CN113835298B - 一种感光干膜及其制备方法 - Google Patents

一种感光干膜及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113835298B
CN113835298B CN202111164122.0A CN202111164122A CN113835298B CN 113835298 B CN113835298 B CN 113835298B CN 202111164122 A CN202111164122 A CN 202111164122A CN 113835298 B CN113835298 B CN 113835298B
Authority
CN
China
Prior art keywords
photosensitive
layer
dry film
parts
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202111164122.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113835298A (zh
Inventor
高金龙
张鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Crown Advanced Material Co Ltd
Original Assignee
Crown Advanced Material Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Crown Advanced Material Co Ltd filed Critical Crown Advanced Material Co Ltd
Priority to CN202111164122.0A priority Critical patent/CN113835298B/zh
Publication of CN113835298A publication Critical patent/CN113835298A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113835298B publication Critical patent/CN113835298B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/065Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of foam
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/18Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by features of a layer of foamed material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023Optical properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/06Interconnection of layers permitting easy separation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
    • C09J4/06Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09J159/00 - C09J187/00
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

本发明涉及保护膜技术领域,具体涉及一种感光干膜及其制备方法,包括聚乙烯膜保护层、设置于所述聚乙烯膜保护层上表面的感光层、设置于所述感光层上表面的聚对苯二甲酸乙二醇酯层,以及设置于所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层上表面的泡棉离型层;所述感光层是由感光胶水涂敷制得的。本发明的感光干膜结构简单、新颖,其中设置的泡棉离型层为提高填充性能的关键层,利用泡棉的柔软易填充的性能来实现感光干膜的填充性能,而聚对苯二甲酸乙二醇酯层为感光层的载体层,利用了聚对苯二甲酸乙二醇酯优异的光学性能,另外,利用感光层光固化前后的特性差异来实现线路板制造,保证解析的同时,大大提高了感光干膜的填充性能。

