CN113891568A - 一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,包括以下步骤:(1)制作印刷线路板内层的线路并压合;(2)钻孔;(3)电镀、制作外层线路、油墨印刷及表面处理;(4)化学清洗,一次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜;(5)一次曝光;(6)一次显影;(7)二次压膜;(8)二次曝光;(9)二次显影,将显影后的印刷线路板进行蚀刻,完成反蚀刻工艺。本发明的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,是在一次压膜时先将异形导通孔中间的干膜不曝光,在显影时被显影掉,并且保留异形导通孔四周的位置至少有0.2mm的干膜覆盖导通孔的边沿,保护二次压膜的干膜不被异性导通孔的披峰刺破干膜,提高导通性能。
Description
技术领域
本发明涉及印刷线路板技术领域,尤其涉及一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺。
背景技术
印刷线路板的加工工艺繁多,其中包括印刷油墨后电镀金手指导线反蚀刻工艺、软硬结合板揭盖后反蚀刻揭盖残铜、Cavity反蚀刻等工艺,反蚀刻时为了干膜能与板面能附着紧密,减少干膜气泡等不良,一般都会选用真空压膜机进行压膜,但遇到印刷线路板有不规则的导通孔时,真空压膜机会将干膜吸入孔内,导致干膜有点状破损,在反蚀刻时蚀刻药水通过破损的干膜渗入导通孔内,将导通孔孔内的铜蚀刻掉,造成孔破,影响导通性能。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中存在的不足,提供一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,改善导通孔的导通性能。
本发明采用的技术方案是:
一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其中,包括以下步骤:
(1)制作印刷线路板内层的线路并压合;
(2)在压合的印刷线路板上钻孔,钻出的孔包括异形导通孔;
(3)将钻孔后的印刷线路板上电镀、制作外层线路、油墨印刷及表面处理;
(4)将经过步骤(3)处理的印刷线路板进行化学清洗,然后进行一次压膜;
(5)将一次压膜后的印刷线路板进行一次曝光;
(6)将一次曝光后的印刷线路板进行一次显影,显影后底片透光区的干膜被曝光保留在板面上,底片不透光区的干膜未被曝光在显影时被显影药水溶解掉;
(7)将一次显影后的印刷线路板进行二次压膜;
(8)将二次压膜后的印刷线路板进行二次曝光,曝光时设计底片将异形导通孔全部曝光;
(9)将二次曝光后的印刷线路板进行二次显影,因为异形导通孔的上下全部覆盖了曝光后的干膜,可以起到保护异形导通孔的作用,将二次显影后的印刷线路板进行蚀刻,完成反蚀刻工艺。
优选的是,所述的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其中,所述步骤(4)一次压膜的温度为45-100℃,时间为18-30S,真空值为0.2-0.5Mpa,一次压膜后静置时间为0.25-24h。
优选的是,所述的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其中,所述步骤(5)一次曝光时的底片比异形导通孔整体至少小0.2mm。
优选的是,所述的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其中,所述步骤(6)异形导通孔四周至少有0.2mm的干膜被曝光未被显影掉。
优选的是,所述的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其中,所述步骤(7)二次压膜的温度为85-150℃,压力为2.0-6.0kg/cm2,速度为0.8-4.0m/min。
本发明的优点在于:
本发明的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,是在一次压膜时先将异形导通孔中间的干膜不曝光,在显影时被显影掉,并且保留异形导通孔四周的位置至少有0.2mm的干膜覆盖导通孔的边沿,保护二次压膜的干膜不被异性导通孔的披峰等不良刺破干膜,从而在反蚀刻时干膜能更好的保护异形导通孔的整体功能,提高导通性能。
附图说明
图1为本发明印刷线路板异形导通孔的结构示意图。
图2为本发明印刷线路板钻孔的截面图。
图3为本发明印刷线路板一次压膜后的结构示意图。
图4为本发明印刷线路板一次曝光后的结构示意图。
图5为本发明印刷线路板二次压膜后的结构示意图。
图6为本发明印刷线路板二次曝光后的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其中,包括以下步骤:
(1)制作印刷线路板内层的线路并压合;
(2)如图1和图2,在压合的印刷线路板上钻孔,钻出的孔包括异形导通孔1;
(3)将钻孔后的印刷线路板上电镀、制作外层线路、油墨印刷及表面处理;
(4)如图3,将经过步骤(3)处理的印刷线路板进行化学清洗,化学清洗为酸洗,并烘干清洗的印刷线路板,然后进行一次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜2,一次压膜的温度为60℃,时间为25S,真空值为0.3Mpa,一次压膜后静置时间为1.5h;
(5)如图4,将一次压膜后的印刷线路板的干膜进行一次曝光,一次曝光时的底片比异形导通孔整体至少小0.2mm;
(6)将一次曝光后的印刷线路板进行一次显影,显影后底片透光区的干膜被曝光保留在板面上,底片不透光区的干膜未被曝光在显影时被显影药水溶解掉,异形导通孔四周至少有0.2mm的干膜被曝光未被显影掉;
(7)如图5,将一次显影后的印刷线路板进行二次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜3,二次压膜使用自动压膜机,干膜型号和供应商不限定,二次压膜压膜轮温度为115℃,压膜轮压力为4.0kg/cm2,压膜轮速度为2.0m/min;
(8)如图6,将二次压膜后的印刷线路板进行二次曝光,曝光时设计底片将异形导通孔全部曝光;
(9)将二次曝光后的印刷线路板进行二次显影,异形导通孔的上下全部覆盖了曝光后的干膜,将显影后的印刷线路板进行蚀刻,完成反蚀刻工艺。
实施例2
一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其中,包括以下步骤:
(1)制作印刷线路板内层的线路并压合;
(2)如图1和图2,在压合的印刷线路板上钻孔,钻出的孔包括异形导通孔1;
(3)将钻孔后的印刷线路板上电镀、制作外层线路、油墨印刷及表面处理;
