的感光性树脂组合物的硬度不充分,使用比较合成例6的(A)共聚物的着色感光性树脂组合物的碱显影性良好,但耐溶剂性不充分(比较例6)。另外,使用(A-2)化合物的含有比率为90摩尔%的比较合成例7的(A)共聚物的感光性树脂组合物的耐溶剂性良好,但碱显影性不充分。
产业实用性
根据本发明,提供一种感光性树脂组合物,其可提供具有高硬度和优异的耐溶剂性的树脂固化膜,且显影性良好,并且保存稳定性也优异。另外,提供具有高硬度和优异的耐溶剂性的树脂固化膜、具备该树脂固化膜的图像显示元件。该感光性树脂组合物可优选用作透明膜、保护膜、绝缘膜、外涂层、光间隔物、黑底(黑色矩阵)、黑色柱状间隔物、滤色器用抗蚀剂。

Claims (11)

1.感光性树脂组合物,其特征在于,包含:
(A)共聚物,其含有:源自具有酸基的聚合性不饱和化合物的构成单元(a-1)、下述式(1)或(2)表示的构成单元(a-2)、以及源自其他聚合性不饱和化合物的构成单元(a-3),其中,将全部构成单元的合计设为100摩尔%时,含有20摩尔%~80摩尔%的构成单元(a-2),该共聚物的重均分子量为1000~50000,且分子量分布Mw/Mn为1.5~3.0,
(B)含有选自碳数3~10的伯醇和碳数3~10的仲醇中的至少1种的溶剂,
(C)反应性稀释剂,和
(D)光聚合引发剂,
Figure FDA0003395720030000011
式(1)中,R1表示氢原子或甲基,n为1~10的整数,
式(2)中,R2表示氢原子或甲基,m为1~10的整数。
2.权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述构成单元(a-1)的酸基为羧基,所述(A)共聚物含有10摩尔%~50摩尔%的所述构成单元(a-1),且所述(A)共聚物的酸值为20KOHmg/g~300KOHmg/g。
3.权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其中,所述(B)溶剂含有碳数3~10的伯醇。
4.权利要求1~3任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述构成单元(a-3)为源自具有环结构的聚合性不饱和化合物的构成单元。
5.权利要求1~4任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述构成单元(a-3)为源自选自苯乙烯、苯乙烯衍生物、乙烯基甲苯、含芳族基团的(甲基)丙烯酸酯和含环状烃基的(甲基)丙烯酸酯中的至少1种聚合性不饱和化合物的构成单元。
6.权利要求1~5任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述构成单元(a-3)为源自选自苯乙烯、乙烯基甲苯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸环己酯和(甲基)丙烯酸二环戊基酯中的至少1种聚合性不饱和化合物的构成单元。
7.权利要求1~6任一项所述的感光性树脂组合物,其含有1摩尔%~70摩尔%的所述构成单元(a-3)。
8.权利要求1~7任一项所述的感光性树脂组合物,其中,将除所述(B)溶剂以外的成分的总量设为100质量份时,所述(A)共聚物的含量为5质量份~85质量份,所述(C)反应稀释剂的含量为5质量份~85质量份,所述(D)光聚合引发剂的含量为0.1质量份~30质量份。
9.权利要求1~8任一项所述的感光性树脂组合物,其还包含着色剂(E)。
10.树脂固化膜,其特征在于,为权利要求1~9任一项所述的感光性树脂组合物的固化物。
11.图像显示元件,其特征在于,具备权利要求10所述的树脂固化膜。
CN202080043274.2A 2019-06-25 2020-06-03 感光性树脂组合物、树脂固化膜及图像显示元件 Pending CN113966489A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019-117045 2019-06-25
JP2019117045 2019-06-25
PCT/JP2020/021925 WO2020261905A1 (ja) 2019-06-25 2020-06-03 感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜及び画像表示素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113966489A true CN113966489A (zh) 2022-01-21

Family

ID=74059718

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202080043274.2A Pending CN113966489A (zh) 2019-06-25 2020-06-03 感光性树脂组合物、树脂固化膜及图像显示元件