Description

一种感光干膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及保护膜技术领域,具体涉及一种感光干膜及其制备方法。
背景技术
随着电子设备小型化,轻薄化,对相应线路板的要求越来越精细。主流市场对蚀刻制程线路精度达到L/S 30/30um,MSAP制程可制作线路L/S 10/10um。随着技术的进步,对线路板精度的要求还会不断提高。而感光干膜是决定线路板精度的关键材料,随着精度要求越来越高,对感光干膜的解析精度也越来越高,而感光干膜的厚度对解析度影响巨大,厚度越薄,解析度越高,所以感光干膜会越来越薄,与之矛盾的是较薄的感光干膜难以填充越来越复杂的板面断差,所以感光干膜面临薄膜的高解析与薄膜差的填充性能之间的矛盾。
发明内容
为了克服现有技术中存在的缺点和不足,本发明的目的在于提供一种感光干膜,该感光干膜结构简单、新颖,其中设置的泡棉离型层为提高填充性能的关键层,利用泡棉的柔软易填充的性能来实现感光干膜的填充性能,而聚对苯二甲酸乙二醇酯层为感光层的载体层,利用了聚对苯二甲酸乙二醇酯优异的光学性能,另外,利用感光层光固化前后的特性差异来实现线路板制造,保证解析的同时,大大提高了感光干膜的填充性能。
本发明的目的在于提供一种感光干膜及其制备方法,该制备方法简单高效,操作控制方便,生产的产品质量高,利于工业化生产。
本发明的目的通过下述技术方案实现:一种感光干膜,包括聚乙烯膜保护层、设置于所述聚乙烯膜保护层上表面的感光层、设置于所述感光层上表面的聚对苯二甲酸乙二醇酯层,以及设置于所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层上表面的泡棉离型层;所述感光层是由感光胶水涂敷制得的。
本发明中的感光干膜结构简单、新颖,其中设置的泡棉离型层为提高填充性能的关键层,利用泡棉的柔软易填充的性能来实现感光干膜的填充性能,而聚对苯二甲酸乙二醇酯层为感光层的载体层,利用了聚对苯二甲酸乙二醇酯优异的光学性能,另外,利用感光层光固化前后的特性差异来实现线路板制造,保证解析的同时,大大提高了感光干膜的填充性能。
优选的,所述感光胶水包括如下重量份的原料:碱溶性丙烯酸树脂30-80份、活性稀释剂15-50份、光引发剂1-10份、添加剂0.5-5份和溶剂20-40份。
本发明中感光胶水中通过采用碱溶性丙烯酸树脂有效提升了干膜的掩孔性能,获得了同时具有高分辨率和优异掩孔能力的干膜,减少了高精度线路板生产中破孔现象的产生,提升了PCB生产的良率,提高了生产效率,降低了PCB企业生产成本;而活性稀释剂的而加入可使感光胶水充分光固化,有助于光固化物的耐酸性、耐热性、耐碱性等的提高;而光引发剂的加入可以提升该感光胶水光敏性,降低了曝光所需能量,降低了能耗,提高了生产效率,此外,所述光引发剂的使用量也大大减少,减少了因光引发剂得使用引起的显影残渣,从实现良好的灵敏度、解析度、附着力出发。
优选的,所述活性稀释剂为己内酯丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、一六己二醇二丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酸酯、二缩三乙二醇二丙烯酸酯、二十乙氧基双酚A二丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯、苄基甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、十乙氧基双酚A二甲基丙烯酸酯和二缩三乙二醇双甲基丙烯酸酯中的至少一种;更优先的,所述活性稀释剂是由己内酯丙烯酸酯、二缩三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯和二缩三乙二醇双甲基丙烯酸酯按照重量比为0.4-0.8:0.6-1.0:0.8-1.2:0.1-0.5组成的混合物。
本发明中采用的活性稀释剂可使感光胶水充分光固化,有助于光固化物的耐酸性、耐热性、耐碱性等的提高,其中通过控制内酯丙烯酸酯、二缩三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯和二缩三乙二醇双甲基丙烯酸酯混合比例,协同四者的优异性能进一步提升了混合物活性稀释剂的性能。