(4)如图3,将经过步骤(3)处理的印刷线路板进行化学清洗,化学清洗为酸洗,并烘干清洗的印刷线路板,然后进行一次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜2,一次压膜的温度为45℃,时间为30S,真空值为0.5Mpa,一次压膜后静置时间为24h;
(5)如图4,将一次压膜后的印刷线路板的干膜进行一次曝光,一次曝光时的底片比异形导通孔整体至少小0.2mm;
(6)将一次曝光后的印刷线路板进行一次显影,显影后底片透光区的干膜被曝光保留在板面上,底片不透光区的干膜未被曝光在显影时被显影药水溶解掉,异形导通孔四周至少有0.2mm的干膜被曝光未被显影掉;
(7)如图5,将一次显影后的印刷线路板进行二次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜3,二次压膜使用自动压膜机,干膜型号和供应商不限定,二次压膜压膜轮温度为85℃,压膜轮压力为2.0kg/cm2,压膜轮速度为0.8m/min;
(8)如图6,将二次压膜后的印刷线路板进行二次曝光,曝光时设计底片将异形导通孔全部曝光;
(9)将二次曝光后的印刷线路板进行二次显影,异形导通孔的上下全部覆盖了曝光后的干膜,将显影后的印刷线路板进行蚀刻,完成反蚀刻工艺。
实施例3
一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其中,包括以下步骤:
(1)制作印刷线路板内层的线路并压合;
(2)如图1和图2,在压合的印刷线路板上钻孔,钻出的孔包括异形导通孔1;
(3)将钻孔后的印刷线路板上电镀、制作外层线路、油墨印刷及表面处理;
(4)如图3,将经过步骤(3)处理的印刷线路板进行化学清洗,化学清洗为酸洗,并烘干清洗的印刷线路板,然后进行一次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜2,一次压膜的温度为100℃,时间为18S,真空值为0.2Mpa,一次压膜后静置时间为0.25h;
(5)如图4,将一次压膜后的印刷线路板的干膜进行一次曝光,一次曝光时的底片比异形导通孔整体至少小0.2mm;
(6)将一次曝光后的印刷线路板进行一次显影,显影后底片透光区的干膜被曝光保留在板面上,底片不透光区的干膜未被曝光在显影时被显影药水溶解掉,异形导通孔四周至少有0.2mm的干膜被曝光未被显影掉;
(7)如图5,将一次显影后的印刷线路板进行二次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜3,二次压膜使用自动压膜机,干膜型号和供应商不限定,二次压膜压膜轮温度为150℃,压膜轮压力为6.0kg/cm2,压膜轮速度为4.0m/min;
(8)如图6,将二次压膜后的印刷线路板进行二次曝光,曝光时设计底片将异形导通孔全部曝光;
(9)将二次曝光后的印刷线路板进行二次显影,异形导通孔的上下全部覆盖了曝光后的干膜,将显影后的印刷线路板进行蚀刻,完成反蚀刻工艺。
最后所应说明的是,以上具体实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照实例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的精神和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
Claims (5)
1.一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其特征在于,包括以下步骤:
(1)制作印刷线路板内层的线路并压合;
(2)在压合的印刷线路板上钻孔,钻出的孔包括异形导通孔;
(3)将钻孔后的印刷线路板上电镀、制作外层线路、油墨印刷及表面处理;
(4)将经过步骤(3)处理的印刷线路板进行化学清洗,然后进行一次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜;
(5)将一次压膜后的印刷线路板进行一次曝光;
(6)将一次曝光后的印刷线路板进行一次显影,显影后底片透光区的干膜被曝光保留在板面上,底片不透光区的干膜未被曝光在显影时被显影药水溶解掉;
(7)将一次显影后的印刷线路板进行二次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜;
(8)将二次压膜后的印刷线路板进行二次曝光,曝光时设计底片将异形导通孔全部曝光;
(9)将二次曝光后的印刷线路板进行二次显影,将二次显影后的印刷线路板进行蚀刻,完成反蚀刻工艺。
2.根据权利要求1所述的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其特征在于,所述步骤(4)一次压膜的温度为45-100℃,时间为18-30S,真空值为0.2-0.5Mpa,一次压膜后静置时间为0.25-24h。
3.根据权利要求1所述的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其特征在于,所述步骤(5)一次曝光时的底片比异形导通孔整体至少小0.2mm。
4.根据权利要求1所述的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其特征在于,所述步骤(6)异形导通孔四周至少有0.2mm的干膜被曝光未被显影掉。
5.根据权利要求1所述的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其特征在于,所述步骤(7)二次压膜的温度为85-150℃,压力为2.0-6.0kg/cm2,速度为0.8-4.0m/min。
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Country or region after: China Address after: No.32 Chunhui East Road, Xishan Economic Development Zone, Xishan District, Wuxi City, Jiangsu Province Applicant after: Gaode (Jiangsu) Electronic Technology Co.,Ltd. Address before: No.32 Chunhui East Road, Xishan Economic Development Zone, Xishan District, Wuxi City, Jiangsu Province Applicant before: GULTECH (JIANGSU) ELECTRONIC TECHNOLOGIES CO.,LTD. Country or region before: China |
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GR01 | Patent grant | ||
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