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7392719B2 (zh)
KR (1) KR102665008B1 (zh)
CN (1) CN113966489A (zh)
TW (1) TWI831981B (zh)
WO (1) WO2020261905A1 (zh)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015175995A (ja) * 2014-03-14 2015-10-05 Jsr株式会社 感放射線性組成物、表示素子用スペーサーまたは層間絶縁膜及びそれらの形成方法
TW201829489A (zh) * 2016-12-14 2018-08-16 日商昭和電工股份有限公司 彩色濾光片用樹脂組成物、其製造方法及彩色濾光片

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6249530B2 (ja) * 2014-02-12 2017-12-20 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、これを用いた反射防止膜、固体撮像素子およびカメラモジュール
JP6292388B2 (ja) 2014-03-24 2018-03-14 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP6458236B2 (ja) 2014-09-26 2019-01-30 ナトコ株式会社 アルカリ可溶性樹脂、感光性樹脂組成物及びその用途
JP6481602B2 (ja) * 2015-01-09 2019-03-13 信越化学工業株式会社 パターン形成方法及びシュリンク剤
JP2016160393A (ja) * 2015-03-04 2016-09-05 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、その形成方法及び表示素子
JP7210875B2 (ja) 2017-09-14 2023-01-24 東洋インキScホールディングス株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜及びその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015175995A (ja) * 2014-03-14 2015-10-05 Jsr株式会社 感放射線性組成物、表示素子用スペーサーまたは層間絶縁膜及びそれらの形成方法
TW201829489A (zh) * 2016-12-14 2018-08-16 日商昭和電工股份有限公司 彩色濾光片用樹脂組成物、其製造方法及彩色濾光片

Also Published As

Publication number Publication date
JP7392719B2 (ja) 2023-12-06
KR102665008B1 (ko) 2024-05-09
JPWO2020261905A1 (zh) 2020-12-30
TW202113485A (zh) 2021-04-01
KR20220010612A (ko) 2022-01-25
TWI831981B (zh) 2024-02-11
WO2020261905A1 (ja) 2020-12-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101405765B1 (ko) 부가 공중합체, 감광성 수지 조성물 및 컬러 필터
CN110998443A (zh) 感光性树脂组合物及其制造方法
CN110073253B (zh) 滤色器用树脂组合物、滤色器用树脂组合物的制造方法以及滤色器
WO2022138159A1 (ja) 共重合体およびその共重合体の製造方法
KR102611643B1 (ko) 공중합체 및 그의 공중합체를 포함하는 수지 조성물
KR101918433B1 (ko) 수지 조성물, 컬러 필터, 그 제조 방법 및 화상 표시 소자
CN111615650B (zh) 彩色滤光片用感光性树脂组合物、彩色滤光片、图像显示元件以及彩色滤光片的制造方法
CN110997740A (zh) 共聚物以及滤色器用感光性树脂组合物
KR102665008B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 수지 경화막 및 화상 표시 소자
CN111278912B (zh) 聚合物组合物、感光性树脂组合物以及彩色滤光片
JP2021024929A (ja) 樹脂組成物及びレジスト
WO2023119900A1 (ja) 感光性樹脂組成物およびカラーフィルター
JP2019031627A (ja) アルカリ可溶性樹脂、それを含むカラーフィルター用感光性樹脂組成物及びカラーフィルター
WO2023063022A1 (ja) 樹脂前駆体、樹脂、樹脂組成物及び樹脂硬化膜
WO2022085389A1 (ja) 感光性樹脂組成物及びカラーフィルター
CN115867867A (zh) 感光性树脂组合物及其树脂固化膜
JP2023060757A (ja) 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、カラーフィルターおよび画像表示素子
JP2021095536A (ja) 共重合体、樹脂組成物及びレジスト
WO2022138173A1 (ja) 共重合体およびその共重合体の製造方法
WO2020095789A1 (ja) 共重合体、およびその共重合体を含む樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information

Address after: Tokyo

Applicant after: Lishennoco Co.,Ltd.

Address before: Tokyo

Applicant before: Showa electrical materials Co.,Ltd.

CB02 Change of applicant information
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20230529

Address after: Tokyo

Applicant after: Showa electrical materials Co.,Ltd.

Address before: Tokyo

Applicant before: SHOWA DENKO Kabushiki Kaisha

TA01 Transfer of patent application right