优选的,所述光引发剂为二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-甲基-2-(4-吗啉基)-1-[4-(甲硫基)苯基]-1-丙酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、2-二甲氨基-2-苄基-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮、安息香、2,2'-二(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-二咪唑、安息香双甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚、安息香丁醚乙醚、安息香异丙醚、安息香丁醚、硫代丙氧基硫杂蒽酮、异丙基硫杂蒽酮、二芳基碘鎓盐、三芳基碘鎓盐、烷基碘鎓盐和异丙苯茂铁六氟磷酸盐中的至少一种;更优先的,所述光引发剂是由二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、安息香丁醚乙醚和异丙基硫杂蒽酮按照重量比为0.4-0.8:0.8-1.2:0.6-1.0:0.1-0.5组成的混合物。
本发明中采用的光引发剂可以提升该感光胶水光敏性,降低了曝光所需能量,降低了能耗,提高了生产效率,另外,上述光引发剂与碱溶性丙烯酸树脂相容性好,固化后不迁移、不易挥发,减小了气味;而进一步的将光引发剂限定为二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、安息香丁醚乙醚和异丙基硫杂蒽酮按照上述比例组成的混合光引发剂,可以协同各自的优势进一步增强光引发剂的光敏性和光固化效果。
优选的,所述溶剂为甲苯、甲醇、丁酮、丙酮、二甲苯和乙酸乙酯中的至少一种;更优先的,所述溶剂是由甲苯、丙酮、二甲苯和乙酸乙酯按照重量比为0.8-1.2:0.4-0.8:0.1-0.5:0.6-1.0组成的混合物。
本发明中所采用的上述混合溶剂具有很好的溶解性能,能与上述各原料互溶,有利于将上述各原料溶剂混合,便于各原料的充分解除和复合,是最终制得的感光胶水的性能得到进一步提升,而且在感光胶水使用时由于上述溶剂易挥发便于感光胶水快干,且不影响感光胶水的性能。
优选的,所述添加剂为染色剂、增塑剂和阻聚剂中的至少一种;所述染色剂为孔雀绿、碱性绿1、碱性绿2、碱性绿3、碱性绿4、结晶紫和三溴甲基苯基砜中的至少两种;所述增塑剂为对甲基苯磺酰胺增塑剂、饱和乙氧基(甲氧基)聚氨酯丙烯酸酯类增塑剂、1,3-双-(2’,6’-二甲基苯基)二氧磷基苯、1,3-双-(2’,6’-二乙基苯基)二氧磷基苯、三甘醇二辛酸酯、癸二酸二乙酯和辛二酸二丁酯中的至少一种。
本发明中所采用的添加剂可提高感光胶水的附着力,以及感光胶水成膜后的柔韧性和解析度,进一步提升了该感光干膜的柔韧性和解析度。
优选的,所述阻聚剂为热敏性阻聚剂或双重性阻聚剂。
本发明还提供了一种感光干膜的制备方法,通过如下步骤制得:
S1、按照重量份,依次将光引发剂、添加剂、溶剂、碱溶性丙烯酸树脂和活性稀释剂加入搅拌釜中,常温搅拌1.8-2.2h,再静置7-10h,备用;
S2、使用狭缝式涂布机将步骤S1中得到的感光胶水涂布于厚度为14-16um的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜下表面形成厚度为8-12um的感光层,置于在85-95℃的烘箱中烘烤4-6min,备用;
S3、将厚度为18-22um的聚乙烯膜覆合于步骤S2中得到的感光层的下表面,得到三层结构的感光干膜;
S4、将厚度为18-22um的泡棉层覆合于步骤S3中得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的上表面,制得具有四层结构的感光干膜。
本发明中的感光干膜通过上述方法制得,而利用上述方法制得感光干膜结构简单,其中设置的泡棉离型层为提高填充性能的关键层,利用泡棉的柔软易填充的性能来实现感光干膜的填充性能,而聚对苯二甲酸乙二醇酯层为感光层的载体层,利用了聚对苯二甲酸乙二醇酯优异的光学性能,另外,利用感光层光固化前后的特性差异来实现线路板制造,保证解析的同时,大大提高了感光干膜的填充性能;而在制备过程中需要严格控制步骤S2中的烘干温度为85-95℃,若温度过高则会导致感光胶水的溶剂急速挥发导致得到的感光层出现沽泡或局部焦化的问题,若温度过低则不利感光胶水干燥固化,影响最终制得感光干膜的性能。
本发明的有益效果在于:本发明的感光干膜结构简单、新颖,其中设置的泡棉离型层为提高填充性能的关键层,利用泡棉的柔软易填充的性能来实现感光干膜的填充性能,而聚对苯二甲酸乙二醇酯层为感光层的载体层,利用了聚对苯二甲酸乙二醇酯优异的光学性能,另外,利用感光层光固化前后的特性差异来实现线路板制造,保证解析的同时,大大提高了感光干膜的填充性能。
本发明一种感光干膜及其制备方法简单高效,操作控制方便,生产的产品质量高,利于工业化生产。
附图说明
图1是本发明的剖面结构示意图。
附图标记为:1-聚乙烯膜保护层、2-感光层、3-聚对苯二甲酸乙二醇酯层和4-泡棉离型层。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例及附图1对本发明作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本发明的限定。
实施例1
一种感光干膜,包括聚乙烯膜保护层1、设置于所述聚乙烯膜保护层1上表面的感光层2、设置于所述感光层2上表面的聚对苯二甲酸乙二醇酯层3,以及设置于所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层3上表面的泡棉离型层4;所述感光层2是由感光胶水涂敷制得的。
所述感光胶水包括如下重量份的原料:碱溶性丙烯酸树脂30份、活性稀释剂15份、光引发剂1份、添加剂0.5份和溶剂20份;所述碱溶性丙烯酸树脂采用巴斯夫678。
所述活性稀释剂是由己内酯丙烯酸酯、二缩三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯和二缩三乙二醇双甲基丙烯酸酯按照重量比为0.4:0.6:0.8:0.1组成的混合物。
所述光引发剂是由二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、安息香丁醚乙醚和异丙基硫杂蒽酮按照重量比为0.4:0.8:0.6:0.1组成的混合物。
所述溶剂是由甲苯、丙酮、二甲苯和乙酸乙酯按照重量比为0.8:0.4:0.1:0.6组成的混合物。
所述添加剂是由染色剂、增塑剂和阻聚剂按照重量比为0.4:0.1:0.6组成的混合物。
所述染色剂为是由雀绿和碱性绿1按照重量比为0.4:0.1-组成的混合物。
所述增塑剂为对甲基苯磺酰胺增塑剂;所述阻聚剂为热敏性阻聚剂,所述热敏性阻聚剂为叔丁基邻苯二酚。
本发明还提供了一种感光干膜的制备方法,通过如下步骤制得:
S1、按照重量份,依次将光引发剂、添加剂、溶剂、碱溶性丙烯酸树脂和活性稀释剂加入搅拌釜中,常温搅拌1.8h,再静置7h,备用;
S2、使用狭缝式涂布机将步骤S1中得到的感光胶水涂布于厚度为14um的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜下表面形成厚度为8um的感光层2,置于在85℃的烘箱中烘烤4min,备用;
S3、将厚度为18um的聚乙烯膜覆合于步骤S2中得到的感光层2的下表面,得到三层结构的感光干膜;
S4、将厚度为18um的泡棉层覆合于步骤S3中得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的上表面,制得具有四层结构的感光干膜。
实施例2
一种感光干膜,包括聚乙烯膜保护层1、设置于所述聚乙烯膜保护层1上表面的感光层2、设置于所述感光层2上表面的聚对苯二甲酸乙二醇酯层3,以及设置于所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层3上表面的泡棉离型层4;所述感光层2是由感光胶水涂敷制得的。
所述感光胶水包括如下重量份的原料:碱溶性丙烯酸树脂4份、活性稀释剂23份、光引发剂2份、添加剂2份和溶剂25份;所述碱溶性丙烯酸树脂采用巴斯夫678。
所述活性稀释剂是由己内酯丙烯酸酯、二缩三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯和二缩三乙二醇双甲基丙烯酸酯按照重量比为0.5:0.7:0.9:0.2组成的混合物。
所述光引发剂是由二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、安息香丁醚乙醚和异丙基硫杂蒽酮按照重量比为0.5:0.9:0.7:0.2组成的混合物。
所述溶剂是由甲苯、丙酮、二甲苯和乙酸乙酯按照重量比为0.92:0.5:0.2:0.7组成的混合物。
所述添加剂是由染色剂、增塑剂和阻聚剂按照重量比为0.5:0.2:0.7组成的混合物。
所述染色剂为是由碱性绿2和碱性绿按照重量比为0.5:0.2组成的混合物。
所述增塑剂为饱和乙氧基(甲氧基)聚氨酯丙烯酸酯类增塑剂。所述阻聚剂为双重性阻聚剂,所述双重性阻聚剂为四乙基氯化铵。
本发明还提供了一种感光干膜的制备方法,通过如下步骤制得:
S1、按照重量份,依次将光引发剂、添加剂、溶剂、碱溶性丙烯酸树脂和活性稀释剂加入搅拌釜中,常温搅拌1.9h,再静置7.6h,备用;
S2、使用狭缝式涂布机将步骤S1中得到的感光胶水涂布于厚度为14.5um的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜下表面形成厚度为9um的感光层2,置于在88℃的烘箱中烘烤4.5min,备用;
S3、将厚度为19um的聚乙烯膜覆合于步骤S2中得到的感光层2的下表面,得到三层结构的感光干膜;
S4、将厚度为19um的泡棉层覆合于步骤S3中得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的上表面,制得具有四层结构的感光干膜。
实施例3
一种感光干膜,包括聚乙烯膜保护层1、设置于所述聚乙烯膜保护层1上表面的感光层2、设置于所述感光层2上表面的聚对苯二甲酸乙二醇酯层3,以及设置于所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层3上表面的泡棉离型层4;所述感光层2是由感光胶水涂敷制得的。
所述感光胶水包括如下重量份的原料:碱溶性丙烯酸树脂60份、活性稀释剂30份、光引发剂5份、添加剂3份和溶剂30份;所述碱溶性丙烯酸树脂采用巴斯夫678。
所述活性稀释剂是由己内酯丙烯酸酯、二缩三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯和二缩三乙二醇双甲基丙烯酸酯按照重量比为0.6:0.8:1.0:0.3组成的混合物。
所述光引发剂是由二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、安息香丁醚乙醚和异丙基硫杂蒽酮按照重量比为0.6:1.0:0.8:0.3组成的混合物。
所述溶剂是由甲苯、丙酮、二甲苯和乙酸乙酯按照重量比为1.0:0.6:0.3:0.8组成的混合物。
所述添加剂是由染色剂、增塑剂和阻聚剂按照重量比为0.6:0.3:0.8组成的混合物。
所述染色剂为是由碱性绿4和结晶紫按照重量比为0.6:0.3组成的混合物。
所述增塑剂为对1,3-双-(2’,6’-二甲基苯基)二氧磷基苯。所述阻聚剂为热敏性阻聚剂,所述热敏性阻聚剂为叔丁基邻苯二酚。
本发明还提供了一种感光干膜的制备方法,通过如下步骤制得:
S1、按照重量份,依次将光引发剂、添加剂、溶剂、碱溶性丙烯酸树脂和活性稀释剂加入搅拌釜中,常温搅拌2.0h,再静置8.5h,备用;
S2、使用狭缝式涂布机将步骤S1中得到的感光胶水涂布于厚度为15um的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜下表面形成厚度为10um的感光层2,置于在90℃的烘箱中烘烤5min,备用;
S3、将厚度为20um的聚乙烯膜覆合于步骤S2中得到的感光层2的下表面,得到三层结构的感光干膜;
S4、将厚度为20um的泡棉层覆合于步骤S3中得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的上表面,制得具有四层结构的感光干膜。
实施例4
一种感光干膜,包括聚乙烯膜保护层1、设置于所述聚乙烯膜保护层1上表面的感光层2、设置于所述感光层2上表面的聚对苯二甲酸乙二醇酯层3,以及设置于所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层3上表面的泡棉离型层4;所述感光层2是由感光胶水涂敷制得的。
所述感光胶水包括如下重量份的原料:碱溶性丙烯酸树脂70份、活性稀释剂40份、光引发剂7份、添加剂4份和溶剂35份;所述碱溶性丙烯酸树脂采用巴斯夫678。
所述活性稀释剂是由己内酯丙烯酸酯、二缩三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯和二缩三乙二醇双甲基丙烯酸酯按照重量比为0.7:0.9:1.1:0.4组成的混合物。
所述光引发剂是由二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、安息香丁醚乙醚和异丙基硫杂蒽酮按照重量比为0.7:1.1:0.9:0.4组成的混合物。
所述溶剂是由甲苯、丙酮、二甲苯和乙酸乙酯按照重量比为1.1:0.7:0.4:0.9组成的混合物。
所述添加剂是由染色剂、增塑剂和阻聚剂按照重量比为0.7:0.4:0.9组成的混合物。
所述染色剂为是由结晶紫和三溴甲基苯基砜按照重量比为0.7:0.4组成的混合物。
所述增塑剂为对三甘醇二辛酸酯。所述阻聚剂为双重性阻聚剂,所述双重性阻聚剂为四乙基氯化铵。
本发明还提供了一种感光干膜的制备方法,通过如下步骤制得:
S1、按照重量份,依次将光引发剂、添加剂、溶剂、碱溶性丙烯酸树脂和活性稀释剂加入搅拌釜中,常温搅拌2.1h,再静置9.3h,备用;
S2、使用狭缝式涂布机将步骤S1中得到的感光胶水涂布于厚度为16.5um的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜下表面形成厚度为11um的感光层2,置于在93℃的烘箱中烘烤5.5min,备用;
S3、将厚度为21um的聚乙烯膜覆合于步骤S2中得到的感光层2的下表面,得到三层结构的感光干膜;
S4、将厚度为21um的泡棉层覆合于步骤S3中得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的上表面,制得具有四层结构的感光干膜。
实施例5
一种感光干膜,包括聚乙烯膜保护层1、设置于所述聚乙烯膜保护层1上表面的感光层2、设置于所述感光层2上表面的聚对苯二甲酸乙二醇酯层3,以及设置于所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层3上表面的泡棉离型层4;所述感光层2是由感光胶水涂敷制得的。
所述感光胶水包括如下重量份的原料:碱溶性丙烯酸树脂80份、活性稀释剂50份、光引发剂10份、添加剂5份和溶剂40份;所述碱溶性丙烯酸树脂采用巴斯夫678。
所述活性稀释剂是由己内酯丙烯酸酯、二缩三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯和二缩三乙二醇双甲基丙烯酸酯按照重量比为0.8:1.0:1.2:0.5组成的混合物。
所述光引发剂是由二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、安息香丁醚乙醚和异丙基硫杂蒽酮按照重量比为0.8:1.2:1.0:0.5组成的混合物。
所述溶剂是由甲苯、丙酮、二甲苯和乙酸乙酯按照重量比为1.2:0.8:0.5:1.0组成的混合物。
所述添加剂是由染色剂、增塑剂和阻聚剂按照重量比为0.8:0.5:1.0组成的混合物。
所述染色剂为是由碱性绿和三溴甲基苯基砜按照重量比为0.8:0.5组成的混合物。
所述增塑剂为辛二酸二丁酯。所述阻聚剂为热敏性阻聚剂,所述热敏性阻聚剂为叔丁基邻苯二酚。
本发明还提供了一种感光干膜的制备方法,通过如下步骤制得:
S1、按照重量份,依次将光引发剂、添加剂、溶剂、碱溶性丙烯酸树脂和活性稀释剂加入搅拌釜中,常温搅拌2.2h,再静置10h,备用;
S2、使用狭缝式涂布机将步骤S1中得到的感光胶水涂布于厚度为116um的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜下表面形成厚度为12um的感光层2,置于在95℃的烘箱中烘烤6min,备用;
S3、将厚度为22um的聚乙烯膜覆合于步骤S2中得到的感光层2的下表面,得到三层结构的感光干膜;
S4、将厚度为22um的泡棉层覆合于步骤S3中得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的上表面,制得具有四层结构的感光干膜。
对比例1
本对比例与上述实施例1的区别在于:本对比例的感光胶水的原料中直接采用二苯基乙酮代替了光引发剂。本对比例的其余内容与实施例1相同,这里不再赘述。
对比例2
本对比例与上述实施例3的区别在于:本对比例的感光胶水的原料中直接采用丙酮代替了溶剂,其余原料按照实施例3的比例混合物。本对比例的其余内容与实施例3相同,这里不再赘述。
对实施例1、3和5和对比例1和2制得的感光干膜进行解析性、附着力、柔韧性和填充性测试:
解析度评价:在除去所制造的感光干膜的聚乙烯膜保护层1后,利用加热压辊在铜板上进行层叠干膜。在此,利用具有曝光部分和未曝光部分的宽度为1:1的布线图案的掩模进行曝光,用最小显影时间的1.5倍显影后,将正常形成了固化抗蚀剂线的最小掩模宽度作为解析度的值。
1:解析度值为小于等于25μm;2:解析度值为大于25μm,小于等于40μm;3:解析度值大于40μm;
附着力:利用Line/Space=n/400μm(n范围从15到51,每次递增3)的等线距、不同线宽布线图案的光掩模进行曝光显影,水洗烘干后,利用放大镜进行观察。
1:附着力20-30um;2:附着力30-40um3:附着力>40um;
柔韧性:贴膜、曝光、显影后,将干膜的聚乙烯膜保护层1后从不同角度对折20次,观察干膜是否开裂,统计开裂次数,用数字表示结果,数值越小说明干膜柔韧性越好。
1:对折后干膜开裂0次;2:对折后干膜开裂1-5次;3:对折后干膜开裂5次以上。结果如表1所示:
表1
由表中数据可知,本发明实施例1、3和5中制得的感光干膜具有优良的解析性、附着力、柔韧性和填充性,其综合力学性能优异,而混合光引发剂和混合溶剂的相变定形剂的加入以及四层结构的特性有效改善了感光干膜的综合性能,使其具有较好的解析性、附着力、柔韧性和填充性,其综合力学性能优异。
上述实施例为本发明较佳的实现方案,除此之外,本发明还可以其它方式实现,在不脱离本发明构思的前提下任何显而易见的替换均在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种感光干膜,其特征在于:包括聚乙烯膜保护层、设置于所述聚乙烯膜保护层上表面的感光层、设置于所述感光层上表面的聚对苯二甲酸乙二醇酯层,以及设置于所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层上表面的泡棉离型层;所述感光层是由感光胶水涂敷制得的;
所述感光胶水包括如下重量份的原料:碱溶性丙烯酸树脂30-80份、活性稀释剂15-50份、光引发剂1-10份、添加剂0.5-5份和溶剂20-40份;
所述活性稀释剂是由己内酯丙烯酸酯、二缩三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯和二缩三乙二醇双甲基丙烯酸酯按照重量比为0.4-0.8:0.6-1.0:0.8-1.2:0.1-0.5组成的混合物;
所述光引发剂是由二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、安息香丁醚乙醚和异丙基硫杂蒽酮按照重量比为0.4-0.8:0.8-1.2:0.6-1.0:0.1-0.5组成的混合物;
所述添加剂包括染色剂、增塑剂和阻聚剂;
所述染色剂为孔雀绿、碱性绿1、碱性绿2、碱性绿3、碱性绿4、结晶紫和三溴甲基苯基砜中的至少两种;
所述增塑剂为对甲基苯磺酰胺增塑剂、饱和乙氧基(甲氧基)聚氨酯丙烯酸酯类增塑剂、1,3-双-(2’,6’-二甲基苯基)二氧磷基苯、1,3-双-(2’,6’-二乙基苯基)二氧磷基苯、三甘醇二辛酸酯、癸二酸二乙酯和辛二酸二丁酯中的至少一种;
所述阻聚剂为热敏性阻聚剂或双重性阻聚剂。
2.根据权利要求1所述的一种感光干膜,其特征在于:所述溶剂为甲苯、甲醇、丁酮、丙酮、二甲苯和乙酸乙酯中的至少一种。
3.一种根据权利要求1-2任一项所述的感光干膜的制备方法,其特征在于:通过如下步骤制得:S1、按照重量份,依次将光引发剂、添加剂、溶剂、碱溶性丙烯酸树脂和活性稀释剂加入搅拌釜中,常温搅拌1.8-2.2h,再静置7-10h,备用;
S2、使用狭缝式涂布机将步骤S1中得到的感光胶水涂布于厚度为14-16um的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜下表面形成厚度为8-12um的感光层,置于在85-95℃的烘箱中烘烤4-6min,备用;
S3、将厚度为18-22um的聚乙烯膜覆合于步骤S2中得到的感光层的下表面,得到三层结构的感光干膜;
S4、将厚度为18-22um的泡棉层覆合于步骤S3中得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的上表面,制得具有四层结构的感光干膜。
CN202111164122.0A 2021-09-30 2021-09-30 一种感光干膜及其制备方法 Active CN113835298B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111164122.0A CN113835298B (zh) 2021-09-30 2021-09-30 一种感光干膜及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111164122.0A CN113835298B (zh) 2021-09-30 2021-09-30 一种感光干膜及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113835298A CN113835298A (zh) 2021-12-24
CN113835298B true CN113835298B (zh) 2023-11-28

Family

ID=78967940

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111164122.0A Active CN113835298B (zh) 2021-09-30 2021-09-30 一种感光干膜及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113835298B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114619734B (zh) * 2022-05-12 2022-09-09 广东德冠薄膜新材料股份有限公司 一种双向拉伸聚乙烯薄膜及其制备方法和感光干膜

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016027435A (ja) * 2014-06-30 2016-02-18 太陽インキ製造株式会社 感光性ドライフィルムおよびそれを用いたプリント配線板の製造方法
CN111019543A (zh) * 2019-12-24 2020-04-17 苏州赛伍应用技术股份有限公司 一种高强度泡棉胶带及其制备方法
CN113176707A (zh) * 2021-04-29 2021-07-27 苏州城邦达益材料科技有限公司 一种感光干膜及其制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016027435A (ja) * 2014-06-30 2016-02-18 太陽インキ製造株式会社 感光性ドライフィルムおよびそれを用いたプリント配線板の製造方法
CN111019543A (zh) * 2019-12-24 2020-04-17 苏州赛伍应用技术股份有限公司 一种高强度泡棉胶带及其制备方法
CN113176707A (zh) * 2021-04-29 2021-07-27 苏州城邦达益材料科技有限公司 一种感光干膜及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN113835298A (zh) 2021-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108241259B (zh) 一种具有良好孔掩蔽功能可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物
CN107219726B (zh) 一种树脂组合物及用途
CN113835298B (zh) 一种感光干膜及其制备方法
CN110632825A (zh) 感光性树脂组合物、干膜抗蚀剂
CN110471256B (zh) 一种感光性树脂组合物
CN114716628B (zh) 一种ldi感光干膜及其制备方法
US4985343A (en) Crosslinking-curable resin composition
CN105511227A (zh) 一种具有良好孔掩蔽功能的干膜抗蚀剂及其层压体
US20150241772A1 (en) Double coated negative-working dry-film photoresist
CN112099312A (zh) 一种光致抗蚀干膜及其制备方法
DE4310814A1 (de) Verfahren zur Beschichtung von Leiterplatten
KR20120126013A (ko) 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법, 프린트 배선판의 제조 방법
JP2006106287A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及び感光性エレメントの製造方法
CN112034686A (zh) 一种高感感光性树脂组合物
CN104730863A (zh) 一种干膜抗蚀剂
CN111123647B (zh) 一种干膜光致抗蚀剂及其应用
CN111856881B (zh) 感光树脂组合物、干膜抗蚀剂及相应的元件
CN113900355B (zh) 感光树脂组合物及干膜抗蚀剂层压体
WO2019173967A1 (en) Photosensitizer, photosensitive resin composition, photosensitive element, and method of producing wiring board
CN114859656A (zh) 一种感光性树脂组合物及其干膜抗蚀层压体
TWI659266B (zh) Photosensitive resin composition
CN113861752A (zh) 一种感光油墨
EP0864119B1 (de) Photoempfindliche zusammensetzung
JP2014235391A (ja) パターン形成方法
CN113741147A (zh) 一种具有高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant