CN113710620A - 水的处理方法和组合物 - Google Patents

Abstract

一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有聚合物(I)的水中除去所述聚合物(I)的除去工序，所述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)。CX¹X³＝CX²R(‑CZ¹Z²‑A⁰)_m(I)(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数)。

Description

水的处理方法和组合物

技术领域

本发明涉及水的处理方法和组合物。

背景技术

伴随工业生产而产生的废水中有时含有在生产工序中使用的各种化学物质，因而提出了废水的处理方法。

例如，专利文献1中记载了一种含氟废水的处理方法，其特征在于，其包括在含氟废水中添加相对于氟离子1mg为15～70mg的铝离子的工序和添加絮凝剂的工序。

专利文献2中记载了一种废水处理装置，其是从含有硫酸盐的废水中除去氟的废水处理装置，其具备：将所述含有硫酸盐的废水和铝系无机絮凝剂进行混合的混合部；将在所述混合部混合后的混合液进行固液分离的固液分离部；以及用于将在所述固液分离部进行固液分离而得到的固体成分供给至所述混合部的供给单元。

专利文献3中记载了一种含氟废水的处理方法，其是在含氟废水中添加钙而将所述废水中的氟以氟化钙不溶物的形式进行固液分离的含氟废水的处理方法，其特征在于，在所述废水中添加钙，在不分离所生成的不溶性析出物的情况下添加包含磷酸化合物的药剂，接着添加碱度为20％～80％的铝盐。

非专利文献1中记载了下述方法：作为从含有氟的废水中除去氟的废水处理装置，在废水中混合铝系无机絮凝剂，生成氢氧化铝(Al₂(OH)₃)的团块，利用该团块吸附氟而使其共沉淀。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-241011号公报

专利文献2：日本特开2016-187779号公报

专利文献3：国际公开第2017-017833号

非专利文献

非专利文献1：和田祐司、“含氟废水的高度处理法”、科学与工业、2002年、第76卷、557-564页

发明内容

发明所要解决的课题

本发明提供从水中除去特定聚合物的新型处理方法。

用于解决课题的手段

本发明提供一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有聚合物(I)的水中除去上述聚合物(I)的除去工序，上述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)(以下也称为“本发明的第1处理方法”)。

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m(I)

(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)

上述聚合物(I)优选为水溶性聚合物。

上述除去工序优选为对含有上述聚合物(I)的水进行过滤、吸附和絮凝中的至少1者的工序。

上述除去工序优选为对含有上述聚合物(I)的水进行絮凝的工序。

上述除去工序优选为在含有上述聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂的工序。

上述无机絮凝剂优选为选自由铝盐、铁盐、钙盐、以及包含2价以上的金属元素和硅的硅酸盐矿物组成的组中的至少1种金属盐。

上述无机絮凝剂优选为选自由硫酸铝和聚合氯化铝组成的组中的至少1种铝盐。

上述除去工序优选为在含有上述聚合物(I)的水中添加高分子絮凝剂的工序。

上述高分子絮凝剂优选为阴离子型高分子絮凝剂。

上述除去工序优选为在含有上述聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂、然后添加高分子絮凝剂的工序。

含有上述聚合物(I)的水优选为经过了氟聚合物的聚合工序的水。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含聚合物(I)、水和含氟聚合物(其中，不包括上述聚合物(I))，上述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)，上述聚合物(I)的含量为250ppm以下。

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m (I)

(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)

上述聚合物(I)可以是与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物。

上述聚合物(I)可以是与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物、水和含氟聚合物(其中，不包括上述水溶性聚合物)，上述水溶性聚合物的含量为250ppm以下。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物、水和含氟聚合物(其中，不包括上述聚合物)，上述聚合物的含量为250ppm以下。

上述含氟聚合物优选具有高于53的离子交换率。

上述含氟聚合物优选为聚四氟乙烯。

本发明的组合物中，上述含氟聚合物的含量优选为1～5000ppm。

本发明的组合物优选进一步包含2价以上的金属离子。

本发明的组合物中，2价以上的金属离子的含量优选为0.05～1000mg/L以上。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含聚合物(I)、水和2价以上的金属离子，上述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)，上述聚合物(I)的含量为250ppm以下。

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m (I)

(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物、水和2价以上的金属离子，上述水溶性聚合物的含量为250ppm以下。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物、水和2价以上的金属离子，上述聚合物的含量为250ppm以下。

本发明的组合物中，2价以上的金属离子的含量优选为0.05～1000mg/L以上。

本发明还提供一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物的水中除去上述水溶性聚合物的工序。

本发明还提供一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物的水中除去上述聚合物的工序。

发明的效果

本发明的处理方法是一种新型的方法，其能够除去上述聚合物(I)等特定的聚合物。

具体实施方式

在具体说明本发明之前，对本说明书中使用的若干术语进行定义或说明。

本说明书中，只要没有特别声明，“有机基团”是指含有1个以上碳原子的基团、或者从有机化合物中除去1个氢原子后形成的基团。

该“有机基团”的示例包括：

具有或不具有1个以上的取代基的烷基、

具有或不具有1个以上的取代基的烯基、

具有或不具有1个以上的取代基的炔基、

具有或不具有1个以上的取代基的环烷基、

具有或不具有1个以上的取代基的环烯基、

具有或不具有1个以上的取代基的环链二烯基、

具有或不具有1个以上的取代基的芳基、

具有或不具有1个以上的取代基的芳烷基、

具有或不具有1个以上的取代基的非芳香族杂环基、

具有或不具有1个以上的取代基的杂芳基、

氰基、

甲酰基、

RaO-、

RaCO-、

RaSO₂-、

RaCOO-、

RaNRaCO-、

RaCONRa-、

RaOCO-

RaOSO₂-和

RaNRbSO₂-

(这些式中，Ra独立地为

具有或不具有1个以上的取代基的烷基、

具有或不具有1个以上的取代基的烯基、

具有或不具有1个以上的取代基的炔基、

具有或不具有1个以上的取代基的环烷基、

具有或不具有1个以上的取代基的环烯基、

具有或不具有1个以上的取代基的环链二烯基、

具有或不具有1个以上的取代基的芳基、

具有或不具有1个以上的取代基的芳烷基、

具有或不具有1个以上的取代基的非芳香族杂环基、

具有或不具有1个以上的取代基的杂芳基，

Rb独立地为H或者具有或不具有1个以上的取代基的烷基)。

作为上述有机基团，优选为具有或不具有1个以上的取代基的烷基。

本说明书中，只要没有特别声明，“取代基”是指可进行取代的基团。该“取代基”的示例包括脂肪族基、芳香族基、杂环基、酰基、酰基氧基、酰基氨基、脂肪族氧基、芳香族氧基、杂环氧基、脂肪族氧羰基、芳香族氧羰基、杂环氧羰基、氨甲酰基、脂肪族磺酰基、芳香族磺酰基、杂环磺酰基、脂肪族磺酰氧基、芳香族磺酰氧基、杂环磺酰氧基、氨磺酰基、脂肪族磺酰胺基、芳香族磺酰胺基、杂环磺酰胺基、氨基、脂肪族氨基、芳香族氨基、杂环氨基、脂肪族氧羰基氨基、芳香族氧羰基氨基、杂环氧羰基氨基、脂肪族亚磺酰基、芳香族亚磺酰基、脂肪族硫基、芳香族硫基、羟基、氰基、磺基、羧基、脂肪族氧基氨基、芳香族氧基氨基、氨甲酰基氨基、氨磺酰基氨基、卤原子、氨磺酰基氨甲酰基、氨甲酰基氨磺酰基、二脂肪族氧基氧膦基和二芳香族氧基氧膦基。

上述脂肪族基可以是饱和的也可以是不饱和的，另外，可以具有羟基、脂肪族氧基、氨甲酰基、脂肪族氧羰基、脂肪族硫基、氨基、脂肪族氨基、酰基氨基、氨甲酰基氨基等。作为上述脂肪族基，可以举出总碳原子数1～8、优选1～4的烷基、例如甲基、乙基、乙烯基、环己基、氨甲酰基甲基等。

上述芳香族基可以具有例如硝基、卤原子、脂肪族氧基、氨甲酰基、脂肪族氧羰基、脂肪族硫基、氨基、脂肪族氨基、酰基氨基、氨甲酰基氨基等。作为上述芳香族基，可以举出碳原子数6～12、优选总碳原子数6～10的芳基、例如苯基、4-硝基苯基、4-乙酰基氨基苯基、4-甲磺酰基苯基等。

上述杂环基可以具有卤原子、羟基、脂肪族氧基、氨甲酰基、脂肪族氧羰基、脂肪族硫基、氨基、脂肪族氨基、酰基氨基、氨甲酰基氨基等。作为上述杂环基，可以举出总碳原子数2～12、优选2～10的5～6元杂环、例如2-四氢呋喃基、2-嘧啶基等。

上述酰基可以具有脂肪族羰基、芳基羰基、杂环羰基、羟基、卤原子、芳香族基、脂肪族氧基、氨甲酰基、脂肪族氧羰基、脂肪族硫基、氨基、脂肪族氨基、酰基氨基、氨甲酰基氨基等。作为上述酰基，可以举出总碳原子数2～8、优选2～4的酰基、例如乙酰基、丙酰基、苯甲酰基、3-吡啶羰基等。

上述酰基氨基可以具有脂肪族基、芳香族基、杂环基等，例如可以具有乙酰基氨基、苯甲酰基氨基、2-吡啶羰基氨基、丙酰基氨基等。作为上述酰基氨基，可以举出总碳原子数2～12、优选2～8的酰基氨基、总碳原子数2～8的烷基羰基氨基、例如乙酰基氨基、苯甲酰基氨基、2-吡啶羰基氨基、丙酰基氨基等。

上述脂肪族氧羰基可以是饱和的也可以是不饱和的，另外，可以具有羟基、脂肪族氧基、氨甲酰基、脂肪族氧羰基、脂肪族硫基、氨基、脂肪族氨基、酰基氨基、氨甲酰基氨基等。作为上述脂肪族氧羰基，可以举出总碳原子数2～8、优选2～4的烷氧羰基、例如甲氧羰基、乙氧羰基、叔丁氧羰基等。

上述氨甲酰基可以具有脂肪族基、芳香族基、杂环基等。作为上述氨甲酰基，可以举出无取代的氨甲酰基、总碳原子数2～9的烷基氨甲酰基，优选可以举出无取代的氨甲酰基、总碳原子数2～5的烷基氨甲酰基、例如N-甲基氨甲酰基、N,N-二甲基氨甲酰基、N-苯基氨甲酰基等。

上述脂肪族磺酰基可以是饱和的也可以是不饱和的，另外，可以具有羟基、芳香族基、脂肪族氧基、氨甲酰基、脂肪族氧羰基、脂肪族硫基、氨基、脂肪族氨基、酰基氨基、氨甲酰基氨基等。作为上述脂肪族磺酰基，可以举出总碳原子数1～6、优选总碳原子数1～4的烷基磺酰基、例如甲磺酰基等。

上述芳香族磺酰基可以具有羟基、脂肪族基、脂肪族氧基、氨甲酰基、脂肪族氧羰基、脂肪族硫基、氨基、脂肪族氨基、酰基氨基、氨甲酰基氨基等。作为上述芳香族磺酰基，可以举出总碳原子数6～10的芳基磺酰基、例如苯磺酰基等。

上述氨基可以具有脂肪族基、芳香族基、杂环基等。

上述酰基氨基可以具有例如乙酰基氨基、苯甲酰基氨基、2-吡啶羰基氨基、丙酰基氨基等。作为上述酰基氨基，可以举出总碳原子数2～12、优选总碳原子数2～8的酰基氨基、更优选总碳原子数2～8的烷基羰基氨基、例如乙酰基氨基、苯甲酰基氨基、2-吡啶羰基氨基、丙酰基氨基等。

上述脂肪族磺酰胺基、芳香族磺酰胺基、杂环磺酰胺基例如可以为甲磺酰胺基、苯磺酰胺基、2-吡啶磺酰胺基等。

上述氨磺酰基可以具有脂肪族基、芳香族基、杂环基等。作为上述氨磺酰基，可以举出氨磺酰基、总碳原子数1～9的烷基氨磺酰基、总碳原子数2～10的二烷基氨磺酰基、总碳原子数7～13的芳基氨磺酰基、总碳原子数2～12的杂环氨磺酰基，更优选可以举出氨磺酰基、总碳原子数1～7的烷基氨磺酰基、总碳原子数3～6的二烷基氨磺酰基、总碳原子数6～11的芳基氨磺酰基、总碳原子数2～10的杂环氨磺酰基、例如氨磺酰基、甲基氨磺酰基、N,N-二甲基氨磺酰基、苯基氨磺酰基、4-吡啶氨磺酰基等。

上述脂肪族氧基可以是饱和的也可以是不饱和的，另外，可以具有甲氧基、乙氧基、异丙氧基、环己氧基、甲氧基乙氧基等。作为上述脂肪族氧基，可以举出总碳原子数1～8、优选1～6的烷氧基、例如甲氧基、乙氧基、异丙氧基、环己氧基、甲氧基乙氧基等。

上述芳香族氨基、杂环氨基可以具有脂肪族基、脂肪族氧基、卤原子、氨甲酰基、与该芳基稠合的杂环基、脂肪族氧羰基，优选可以具有总碳原子数1～4的脂肪族基、总碳原子数1～4的脂肪族氧基、卤原子、总碳原子数1～4的氨甲酰基、硝基、总碳原子数2～4的脂肪族氧羰基。

上述脂肪族硫基可以是饱和的也可以是不饱和的，另外，可以举出总碳原子数1～8、更优选总碳原子数1～6的烷硫基、例如甲硫基、乙硫基、氨甲酰基甲硫基、叔丁硫基等。

上述氨甲酰基氨基可以具有脂肪族基、芳基、杂环基等。作为上述氨甲酰基氨基，可以举出氨甲酰基氨基、总碳原子数2～9的烷基氨甲酰基氨基、总碳原子数3～10的二烷基氨甲酰基氨基、总碳原子数7～13的芳基氨甲酰基氨基、总碳原子数3～12的杂环氨甲酰基氨基，优选可以举出氨甲酰基氨基、总碳原子数2～7的烷基氨甲酰基氨基、总碳原子数3～6的二烷基氨甲酰基氨基、总碳原子数7～11的芳基氨甲酰基氨基、总碳原子数3～10的杂环氨甲酰基氨基、例如氨甲酰基氨基、甲基氨甲酰基氨基、N,N-二甲基氨甲酰基氨基、苯基氨甲酰基氨基、4-吡啶氨甲酰基氨基等。

本发明中，由端点表示范围包括该范围内所含的全部数值(例如，1～10包括1.4、1.9、2.33、5.75、9.98等)。

本发明中，“至少1”这样的记载包括1以上的全部数值(例如，至少2、至少4、至少6、至少8、至少10、至少25、至少50、至少100等)。

本发明中，只要没有特别声明，ppm和ppb是以质量换算求出的值。

以下，对本发明的处理方法进行详细说明。

本发明的第1处理方法的特征在于，其包括从含有聚合物(I)的水中除去聚合物(I)的除去工序，上述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)。

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m (I)

(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)

上述除去工序优选为对含有聚合物(I)的水进行过滤、吸附和絮凝中的至少1者的工序。上述过滤、吸附和絮凝分别可以组合实施，也可以将过滤、吸附和絮凝分别重复多次。

(过滤)

上述过滤的方法没有限定，可以举出例如使含有聚合物(I)的水与过滤助剂接触的方法、使含有聚合物(I)的水通过滤膜的方法等。过滤中的温度没有特别限定，例如可以为0～50℃。

(使含有聚合物(I)的水与过滤助剂接触的方法)

使含有上述聚合物(I)的水例如与过滤助剂接触后进行过滤、或者与保持有过滤助剂的过滤助剂保持部件接触时，会分离成被过滤助剂捕捉的聚合物(I)和滤液。过滤助剂通常是出于降低过滤阻力、防止滤材堵塞等提高过滤特性的目的而使用的，通常为粒状、粉状或纤维状的物质。

过滤助剂起到捕捉水中的聚合物(I)的作用。

上述过滤助剂没有特别限定，例如优选选自由硅藻土、过滤砂(锰砂、锰沸石、活性炭、无烟煤、陶瓷砂等)、珠光体和纤维素组成的组中的至少1种，更优选硅藻土。

过滤助剂的粒径越大则越抑制过滤压力的上升、过滤速度越快，因此能够增大每单位时间的水的处理量。另一方面，过滤助剂的粒径越小，则捕捉聚合物(I)的效果越高，因此能够进一步降低滤液中的聚合物(I)的浓度。

过滤助剂的平均粒径优选为1～1000μm，更优选为1～500μm，更进一步优选为1～200μm，进一步优选为10～100μm，特别优选为20～60μm。另外，过滤助剂的平均粒径为20μm以上、优选为40μm以上、更优选为60μm以上、进一步优选为80μm以上时，能够使过滤速度更快，能够进一步增大每单位时间的水的处理量。

另外，过滤助剂的平均粒径为80μm以下、优选为60μm以下、更优选为40μm以下、进一步优选为20μm以下时，捕捉聚合物(I)的效果进一步提高，能够进一步降低滤液中所含的聚合物(I)的浓度。

需要说明的是，过滤助剂的平均粒径是指使用激光衍射式粒度分布测定装置测定的体积基准的平均粒径(体积平均粒径)。

作为上述过滤助剂，特别优选为平均粒径20～60μm的硅藻土。

过滤助剂可以添加到含有聚合物(I)的水中。像这样一边直接将过滤助剂添加到作为过滤对象的液体中一边进行过滤的方法通常被称为“掺浆”。掺浆可有效地抑制过滤压力的上升，因此具有能够增大每单位时间的水的处理量、能够在维持较快过滤速度的同时进行长时间过滤操作的优点。

上述过滤助剂可以保持在过滤助剂保持部件而使用。过滤助剂保持部件具有通过保持过滤助剂而将水分离(固液分离)成被过滤助剂捕捉的聚合物(I)和滤液的作用。过滤助剂保持部件例如可以为滤布、滤纸和金属网等布状的部件、烧结金属和海绵等多孔质体、碎石和砂等填充物。所使用的过滤助剂保持部件的种类可以根据待处理的水等条件适当选择。

例如，可以在过滤助剂保持部件的表面形成有过滤助剂的层。像这样在过滤前在过滤助剂保持部件的表面形成过滤助剂的层的方法通常被称为“预涂”。预涂可有效地防止过滤助剂保持部件的堵塞，因此能够抑制过滤压力的上升，其结果能够增大每单位时间的水的处理量。

过滤助剂保持部件的孔径可以根据所使用的过滤助剂的粒径适当设定。过滤助剂保持部件的孔径例如可以为1～1000μm。过滤助剂保持部件的孔径越小，则越能够可靠地保持过滤助剂。另一方面，过滤助剂保持部件的孔径越大，则越能够降低进行过滤时的压力损失。在使用硅藻土作为过滤助剂的情况下，过滤助剂保持部件的孔径优选小于过滤助剂的平均粒径，例如优选为过滤助剂的平均粒径的60％以下。构成过滤助剂保持部件的材料没有特别限定，例如可以为聚丙烯、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚丙烯腈、聚四氟乙烯(PTFE)、聚苯硫醚(PPS)、偏二氯乙烯、维纶等合成纤维、玻璃纤维、棉花等。

本发明的第1处理方法中，可以分别单独进行掺浆或预涂，或者也可以将掺浆与预涂组合。通过将掺浆与预涂组合，能够更进一步高效地捕捉水中的聚合物(I)，进而能够更进一步抑制过滤压力的上升，因此能够长时间以高效率进行聚合物(I)的除去。

过滤助剂的量可以根据所处理的水和所使用的过滤助剂的种类等适当设定，并不限于特定的量。作为一例，在掺浆中添加到水中的过滤助剂的量可以为使含有聚合物(I)的水中的过滤助剂的浓度为1～10000ppm、优选为10～1000ppm、更优选为20～100ppm的量。在预涂中使用的过滤助剂的量可以为使形成在过滤助剂保持部件的表面的过滤助剂的层的厚度为0.5～10mm、优选为1～7mm的量。

(使含有聚合物(I)的水通过滤膜的方法)

通过使含有聚合物(I)的水通过滤膜，能够除去上述水中包含的聚合物(I)。

上述滤膜的种类没有特别限定，可以根据含有聚合物(I)的水、过滤条件等适当选择。作为滤膜，可以使用反渗透膜、纳滤膜、过滤器滤纸、微滤膜或超滤膜中的任一种，或者也可以组合使用2种以上的滤膜。具体而言，可以使用孔径为0.05nm～25μm的滤膜。另外，作为反渗透膜、纳滤膜或超滤膜，可以使用孔径为0.05nm～0.5μm的滤膜。

上述滤膜例如可以具有10％以上的NaCl截留率。需要说明的是，NaCl截留率是如下得到的值：利用滤膜将NaCl溶液(原水)过滤而得到透过水，测定原水和透过水的NaCl浓度，利用下式进行计算。

NaCl截留率(％)＝(1-(透过水的NaCl浓度)/(原水的NaCl浓度))×100

滤膜的形状没有特别限定，例如可以为平膜、可以为螺旋状、或者也可以为管状。另外，在组合使用多个滤膜的情况下，可以将单膜串联配置，也可以使用预先将多个膜层叠而成的所谓复合膜。在膜过滤中，过滤压力可以根据作为处理对象的水、所使用的滤膜的种类等适当设定。

上述过滤还优选为压滤。通过进行压滤，能够更有效地除去聚合物(I)。压滤中可以使用公知的装置。例如可以使用具备烛式过滤器的压滤机来进行压滤。在使用压滤装置的情况下，通过施加内压，能够定期地剥离形成在过滤助剂保持部件的表面的滤渣层，能够长时间稳定地进行水的处理。作为其他方法，也可以通过减压过滤将水与聚合物(I)分离。在进行压滤或减压过滤的情况下，过滤压力可以根据作为处理对象的水、所使用的过滤助剂和过滤助剂保持部件以及过滤装置的种类等适当设定。

(吸附)

上述吸附可以通过使含有聚合物(I)的水与吸附剂接触来进行。作为使含有聚合物(I)的水与吸附剂接触的方法，可以采用常规使用的方法。例如，可以通过在含有聚合物(I)的水中添加吸附剂并搅拌的方法、将含有上述聚合物(I)的水注入填充有吸附剂的柱中的柱法等来实施。柱法中使用的填充柱可以为移动式、固定床式或流化床式中的任一种。

使用在含有聚合物(I)的水中添加吸附剂并搅拌的方法的情况下，优选在搅拌后分离成吸附有聚合物(I)的吸附剂和进行吸附后的水。上述分离的方法没有限定，例如可以使用过滤等。作为过滤的方法，可以使用作为对含有聚合物(I)的水进行过滤的方法所述的方法。

上述吸附剂没有特别限定，例如优选选自由离子交换树脂、螯合剂、合成吸附剂、活性炭、硅胶、粘土和沸石组成的组中的至少1种。另外，作为吸附剂，也可以使用氧化铝、碳纳米管等。

上述吸附剂更优选选自由离子交换树脂、螯合剂、合成吸附剂和活性炭组成的组中的至少1种。通过使用离子交换树脂、螯合剂、合成吸附剂或活性炭作为吸附剂，可提高聚合物(I)的吸附率。作为吸附剂，更优选为离子交换树脂。通过使用离子交换树脂，能够进一步提高聚合物(I)的吸附率。

上述吸附可以单独使用1种吸附剂，也可以组合使用2种以上的吸附剂。

上述离子交换树脂可以为阳离子交换树脂或阴离子交换树脂中的任一者。作为阴离子交换树脂，例如可以使用具有氨基和/或季铵基作为官能团的离子交换树脂。离子交换树脂优选为强碱性阴离子交换树脂。阴离子交换树脂的碱性度可以根据聚合物骨架和/或官能团的种类进行各种设定。作为阴离子交换树脂，可以使用市售品，例如可以使用三菱化学株式会社制造的Diaion(商标)SA系列等、Purolite株式会社制造的A200、A300、PFA694E等、Organo株式会社制造的Amberlite(商标)系列、IRA4002OH等Amberjet(商标)系列。作为阳离子交换树脂，例如可以使用具有羧酸基和/或磺酸基作为官能团的离子交换树脂。阳离子交换树脂的酸性度可以根据聚合物骨架和/或官能团的种类进行各种设定。作为阳离子交换树脂，可以使用市售品，例如可以使用三菱化学株式会社制造的Diaion(商标)SK系列等、Purolite株式会社制造的C100等、Organo株式会社制造的Amberlite(商标)系列等。

离子交换树脂的孔径优选为

从除去效率的观点出发，孔径优选为

以上，更优选为

以上，进一步优选为

以上。另外，可以为

以上，也可以为

以上。

另外，孔径可以为

以下。孔径例如可以利用气体吸附法测定比表面积和总孔容来算出。

从除去效率的观点出发，离子交换树脂的总交换容量优选为0.1eq/L-树脂以上。更优选为0.5eq/L-树脂以上，进一步优选为0.9eq/L-树脂以上。另外，总交换容量越大越好，但例如上限可以为5.0eq/L-树脂。

另外，离子交换树脂通常为球状，具有300～1300μm左右的平均粒径。

上述螯合剂通常是具有能够与金属离子配位而形成螯合化合物的多齿配体的化合物。材质、凝胶型或是MR型没有限定，例如可以举出在苯乙烯-二乙烯基苯共聚物、苯酚聚合物等中导入官能团而得到的树脂。

作为螯合剂，例如可以举出亚氨基二乙酸型、亚氨基丙酸型、氨基亚甲基膦酸型等氨基膦酸型、多元胺型、氨基羧酸型、二硫代氨基甲酸型、硫醇型、酰胺肟型、吡啶型等。

上述螯合剂优选为球状，可以具有300～1300μm左右的平均粒径。

作为螯合剂的具体例，可以举出“Unicellex”(商品名)系列(Unitika株式会社制造)、“Lewatit”(商品名)系列(LANXESS株式会社制造)、“EPOROUS”(注册商标)(商品名)系列(MIYOSHI OIL&FAT CO.,LTD.制造)(Z-7、Z-100、SE-3、AS-4)等。

上述合成吸附剂为不具有离子交换基的多孔质树脂，可以采用作为合成吸附剂已知的公知吸附剂。作为离子交换基，可以举出氨基、季铵基、羧酸基、磺酸基等。作为合成吸附剂，具体而言可以举出苯乙烯-二乙烯基苯共聚物等苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸酯-乙二醇二甲基丙烯酸酯共聚物等丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂、聚乙烯基系树脂、葡聚糖系树脂等。作为商业上可获得的合成吸附剂，具体而言，作为苯乙烯系树脂，可以举出Diaion HP10、Diaion HP20、Diaion HP21、Diaion HP40、Diaion HP50、SEPABEADS SP207、SEPABEADS SP70、SEPABEADS SP825、SEPABEADS SP850、SEPABEADS SP207(以上为三菱化学公司制造)、Amberlite XAD1180N、Amberlite XAD2000、Amberlite XAD4、Amberlite FPX66(以上为Organo公司制造)等；作为丙烯酸系树脂，可以举出Diaion HP2MG(三菱化学公司制造)、Amberlite HXAD-7HP(Organo公司制造)等。

合成吸附剂的孔径优选为

从除去效率的观点出发，孔径优选为

以上，更优选为

以上，进一步优选为

以上。另外，可以为

以上，也可以为

以上。另外，孔径可以为

以下。孔径例如可以利用气体吸附法测定比表面积和总孔容来算出。

合成吸附剂的比表面积优选为300m²/g以上。比表面积更优选为400m²/g以上，进一步优选为500m²/g以上，尤其进一步优选为600m²/g以上。比表面积的上限没有限定，例如可以为2000m²/g以下，可以为1500m²/g以下，也可以为1000m²/g以下。

另外，合成吸附剂通常为球状，具有200～1300μm左右的平均粒径。

上述活性炭可以由碳质材料制造。作为碳质材料，只要是通过碳化、活化等生成活性炭的材料即可，可以例示出木材、锯末、木炭、椰壳、胡桃壳等果实壳、果实种子等植物系、泥炭、褐炭、褐煤、烟煤、无烟煤等煤炭、石油沥青、煤沥青等沥青、焦炭、煤焦油、石油焦油等焦油、石油蒸馏残渣等矿物系、棉、人造丝等纤维素系纤维等天然原材料、酚醛树脂、聚乙烯醇、聚丙烯腈等合成原材料等。作为形状，可以为粉末状、粒状、纤维状中的任一种，另外也可以是它们的成型物。

上述活性炭的比表面积优选为500m²/g以上。比表面积更优选为1000m²/g以上，进一步优选为1500m²/g以上，尤其进一步优选为1800m²/g以上，特别优选为2000m²/g以上。比表面积的上限没有限定，例如可以为2500m²/g。

活性炭的形状没有特别限定，例如可以为粒料状、颗粒状、粉末状、球状粒的形状。活性炭可以为市售品。作为活性炭的市售品，例如可以举出大阪燃气化学株式会社制造的白鹭(商标)等、Calgon Carbon Japan株式会社制造的Filtrasorb(商标)CAL、Diahope(商标)、Diasorb(商标)等、Swing株式会社制造的Evadia(商标)系列等。

在使用活性炭作为吸附剂的情况下，活性炭优选为高活化活性炭。通过使用高活化活性炭，与通常的活性炭相比能够提高聚合物(I)的吸附率。上述活性炭优选具有通过进行水蒸气活化处理而提高的吸附性能。在水蒸气活化处理中，优选使活性炭暴露于120℃以上、例如130℃～350℃、特别是150℃～1000℃的温度和0.2MPa以上、例如0.5～15MPa、特别是1MPa～15MPa的压力的蒸气中。水蒸气活化处理时间通常可以为10秒～50小时、例如10分钟～10小时。活化中，可以进行炉内的加温。

也可以在活性炭的表面负载阳离子。作为阳离子的示例，可以举出金属离子、金属氧化物离子、铵离子等。作为金属的示例，可以举出周期表1～13族的金属原子(例如，碱金属(例如Li、Na、K)、碱土金属(例如Mg、Ca)、Ti、Zr、V、Cr、Fe、Ni、Cu、Zn)。

上述吸附中，吸附剂相对于含有聚合物(I)的水的量没有限定，例如，相对于含有聚合物(I)的水1000g，可以为0.01～1000g。相对于含有聚合物(I)的水1000g，优选为0.1g以上，更优选为1g以上，进一步优选为5g以上。另外，优选为500g以下。

上述吸附中的温度没有特别限定，例如可以为0～50℃。

上述吸附中可使用的吸附装置只要是具备上述吸附剂的吸附装置就没有特别限定，可以根据目的适当使用各种吸附装置。吸附装置例如可以为填充有吸附剂的填充塔，具体而言可以为离子交换塔或活性炭塔。

本发明的第1处理方法中，优选在使吸附剂吸附聚合物(I)后回收吸附剂。上述回收方法没有特别限定，可以使用现有公知的方法。例如，可以通过上述过滤来分离吸附有聚合物(I)的吸附剂。

(絮凝)

上述过滤、吸附和絮凝之中，从能够更进一步提高聚合物(I)的除去效率的方面出发，优选絮凝。上述絮凝例如可以通过在含有聚合物(I)的水中添加絮凝剂来进行。上述除去工序优选为在含有聚合物(I)的水中添加絮凝剂的工序。在上述除去工序中，优选在含有聚合物(I)的水中添加絮凝剂后进行搅拌。搅拌时间没有限定，根据水中的聚合物(I)的量、絮凝剂的添加量适当设定即可。搅拌时间例如可以在0分钟～100小时的范围适当设定。

作为上述絮凝剂，可以举出例如无机絮凝剂、有机絮凝剂、高分子絮凝剂等。

上述絮凝剂的添加量根据水中含有的聚合物(I)的量、絮凝剂的种类等适当选择即可，例如相对于聚合物(I)可以为300重量％以下，可以为0.01重量％以上。需要说明的是，也可以为50重量％以上，另外，可以为0.01重量％以下。

上述除去工序特别优选为在含有聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂的工序。上述除去工序是对聚合物(I)进行絮凝的工序，在含有该聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂的工序是优选方式之一。

作为上述无机絮凝剂，可以举出金属盐等，可以使用市售品。也可以使用包含Mg²⁺、CA²⁺等的海水、低分子量的阳离子型高分子絮凝剂。

上述无机絮凝剂的添加量相对于聚合物(I)优选为0.01重量％以上，更优选为0.04重量％以上，进一步优选为0.1重量％以上，尤其进一步优选为1重量％以上，特别优选为5重量％以上，最优选为10重量％以上。另外，相对于聚合物(I)优选为300重量％以下，优选为50重量％以下，更优选为30重量％以下，进一步优选为20重量％以下。

上述无机絮凝剂的添加量相对于含有聚合物(I)的水优选为1重量ppm以上，更优选为10重量ppm以上，进一步优选为20重量ppm以上。另外，优选为15000重量ppm以下，更优选为10000重量ppm以下，进一步优选为5000重量ppm以下。

作为上述无机絮凝剂，优选金属盐。关于作为上述金属盐的无机絮凝剂，优选包含2价以上的金属元素的金属盐。构成金属盐的金属元素的价数优选为2价以上，更优选为3价以上，可以为3价。构成金属盐的金属元素的价数的上限没有特别限定，例如可以为6价以下。此处，构成金属盐的2价以上的金属元素更优选选自由Fe、Al和Ca组成的组中的至少1种金属元素，进一步优选选自由Fe、Al组成的组中的至少1种金属元素，特别优选Al。另外，作为构成金属盐的金属元素的抗衡离子，更优选选自由硫酸根离子、氢氧根离子、氟离子、硝酸根离子和氯离子组成的组中的至少1种，进一步优选选自由硫酸根离子、氯离子组成的组中的至少1种，特别优选硫酸根离子。

本说明书中的“金属盐”是指单盐、复盐和/或络盐。另外，“包含2价以上的金属元素的盐”是指包含2价以上的金属元素的单盐、复盐和/或络盐。

作为上述金属盐，例如优选选自由铝盐(例如硫酸铝、聚合氯化铝等)、铁盐(例如氢氧化亚铁、氢氧化铁、硫酸亚铁、硫酸铁、聚硫酸铁等)、钙盐(例如氢氧化钙、氯化钙、硫酸钙、碳酸钙、硝酸钙、氟化钙等)、以及包含2价以上的金属元素和硅的硅酸盐矿物(例如高岭石、蒙脱土、沸石等)组成的组中的至少1种金属盐。

关于上述硅酸盐矿物，作为市售的絮凝剂，可以举出二氧化硅氧化铝系絮凝剂。例如可以举出日本活性白土公司制造的Fulonaito 723、Fulonaito 113、Fulonaito 101、Fulonaito S、Fulonaito D等。

需要说明的是，可用作絮凝剂的金属盐也可以是在添加絮凝剂的工序中生成金属盐、或者转换金属盐的金属元素的抗衡离子的方式。

作为这样的方式，例如可以举出在含有聚合物(I)的水中添加具有金属氢氧化物等的抗衡离子的金属盐的方式等。在这样的方式中，发生金属盐的抗衡离子的转换。通过发生金属盐的抗衡离子的转换，有时可获得更良好的杂质除去效果。

作为上述无机絮凝剂，优选选自由铁盐和铝盐组成的组中的至少1种金属盐，更优选选自由氯化铁、硫酸铝和聚合氯化铝组成的组中的至少1种金属盐，进一步优选选自由硫酸铝和聚合氯化铝组成的组中的至少1种的铝盐，特别优选硫酸铝。

作为上述高分子絮凝剂，例如可以举出藻酸钠、壳多糖-壳聚糖絮凝剂、阳离子型高分子絮凝剂、阴离子型高分子絮凝剂、两性高分子絮凝剂、非离子型高分子絮凝剂等，优选为选自由阳离子型高分子絮凝剂、阴离子型高分子絮凝剂、两性高分子絮凝剂和非离子型高分子絮凝剂组成的组中的至少1种。

上述高分子絮凝剂的添加量相对于聚合物(I)优选为0.001重量％以上，更优选为0.004重量％以上，特别优选为0.01重量％以上。高分子絮凝剂的添加量的上限值没有特别限制，相对于聚合物(I)优选为50重量％以下，更优选为30重量％以下，特别优选为20重量％以下。

上述高分子絮凝剂的添加量相对于含有聚合物(I)的水优选为0.1重量ppm以上，更优选为1重量ppm以上，进一步优选为2重量ppm以上。

另外，优选为15000重量ppm以下，更优选为10000重量ppm以下，进一步优选为5000重量ppm以下。

作为上述阳离子型高分子絮凝剂，可以举出甲基丙烯酸二甲氨基乙酯等甲基丙烯酸多氨基烷基酯、聚乙烯亚胺、聚二烯丙基卤化铵、壳聚糖、脲醛树脂等。

作为阳离子型高分子絮凝剂的市售品，可以举出多木化学公司制造的TakiflocC-403、C-408、C-805、C-806、C-809；MT AquaPolymer公司制造的ARONFLOC EC-509L、C-508、CX-400、C-303、CX-333等。

作为上述阴离子型高分子絮凝剂，可以举出聚丙烯酸钠、聚丙烯酰胺部分水解物、部分磺甲基化聚丙烯酰胺、聚(2-丙烯酰胺)-2-甲基丙烷硫酸盐等聚丙烯酰胺系的高分子絮凝剂。

作为阴离子型高分子絮凝剂的市售品，可以举出KATAYAMA NALCO公司制造的Floclan A1210；多木化学公司制造的Takifloc A-102、A-103、A-177T、A-108T、A-142、A-50；MT AquaPolymer公司制造的ACCOFLOC A-95、A-110、A-150；MT AquaPolymer公司制造的SUMIFLOC FA-40、FA-50；三菱化学公司制造的DIAFLOC AP199、Ap120C、Ap784、DF732B等。

作为上述非离子型高分子絮凝剂，可以举出聚丙烯酰胺、聚环氧乙烷等。

作为非离子型高分子絮凝剂的市售品，可以举出多木化学公司制造的TakiflocN-100T、N-131、A-122T；MT AquaPolymer公司制造的ACCOFLOC N-100、N-210；MTAquaPolymer公司制造的SUMIFLOC FN-10H、FN-20H；三菱化学公司制造的DIAFLOC NP500、NP780、DF500等。

作为上述两性高分子絮凝剂，可以举出丙烯酰胺与甲基丙烯酸氨基烷基酯及丙烯酸钠的共聚物等。

作为两性高分子絮凝剂的市售品，可以举出多木化学公司制造的Takifloc MC-601、MC-602、MC-603；三菱化学公司制造的DIAFLOC KA003、KA606A等。

上述高分子絮凝剂之中，优选阴离子型高分子絮凝剂。

上述絮凝中的温度没有特别限定，例如优选为0℃以上，更优选为5℃以上，进一步优选为10℃以上。另外，优选为50℃以下，更优选为40℃以下，进一步优选为30℃以下。

在上述除去工序中，作为絮凝剂，可以仅添加无机絮凝剂，可以仅添加高分子絮凝剂，也可以添加无机絮凝剂和高分子絮凝剂两者。另外，可以同时添加无机絮凝剂和高分子絮凝剂，也可以在添加无机絮凝剂后添加高分子絮凝剂，也可以在添加高分子絮凝剂后添加无机絮凝剂。此外，可以分成多次添加高分子絮凝剂和无机絮凝剂，也可以交替添加高分子絮凝剂和无机絮凝剂。

上述除去工序特别优选为在含有聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂、然后添加高分子絮凝剂的工序。通过添加无机絮凝剂，利用相反电荷来中和聚合物(I)的表面电荷，由此使其絮凝而形成团块。

然后，通过添加高分子絮凝剂而使团块粗大化，由此能够使在无机絮凝剂作用下发生絮凝的团块交联而形成粗大的团块，由此能够更有效地除去聚合物(I)。

这种情况下，无机絮凝剂的添加量相对于聚合物(I)优选为0.01重量％以上，更优选为0.04重量％以上，进一步优选为0.1重量％以上，尤其进一步优选为1重量％以上，特别优选为5重量％以上，最优选为10重量％以上。另外，优选为300重量％以下，更优选为50重量％以下，进一步优选为30重量％以下，尤其进一步优选为20重量％以下。

上述无机絮凝剂的添加量相对于含有聚合物(I)的水优选为1重量ppm以上，更优选为10重量ppm以上，进一步优选为20重量ppm以上。另外，优选为15000重量ppm以下，更优选为10000重量ppm以下，进一步优选为5000重量ppm以下。

高分子絮凝剂的添加量相对于聚合物(I)优选为0.001重量％以上，更优选为0.004重量％以上，特别优选为0.01重量％以上。另外，优选为50重量％以下，更优选为30重量％以下，进一步优选为20重量％以下。

上述高分子絮凝剂的添加量相对于含有聚合物(I)的水优选为0.1重量ppm以上，更优选为1重量ppm以上，进一步优选为2重量ppm以上。

另外，优选为15000重量ppm以下，更优选为10000重量ppm以下，进一步优选为5000重量ppm以下。

上述除去工序中，在含有聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂之后、添加高分子絮凝剂之前，还优选在含有聚合物(I)的水中添加pH调整剂来调整pH。通过调整pH，能够更有效地除去聚合物(I)。

上述除去工序中，在添加高分子絮凝剂之前，优选使上述pH为4.0以上，更优选为5.0以上，进一步优选为6.0以上。另外，优选使上述pH为11.0以下，更优选为9.0以下，进一步优选为8.0以下。

作为pH调整剂没有限定，例如可以使用酸化合物或碱化合物。作为上述酸化合物，可以举出盐酸(HCl)、硝酸(HNO₃)、硫酸(H₂SO₄)、磷酸(H₃PO₄)等，特别优选盐酸(HCl)或硝酸(HNO₃)。作为碱化合物，例如可以举出NaOH、KOH等碱金属的氢氧化物；Mg(OH)₂、Ca(OH)₂等碱土金属的氢氧化物；磷酸氢二钠等具有缓冲作用的盐等，作为有机化合物，例如可以举出氨、胺类等。

上述pH可以利用pH计(例如Horiba公司制造的pH计D-20)进行测定。

本发明的第1处理方法中，优选的是，对含有聚合物(I)的水进行絮凝，使聚合物(I)絮凝后，从含有聚合物(I)的水中除去絮凝的聚合物(I)。从含有聚合物(I)的水中除去絮凝的聚合物(I)的方法没有限定，例如可以举出过滤等。上述过滤的方法没有限定，可以适当采用上述方法。

本发明的第1处理方法中，在使上述聚合物(I)絮凝后，优选回收絮凝的聚合物(I)。回收的方法没有限定，例如可以举出过滤等。上述过滤的方法没有限定，可以适当采用上述方法。

上述除去工序特别优选为下述工序：在含有聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂，然后添加高分子絮凝剂，对含有絮凝的聚合物(I)的水进行过滤。该方式中，在含有聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂之后、添加高分子絮凝剂之前，可以在含有聚合物(I)的水中添加pH调整剂来调整pH。作为上述pH，可以采用上述范围，例如还优选将pH调整为5.0～9.0(优选6.0～8.0)。

上述除去工序优选为使含有聚合物(I)的水中的聚合物(I)的浓度相对于除去工序前的浓度为50％以下的工序。更优选为40％以下，进一步更优选为30％以下，尤其进一步优选为20％以下，特别优选为10％以下。

另外，上述除去工序优选为使处理后的水中的聚合物(I)的浓度为250ppm以下的工序。更优选为200ppm以下，进一步优选为100ppm以下，进一步更优选为80ppm以下，尤其进一步优选为60ppm以下，特别优选为50ppm以下。

通过上述除去工序，还能够从含有聚合物(I)的水中除去形成构成聚合物(I)的结构单元的单体的二聚物和三聚物。

作为二聚物和三聚物，可以为通式(I)所表示的单体(以下有时称为单体(I))的二聚物和三聚物。二聚物和三聚物可以是由作为通式(I)所表示的单体(I)的1种单体(I)形成的聚合物，也可以由作为通式(I)所表示的单体(I)的结构不同的2种以上的单体(I)形成的共聚物。另外，作为二聚物和三聚物，可以举出作为形成构成聚合物(I)的合适的结构单元的单体的后述单体的二聚物和三聚物。

上述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)。聚合物(I)优选包含2个以上的聚合单元(I)。

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m (I)

(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)

作为X²，优选F、Cl、H或CF₃。另外，作为Z¹和Z²，优选F或CF₃。

本发明中，阴离子性基团除了硫酸盐基、羧酸盐基等阴离子性基团以外，还包括能够提供-COOH之类的酸基、-COONH₄之类的酸碱基等阴离子性基团的官能团。上述阴离子性基团优选硫酸盐基、羧酸盐基、磷酸盐基、膦酸盐基、磺酸盐基或-C(CF₃)₂OM(式中，M为-H、金属原子、-NR⁷ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R⁷为H或有机基团。)，更优选硫酸盐基、羧酸盐基、磷酸盐基、膦酸盐基或磺酸盐基。

聚合物(I)可以仅包含基于通式(I)所表示的1种单体的聚合单元(I)，也可以包含基于通式(I)所表示的2种以上单体的聚合单元(I)。

上述R为连接基团。本发明中的“连接基团”为(m+1)价连接基团，m为1的情况下是指二价连接基团。连接基团可以为单键，优选包含至少1个碳原子，碳原子的数量可以为2以上，可以为4以上，可以为8以上，可以为10以上，也可以为20以上。上限没有限定，例如可以为100以下，也可以为50以下。

连接基团可以为链状或支链状、环状或非环状结构、饱和或不饱和、取代或无取代，可以根据期望包含选自由硫、氧和氮组成的组中的1个以上的杂原子，根据期望包含选自由酯、酰胺、磺酰胺、羰基、碳酸酯、氨基甲酸酯、脲和氨基甲酸酯组成的组中的1个以上的官能团。上述连接基团也可以不含碳原子而是氧、硫或氮等悬链杂原子。

m为1以上的整数，优选为1或2，更优选为1。m为2以上的整数的情况下，Z¹、Z²和A⁰可以相同，也可以不同。

接着，对通式(I)中m为1的情况下的优选构成进行说明。

上述R例如优选为氧、硫、氮等悬链杂原子或2价有机基团。

R为2价有机基团的情况下，与碳原子键合的氢原子可以被氟以外的卤素、例如氯等取代，可以包含双键也可以不包含双键。另外，R可以为链状和支链状中的任一种，可以为环状和非环状中的任一种。另外，R可以包含官能团(例如酯、醚、酮、胺、卤化物等)。

另外，R可以为无氟的2价有机基团，也可以为部分氟化或过氟化的2价有机基团。

作为R，例如可以为在碳原子上未键合氟原子的烃基、与碳原子键合的氢原子一部分被氟原子取代的烃基、或者与碳原子键合的氢原子全部被氟原子取代的烃基，这些基团可以包含氧原子，可以包含双键，也可以包含官能团。

R优选为可包含醚键的碳原子数1～100的烃基，该烃基的与碳原子键合的氢原子可以一部分或全部被氟取代。

作为R，优选为选自-(CH₂)_a-、-(CF₂)_a-、-O-(CF₂)_a-、-(CF₂)_a-O-(CF₂)_b-、-O(CF₂)_a-O-(CF₂)_b-、-(CF₂)_a-[O-(CF₂)_b]_c-、-O(CF₂)_a-[O-(CF₂)_b]_c-、-[(CF₂)_a-O]_b-[(CF₂)_c-O]_d-、-O[(CF₂)_a-O]_b-[(CF₂)_c-O]_d-、-O-[CF₂CF(CF₃)O]_a-(CF₂)_b-、-[CF₂CF(CF₃)O]_a-、-[CF(CF₃)CF₂O]_a-、-(CF₂)_a-O-[CF(CF₃)CF₂O]_a-、-(CF₂)_a-O-[CF(CF₃)CF₂O]_a-(CF₂)_b-和它们的组合中的至少1种。

式中，a、b、c和d独立地为至少1以上。a、b、c和d可以独立地为2以上，可以为3以上，可以为4以上，可以为10以上，也可以为20以上。a、b、c和d的上限例如为100。

作为R，优选下述通式(r1)：

-CF₂-O-(CX⁶ ₂)_e-{O-CF(CF₃)}_f-(O)_g- (r1)

(式中，X⁶各自独立地为H、F或CF₃，e为0～3的整数，f为0～3的整数，g为0或1)所表示的2价基团、下述通式(r2)：

-CF₂-O-(CX⁷ ₂)_e-(O)_g- (r2)

(式中，X⁷各自独立地为H、F或CF₃，e为0～3的整数，g为0或1)所表示的2价基团。

作为R的优选的具体例，可以举出-CF₂-O-、-CF₂-O-CF₂-、-CF₂-O-CH₂-、-CF₂-O-CH₂CF₂-、-CF₂-O-CF₂CF₂-、-CF₂-O-CF₂CH₂-、-CF₂-O-CF₂CF₂CH₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-O-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-O-CF₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)CH₂-等。其中，上述R优选包含或不包含氧原子的全氟亚烷基，具体而言，优选-CF₂-O-、-CF₂-O-CF₂-、-CF₂-O-CF₂CF₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-或-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-O-。

作为上述通式(I)的-R-CZ¹Z²-，优选下述式(s1)：

-CF₂-O-(CX⁶ ₂)_e-{O-CF(CF₃)}_f-(O)_g-CZ¹Z²- (s1)

(式中，X⁶各自独立地为H、F或CF₃，e为0～3的整数，f为0～3的整数，g为0或1，Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基)所表示的2价基团，式(s1)中，Z¹和Z²更优选F或CF₃，进一步优选一者为F、另一者为CF₃。

另外，上述通式(I)中，作为-R-CZ¹Z²-，优选下述式(s2)：

-CF₂-O-(CX⁷ ₂)_e-(O)_g-CZ¹Z²- (s2)

(式中，X⁷各自独立地为H、F或CF₃，e为0～3的整数，g为0或1，Z¹和Z²各自独立地为F或CF₃)所表示的2价基团，式(s2)中，更优选Z¹和Z²的一者为F、另一者为CF₃。

作为上述通式(I)的-R-CZ¹Z²-，优选-CF₂-O-CF₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)-、-CF₂-O-C(CF₃)₂-、-CF₂-O-CF₂-CF₂-、-CF₂-O-CF₂-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF₂-C(CF₃)₂-、-CF₂-O-CF₂CF₂-CF₂-、-CF₂-O-CF₂CF₂-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF₂CF₂-C(CF₃)₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)-CF₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF(CF₃)-C(CF₃)₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)-CF₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF(CF₃)-C(CF₃)₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-CF₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-C(CF₃)₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-O-CF₂-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-O-CF(CF₃)-或-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-O-C(CF₃)₂-，更优选-CF₂-O-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF₂-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF₂CF₂-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF(CF₃)-CF(CF₃)-、-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-CF(CF₃)-或-CF₂-O-CF(CF₃)CF₂-O-CF(CF₃)-。

上述聚合物(I)还优选高度被氟化。例如，优选除磷酸盐基部分(例如CH₂OP(O)(OM)₂)和硫酸盐基部分(例如CH₂OS(O)₂OM)之类的阴离子性基团(A⁰)以外，聚合物(I)中的C-H键的80％以上、90％以上、95％以上或100％被C-F键取代。

上述聚合物(I)还优选除了具有阴离子性基团(A⁰)以外还具有C-F键而不具有C-H键。即，通式(I)中，优选X¹、X²和X³全部为F且R是碳原子数为1以上的全氟亚烷基，上述全氟亚烷基可以为链状和支链状中的任一种，可以为环状和非环状中的任一种，可以包含至少1个悬链杂原子。上述全氟亚烷基的碳原子数可以为2～20，也可以为4～18。

上述聚合物(I)也可以部分被氟化。即，聚合物(I)还优选除了具有阴离子性基团(A⁰)以外还具有与碳原子键合的至少1个氢原子、且具有与碳原子键合的至少1个氟原子。

上述阴离子性基团(A⁰)可以为-SO₃M、-OSO₃M、-COOM、-SO₂NR’CH₂COOM、-CH₂OP(O)(OM)₂、[-CH₂O]₂P(O)(OM)、-CH₂CH₂OP(O)(OM)₂、[-CH₂CH₂O]₂P(O)(OM)、-CH₂CH₂OSO₃M、-P(O)(OM)₂、-SO₂NR’CH₂CH₂OP(O)(OM)₂、[-SO₂NR’CH₂CH₂O]₂P(O)(OM)、-CH₂OSO₃M、-SO₂NR’CH₂CH₂OSO₃M或-C(CF₃)₂OM。其中，优选-SO₃M、-COOM或-P(O)(OM)₂，更优选-SO₃M或-COOM，进一步优选-COOM。

上述M为-H、金属原子、-NR⁷ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R⁷为H或有机基团。

作为上述金属原子，可以举出碱金属(1族)、碱土金属(2族)等，优选Na、K或Li。

作为上述M，优选-H、金属原子或-NR⁷ ₄，更优选-H、碱金属(1族)、碱土金属(2族)或-NR⁷ ₄，进一步优选-H、-Na、-K、-Li或-NH₄，进一步更优选-Na、-K或-NH₄，特别优选-Na或-NH₄，最优选-NH₄。

上述聚合物(I)中，各聚合单元(I)中可以具有不同的阴离子性基团，也可以具有相同的阴离子性基团。

上述聚合物(I)还优选为包含基于下述式(Ia)所示的单体的聚合单元(Ia)的聚合物。

CF₂＝CF-O-Rf⁰-A⁰ (Ia)

(式中，A⁰为阴离子性基团，Rf⁰是被过氟化、可以为链状或支链状、环状或非环状结构、饱和或不饱和、取代或无取代、并任意追加含有选自由硫、氧和氮组成的组中的1个以上的杂原子的过氟化二价连接基团。)

上述聚合物(I)还优选为包含基于下述式(Ib)所示的单体的聚合单元(Ib)的聚合物。

CH₂＝CH-O-Rf⁰-A⁰ (Ib)

(式中，A⁰为阴离子性基团，Rf⁰为式(Ia)所定义的过氟化二价连接基团。)

通式(I)中，A⁰为硫酸盐基是优选方式之一。A⁰例如为-CH₂OSO₃M、-CH₂CH₂OSO₃M或-SO₂NR’CH₂CH₂OSO₃M，式中，R’为H或碳原子数1～4的烷基，M与上述相同。

A⁰为硫酸盐基的情况下，作为通式(I)所表示的单体，例如可以举出CF₂＝CF(OCF₂CF₂CH₂OSO₃M)、CH₂＝CH((CF₂)₄CH₂OSO₃M)、CF₂＝CF(O(CF₂)₄CH₂OSO₃M)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)CH₂OSO₃M)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂CH₂OSO₃M)、CH₂＝CH((CF₂)₄CH₂OSO₃M)、CF₂＝CF(OCF₂CF₂SO₂N(CH₃)CH₂CH₂OSO₃M)、CH₂＝CH(CF₂CF₂CH₂OSO₃M)、CF₂＝CF(OCF₂CF₂CF₂CF₂SO₂N(CH₃)CH₂CH₂OSO₃M)、CH₂＝CH(CF₂CF₂CF₂CH₂OSO₃M)等。上述式中，M与上述相同。

通式(I)中，A⁰为磺酸盐基也是优选方式之一。作为A⁰，例如为-SO₃M，式中，M与上述相同。

A⁰为磺酸盐基的情况下，作为通式(I)所表示的单体，可以举出CF₂＝CF(OCF₂CF₂SO₃M)、CF₂＝CF(O(CF₂)₃SO₃M)、CF₂＝CF(O(CF₂)₄SO₃M)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)SO₃M)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂SO₃M)、CH₂＝CH(CF₂CF₂SO₃M)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂CF₂CF₂SO₃M)、CH₂＝CH((CF₂)₄SO₃M)、CH₂＝CH(CF₂CF₂SO₃M)、CH₂＝CH((CF₂)₃SO₃M)等。上述式中，M与上述相同。

式(I)中，A⁰为羧酸盐基也是优选方式之一。作为A⁰，例如为-COOM或-SO₂NR’CH₂COOM，式中，R’为H或碳原子数1～4的烷基，M与上述相同。A⁰为羧酸盐基的情况下，作为通式(I)所表示的单体，可以举出CF₂＝CF(OCF₂CF₂COOM)、CF₂＝CF(O(CF₂)₃COOM)、CF₂＝CF(O(CF₂)₄COOM)、CF₂＝CF(O(CF₂)₅COOM)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)COOM)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)O(CF₂)_nCOOM)(n大于1)、CH₂＝CH(CF₂CF₂COOM)、CH₂＝CH((CF₂)₄COOM)、CH₂＝CH(CF₂CF₂COOM)、CH₂＝CH((CF₂)₃COOM)、CF₂＝CF(OCF₂CF₂SO₂NR’CH₂COOM)、CF₂＝CF(O(CF₂)₄SO₂NR’CH₂COOM)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)SO₂NR’CH₂COOM)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂SO₂NR’CH₂COOM)、CH₂＝CH(CF₂CF₂SO₂NR’CH₂COOM)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂CF₂CF₂SO₂NR’CH₂COOM)、CH₂＝CH((CF₂)₄SO₂NR’CH₂COOM)、CH₂＝CH(CF₂CF₂SO₂NR’CH₂COOM)、CH₂＝CH((CF₂)₃SO₂NR’CH₂COOM)等。上述式中，R’为H或C_1-4烷基，M与上述相同。

式(I)中，A⁰为磷酸盐基也是优选方式之一。作为A⁰，例如为-CH₂OP(O)(OM)₂、[-CH₂O]₂P(O)(OM)、-CH₂CH₂OP(O)(OM)₂、[-CH₂CH₂O]₂P(O)(OM)、[-SO₂NR’CH₂CH₂O]₂P(O)(OM)或-SO₂NR’CH₂CH₂OP(O)(OM)₂，式中，R’为碳原子数1～4的烷基，M与上述相同。

A⁰为磷酸盐基的情况下，作为通式(I)所表示的单体，可以举出CF₂＝CF(OCF₂CF₂CH₂OP(O)(OM)₂)、CF₂＝CF(O(CF₂)₄CH₂OP(O)(OM)₂)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)CH₂OP(O)(OM)₂)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂CH₂OP(O)(OM)₂)、CF₂＝CF(OCF₂CF₂SO₂N(CH₃)CH₂CH₂OP(O)(OM)₂)、CF₂＝CF(OCF₂CF₂CF₂CF₂SO₂N(CH₃)CH₂CH₂OP(O)(OM)₂)、CH₂＝CH(CF₂CF₂CH₂OP(O)(OM)₂)、CH₂＝CH((CF₂)₄CH₂OP(O)(OM)₂)、CH₂＝CH(CF₂CF₂CH₂OP(O)(OM)₂)、CH₂＝CH((CF₂)₃CH₂OP(O)(OM)₂)等。上述式中，M与上述相同。

式(I)中，A⁰为膦酸盐基也是优选方式之一。A⁰为膦酸盐基的情况下，作为通式(I)所表示的单体，可以举出CF₂＝CF(OCF₂CF₂P(O)(OM)₂)、CF₂＝CF(O(CF₂)₄P(O)(OM)₂)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)P(O)(OM)₂)、CF₂＝CF(OCF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂P(O)(OM)₂)、CH₂＝CH(CF₂CF₂P(O)(OM)₂)、CH₂＝CH((CF₂)₄P(O)(OM)₂)、CH₂＝CH(CF₂CF₂P(O)(OM)₂)、CH₂＝CH((CF₂)₃P(O)(OM)₂)，式中，M与上述相同。

上述聚合物(I)优选为包含基于下述通式(1)所表示的单体的聚合单元(1)的聚合物(1)。

CX₂＝CY(-CZ₂-O-Rf-A) (1)

(式中，X相同或不同地为-H或-F，Y为-H、-F、烷基或含氟烷基，Z相同或不同地为-H、-F、烷基或氟代烷基。Rf为碳原子数1～40的含氟亚烷基、或碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基。A为-COOM、-SO₃M、-OSO₃M或C(CF₃)₂OM(M为-H、金属原子、-NR⁷ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R⁷为H或有机基团)。其中，X、Y和Z中的至少1个包含氟原子。)

需要说明的是，上述碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基是不包含氧原子为末端的结构而在碳碳间包含醚键的亚烷基。

上述通式(1)中，X为-H或-F。X可以两者均为-F，也可以至少1个为-H。例如，可以一者为-F、另一者为-H，也可以两者均为-H。

上述通式(1)中，Y为-H、-F、烷基或含氟烷基。

上述烷基为不含有氟原子的烷基，碳原子数只要为1以上即可。上述烷基的碳原子数优选为6以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下。

上述含氟烷基为含有至少1个氟原子的烷基，碳原子数只要为1以上即可。上述含氟烷基的碳原子数优选为6以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下。

作为上述Y，优选-H、-F或-CF₃，更优选-F。

上述通式(1)中，Z相同或不同地为-H、-F、烷基或氟代烷基。

上述烷基为不含有氟原子的烷基，碳原子数只要为1以上即可。上述烷基的碳原子数优选为6以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下。

上述含氟烷基为含有至少1个氟原子的烷基，碳原子数只要为1以上即可。上述含氟烷基的碳原子数优选为6以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下。

作为上述Z，优选-H、-F或-CF₃，更优选-F。

上述通式(1)中，上述X、Y和Z中的至少1个包含氟原子。例如，可以X为-H、Y和Z为-F。

上述通式(1)中，上述Rf为碳原子数1～40的含氟亚烷基、或碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基。需要说明的是，上述碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基是不包含氧原子为末端的结构而在碳碳间包含醚键的亚烷基。

上述含氟亚烷基的碳原子数优选为2以上。另外，上述含氟亚烷基的碳原子数优选为30以下，更优选为20以下，进一步优选为10以下。作为上述含氟亚烷基，可以举出-CF₂-、-CH₂CF₂-、-CF₂CF₂-、-CF₂CH₂-、-CF₂CF₂CH₂-、-CF(CF₃)-、-CF(CF₃)CF₂-、-CF(CF₃)CH₂-等。上述含氟亚烷基优选为全氟亚烷基。

上述具有醚键的含氟亚烷基的碳原子数优选为3以上。另外，上述具有醚键的含氟亚烷基的碳原子数优选为60以下，更优选为30以下，进一步优选为12以下。

例如，还优选为下式：

[化1]

(式中，Z¹为F或CF₃；Z²和Z³分别为H或F；Z⁴为H、F或CF₃；p1+q1+r1为1～10的整数；s1为0或1；t1为0～5的整数)所表示的2价基团。

作为上述具有醚键的含氟亚烷基，具体而言，可以举出-CF(CF₃)CF₂-O-CF(CF₃)-、-(CF(CF₃)CF₂-O)_n-CF(CF₃)-(式中，n为1～10的整数)、-CF(CF₃)CF₂-O-CF(CF₃)CH₂-、-(CF(CF₃)CF₂-O)_n-CF(CF₃)CH₂-(式中，n为1～10的整数)、-CH₂CF₂CF₂O-CH₂CF₂CH₂-、-CF₂CF₂CF₂O-CF₂CF₂-、-CF₂CF₂CF₂O-CF₂CF₂CH₂-、-CF₂CF₂O-CF₂-、-CF₂CF₂O-CF₂CH₂-等。

上述具有醚键的含氟亚烷基优选为全氟亚烷基。

上述通式(1)中，A为-COOM、-SO₃M、-OSO₃M或-C(CF₃)₂OM(M为-H、金属原子、-NR⁷ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R⁷为H或有机基团)。

作为R⁷，优选H或C_1-10的有机基团，更优选H或C_1-4的有机基团，进一步优选H或C_1-4的烷基。

作为上述金属原子，可以举出碱金属(1族)、碱土金属(2族)等，优选Na、K或Li。

作为上述M，优选-H、金属原子或-NR⁷ ₄，更优选-H、碱金属(1族)、碱土金属(2族)或-NR⁷ ₄，进一步优选-H、-Na、-K、-Li或-NH₄，进一步更优选-Na、-K或-NH₄，特别优选-Na或-NH₄，最优选-NH₄。

作为上述A，优选-COOM或-SO₃M，更优选-COOM。

作为通式(1)所表示的单体，例如可以例示出下述式(1a)：

CX₂＝CFCF₂-O-(CF(CF₃)CF₂O)_n5-CF(CF₃)-A (1a)

(式中，各X相同，表示F或H。n5表示0或1～10的整数，A与上述定义相同。)所表示的氟烯丙基醚化合物作为优选例。

上述式(1a)中，从能够得到一次粒径小的PTFE粒的方面出发，上述n5优选为0或1～5的整数，更优选为0、1或2，进一步优选为0或1。上述A优选为-COOM，上述M优选为H或NH₄。

上述聚合物(1)可以为通式(1a)所表示的氟烯丙基醚化合物的均聚物，也可以为与其他单体的共聚物。

上述聚合单元(1)优选为基于下述通式(1A)所表示的单体的聚合单元(1A)。

CH₂＝CF(-CF₂-O-Rf-A) (1A)

(式中，Rf和A与上述相同。)

上述聚合物(1)可以为通式(1A)所表示的单体的均聚物，也可以为与其他单体的共聚物。

作为式(1A)所表示的单体，具体而言，可以举出下式

[化2]

(式中，Z¹为F或CF₃；Z²和Z³分别为H或F；Z⁴为H、F或CF₃；p1+q1+r1为0～10的整数；s1为0或1；t1为0～5的整数，其中，在Z³和Z⁴均为H的情况下，p1+q1+r1+s1不为0)所表示的单体。更具体而言，优选可以举出

[化3]

CH₂＝CFCF₂OCH₂CF₂-A，CH₂＝CFCF₂O(CH₂CF₂CF₂O)CH₂CF₂-A，

CH₂＝CFCF₂OCH₂CF₂CH₂-A，

CH₂＝CFCF₂O(CH₂CF₂CF₂O)CH₂CF₂CH₂-A，

CH₂＝CFCF₂OCF₂CF₂-A，CH₂＝CFCF₂O(CF₂CF₂CF₂O)CF₂CF₂-A，

CH₂＝CFCF₂OCF₂CF₂CH₂-A，

CH₂＝CFCF₂O(CF₂CF₂CF₂O)CF₂CF₂CH₂-A，

CH₂＝CFCF₂OCF₂-A，CH₂＝CFCF₂O(CF₂CF₂O)CF₂-A，

CH₂＝CFCF₂OCF₂CH₂-A，

CH₂＝CFCF₂O(CF₂CF₂O)CF₂CH₂-A，

等，其中，

[化4]

是优选的。

作为上述通式(1A)所表示的单体，式(1A)中的A优选为-COOM，特别优选选自由CH₂＝CFCF₂OCF(CF₃)COOM和CH₂＝CFCF₂OCF(CF₃)CF₂OCF(CF₃)COOM(式中，M与上述定义相同。)组成的组中的至少1种，更优选CH₂＝CFCF₂OCF(CF₃)COOM。

另外，作为通式(1)所表示的单体，还可以举出下式所表示的单体等。

CF₂＝CFCF₂-O-Rf-A

(式中，Rf和A与上述相同)

更具体而言，可以举出

[化5]

CF₂＝CFCF₂OCF₂CF₂CF₂-A，

CF₂＝CFCF₂OCF₂CF₂CF₂CH₂-A，

等。

聚合物(I)还优选为包含基于通式(2)所表示的单体的聚合单元(2)的聚合物(2)。

CX₂＝CY(-O-Rf-A) (2)

(式中，X相同或不同地为-H或F，Y为-H、-F、烷基或含氟烷基，Rf为碳原子数1～40的含氟亚烷基、或碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基。A与上述相同。)

通式(2)中，X为-H或-F。X可以两者均为-F，也可以至少1个为-H。例如，可以一者为-F、另一者为-H，也可以两者均为-H。

通式(2)中，Y为-H、-F、烷基或含氟烷基。

上述烷基为不含有氟原子的烷基，碳原子数只要为1以上即可。上述烷基的碳原子数优选为6以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下。

上述含氟烷基为含有至少1个氟原子的烷基，碳原子数只要为1以上即可。上述含氟烷基的碳原子数优选为6以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下。

作为Y，优选-H、-F或-CF₃，更优选-F。

上述通式(2)中，优选上述X和Y中的至少1个包含氟原子。例如，可以X为-H、Y和Z为-F。

上述通式(2)中，上述Rf为碳原子数1～40的含氟亚烷基、或碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基。需要说明的是，上述碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基是不包含氧原子为末端的结构而在碳碳间包含醚键的亚烷基。

上述含氟亚烷基的碳原子数优选为2以上。另外，优选为30以下，更优选为20以下，进一步优选为10以下。作为上述含氟亚烷基，可以举出-CF₂-、-CH₂CF₂-、-CF₂CF₂-、-CF₂CH₂-、-CF₂CF₂CH₂-、-CF(CF₃)-、-CF(CF₃)CF₂-、-CF(CF₃)CH₂-等。上述含氟亚烷基优选为全氟亚烷基。

通式(2)所表示的单体优选选自由通式(2a)、(2b)、(2c)、(2d)和(2e)所表示的单体组成的组中的至少1种。

CF₂＝CF-O-(CF₂)_n1-A (2a)

(式中，n1表示1～10的整数，A与上述相同。)

CF₂＝CF-O-(CF₂C(CF₃)F)_n2-A (2b)

(式中，n2表示1～5的整数，A与上述定义相同。)

CF₂＝CF-O-(CFX¹)_n3-A (2c)

(式中，X¹表示F或CF₃，n3表示1～10的整数，A与上述定义相同。)

CF₂＝CF-O-(CF₂CFX¹O)_n4-(CF₂)_n6-A (2d)

(式中，n4表示1～10的整数，n6为1～3的整数，A和X¹与上述定义相同。)

CF₂＝CF-O-(CF₂CF₂CFX¹O)_n5-CF₂CF₂CF₂-A (2e)

(式中，n5表示0～10的整数，A和X¹与上述定义相同。)

上述式(2a)中，上述n1优选为5以下的整数，更优选为2以下的整数。

作为上述式(2a)所表示的单体，例如可以举出CF₂＝CF-O-CF₂COOM、CF₂＝CF(OCF₂CF₂COOM)、CF₂＝CF(O(CF₂)₃COOM)(式中，M与上述定义相同。)。

上述式(2b)中，从得到的组合物的分散稳定性的方面出发，n2优选为3以下的整数。

上述式(2c)中，n3从水溶性的方面出发优选为5以下的整数，上述A优选为-COOM，上述M优选为H或NH₄。

上述式(2d)中，从分散稳定性的方面出发，X¹优选为-CF₃，n4从水溶性的方面出发优选为5以下的整数，A优选为-COOM，M优选为H或NH₄。

作为上述式(2d)所表示的单体，例如可以举出CF₂＝CFOCF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂COOM、CF₂＝CFOCF₂CF(CF₃)OCF₂COOM、CF₂＝CFOCF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂CF₂COOM(式中，M表示H、NH₄或碱金属。)。

上述式(2e)中，n5从水溶性的方面出发优选为5以下的整数，A优选为-COOM，M优选为H或NH₄。

作为上述式(2e)所表示的单体，例如可以举出CF₂＝CFOCF₂CF₂CF₂COOM(式中，M表示H、NH₄或碱金属。)。

聚合物(I)还优选为包含基于通式(3)所表示的单体的聚合单元(3)的聚合物(3)。

CX₂＝CY(-Rf-A) (3)

(式中，X相同或不同地为-H或-F，Y为-H、-F、烷基或含氟烷基，Rf为碳原子数1～40的含氟亚烷基、或碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基。A与上述相同。)

需要说明的是，碳原子数2～100的具有醚键的含氟亚烷基是不包含氧原子为末端的结构而在碳碳间包含醚键的亚烷基。

通式(3)中，Rf优选为碳原子数1～40的含氟亚烷基。通式(3)中，优选X和Y中的至少1个包含氟原子。

通式(3)所表示的单体优选选自由通式(3a)：

CF₂＝CF-(CF₂)_n1-A (3a)

(式中，n1表示1～10的整数，A与上述定义相同。)所表示的单体和通式(3b)：

CF₂＝CF-(CF₂C(CF₃)F)_n2-A (3b)

(式中，n2表示1～5的整数，A与上述定义相同。)所表示的单体组成的组中的至少1种。

上述式(3a)和上述式(3b)中，上述A优选为-SO₃M或-COOM，M优选为H、金属原子、NR⁷ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻。R⁷表示H或有机基团。

上述式(3a)中，n1优选为5以下的整数，更优选为2以下的整数。A优选为-COOM，M优选为H或NH₄。

作为上述式(3a)所表示的单体，例如可以举出CF₂＝CFCF₂COOM(式中，M与上述定义相同。)。

上述式(3b)中，从得到的水性分散液的分散稳定性的方面出发，n2优选为3以下的整数，A优选为-COOM，M优选为H或NH₄。

接着，对通式(I)中m为2以上的整数的情况下的优选构成进行说明。

聚合物(I)还优选为包含基于选自由通式(4a)和通式(4b)所表示的单体组成的组中的至少1种单体的聚合单元(4)的聚合物(4)。

CF₂＝CF-CF₂-O-Q^F1-CF(-Q^F2-CZ¹Z²-A)₂ (4a)

(式中，Z¹、Z²和A与上述定义相同、Q^F1和Q^F2相同或不同地为单键、碳碳间包含或不包含醚键的含氟亚烷基或碳碳间包含或不包含醚键的含氟氧亚烷基)

CF₂＝CF-O-Q^F1-CF(-Q^F2-CZ¹Z²-A)₂ (4b)

(式中，Z¹、Z²、A、Q^F1和Q^F2与上述定义相同)

作为通式(4a)和通式(4b)所表示的单体，可以举出

[化6]

等。

聚合物(I)优选选自由聚合物(1)、聚合物(2)和聚合物(3)组成的组中的至少1种，更优选聚合物(1)。

上述聚合物(I)可以为仅由上述聚合单元(I)构成的均聚物，也可以为包含上述聚合单元(I)和基于能够与通式(I)所表示的单体共聚的其他单体的聚合单元的共聚物。从在聚合介质中的溶解性的观点出发，优选仅由聚合单元(I)构成的均聚物。聚合单元(I)在各次出现时可以相同或不同，聚合物(I)也可以包含基于2种以上不同的通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)。

作为上述其他单体，优选碳原子数2或3的含氟烯键式单体，例如可以举出CF₂＝CF₂、CF₂＝CFCl、CH₂＝CF₂、CFH＝CH₂、CFH＝CF₂、CF₂＝CFCF₃、CH₂＝CFCF₃、CH₂＝CHCF₃、CHF＝CHCF₃(E体)、CHF＝CHCF₃(Z体)等。

其中，从共聚性良好的方面出发，优选选自由四氟乙烯(CF₂＝CF₂)、三氟氯乙烯(CF₂＝CFCl)和偏二氟乙烯(CH₂＝CF₂)组成的组中的至少1种，更优选四氟乙烯。因此，基于上述其他单体的聚合单元优选为基于四氟乙烯的单体单元(聚合单元)。基于上述其他单体的聚合单元在各次出现时可以相同或不同，聚合物(I)也可以包含基于2种以上不同的其他单体的聚合单元。

作为上述其他单体，还可以举出下述式(n1-2)：

[化7]

(式中，X¹、X²相同或不同地为H或F；X³为H、F、Cl、CH₃或CF₃；X⁴、X⁵相同或不同地为H或F；a和c相同或不同地为0或1。Rf³为碳原子数1～40的含氟烷基或碳原子数2～100的具有醚键的含氟烷基)所表示的单体。

具体而言，优选可以举出CH₂＝CFCF₂-O-Rf³、CF₂＝CF-O-Rf³、CF₂＝CFCF₂-O-Rf³、CF₂＝CF-Rf³、CH₂＝CH-Rf³、CH₂＝CH-O-Rf³(式中，Rf³与上述式(n1-2)相同)等。

作为上述其他单体，还可以举出式(n2-1)：

[化8]

(式中，X⁹为H、F或CH₃；Rf⁴为碳原子数1～40的含氟烷基或碳原子数2～100的具有醚键的含氟烷基)所表示的含氟丙烯酸酯单体。上述Rf⁴基可以举出

[化9]

(式中，Z⁸为H、F或Cl；d1为1～4的整数；e1为1～10的整数)

-CH(CF₃)₂、

(式中，e2为1～5的整数)

(式中，d3为1～4的整数；e3为1～10的整数)等。

作为上述其他单体，还可以举出式(n2-2)：

CH₂＝CHO-Rf⁵ (n2-2)

(式中，Rf⁵为碳原子数1～40的含氟烷基或碳原子数2～100的具有醚键的含氟烷基)所表示的含氟乙烯基醚。

作为式(n2-2)的单体，具体而言，优选可以举出

[化10]

(式中，Z⁹为H或F；e4为1～10的整数)

(式中，e5为1～10的整数)

(式中，e6为1～10的整数)等。

更具体而言，可以举出

[化11]

CH₂＝CHOCH₂CF₂CF₂H、

CH₂＝CHOCH₂CF₂CF₃、

CH₂＝CHOCH₂CF₃、

等。

此外，还可以举出式(n2-3)：

CH₂＝CHCH₂O-Rf⁶ (n2-3)

(式中，Rf⁶为碳原子数1～40的含氟烷基或碳原子数2～100的具有醚键的含氟烷基)所表示的含氟烯丙基醚、式(n2-4)：

CH₂＝CH-Rf⁷ (n2-4)

(式中，Rf⁷为碳原子数1～40的含氟烷基或碳原子数2～100的具有醚键的含氟烷基)所表示的含氟乙烯基单体等。

作为上述式(n2-3)、(n2-4)所表示的单体，具体而言，可以举出

[化12]

CH₂＝CHCH₂OCH₂CF₂CF₂H、

CH₂＝CHCH₂OCH₂CF₂CF₃、

CH₂＝CHCH₂OCH₂CF₈、

等单体。

上述聚合物(I)通常具有末端基。末端基是在聚合时生成的末端基，代表性的末端基从氢、碘、溴、链状或支链状的烷基和链状或支链状的氟代烷基中独立选择，可以任意追加含有至少1个悬链杂原子。上述烷基或氟代烷基优选碳原子数为1～20。

这些末端基通常由聚合物(I)的形成中使用的引发剂或链转移剂生成、或在链转移反应中生成。

聚合物(I)中，聚合单元(I)的含量相对于全部聚合单元优选为1.0摩尔％以上，更优选为3.0摩尔％以上，进一步优选为5.0摩尔％以上，进一步更优选为10摩尔％以上，尤其更优选为20摩尔％以上，特别优选为30摩尔％以上。更优选为40摩尔％以上，进一步优选为60摩尔％以上，进一步更优选为80摩尔％以上，特别优选为90摩尔％以上，尤其进一步优选实质上为100摩尔％，最优选仅由聚合单元(I)构成。

聚合物(I)中，基于能够与通式(I)所表示的单体共聚的其他单体的聚合单元的含量相对于全部聚合单元优选为99.0摩尔％以下，更优选为97.0摩尔％以下，进一步优选为95.0摩尔％以下，进一步更优选为90摩尔％以下，尤其更优选为80摩尔％以下，特别优选为70摩尔％以下。更优选为60摩尔％以下，进一步优选为40摩尔％以下，进一步更优选为20摩尔％以下，特别优选为10摩尔％以下，尤其进一步优选实质上为0摩尔％，特别是尤其更优选不包含基于其他单体的聚合单元。

上述聚合物(I)的数均分子量优选为0.1×10⁴以上，更优选为0.2×10⁴以上，进一步优选为0.3×10⁴以上，特别优选为0.4×10⁴以上，尤其进一步优选为0.5×10⁴以上，特别优选为1.0×10⁴以上，尤其更特别优选为3.0×10⁴以上，最优选为3.1×10⁴以上。另外，优选为75.0×10⁴以下，更优选为50.0×10⁴以下，进一步优选为40.0×10⁴以下，尤其进一步优选为30.0×10⁴以下，特别优选为20.0×10⁴以下。上述数均分子量和后述重均分子量是通过(GPC)以单分散聚苯乙烯为标准计算分子量而得到的值。另外，在无法通过GPC进行测定的情况下，可以通过根据由NMR、FT-IR等得到的末端基团数计算出的数均分子量与熔体流动速率的相关关系求出聚合物(I)的数均分子量。熔体流动速率可以依据JIS K 7210进行测定。

上述聚合物(I)的重均分子量优选为0.2×10⁴以上，更优选为0.4×10⁴以上，进一步优选为0.6×10⁴以上，特别优选为0.8×10⁴以上，尤其进一步优选为1.0×10⁴以上，更特别优选为5.0×10⁴以上，进一步特别优选为10.0×10⁴以上，尤其进一步优选为15.0×10⁴以上，尤其更特别优选为20.0×10⁴以上，最优选为25.0×10⁴以上。另外，优选为150.0×10⁴以下，更优选为100.0×10⁴以下，进一步优选为60.0×10⁴以下，特别优选为50.0×10⁴以下，特别优选为40.0×10⁴以下。

聚合物(I)优选具有水溶性。水溶性是指容易溶解或分散于水的性质。具有水溶性的聚合物(I)无法通过例如动态光散射法(DLS)测定粒径。另一方面，具有水不溶性的聚合物(I)例如可以通过动态光散射法(DLS)测定粒径。

从水溶性的观点出发，聚合物(I)优选具有53以下的离子交换率(IXR)。上述IXR定义为相对于离子性基团的聚合物主链中的碳原子数。通过水解而成为离子性的前体基团(例如-SO₂F)在以确定IXR为目的时不被视为离子性基团。

IXR优选为0.5以上，更优选为1以上，进一步优选为3以上，进一步更优选为4以上，尤其进一步优选为5以上，特别优选为8以上。另外，IXR更优选为43以下，进一步优选为33以下，特别优选为23以下。

聚合物(I)中，离子性基团(阴离子性基团)典型地沿聚合物主链分布。上述聚合物(I)优选包含聚合物主链以及与该主链结合的重复侧链、且该侧链具有离子性基团。

聚合物(I)优选包含具有小于10、更优选小于7的pKa的离子性基团。聚合物(I)的离子性基团优选选自由磺酸(盐)、羧酸(盐)、膦酸(盐)和磷酸(盐)组成的组。

用语“磺酸(盐)、羧酸(盐)、膦酸(盐)和磷酸(盐)”是指各自的盐、或可形成盐的各自的酸。在使用盐的情况下，优选该盐为碱金属盐或铵盐。优选的离子性基团为磺酸(盐)基。

作为聚合物(I)的离子交换容量，优选的顺序为0.80meg/g以上、1.50meg/g以上、1.75meg/g以上、2.00meg/g以上、2.50meg/g以上、2.60meg/g以上、3.00meg/g以上、3.50meg/g以上。离子交换容量为聚合物(I)的离子性基团(阴离子性基团)的含量，由聚合物(I)的组成并通过计算而求出。

除了使用上述单体以外，上述聚合物(I)可以通过现有公知的方法进行制造。

单体(I)的聚合优选在实质上不存在后述含氟表面活性剂(其中，不包括通式(I)所表示的单体(I))的条件下进行。“实质上不存在含氟表面活性剂”是指，含氟表面活性剂的量相对于单体(I)的聚合中使用的介质为10质量ppm以下。作为含氟表面活性剂相对于介质的量，优选为1质量ppm以下，更优选为100质量ppb以下，进一步优选为10质量ppb以下，进一步更优选为1质量ppb以下。

在含有上述聚合物(I)的水中，聚合物(I)的含量没有特别限定，例如，从提高除去效率的观点出发，优选为10质量％以下。

在含有上述聚合物(I)的水中，聚合物(I)的含量更优选为1质量％以下，进一步优选为0.5质量％以下，特别优选为0.2质量％以下。另外，可以超过0质量％，可以超过0.005质量％，可以超过0.006质量％，可以超过0.008质量％，可以为0.010质量％以上，可以超过0.020质量％，可以超过0.025质量％，也可以为0.1质量％以上。

上述聚合物(I)的含量可以由固体NMR进行测定。

作为上述聚合物(I)的含量的测定方法，记载了国际公开第2014/099453号、国际公开第2010/075497、国际公开第2010/075496号、国际公开第2011/008381、国际公开第2009/055521号、国际公开第1987/007619号、日本特开昭61-293476号公报、国际公开第2010/075494号、国际公开第2010/075359号、国际公开第2012/082454号、国际公开第2006/119224号、国际公开第2013/085864号、国际公开第2012/082707号、国际公开第2012/082703号、国际公开第2012/082454号、国际公开第2012/082451号、国际公开第2006/135825号、国际公开第2004/067588号、国际公开第2009/068528号、日本特开2004-075978号公报、日本特开2001-226436号公报、国际公开第1992/017635号、国际公开第2014/069165号、日本特开平11-181009号公报等中记载的各聚合物的测定方法。

含有上述聚合物(I)的水可以包含1种单一的聚合物(I)，也可以包含2种以上不同的聚合物(I)。

含有上述聚合物(I)的水可以包含聚合物(I)和水以外的物质，可以为分散液、水溶液等。

作为聚合物(I)和水以外的物质，可以举出聚合物(I)以外的无氟聚合物、聚合物(I)以外的含氟聚合物(氟聚合物)、低聚物等。

聚合物(I)以外的无氟聚合物和含氟聚合物还优选不包含基于通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)。

作为聚合物(I)以外的含氟聚合物，优选具有高于53的离子交换率(IXR)的含氟聚合物。优选的聚合物(I)以外的含氟聚合物完全不具有离子性基团、或者具有带来约高于100的离子交换率的有限数量的离子性基团。优选的聚合物(I)以外的含氟聚合物的离子交换率优选为1000以上，更优选为2000以上，进一步优选为5000以上。作为上述聚合物(I)以外的含氟聚合物，可以举出PTFE、TFE与能够和TFE共聚的其他单体(偏二氟乙烯、六氟丙烯、三氟氯乙烯、全氟(烷基乙烯基醚)等含氟单体、乙烯、丙烯、异丁烯等烯烃系烃、烷基乙烯基醚等)的共聚物(例如四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)、四氟乙烯-全氟(烷基乙烯基醚)共聚物(PFA)和乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)等)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚三氟氯乙烯(PCTFE)、和乙烯-三氟氯乙烯(ECTFE)等氟树脂、偏二氟乙烯-六氟丙烯共聚物等偏二氟乙烯系橡胶(FKM)、四氟乙烯-丙烯橡胶(FEPM)和四氟乙烯-全氟甲基乙烯基醚橡胶(FFKM)等氟橡胶、以及含氟弹性体等。

上述PTFE可以为TFE的均聚物，也可以为含有99.0质量％以上的TFE和1.0重量％以下的改性单体的改性PTFE。

作为上述含氟聚合物，优选选自由PTFE以及包含60.0～98.0质量％的TFE单元和2.0～40.0质量％的其他单体的熔融加工性氟树脂组成的组中的至少1种，更优选PTFE。

含有上述聚合物(I)的水可以包含聚合物(I)和聚合物(I)以外的含氟聚合物，更优选包含聚合物(I)与选自由PTFE以及包含60.0～98.0质量％的TFE单元和2.0～40.0质量％的其他单体的熔融加工性氟树脂组成的组中的至少1种，进一步优选包含聚合物(I)和PTFE。

含有上述聚合物(I)的水中，聚合物(I)和水以外的物质的含量优选为1.0质量％以下，更优选为0.5质量％以下，进一步优选为0.2质量％以下。聚合物(I)和水以外的物质的含量的下限没有限定，例如可以为0质量％，也可以为0.1质量％。

含有上述聚合物(I)的水中，水的含量优选为99.0质量％以上。更优选为99.5质量％以上，进一步优选为99.8质量％以上。

供于上述除去工序的含有上述聚合物(I)的水(除去工序前、例如添加上述无机絮凝剂前的含有聚合物(I)的水)的pH例如可以为1.5～13.5，也可以为2～13。

含有上述聚合物(I)的水的pH可以利用pH调整剂进行调整。作为pH调整剂没有限定，例如可以使用上述的酸化合物、碱化合物等。

含有上述聚合物(I)的水只要含有聚合物(I)就没有特别限定，例如可以为工业生产中产生的水(废水)。含有上述聚合物(I)的水为废水也是本发明的优选方式之一。本发明的除去方法例如对于处理在后述聚合物制造工序中产生的水有效，特别是对于处理经过聚合工序后的水有效。因此，含有上述聚合物(I)的水为聚合物制造工序中产生的水也是本发明的优选方式之一。含有上述聚合物(I)的水优选为经过聚合工序后的水，更优选为经过含氟聚合物(氟聚合物)的聚合工序后的水。上述聚合工序例如可以为在聚合物(I)的存在下在水性介质中将单体(例如下述含氟单体)聚合的工序。

上述水性介质是指作为使聚合进行的反应介质的包含水的液体。上述水性介质只要包含水就没有特别限定，可以包含水以及例如醇、醚、酮等不含氟的有机溶剂和/或沸点为40℃以下含氟有机溶剂。

作为在上述聚合物制造工序中产生的水，除了经过将1种以上的单体聚合的聚合工序后的水以外，还可以包括在聚合工序前的前处理工序(例如制备规定浓度的乳化剂的工序等)中产生的水、和在聚合工序后的后处理工序(例如，水性分散液的浓缩工序、固液分离工序、凝析工序、清洗工序、脱水工序、干燥工序、热处理工序等)中产生的水。作为经过上述聚合工序后的水，可以举出在聚合物制造工序、特别是后述的含氟聚合物制造工序中产生的水。作为含有上述聚合物(I)的水，例如可以直接使用在聚合物制造工序中产生的水，也可以将在聚合物制造工序中产生的水稀释或浓缩后使用。

含有上述聚合物(I)的水包括将水溶液、分散液和气体(在后述干燥工序等中产生的废气等)液化而得到的液体。

以下，举出含氟聚合物制造工序为例来进行说明，但经过上述聚合工序后的水不限于含氟聚合物制造工序中产生的水，还包括任何聚合物制造工序中产生的水。

本说明书中，“含氟聚合物制造工序”是指将包含含氟单体的1种以上的单体聚合而制造含氟聚合物的所有工序，并不限于特定的制造工序。含氟聚合物也可以通过在聚合物(I)的存在下将含氟单体聚合来制造。

含有上述聚合物(I)的水优选包含在使用了聚合物(I)的含氟聚合物制造工序中得到的水。

本说明书中，“含氟单体”只要是具有至少1个氟或氟代烷基的单体就没有特别限定，例如可以包含三氟乙烯、四氟乙烯(TFE)、偏二氟乙烯(VdF)、氟乙烯(VF)、三氟氯乙烯(CTFE)、六氟丙烯(HFP)、六氟异丁烯、全氟烷基乙烯和氟乙烯基醚(FVE)、CH₂＝CFCF₃、CHF＝CHCF₃(E体)、CHF＝CHCF₃(Z体)等。

含氟单体优选为通式(I)所表示的单体以外的单体。

本说明书中，“含氟聚合物”(氟聚合物)可以是将包含上述1种以上含氟单体的单体聚合而得到的聚合物，例如可以是作为聚合物(I)和水以外的物质所例示的含氟聚合物，但不限于此。在本发明的第1处理方法中，上述含氟聚合物可以为PTFE。

上述PTFE可以为TFE均聚物，也可以为包含TFE单元和基于能够与TFE共聚的改性单体的改性单体单元的改性PTFE。另外，可以为高分子量PTFE，也可以为低分子量PTFE。

高分子量PTFE通常具有非熔融加工性和原纤化性，例如标准比重(SSG)为2.130～2.280。上述标准比重使用依据ASTM D4895-89成型的样品，通过依据ASTMD-792的水置换法进行测定。本发明中，“高分子量PTFE”是指标准比重处于上述范围内。

本发明的第1处理方法可以包括下述含氟聚合物制造工序。

本说明书中，“含氟聚合物制造工序”只要是含氟聚合物的制造工艺中包括的工序就没有特别限定，可以包括构成公知的含氟聚合物制造工艺的1个以上的工序。“含氟聚合物制造工序”除了包括将包含含氟单体的1种以上单体聚合的聚合工序以外，还可以包括聚合工序前的前处理工序(例如制备规定浓度的乳化剂的工序等)和聚合工序后的后处理工序(例如，水性分散液的浓缩工序、固液分离工序、凝析工序、清洗工序、脱水工序、干燥工序、热处理工序等)。以下，对“含氟聚合物制造工序”的具体例进行说明，但本实施方式的方法不限于以下的具体例。

如上所述，含氟聚合物通过将包含含氟单体的1种以上单体聚合来制造。该聚合工序中，优选在水性介质中将单体聚合，由此能够得到聚合物粒子分散于水性介质中的水性分散液。上述聚合工序优选在聚合物(I)的存在下进行。含有上述聚合物(I)的水可以是在使用了聚合物(I)的聚合中得到的水。

在以水性分散液的状态使用的情况下，所得到的水性分散液可以通过浓缩工序(例如，相分离浓缩、电浓缩、使用超滤膜的过滤处理、使用反渗透膜(RO膜)的过滤处理、纳滤处理等)进行浓缩。这种情况下，回收浓缩的水性分散液后残留的含有聚合物(I)的液体可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

聚合工序后，在凝析工序中，优选在水性分散液中添加盐或酸，使含氟聚合物发生絮凝。接着，在固液分离工序中，优选将絮凝的含氟聚合物分离并回收。分离回收含氟聚合物后残留的含有聚合物(I)的液体可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

固液分离工序中分离回收的含氟聚合物可以在清洗工序中利用水性介质等清洗液进行清洗。清洗工序中产生的含有聚合物(I)的废水可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。清洗工序中使用的含有聚合物(I)的清洗液可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

固液分离工序中分离回收的含氟聚合物可以在脱水工序中进行机械脱水。脱水工序中从含氟聚合物中除去的含有聚合物(I)的液体可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

可以利用清洗液对脱水后的含氟聚合物进行清洗，该清洗工序中产生的含有聚合物(I)的废水可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。另外，该清洗工序中使用的含有聚合物(I)的清洗液也可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

上述清洗工序和/或脱水工序后得到的含氟聚合物可以在干燥工序中加热干燥，将残留的水分、有机溶剂以废气的形式除去。将干燥工序中产生的废气液化而成的含有聚合物(I)的液体可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

干燥工序中产生的废气中除了包含水蒸气和有机溶剂以外，还可能包括与含氟聚合物相伴的聚合物(I)。因此，优选利用水或碱性水溶液等清洗液对该废气进行清洗。另外，废气的清洗中使用的含有聚合物(I)的清洗液也可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

干燥工序后得到的含氟聚合物可以在热处理工序中成型为粒状等期望的形状。将热处理工序中产生的废气液化而成的含有聚合物(I)的液体可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

热处理工序中产生的废气中可包含与含氟聚合物相伴的聚合物(I)。因此，优选利用水或碱性水溶液等清洗液对该废气进行清洗。通过该废气的清洗产生的含有聚合物(I)的废水可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。另外，废气的清洗中使用的含有聚合物(I)的清洗液也可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

需要说明的是，也可以将干燥工序中产生的废气和热处理工序中产生的废气两者一起清洗而得到单一的清洗液。通过将干燥工序中产生的废气和热处理工序中产生的废气两者一起清洗而产生的含有聚合物(I)的废水(水)可以包括在本说明书中的“含有聚合物(I)的水”中。

含有上述聚合物(I)的水可以是由1种含氟聚合物的制造工序产生的水，或者也可以是由多个不同种类的含氟聚合物的制造工序产生的水。例如，含有上述聚合物(I)的水可以是包含由氟橡胶的制造工序产生的水和由PTFE(低分子量PTFE等)的制造工序产生的水的混合物，利用本发明的第1处理方法，能够同时对由2种含氟聚合物的制造工序产生的水进行处理。另外，含有聚合物(I)的水可以是由含氟聚合物的制造工艺所包括的工序中的1个工序产生的水，或者也可以包含由多个不同工序产生的水。

例如，含有上述聚合物(I)的水可以是使用了聚合物(I)的含氟聚合物制造工序中得到的水与使用了含氟表面活性剂的含氟聚合物制造工序中得到的水的混合物。

另外，也可以是使用了聚合物(I)的含氟聚合物制造工序中得到的水与使用了烃系表面活性剂的含氟聚合物制造工序中得到的水的混合物。作为上述烃系表面活性剂没有限定，可以是在同一分子上具有亲水性部分和疏水性部分的表面活性剂。这些表面活性剂可以为阳离子型、非离子型或阴离子型。

例如，作为阴离子型烃系表面活性剂，还可以举出R-L-M(式中，R为具有或不具有取代基的碳原子数1以上的直链状或支链状的烷基、或者具有或不具有取代基的碳原子数3以上的环状烷基，碳原子数为3以上的情况下可以包含1价或2价的杂环，也可以形成环。L为-ArSO₃ ^-、-SO₃ ^-、-SO₄-、-PO₃ ^-或COO^-，M为H、金属原子、NR⁵ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R⁵为H或有机基团，-ArSO₃ ^-为芳基磺酸盐。)所表示的阴离子型表面活性剂。

具体而言，可以举出以月桂酸、月桂基硫酸为代表的CH₃-(CH₂)_n-L-M(式中，n为6～17的整数。L和M与上述相同)所表示的阴离子型表面活性剂。

也可以使用R为具有12～16个碳原子的烷基、L-M为硫酸盐的阴离子型表面活性剂的混合物。

作为阴离子型烃系表面活性剂，还可以举出R⁶(-L-M)₂(式中，R⁶为具有或不具有取代基的碳原子数1以上的直链状或支链状的亚烷基、或者具有或不具有取代基的碳原子数3以上的环状亚烷基，碳原子数为3以上的情况下可以包含1价或2价的杂环，也可以形成环。L为-ArSO₃ ^-、-SO₃ ^-、-SO₄-、-PO₃ ^-或COO^-，M为H、金属原子、NR⁵ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R⁵为H或有机基团，-ArSO₃ ^-为芳基磺酸盐。)所表示的阴离子型表面活性剂。

另外，作为阴离子型烃系表面活性剂，还可以举出R⁷(-L-M)₃(式中，R⁷为具有或不具有取代基的碳原子数1以上的直链状或支链状的次烷基、或者具有或不具有取代基的碳原子数3以上的环状次烷基，碳原子数为3以上的情况下可以包含1价或2价的杂环，也可以形成环。L为-ArSO₃ ^-、-SO₃ ^-、-SO₄-、-PO₃ ^-或COO^-，M为H、金属原子、NR⁵ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R⁵为H或有机基团。-ArSO₃ ^-为芳基磺酸盐。)所表示的阴离子型表面活性剂。

作为阴离子型烃系表面活性剂，可以举出Resolution Performance Products的Versatic(注册商标)10、BASF公司制造的Avanel S系列(S-70、S-74等)等。

另外，作为阴离子型烃系表面活性剂，还可以举出硅氧烷烃系表面活性剂。作为硅氧烷烃系表面活性剂，可以举出Silicone Surfactants,R.M.Hill,Marcel Dekker,Inc.,ISBN:0-8247-00104中记载的表面活性剂。硅氧烷烃系表面活性剂的结构包含明确的疏水性部分和亲水性部分。疏水性部分包含1个以上的二烃基硅氧烷单元，此处，硅氧烷原子上的取代基完全为烃。在二烃基的碳原子可能被氟等卤素取代的情况下，利用氢原子完全进行取代，从这种意义上来说，这些硅氧烷表面活性剂也可以视为烃系表面活性剂，即，二烃基的碳原子上的一价取代基为氢。

硅氧烷烃系表面活性剂的亲水性部分可以包含硫酸酯、磺酸酯、膦酸酯、磷酸酯、羧酸酯、碳酸酯、磺化琥珀酸酯、牛磺酸(盐/酯)(以游离酸、盐或酯的形式)、氧化膦、甜菜碱、甜菜碱共聚醇、季铵盐等包含离子性基团的1个以上的极性部分。离子性疏水性部分也可以包含离子性官能化的硅氧烷接枝物。作为这样的硅氧烷烃系表面活性剂，例如可以举出聚二甲基硅氧烷-接枝-(甲基)丙烯酸盐、聚二甲基硅氧烷-接枝-聚丙烯酸酯盐和聚二甲基硅氧烷接枝化季胺。硅氧烷烃系表面活性剂的亲水性部分的极性部分可以包含聚环氧乙烷(PEO)、混合的聚环氧乙烷/环氧丙烷聚醚(PEO/PPO)等聚醚；单糖类和二糖类；和由吡咯烷酮等水溶性杂环形成的非离子性基团。环氧乙烷相对于环氧丙烷(EO/PO)的比例在混合的聚环氧乙烷/环氧丙烷聚醚中是可变的。

硅氧烷烃系表面活性剂的亲水性部分也可以包含离子性部分与非离子性部分的组合。作为这样的部分，例如可以举出离子性末端官能化或无规官能化的聚醚或多元醇。优选为具有非离子性部分的硅氧烷、即非离子型硅氧烷表面活性剂。

硅氧烷烃系表面活性剂的结构的疏水性部分和亲水性部分的配置可以采取二嵌段聚合物(AB)、三嵌段聚合物(ABA)(此处，“B”表示分子的硅氧烷部分)、或多嵌段聚合物的形态。或者，硅氧烷表面活性剂可以包含接枝聚合物。

关于硅氧烷烃系表面活性剂，在美国专利第6,841,616号说明书中也有公开。

作为硅氧烷基的阴离子型烃系表面活性剂，可以举出可由Lubrizol AdvancedMaterials,Inc.的Noveon(注册商标)Consumer Specialties获得的SilSense^TMPE-100硅氧烷、SilSense^TMCA-1硅氧烷等。

作为阴离子型烃系表面活性剂，还可以举出Akzo Nobel Surface Chemistry LLC的磺化琥珀酸酯表面活性剂Lankropol(注册商标)K8300等。作为磺化琥珀酸酯表面活性剂，可以举出磺化琥珀酸二异癸酯Na盐、(Clariant的Emulsogen(注册商标)SB10)、磺化琥珀酸二异十三烷基酯Na盐(Cesapinia Chemicals的Polirol(注册商标)TR/LNA)等。

作为阴离子型烃系表面活性剂，还可以举出Omnova Solutions,Inc.的PolyFox(注册商标)表面活性剂(PolyFoX^TMPF-156A、PolyFoX^TMPF-136A等)。

作为阴离子型烃系表面活性剂，例如可以举出通式(α)：

R¹⁰-COOM (α)

(式中，R¹⁰为含有1个以上碳原子的1价有机基团。M为H、金属原子、NR¹¹ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R¹¹为H或有机基团，可以相同或不同。)所示的化合物(α)。作为R¹¹，优选H或C_1-10的有机基团，更优选H或C_1-4的有机基团。从表面活性能的观点出发，R¹⁰的碳原子数优选为2个以上，更优选为3个以上。另外，从水溶性的观点出发，R¹⁰的碳原子数优选为29个以下，更优选为23个以下。作为上述M的金属原子，可以举出碱金属(1族)、碱土金属(2族)等，优选Na、K或Li。作为M，优选H、金属原子或NR¹¹ ₄，更优选H、碱金属(1族)、碱土金属(2族)或NR¹¹ ₄，进一步优选H、Na、K、Li或NH₄，进一步更优选Na、K或NH₄，特别优选Na或NH₄，最优选NH₄。

作为化合物(α)，还可以举出R¹²-COOM(式中，R¹²为具有或不具有取代基的碳原子数1以上的直链状或支链状的烷基、烯基、亚烷基或亚烯基、或者具有或不具有取代基的碳原子数3以上的环状的烷基、烯基、亚烷基或亚烯基，这些基团可以包含醚键。碳原子数为3以上的情况下可以包含1价或2价的杂环，也可以形成环。M与上述相同。)所表示的阴离子型表面活性剂。具体而言，可以举出CH₃-(CH₂)_n-COOM(式中，n为2～28的整数。M与上述相同)所表示的阴离子型表面活性剂。

从乳化稳定性的观点出发，化合物(α)可以不包含羰基(其中，不包括羧基中的羰基)。作为上述不包含羰基的含烃表面活性剂，例如优选可以例示下述式(A)：R-COO-M(A)(式中，R为含有6～17个碳原子的烷基、烯基、亚烷基或亚烯基，这些基团可以包含醚键。M为H、金属原子、NR¹¹ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻。R¹¹相同或不同地为H或碳原子数1～10的有机基团。)的化合物。上述式(A)中，R优选为烷基或烯基(这些基团可以包含醚基)。上述R中的烷基或烯基可以为直链状也可以为支链状。上述R的碳原子数没有限定，例如为2～29。

上述式(A)中，R中的烷基为直链状的情况下，R的碳原子数优选为3～29，更优选为5～23。上述烷基为支链状的情况下，R的碳原子数优选为5～35，更优选为11～23。上述烯基为直链状的情况下，R的碳原子数优选为2～29，更优选为9～23。上述烯基为支链状的情况下，R的碳原子数优选为2～29，更优选为9～23。

作为烷基和烯基，例如可以举出甲基、乙基、异丁基、叔丁基、乙烯基等。

另外，作为阴离子型烃系表面活性剂，还可以举出羧酸型烃系表面活性剂。作为羧酸型烃系表面活性剂，例如可以举出丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、月桂酸、肉豆蔻酸、十五烷酸、棕榈酸、棕榈油酸、十七烷酸、硬脂酸、油酸、异油酸、亚油酸、(9,12,15)-亚麻酸、(6,9,12)亚麻酸、桐酸、花生酸、8,11-二十碳二烯酸、蜜胺酸、花生四烯酸、山嵛酸、二十四烷酸、神经酸、蜡酸、褐煤酸、蜂花酸、巴豆酸、肉豆蔻油酸、棕榈油酸、十六碳烯酸、油酸、反油酸、异油酸、鳕油酸、二十碳烯酸、芥酸、神经酸、亚油酸、二十碳二烯酸、二十二碳二烯酸、亚麻酸、皮诺敛酸、α-桐酸、β-桐酸、蜜胺酸、二高-γ-亚麻酸、二十碳三烯酸、硬脂四烯酸、花生四烯酸、二十碳四烯酸、肾上腺酸、波司戊烯酸、二十碳五烯酸、全顺式-4,7,10,13,16-二十二碳五烯酸(osbond acid)、鳁酸(Clupanodonic acid)、二十四碳五烯酸、二十二碳六烯酸、全顺式-6,9,12,15,18,21-二十四碳六烯酸、以及它们的盐。特别优选选自由月桂酸、癸酸、肉豆蔻酸、十五烷酸、棕榈酸、以及它们的盐组成的组中的至少1种。作为上述盐，可以举出羧基的氢为上述式M的金属原子、NR¹¹ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻的盐，但没有特别限定。

另外，作为阴离子型烃系表面活性剂，例如可以使用国际公开第2013/146950号、国际公开第2013/146947号中记载的阴离子型烃系表面活性剂。例如可以举出具有碳原子数6～40、优选碳原子数8～20、更优选碳原子数9～13的饱和或不饱和脂肪族链的阴离子型烃系表面活性剂。上述饱和或不饱和脂肪族链可以为直链或支链中的任一种，可以具有环状结构。上述烃可以为芳香族性，可以具有芳香族基团。上述烃可以具有氧、氮、硫等杂原子。

作为阴离子型烃系表面活性剂，可以举出烷基磺酸酯、烷基硫酸酯、烷基芳基硫酸酯和它们的盐；脂肪族(羧)酸及其盐；烷基磷酸酯、烷基芳基磷酸酯或它们的盐；等，其中，优选烷基磺酸酯、烷基硫酸酯、脂肪族羧酸或它们的盐。

作为烷基硫酸酯或其盐，优选十二烷基硫酸铵、十二烷基硫酸钠。

作为脂肪族羧酸或其盐，优选琥珀酸、癸酸、十一烷酸、十一碳烯酸、月桂酸、氢化十二烷酸、或他们的盐。

作为上述含氟表面活性剂，可以举出阴离子型含氟表面活性剂等。

上述阴离子型含氟表面活性剂例如可以为除阴离子性基团外的部分的总碳原子数为20以下的包含氟原子的表面活性剂。

另外，作为上述含氟表面活性剂，可以是阴离子性部分的分子量为800以下的包含氟的表面活性剂。

需要说明的是，上述“阴离子性部分”是指除上述含氟表面活性剂的阳离子以外的部分。例如，在后述式(IA)所表示的F(CF₂)_n1COOM的情况下，为“F(CF₂)_n1COO”的部分。

另外，作为上述含氟表面活性剂，可以举出LogPOW为3.5以下的含氟表面活性剂。上述LogPOW为1-辛醇与水的分配系数，由LogP[式中，P表示含有含氟表面活性剂的辛醇/水(1：1)混合液发生相分离时的辛醇中的含氟表面活性剂浓度/水中的含氟表面活性剂浓度比]表示。

上述LogPOW如下计算：在柱：TOSOH ODS-120T柱(

东曹株式会社制造)、洗脱液：乙腈/0.6质量％HClO₄水＝1/1(vol/vol％)、流速：1.0ml/分钟、样品量：300μL、柱温：40℃、检测光：UV210nm的条件下对具有已知的辛醇/水分配系数的标准物质(庚酸、辛酸、壬酸和癸酸)进行HPLC，制作各溶出时间与已知的辛醇/水分配系数的校准曲线，基于该校准曲线计算出试样液中的HPLC的洗脱时间。

作为上述含氟表面活性剂，具体而言，可以举出美国专利申请公开第2007/0015864号说明书、美国专利申请公开第2007/0015865号说明书、美国专利申请公开第2007/0015866号说明书、美国专利申请公开第2007/0276103号说明书、美国专利申请公开第2007/0117914号说明书、美国专利申请公开第2007/142541号说明书、美国专利申请公开第2008/0015319号说明书、美国专利第3250808号说明书、美国专利第3271341号说明书、日本特开2003-119204号公报、国际公开第2005/042593号、国际公开第2008/060461号、国际公开第2007/046377号、国际公开第2007/119526号、国际公开第2007/046482号、国际公开第2007/046345号、美国专利申请公开第2014/0228531号、国际公开第2013/189824号、国际公开第2013/189826号中记载的含氟表面活性剂等。

作为上述阴离子型含氟表面活性剂，可以举出下述通式(N⁰)：

Xⁿ⁰-Rfⁿ⁰-Y⁰(N⁰)

(式中，Xⁿ⁰为H、Cl或和F。Rfⁿ⁰是碳原子数3～20的链状、支链状或环状且一部分或全部H被F取代的亚烷基，该亚烷基可以包含1个以上的醚键，一部分H可以被Cl取代。Y⁰为阴离子性基团。)所表示的化合物。

Y⁰的阴离子性基团可以为-COOM、-SO₂M、-SO₃M或-C(CF₃)₂OM，可以为-COOM或-SO₃M。

M为H、金属原子、NR⁷ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R⁷为H或有机基团。

作为上述金属原子，可以举出碱金属(1族)、碱土金属(2族)等，例如为Na、K或Li。

作为R⁷，可以为H或C_1-10的有机基团，可以为H或C_1-4的有机基团，可以为H或C_1-4的烷基。

M可以为H、金属原子或NR⁷ ₄，可以为H、碱金属(1族)、碱土金属(2族)或NR⁷ ₄，可以为H、Na、K、Li或NH₄。

上述Rfⁿ⁰的50％以上的H可以被氟取代。

作为上述通式(N⁰)所表示的化合物，可以举出

下述通式(N¹)：

Xⁿ⁰-(CF₂)_m1-Y⁰ (N¹)

(式中，Xⁿ⁰为H、Cl和F，m1为3～15的整数，Y⁰如上定义。)所表示的化合物、下述通式(N²)：

Rfⁿ¹-O-(CF(CF₃)CF₂O)_m2CFXⁿ¹-Y⁰ (N²)

(式中，Rfⁿ¹为碳原子数1～5的全氟烷基，m2为0～3的整数，Xⁿ¹为F或CF₃，Y⁰如上定义。)所表示的化合物、下述通式(N³)：

Rfⁿ²(CH₂)_m3-(Rfⁿ³)_q-Y⁰ (N³)

(式中，Rfⁿ²为碳原子数1～13的可包含醚键的部分或完全氟化的烷基，m3为1～3的整数，Rfⁿ³为直链状或支链状的碳原子数1～3的全氟亚烷基，q为0或1，Y⁰如上定义。)所表示的化合物、下述通式(N⁴)：

Rfⁿ⁴-O-(CYⁿ¹Yⁿ²)_pCF₂-Y⁰ (N⁴)

(式中，Rfⁿ⁴为碳原子数1～12的可包含醚键的直链状或支链状的部分或完全氟化的烷基，Yⁿ¹和Yⁿ²相同或不同地为H或F，p为0或1，Y⁰如上定义。)所表示的化合物和通式(N⁵)：

[化13]

(式中，Xⁿ²、Xⁿ³和Xⁿ⁴可以相同或不同，为H、F或碳原子数1～6的可包含醚键的直链状或支链状的部分或完全氟化的烷基。Rfⁿ⁵为碳原子数1～3的可包含醚键的直链状或支链状的部分或完全氟化的亚烷基，L为连接基团，Y⁰如上定义。其中，Xⁿ²、Xⁿ³、Xⁿ⁴和Rfⁿ⁵的合计碳原子数为18以下。)所表示的化合物。

作为上述通式(N⁰)所表示的化合物，更具体而言，可以举出下述通式(IA)所表示的全氟羧酸(IA)、下述通式(II)所表示的ω-H全氟羧酸(II)、下述通式(III)所表示的全氟聚醚羧酸(III)、下述通式(IV)所表示的全氟烷基亚烷基羧酸(IV)、下述通式(V)所表示的全氟烷氧基氟羧酸(V)、下述通式(VI)所表示的全氟烷基磺酸(VI)、下述通式(VII)所表示的ω-H全氟磺酸(VII)、下述通式(VIII)所表示的全氟烷基亚烷基磺酸(VIII)、下述通式(IX)所表示的烷基亚烷基羧酸(IX)、下述通式(X)所表示的氟羧酸(X)、下述通式(XI)所表示的烷氧基氟磺酸(XI)、下述通式(XII)所表示的化合物(XII)、下述通式(XIII)所表示的化合物(XIII)等。

上述全氟羧酸(IA)为下述通式(IA)

F(CF₂)_n1COOM (IA)

(式中，n1为3～14的整数，M为H、金属原子、NR⁷ ₄、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的鏻，R⁷为H或有机基团。)所表示的物质。

上述ω-H全氟羧酸(II)为下述通式(II)

H(CF₂)_n2COOM (II)

(式中，n2为4～15的整数，M如上定义。)所表示的物质。

上述全氟聚醚羧酸(III)为下述通式(III)

Rf¹-O-(CF(CF₃)CF₂O)_n3CF(CF₃)COOM (III)

(式中，Rf¹为碳原子数1～5的全氟烷基，n3为0～3的整数，M如上定义。)所表示的物质。

上述全氟烷基亚烷基羧酸(IV)为下述通式(IV)

Rf²(CH₂)_n4Rf³COOM (IV)

(式中，Rf²为碳原子数1～5的全氟烷基，Rf³为直链状或支链状的碳原子数1～3的全氟亚烷基，n4为1～3的整数，M如上定义。)所表示的物质。

上述烷氧基氟羧酸(V)为下述通式(V)

Rf⁴-O-CY¹Y²CF₂-COOM (V)

(式中，Rf⁴为碳原子数1～12的可包含醚键的直链状或支链状的部分或完全氟化的烷基，Y¹和Y²相同或不同地为H或F，M如上定义。)所表示的物质。

上述全氟烷基磺酸(VI)为下述通式(VI)

F(CF₂)_n5SO₃M (VI)

(式中，n5为3～14的整数，M如上定义。)所表示的物质。

上述ω-H全氟磺酸(VII)为下述通式(VII)

H(CF₂)_n6SO₃M (VII)

(式中，n6为4～14的整数，M如上定义。)所表示的物质。

上述全氟烷基亚烷基磺酸(VIII)为下述通式(VIII)

Rf⁵(CH₂)_n7SO₃M (VIII)

(式中，Rf⁵为碳原子数1～13的全氟烷基，n7为1～3的整数，M如上定义。)所表示的物质。

上述烷基亚烷基羧酸(IX)为下述通式(IX)

Rf⁶(CH₂)_n8COOM (IX)

(式中，Rf⁶为碳原子数1～13的可包含醚键的直链状或支链状的部分或完全氟化的烷基，n8为1～3的整数，M如上定义。)所表示的物质。

上述氟羧酸(X)为下述通式(X)

Rf⁷-O-Rf⁸-O-CF₂-COOM (X)

(式中，Rf⁷为碳原子数1～6的可包含醚键的直链状或支链状的部分或完全氟化的烷基，Rf⁸为碳原子数1～6的直链状或支链状的部分或完全氟化的烷基，M如上定义。)所表示的物质。

上述烷氧基氟磺酸(XI)为下述通式(XI)

Rf⁹-O-CY¹Y²CF₂-SO₃M (XI)

(式中，Rf⁹为碳原子数1～12的可包含醚键的直链状或支链状的可以包含氯的部分或完全氟化的烷基，Y¹和Y²相同或不同地为H或F，M如上定义。)所表示的物质。

上述化合物(XII)为下述通式(XII)：

[化14]

式中，X¹、X²和X³可以相同或不同，为H、F和碳原子数1～6的可包含醚键的直链状或支链状的部分或完全氟化的烷基，Rf¹⁰为碳原子数1～3的全氟亚烷基，L为连接基团，Y⁰为阴离子性基团。)所表示的物质。

Y⁰可以为-COOM、-SO₂M或-SO₃M，可以为-SO₃M或COOM(式中，M如上定义。)。

作为L，例如可以举出单键、碳原子数1～10的可包含醚键的部分或完全氟化的亚烷基。

上述化合物(XIII)为下述通式(XIII)：

Rf¹¹-O-(CF₂CF(CF₃)O)_n9(CF₂O)_n10CF₂COOM (XIII)

(式中，Rf¹¹为包含氯的碳原子数1～5的氟代烷基，n9为0～3的整数，n10为0～3的整数，M如上定义。)所表示的物质。作为化合物(XIII)，可以举出CF₂ClO(CF₂CF(CF₃)O)_n9(CF₂O)_n10CF₂COONH₄(平均分子量750的混合物；式中，n9和n10如上定义。)。

如上所述，作为上述阴离子型含氟表面活性剂，可以举出羧酸系表面活性剂、磺酸系表面活性剂等。

在含有上述聚合物(I)的水包含固体成分的情况下，本发明的第1处理方法还优选进一步在上述除去工序前包括从含有聚合物(I)的水中除去固体成分的前处理工序。作为固体成分，可以举出未凝析聚合物、絮凝剂、微粒状聚合物等。

上述固体成分例如是在分离回收上述聚合物制造工序中制造的聚合物后的水中可能残留的成分。例如，在作为上述聚合物制造工序的固液分离工序中，分离回收聚合物后残留的含有聚合物(I)的液体、即分离回收聚合物后的水可能包含在固液分离工序中未被完全回收的未凝析聚合物。在从分离回收聚合物后残留的含有聚合物(I)的液体中除去聚合物(I)时，这样的固体成分可能会对除去聚合物(I)的工艺产生不良影响，因此期望在除去工序前将其从水中除去。

本说明书中，未凝析聚合物是指，在聚合物的聚合工序后添加絮凝剂、进行固液分离工序并分离回收聚合物后残留的水中所分散存在的聚合物成分，其在过滤器等滤材的表面形成凝胶状物质并堆积。未凝析聚合物的粒径可以为0.01μm～5.0μm左右。

关于含有聚合物(I)的水中可能包含的微粒状聚合物，其粒径没有限定，例如可以是粒径约为0.1μm～0.2μm左右的聚合物。

即，含有上述聚合物(I)的水可以包含固体成分，作为固体成分，可以包含未凝析聚合物和/或微粒状聚合物。

本发明的第1处理方法中，含有聚合物(I)的水中的固体成分的浓度没有特别限定，可以对任意固体成分浓度的水进行处理。

含有聚合物(I)的水中的固体成分的浓度可以根据聚合物制造工序而变化，例如可以为0.1ppm～50000ppm。

另外，通过上述前处理工序，例如优选使含有聚合物(I)的水中的固体成分为0.05ppm～500ppm，更优选为0.05ppm～50ppm，进一步优选为0.05ppm～10ppm。固体成分的下限可以为0.1ppm。

作为除去固体成分的方法没有限定，可以举出过滤等。作为过滤的方法，可以举出利用UF膜、MF膜分离固体成分的方法、使用助滤剂的方法、使用液体旋流器的方法等。

作为上述MF膜，可以举出安全过滤器或中空纤维膜、平膜、螺旋膜等。

作为上述助滤剂，可以举出硅藻土、过滤砂(锰砂、锰沸石、无烟煤、陶瓷砂等)、珍珠岩、纤维素等。

另外，作为聚合物(I)，也可以是后述的与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物，也可以是与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物(聚合物α)。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含聚合物(I)、水和含氟聚合物(其中，不包括上述聚合物(I))，上述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)，上述聚合物(I)的含量为250ppm以下(以下也称为“本发明的第1组合物”)。

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m (I)

(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)

本发明的第1组合物可以为聚合物(I)的水溶液，也可以为聚合物(I)的分散液。

本发明的第1组合物中，聚合物(I)与本发明的第1处理方法中记载的聚合物(I)相同，可以适当采用优选的方式。其中，优选上述聚合物(1)。

本发明的第1组合物中，聚合物(I)的含量相对于组合物的质量为250ppm以下。聚合物(I)的含量优选为200ppm以下，更优选为150ppm以下，进一步优选为100ppm以下，进一步更优选为50ppm以下，尤其进一步优选为25ppm以下，特别优选为10ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，优选为0.1ppm以上，更优选为0.5ppm以上，进一步优选为1ppm以上，进一步更优选为2ppm以上，特别优选为5ppm以上。

本发明的第1组合物中包含的聚合物(I)的含量可以通过与含有聚合物(I)的水相同的方法测定。例如通过固体NMR测定求出。

本发明的第1组合物可以包含1种单一的聚合物(I)，也可以包含2种以上不同的聚合物(I)。

本发明的第1组合物含有聚合物(I)以外的含氟聚合物。

作为聚合物(I)以外的含氟聚合物，可以适当采用本发明的第1处理方法中记载的聚合物(I)以外的含氟聚合物，可以适当采用优选的方式。作为聚合物(I)以外的含氟聚合物，优选具有高于53的离子交换率(IXR)的含氟聚合物。另外，作为聚合物(I)以外的含氟聚合物，优选PTFE。

本发明的第1组合物含有PTFE的情况下，PTFE可以为TFE均聚物，也可以为包含TFE单元和基于能够与TFE共聚的改性单体的改性单体单元的改性PTFE，另外，可以为高分子量PTFE，也可以为低分子量PTFE。作为本发明的组合物中的PTFE，可以适当采用本发明的第1处理方法中记载的PTFE。

本发明的第1组合物中，聚合物(I)以外的含氟聚合物的含量相对于组合物的质量优选为5000ppm以下。更优选为2000ppm以下，进一步优选为1000ppm以下，特别优选为500ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，可以实质上为0ppm，可以超过0ppm，可以为1ppm以上，也可以为100ppm以上。

聚合物(I)以外的含氟聚合物的含量可以通过利用MF膜分离固体成分(聚合物(I)以外的含氟聚合物)的方法求出。

本发明的第1组合物含有PTFE的情况下，PTFE的含量相对于组合物的质量优选为5000ppm以下。更优选为2000ppm以下，进一步优选为1000ppm以下，特别优选为500ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，可以实质上为0ppm，可以超过0ppm，可以为1ppm以上，也可以为100ppm以上。

上述PTFE的含量可以通过利用MF膜分离固体成分(PTFE)的方法求出。

本发明的第1组合物可以包含聚合物(I)、水和含氟聚合物以外的物质。本发明的第1组合物例如可以包含本发明的第1处理方法中记载的絮凝剂等。另外，本发明的第1组合物可以含有金属离子，可以含有2价以上的金属离子。作为2价以上的金属离子，可以适当含有后述本发明的第3组合物所含有的金属离子。

2价以上的金属离子的含量相对于组合物优选为0.05mg/L以上，更优选为0.1mg/L以上，进一步优选为0.15mg/L以上，特别优选为0.2mg/L以上。另外，2价以上的金属离子的含量优选为1000mg/L以下，更优选为500mg/L以下，进一步优选为250mg/L以下，进一步更优选为100mg/L以下，尤其进一步优选为50mg/L以下，特别优选为10mg/L以下，最优选为5mg/L以下。

本发明的第1组合物中，聚合物(I)、水和聚合物(I)以外的含氟聚合物的合计量优选为95.0质量％以上，优选为99.0质量％以上，进一步优选为99.9质量％以上，特别优选实质上仅由聚合物(I)、水和聚合物(I)以外的含氟聚合物构成。

本发明的第1组合物可以通过从上述含氟聚合物制造工序中产生的水中除去聚合物(I)而得到。上述除去的方法可以适当采用上述本发明的第1处理方法中记载的方式。特别是通过采用对聚合物(I)进行絮凝、在含有该聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂的工序作为除去工序的方法，能够适当地得到本发明的第1组合物。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含聚合物(I)、水和2价以上的金属离子，上述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)，上述聚合物(I)的含量为250ppm以下(以下也称为“本发明的第2组合物”)。

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m (I)

(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)

本发明的第2组合物可以为聚合物(I)的水溶液，也可以为聚合物(I)的分散液。

本发明的第2组合物中，聚合物(I)与本发明的第1处理方法中记载的聚合物(I)相同，可以适当采用优选的方式。其中，优选上述聚合物(1)。

本发明的第2组合物中，聚合物(I)的含量相对于组合物的质量为250ppm以下。聚合物(I)的含量优选为200ppm以下，更优选为150ppm以下，进一步优选为50ppm以下，进一步更优选为100ppm以下，尤其进一步优选为25ppm以下，特别优选为10ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，优选为0.1ppm以上，更优选为0.5ppm以上，进一步优选为1ppm以上，进一步更优选为2ppm以上，特别优选为5ppm以上。

本发明的第2组合物中包含的聚合物(I)的含量可以通过与含有聚合物(I)的水相同的方法测定。例如通过固体NMR测定来求出。

本发明的第2组合物可以包含1种单一的聚合物(I)，也可以包含2种以上不同的聚合物(I)。

本发明的第2组合物包含2价以上的金属离子。作为2价以上的金属离子，没有特别限定，例如优选为构成作为上述无机絮凝剂所记载的金属盐的金属的离子，例如优选选自由Fe、Al和Ca组成的组中的至少1种。

本发明的第2组合物中，上述2价以上的金属离子的含量相对于组合物优选为0.05mg/L以上。更优选为0.1mg/L以上，进一步优选为0.15mg/L以上，特别优选为0.2mg/L以上。另外，上述2价以上的金属离子的含量优选为1000mg/L以下，更优选为500mg/L以下，进一步优选为250mg/L以下，进一步更优选为100mg/L以下，尤其进一步优选为50mg/L以下，特别优选为10mg/L以下，最优选为5mg/L以下。

上述2价以上的金属离子的含量通过Pack Test(共立理化学研究所制)的方法测定。

本发明的第2组合物也可以包含聚合物(I)、水和2价以上的金属离子以外的物质。例如，可以包含本发明的第1处理方法中记载的絮凝剂等。另外，本发明的第2组合物可以包含聚合物(I)以外的含氟聚合物。作为聚合物(I)以外的含氟聚合物，可以适当采用本发明的第1组合物中包含的含氟聚合物。作为聚合物(I)以外的含氟聚合物，优选具有高于53的离子交换率(IXR)的含氟聚合物。另外，本发明的第2组合物可以包含PTFE。作为上述PTFE，与本发明的第1组合物中可包含的PTFE相同。

本发明的第2组合物中，聚合物(I)以外的含氟聚合物的含量相对于组合物的质量优选为5000ppm以下。更优选为2000ppm以下，进一步优选为1000ppm以下，特别优选为500ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，可以实质上为0ppm，可以超过0ppm，可以为1ppm以上，可以为100ppm以上。

聚合物(I)以外的含氟聚合物的含量可以通过利用MF膜分离固体成分(聚合物(I)以外的含氟聚合物)的方法求出。

本发明的第2组合物含有PTFE的情况下，PTFE的含量相对于组合物的质量优选为5000ppm以下。更优选为2000ppm以下，进一步优选为1000ppm以下，特别优选为500ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，可以实质上为0ppm，可以超过0ppm，可以为1ppm以上，可以为100ppm以上。上述PTFE的含量可以通过利用MF膜分离固体成分(PTFE)的方法求出。

本发明的第2组合物中，聚合物(I)、水和2价以上的金属离子的合计量优选为95.0质量％以上，优选为99.0质量％以上，进一步优选为99.9质量％以上，特别优选实质上仅由聚合物(I)、水和2价以上的金属离子构成。

本发明的第2组合物可以通过从上述含氟聚合物制造工序中产生的水中除去聚合物(I)而得到。上述除去的方法可以适当采用上述本发明的第1处理方法中记载的方式。特别是通过采用对聚合物(I)进行絮凝、在含有该聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂(优选金属盐)的工序作为除去工序的方法，能够适当地得到本发明的第2组合物。

本发明还提供一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物的水中除去该水溶性聚合物的工序(以下也称为“本发明的第2处理方法”)。

水溶性是指容易溶解或分散于水的性质。水溶性聚合物无法通过例如动态光散射法(DLS)测定粒径。另一方面，具有水不溶性的聚合物例如可以通过动态光散射法(DLS)测定粒径。

本发明的第2处理方法中，上述除去工序除了使用含有与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物的水以外，可以全部采用与本发明的第1处理方法相同的方法。

需要说明的是，“与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例”以氟原子数相对于与碳原子键合的氢原子和与碳原子键合的卤原子(包括氟原子)的总数的比例来求出。

上述除去工序优选为对含有水溶性聚合物的水进行絮凝的工序，更优选为在含有水溶性聚合物的水中添加絮凝剂的工序，进一步优选为在含有水溶性聚合物的水中添加无机絮凝剂的工序，特别优选为在含有水溶性聚合物的水中添加无机絮凝剂、然后添加高分子絮凝剂的工序。作为絮凝剂、无机絮凝剂、高分子絮凝剂，可以适当采用本发明的第1处理方法中记载的絮凝剂。

本发明的第2处理方法中，上述除去工序优选为使含有水溶性聚合物的水中的水溶性聚合物的浓度相对于除去工序前的浓度为50％以下的工序。更优选为40％以下，进一步更优选为30％以下，尤其进一步优选为20％以下，特别优选为10％以下。

另外，上述除去工序优选为使处理后的水中的水溶性聚合物的浓度为250ppm以下的工序。更优选为200ppm以下，进一步优选为100ppm以下，进一步更优选为80ppm以下，尤其进一步优选为60ppm以下，特别优选为50ppm以下。

作为上述水溶性聚合物没有特别限定，可以使用上述聚合物(I)中的与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性的聚合物，也可以使用上述聚合物(I)以外的与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性的聚合物。

作为上述水溶性聚合物，例如可以举出包含基于下述通式(I)：

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m (I)

(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)

所表示的单体的聚合单元(I)的水溶性的聚合物。

上述水溶性聚合物中，聚合单元(I)的含量优选为50质量％以上，更优选为60质量％以上，进一步优选为70质量％以上，进一步更优选为80质量％以上，尤其进一步优选为90质量％以上，特别优选为95质量％以上，最优选为99质量％以上。

上述水溶性聚合物可以包含基于下述含氟单体的聚合单元，上述含氟单体是基于三氟乙烯、四氟乙烯(TFE)、偏二氟乙烯(VdF)、氟乙烯(VF)、三氟氯乙烯(CTFE)、六氟丙烯(HFP)、六氟异丁烯、全氟烷基乙烯、氟乙烯基醚(FVE)、CH₂＝CFCF₃、CHF＝CHCF₃(E体)、CHF＝CHCF₃(Z体)等的含氟单体。

另外，上述水溶性聚合物可以包含基于非含氟单体的聚合单元。作为非含氟单体，只要是具有自由基聚合性烯键式不饱和键的单体即可，例如可以举出丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、不饱和羧酸类、含水解性甲硅烷基的单体、含羟基的烷基乙烯基醚类、羧酸乙烯酯类、α-烯烃类等。作为上述非含氟单体，其中优选选自由丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、不饱和羧酸类和含水解性甲硅烷基的单体组成的组中的至少1种。

另外，作为非含氟单体，更优选选自由下述单体组成的组中的至少1种：选自由丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯组成的组中的至少1种单体、不饱和羧酸类、以及含水解性甲硅烷基的单体。

此外，也可以将具有自由基聚合性烯键式不饱和键的单体合用。

作为上述丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，优选烷基的碳原子数为1～10的丙烯酸烷基酯、或者烷基的碳原子数为1～10的甲基丙烯酸烷基酯。作为丙烯酸烷基酯和甲基丙烯酸烷基酯，例如可以举出甲基丙烯酸酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丙酯、丙烯酸-2-乙基己酯、甲基丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸环己酯等(甲基)丙烯酸烷基酯。另外，上述丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯可以为丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基丙酯、丙烯酸-4-羟基丁酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸-2-羟基丙酯、甲基丙烯酸-4-羟基丁酯等在分子中具有羟基和(甲基)丙烯酰基的含羟基丙烯酸系单体。

这些丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯可以单独使用，也可以合用2种以上，优选为丙烯酸正丁酯和甲基丙烯酸甲酯。

作为上述非含氟单体，其中优选选自由甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸-2-乙基己酯和甲基丙烯酸环己酯组成的组中的至少1种(甲基)丙烯酸烷基酯。需要说明的是，丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯不含有水解性甲硅烷基。

作为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，进一步优选丙烯酸正丁酯与甲基丙烯酸甲酯的组合；或者丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸-2-乙基己酯的组合，特别优选丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸-2-乙基己酯的组合。此外，还优选组合具有羟基和(甲基)丙烯酰基的含羟基丙烯酸系单体。

作为上述不饱和羧酸类的具体例，例如可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、乙酸乙烯酯、巴豆酸、肉桂酸、3-烯丙氧基丙酸、3-(2-烯丙氧基乙氧基羰基)丙酸、衣康酸、衣康酸单酯、马来酸、马来酸单酯、马来酸酐、富马酸、富马酸单酯、邻苯二甲酸乙烯酯、均苯四酸乙烯酯、十一碳烯酸等。其中，从均聚性低而不易形成均聚物的方面、容易控制羧基的导入的方面出发，优选选自由丙烯酸、甲基丙烯酸、乙酸乙烯酯、巴豆酸、衣康酸、马来酸、马来酸单酯、富马酸、富马酸单酯、3-烯丙氧基丙酸和十一碳烯酸组成的组中的至少1种。

作为上述含水解性甲硅烷基的单体，可以举出

CH₂＝CHCOO(CH₂)₃Si(OCH₃)₃、

CH₂＝CHCOO(CH₂)₃Si(CH₃)(OCH₃)₂、

CH₂＝CHCOO(CH₂)₃Si(OC₂H₅)₃、

CH₂＝CHCOO(CH₂)₃Si(CH₃)(OC₂H₅)₂、

CH₂＝C(CH₃)COO(CH₂)₃Si(OCH₃)₃、

CH₂＝C(CH₃)COO(CH₂)₃Si(CH₃)(OCH₃)₂、

CH₂＝C(CH₃)COO(CH₂)₃Si(OC₂H₅)₃、

CH₂＝C(CH₃)COO(CH₂)₃Si(CH₃)(OC₂H₅)₂、

CH₂＝C(CH₃)COO(CH₂)₂O(CH₂)₃Si(OCH₃)₃、

CH₂＝C(CH₃)COO(CH₂)₂(CH₂)₃Si(CH₃)(OCH₃)₂、

CH₂＝C(CH₃)COO(CH₂)₁₁Si(OCH₃)₃、

CH₂＝C(CH₃)COO(CH₂)₁₁Si(CH₃)(OCH₃)₂等。

这些含水解性甲硅烷基的单体可以单独使用，也可以合用2种以上。

作为上述含水解性甲硅烷基的单体，其中优选选自由γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯氧基丙基三乙氧基硅烷和γ-甲基丙烯氧基丙基甲基二乙氧基硅烷组成的组中的至少1种，更优选γ-甲基丙烯氧基丙基三乙氧基硅烷。

作为上述含羟基的烷基乙烯基醚类，例如可以举出2-羟基乙基乙烯基醚、3-羟基丙基乙烯基醚、2-羟基丙基乙烯基醚、2-羟基-2-甲基丙基乙烯基醚、4-羟基丁基乙烯基醚、4-羟基-2-甲基丁基乙烯基醚、5-羟基戊基乙烯基醚、6-羟基己基乙烯基醚、2-羟基乙基烯丙基醚、4-羟基丁基烯丙基醚、甘油单烯丙基醚等。从聚合反应性优异的方面出发，优选选自由4-羟基丁基乙烯基醚和2-羟基乙基乙烯基醚组成的组中的至少1种。

作为羧酸乙烯酯类，例如可以举出乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、异丁酸乙烯酯、特戊酸乙烯酯、己酸乙烯酯、新癸酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯、环己羧酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、对叔丁基苯甲酸乙烯酯等。

作为α-烯烃类，例如可以举出乙烯、丙烯、正丁烯、异丁烯、苯乙烯等。

上述水溶性聚合物的数均分子量优选为0.1×10⁴以上，更优选为0.2×10⁴以上，进一步优选为0.3×10⁴以上，特别优选为0.4×10⁴以上，尤其进一步优选为0.5×10⁴以上，特别优选为1.0×10⁴以上，尤其更特别优选为3.0×10⁴以上，最优选为3.1×10⁴以上。另外，优选为75.0×10⁴以下，更优选为50.0×10⁴以下，进一步优选为40.0×10⁴以下，进一步优选为30.0×10⁴以下，特别优选为20.0×10⁴以下。上述水溶性聚合物的重均分子量优选为0.2×10⁴以上，更优选为0.4×10⁴以上，进一步优选为0.6×10⁴以上，进一步更优选为0.8×10⁴以上，特别优选为1.0×10⁴以上，更特别优选为5.0×10⁴以上，进一步特别优选为10.0×10⁴以上，尤其进一步优选为15.0×10⁴以上，尤其更特别优选为20.0×10⁴以上，最优选为25.0×10⁴以上。另外，优选150.0×10⁴以下，更优选为100.0×10⁴以下，进一步优选为60.0×10⁴以下，特别优选为50.0×10⁴以下，尤其进一步优选为40.0×10⁴以下。

上述数均分子量和重均分子量是通过(GPC)以单分散聚苯乙烯为标准计算分子量而得到的值。另外，在无法通过GPC进行测定的情况下，可以通过根据由NMR、FT-IR等得到的末端基团数计算出的数均分子量与熔体流动速率的相关关系求出水溶性聚合物的数均分子量。熔体流动速率可以依据JIS K 7210进行测定。

上述水溶性聚合物优选具有53以下的离子交换率(IXR)。上述IXR优选为0.5以上，更优选为1以上，进一步优选为3以上，进一步更优选为4以上，尤其进一步优选为5以上，特别优选为8以上。另外，IXR更优选为43以下，进一步优选为33以下，特别优选为23以下。

上述水溶性聚合物中，离子性基团(阴离子性基团)典型地沿聚合物主链分布。上述水溶性聚合物优选包含聚合物主链以及与该主链结合的重复侧链、且该侧链具有离子性基团。

水溶性聚合物优选包含具有小于10、更优选小于7的pKa的离子性基团(阴离子性基团)。水溶性聚合物的离子性基团优选选自由磺酸(盐)、羧酸(盐)、膦酸(盐)、磷酸(盐)和它们的混合物组成的组。

用语“磺酸(盐)、羧酸(盐)、膦酸(盐)和磷酸(盐)”是指各自的盐、或可形成盐的各自的酸。在使用盐的情况下，优选该盐为碱金属盐或铵盐。优选的离子性基团为磺酸(盐)基。

含有上述水溶性聚合物的水没有特别限定，可以举出上述水溶性聚合物的制造工序、使用了上述水溶性聚合物的聚合物聚合工序等聚合物制造工序中产生的水等。含有上述水溶性聚合物的水可以为废水。

含有上述水溶性聚合物的水中，水溶性聚合物的含量没有特别限定，例如，从提高除去效率的观点出发，优选为10质量％以下。

含有上述水溶性聚合物的水中，水溶性聚合物的含量更优选为1质量％以下，进一步优选为0.5质量％以下，特别优选为0.2质量％以下。另外，可以超过0质量％，可以超过0.005质量％，可以超过0.006质量％，可以超过0.008质量％，可以为0.010质量％以上，可以超过0.020质量％，可以超过0.025质量％，可以为0.1质量％以上。

上述水溶性聚合物的含量例如可以由固体NMR进行测定。

含有上述水溶性聚合物的水可以包含1种单一的水溶性聚合物，也可以包含2种以上不同的水溶性聚合物。

含有上述水溶性聚合物的水可以包含水溶性聚合物和水以外的物质，可以为分散液、水溶液等。

作为水溶性聚合物和水以外的物质，可以举出水溶性聚合物以外的无氟聚合物、水溶性聚合物以外的含氟聚合物、低聚物等。

水溶性聚合物以外的含氟聚合物是指含氟聚合物中与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例小于50％、或者为非水溶性的含氟聚合物。

作为水溶性聚合物以外的含氟聚合物，可以举出具有高于53的离子交换率(IXR)的含氟聚合物。

优选的水溶性聚合物以外的含氟聚合物完全不具有离子性基团、或者具有带来约高于100的离子交换率的有限数量的离子性基团。

水溶性聚合物以外的含氟聚合物的离子交换率优选超过53，更优选为100以上，进一步优选为1000以上，尤其进一步优选为2000以上，特别优选为5000以上。

作为上述水溶性聚合物以外的含氟聚合物，可以举出本发明的第1处理方法中记载的含氟聚合物。例如可以举出PTFE、TFE与能够和TFE共聚的其他单体(偏二氟乙烯、六氟丙烯、三氟氯乙烯、全氟(烷基乙烯基醚)等含氟单体、乙烯、丙烯、异丁烯等烯烃系烃、烷基乙烯基醚等)的共聚物(例如四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)、四氟乙烯-全氟(烷基乙烯基醚)共聚物(PFA)和乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)等)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚三氟氯乙烯(PCTFE)和乙烯-三氟氯乙烯(ECTFE)等氟树脂、偏二氟乙烯-六氟丙烯共聚物等偏二氟乙烯系橡胶(FKM)、四氟乙烯-丙烯橡胶(FEPM)和四氟乙烯-全氟甲基乙烯基醚橡胶(FFKM)等氟橡胶、以及含氟弹性体等。

上述PTFE可以为TFE的均聚物，也可以为含有99.0质量％以上的TFE和1.0重量％以下的改性单体的改性PTFE。

作为上述水溶性聚合物以外的含氟聚合物，优选选自由PTFE以及包含60.0～98.0质量％的TFE单元和2.0～40.0质量％的其他单体的熔融加工性氟树脂组成的组中的至少1种，更优选PTFE。

含有上述水溶性聚合物的水中，水溶性聚合物和水以外的物质的含量优选为1.0质量％以下，更优选为0.5质量％以下，进一步优选为0.2质量％以下。水溶性聚合物和水以外的物质的含量的下限没有限定，例如可以为0质量％，也可以为0.1质量％。

含有上述水溶性聚合物的水中，水的含量优选为99.0质量％以上。更优选为99.5质量％以上，进一步优选为99.8质量％以上。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物、水和含氟聚合物(其中，不包括上述水溶性聚合物)，上述水溶性聚合物的含量为250ppm以下(以下也称为“本发明的第3组合物”)。

本发明的第3组合物优选为水溶性聚合物的水溶液。

本发明的第3组合物中，水溶性聚合物与本发明的第2处理方法中记载的水溶性聚合物相同，可以适当采用优选的方式。

本发明的第3组合物中，水溶性聚合物的含量相对于组合物的质量为250ppm以下。水溶性聚合物的含量优选为200ppm以下，更优选为150ppm以下，进一步优选为100ppm以下，进一步更优选为50ppm以下，尤其进一步优选为25ppm以下，特别优选为10ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，优选为0.1ppm以上，更优选为0.5ppm以上，进一步优选为1ppm以上，进一步更优选为2ppm以上，特别优选为5ppm以上。

本发明的第3组合物中包含的水溶性聚合物的含量可以通过与含有水溶性聚合物的水相同的方法进行测定。例如通过固体NMR测定求出。

本发明的第3组合物可以包含1种单一的水溶性聚合物，也可以包含2种以上不同的水溶性聚合物。

本发明的第3组合物含有水溶性聚合物以外的含氟聚合物。作为水溶性聚合物以外的含氟聚合物，可以适当采用本发明的第2处理方法中记载的水溶性聚合物以外的含氟聚合物，可以适当采用优选的方式。

水溶性聚合物以外的含氟聚合物的离子交换率优选超过53，更优选为100以上，进一步优选为1000以上，尤其进一步优选为2000以上，特别优选为5000以上。

作为水溶性聚合物以外的含氟聚合物，优选PTFE。

本发明的第3组合物中，水溶性聚合物以外的含氟聚合物的含量相对于组合物的质量优选为5000ppm以下。更优选为2000ppm以下，进一步优选为1000ppm以下，特别优选为500ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，可以实质上为0ppm，可以超过0ppm，可以为1ppm以上，可以为100ppm以上。

水溶性聚合物以外的含氟聚合物的含量可以通过利用MF膜分离固体成分(水溶性聚合物以外的含氟聚合物)的方法求出。

本发明的第3组合物可以包含水溶性聚合物、水和水溶性聚合物以外的含氟聚合物以外的物质。例如可以包含本发明的第2处理方法中记载的絮凝剂等。另外，本发明的第3组合物可以含有金属离子，可以含有2价以上的金属离子。作为2价以上的金属离子，可以适当含有本发明的第2组合物所含有的金属离子。

2价以上的金属离子的含量相对于组合物优选为0.05mg/L以上，更优选为0.1mg/L以上，进一步优选为0.15mg/L以上，特别优选为0.2mg/L以上。另外，2价以上的金属离子的含量优选为1000mg/L以下，更优选为500mg/L以下，进一步优选为250mg/L以下，进一步更优选为100mg/L以下，尤其进一步优选为50mg/L以下，特别优选为10mg/L以下，最优选为5mg/L以下。

本发明的第3组合物中，水溶性聚合物、水和水溶性聚合物以外的含氟聚合物的合计量优选为95.0质量％以上，优选为99.0质量％以上，进一步优选为99.9质量％以上，特别优选实质上仅由水溶性聚合物、水和水溶性聚合物以外的含氟聚合物构成。

本发明的第3组合物可以通过从本发明的第2处理方法中记载的含有水溶性聚合物的水中除去水溶性聚合物而得到。上述除去的方法可以适当采用上述本发明的第2处理方法中记载的方式。特别是通过采用对水溶性聚合物进行絮凝、在含有该水溶性聚合物的水中添加无机絮凝剂的工序作为除去工序的方法，能够适当地得到本发明的第3组合物。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物、水和2价以上的金属离子，上述水溶性聚合物的含量为250ppm以下(以下也称为“本发明的第4组合物”)。

本发明的第4组合物优选为水溶性聚合物的水溶液。

本发明的第4组合物中，水溶性聚合物与本发明的第2处理方法中记载的水溶性聚合物相同，可以适当采用优选的方式。

本发明的第4组合物中，水溶性聚合物的含量相对于组合物的质量为250ppm以下。水溶性聚合物的含量优选为200ppm以下，更优选为150ppm以下，进一步优选为100ppm以下，进一步更优选为50ppm以下，尤其进一步优选为25ppm以下，特别优选为10ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，优选为0.1ppm以上，更优选为0.5ppm以上，进一步优选为1ppm以上，进一步更优选为2ppm以上，特别优选为5ppm以上。

本发明的第4组合物中包含的水溶性聚合物的含量可以通过与含有水溶性聚合物的水相同的方法进行测定。例如通过固体NMR测定求出。

本发明的第4组合物可以包含1种单一的水溶性聚合物，也可以包含2种以上不同的水溶性聚合物。

本发明的第4组合物包含2价以上的金属离子。作为2价以上的金属离子，没有特别限定，例如优选为构成作为上述无机絮凝剂所记载的金属盐的金属的离子，例如优选选自由Fe、Al和Ca组成的组中的至少1种。

本发明的第4组合物中，上述2价以上的金属离子的含量相对于组合物优选为0.05mg/L以上。更优选为0.1mg/L以上，进一步优选为0.15mg/L以上，特别优选为0.2mg/L以上。另外，上述2价以上的金属离子的含量优选为1000mg/L以下，更优选为500mg/L以下，进一步优选为250mg/L以下，进一步更优选为100mg/L以下，尤其进一步优选为50mg/L以下，特别优选为10mg/L以下，最优选为5mg/L以下。

上述2价以上的金属离子的含量通过Pack Test(共立理化学研究所制)的方法测定。

本发明的第4组合物可以包含水溶性聚合物、水和2价以上的金属离子以外的物质。例如可以包含本发明的第1处理方法中记载的絮凝剂等。另外，本发明的第4组合物可以包含水溶性聚合物以外的含氟聚合物。作为水溶性聚合物以外的含氟聚合物，可以适当采用本发明的第2处理方法中记载的含氟聚合物。作为水溶性聚合物以外的含氟聚合物，优选具有高于53的离子交换率(IXR)的含氟聚合物。另外，本发明的第4组合物可以包含PTFE。作为上述PTFE，可以适当采用本发明的第2处理方法中记载的PTFE。

本发明的第4组合物中，水溶性聚合物以外的含氟聚合物的含量相对于组合物的质量优选为5000ppm以下。更优选为2000ppm以下，进一步优选为1000ppm以下，特别优选为500ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，可以实质上为0ppm，可以超过0ppm，可以为1ppm以上，可以为100ppm以上。

水溶性聚合物以外的含氟聚合物的含量可以通过利用MF膜分离固体成分(水溶性聚合物以外的含氟聚合物)的方法求出。

本发明的第4组合物中，水溶性聚合物、水和2价以上的金属离子的合计量优选为95.0质量％以上，优选为99.0质量％以上，进一步优选为99.9质量％以上，特别优选实质上仅由水溶性聚合物、水和2价以上的金属离子构成。

本发明的第4组合物可以通过从本发明的第2处理方法中记载的含有水溶性聚合物的水中除去水溶性聚合物而得到。上述除去的方法可以适当采用上述本发明的第2处理方法中记载的方式。特别是通过采用对水溶性聚合物进行絮凝、在含有该水溶性聚合物的水中添加无机絮凝剂(优选金属盐)的工序作为除去工序的方法，能够适当地得到本发明的第4组合物。

本发明还提供一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物的水中除去该聚合物的工序(以下也称为“本发明的第3处理方法”)。

本发明的第3处理方法中，上述除去工序除了使用含有与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物(以下也记为“聚合物α”)的水以外，可以全部采用与本发明的第1处理方法相同的方法。

上述除去工序优选为对含有聚合物α的水进行絮凝的工序，更优选为在含有聚合物α的水中添加絮凝剂的工序，进一步优选为在含有聚合物α的水中添加无机絮凝剂的工序，特别优选为在含有聚合物α的水中添加无机絮凝剂、然后添加高分子絮凝剂的工序。作为絮凝剂、无机絮凝剂、高分子絮凝剂，可以适当采用本发明的第1处理方法中记载的絮凝剂。

含有上述聚合物α的水没有特别限定，可以举出上述聚合物α的制造工序、使用了上述聚合物α的聚合物聚合工序等聚合物制造工序中产生的水等。含有上述聚合物α的水可以为废水。

本发明的第3处理方法中，上述除去工序优选为使含有聚合物α的水中的聚合物α的浓度相对于除去工序前的浓度为50％以下的工序。更优选为40％以下，进一步更优选为30％以下，尤其进一步优选为20％以下，特别优选为10％以下。

另外，上述除去工序优选为使处理后的水中的聚合物α的浓度为250ppm以下的工序。更优选为200ppm以下，进一步优选为100ppm以下，进一步更优选为80ppm以下，尤其进一步优选为60ppm以下，特别优选为50ppm以下。

作为上述聚合物α没有特别限定，可以使用上述聚合物(I)中的与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的水溶性或非水溶性的聚合物，也可以使用上述聚合物(I)以外的与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物。

作为上述聚合物α，例如可以举出包含基于下述通式(I)：

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m (I)

(式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。)

所表示的单体的聚合单元(I)的水溶性或非水溶性的聚合物。

上述聚合物α中，上述聚合单元(I)的含量优选为50质量％以上，更优选为60质量％以上，进一步优选为70质量％以上，进一步更优选为80质量％以上，尤其进一步优选为90质量％以上，特别优选为95质量％以上，最优选为99质量％以上。

上述聚合物α可以包含基于下述含氟单体的聚合单元，上述含氟单体为基于三氟乙烯、四氟乙烯(TFE)、偏二氟乙烯(VdF)、氟乙烯(VF)、三氟氯乙烯(CTFE)、六氟丙烯(HFP)、六氟异丁烯、全氟烷基乙烯、氟乙烯基醚(FVE)、CH₂＝CFCF₃、CHF＝CHCF₃(E体)、CHF＝CHCF₃(Z体)等的含氟单体。

另外，上述聚合物α可以包含基于非含氟单体的聚合单元。作为非含氟单体，只要是具有自由基聚合性烯键式不饱和键的单体即可，例如可以举出丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、不饱和羧酸类、含水解性甲硅烷基的单体、含羟基的烷基乙烯基醚类、羧酸乙烯酯类、α-烯烃类等。作为上述非含氟单体，其中优选选自由丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、不饱和羧酸类和含水解性甲硅烷基的单体组成的组中的至少1种。

另外，作为非含氟单体，更优选选自由下述单体组成的组中的至少1种：选自由丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯组成的组中的至少1种单体、不饱和羧酸类、以及含水解性甲硅烷基的单体。

此外，也可以将具有自由基聚合性烯键式不饱和键的单体合用。

作为上述非含氟单体，可以使用上述水溶性聚合物中记载的非含氟单体。

上述聚合物α的数均分子量优选为0.1×10⁴以上，更优选为0.2×10⁴以上，进一步优选为0.3×10⁴以上，特别优选为0.4×10⁴以上，尤其进一步优选为0.5×10⁴以上，特别优选为1.0×10⁴以上，尤其更特别优选为3.0×10⁴以上，最优选为3.1×10⁴以上。另外，优选为75.0×10⁴以下，更优选为50.0×10⁴以下，进一步优选为40.0×10⁴以下，进一步优选为30.0×10⁴以下，特别优选为20.0×10⁴以下。上述聚合物α的重均分子量优选为0.2×10⁴以上，更优选为0.4×10⁴以上，进一步优选为0.6×10⁴以上，进一步更优选为0.8×10⁴以上，特别优选为1.0×10⁴以上，更特别优选为5.0×10⁴以上，进一步特别优选为10.0×10⁴以上，尤其进一步优选为15.0×10⁴以上，尤其更特别优选为20.0×10⁴以上，最优选为25.0×10⁴以上。

另外，优选为150.0×10⁴以下，更优选为100.0×10⁴以下，进一步优选为60.0×10⁴以下，特别优选为50.0×10⁴以下，尤其进一步优选为40.0×10⁴以下。

上述数均分子量和重均分子量是通过(GPC)以单分散聚苯乙烯为标准计算分子量而得到的值。另外，在无法通过GPC进行测定的情况下，可以通过根据由NMR、FT-IR等得到的末端基团数计算出的数均分子量与熔体流动速率的相关关系求出水溶性聚合物的数均分子量。熔体流动速率可以依据JIS K 7210进行测定。

聚合物α优选具有水溶性。水溶性是指容易溶解或分散于水的性质。具有水溶性的聚合物α无法通过例如动态光散射法(DLS)测定粒径。另一方面，具有水不溶性的聚合物α例如可以通过动态光散射法(DLS)测定粒径。

上述聚合物α具有53以下的离子交换率(IXR)。上述IXR优选为0.5以上，更优选为1以上，进一步优选为3以上，进一步更优选为4以上，尤其进一步优选为5以上，特别优选为8以上。另外，IXR更优选为43以下，进一步优选为33以下，特别优选为23以下。

上述聚合物α中，离子性基团典型地沿聚合物主链分布。

上述聚合物α优选包含聚合物主链以及与该主链结合的重复侧链、且该侧链具有离子性基团。

聚合物α优选包含具有小于10、更优选小于7的pKa的离子性基团。聚合物α的离子性基团优选优选选自由磺酸(盐)、羧酸(盐)、膦酸(盐)、磷酸(盐)和它们的混合物组成的组。

用语“磺酸(盐)、羧酸(盐)、膦酸(盐)和磷酸(盐)”是指各自的盐、或可形成盐的各自的酸。在使用盐的情况下，优选该盐为碱金属盐或铵盐。优选的离子性基团为磺酸(盐)基。

在含有上述聚合物α的水中，聚合物α的含量没有特别限定，例如，从提高除去效率的观点出发，优选为10质量％以下。在含有上述聚合物α的水中，聚合物α的含量更优选为1质量％以下，进一步优选为0.5质量％以下，特别优选为0.2质量％以下。另外，可以超过0质量％，可以超过0.005质量％，可以超过0.006质量％，可以超过0.008质量％，可以为0.010质量％以上，可以超过0.020质量％，可以超过0.025质量％，可以为0.1质量％以上。

上述聚合物α的含量例如可以由固体NMR进行测定。

含有上述聚合物α的水可以包含1种单一的聚合物α，也可以包含2种以上不同的聚合物α。

含有上述聚合物α的水可以包含聚合物α和水以外的物质，可以为分散液、水溶液等。

作为聚合物α和水以外的物质，可以举出无氟聚合物、聚合物α以外的含氟聚合物、低聚物等。

聚合物α以外的含氟聚合物是指与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例小于50％、或不含离子性基团、或离子交换率高于53的含氟聚合物。

作为聚合物α以外的含氟聚合物，可以举出具有高于53的离子交换率(IXR)的含氟聚合物。

优选的聚合物α以外的含氟聚合物完全不具有离子性基团、或者具有带来约高于100的离子交换率的有限数量的离子性基团。优选的聚合物α以外的含氟聚合物的离子交换率优选为1000以上，更优选为2000以上，进一步优选为5000以上。

作为上述聚合物α以外的含氟聚合物，具体而言，可以举出本发明的第1处理方法中记载的含氟聚合物中与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例小于50％的含氟聚合物、不含离子性基团的含氟聚合物、或具有高于53的离子交换率(IXR)的含氟聚合物。例如可以举出PTFE、TFE与能够和TFE共聚的其他单体(偏二氟乙烯、六氟丙烯、三氟氯乙烯、全氟(烷基乙烯基醚)等含氟单体、乙烯、丙烯、异丁烯等烯烃系烃、烷基乙烯基醚等)的共聚物(例如四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)、四氟乙烯-全氟(烷基乙烯基醚)共聚物(PFA)和乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)等)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚三氟氯乙烯(PCTFE)和乙烯-三氟氯乙烯(ECTFE)等氟树脂、偏二氟乙烯-六氟丙烯共聚物等偏二氟乙烯系橡胶(FKM)、四氟乙烯-丙烯橡胶(FEPM)和四氟乙烯-全氟甲基乙烯基醚橡胶(FFKM)等氟橡胶、以及含氟弹性体等。

上述PTFE可以为TFE的均聚物，也可以为含有99.0质量％以上的TFE和1.0重量％以下的改性单体的改性PTFE。

作为上述聚合物α以外的含氟聚合物，优选选自由PTFE以及包含60.0～98.0质量％的TFE单元和2.0～40.0质量％的其他单体的熔融加工性氟树脂组成的组中的至少1种，更优选PTFE。

含有上述聚合物α的水中，聚合物α和水以外的物质的含量优选为1.0质量％以下，更优选为0.5质量％以下，进一步优选为0.2质量％以下。聚合物α和水以外的物质的含量的下限没有限定，例如可以为0质量％，也可以为0.1质量％。

含有上述聚合物α的水中，水的含量优选为99.0质量％以上。

更优选为99.5质量％以上，进一步优选为99.8质量％以上。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物、水和含氟聚合物(其中，不包括上述聚合物)，上述聚合物的含量为250ppm以下(以下也称为“本发明的第5组合物”)。

本发明的第5组合物中，与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物(聚合物α)与本发明的第3处理方法中记载的聚合物相同，可以适当采用优选的方式。

本发明的第5组合物可以为聚合物α的水溶液，也可以为聚合物α的分散液。

本发明的第5组合物中，聚合物α的含量相对于组合物的质量为250ppm以下。聚合物α的含量优选为200ppm以下，更优选为150ppm以下，进一步优选为100ppm以下，进一步更优选为50ppm以下，尤其进一步优选为25ppm以下，特别优选为10ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，优选为0.1ppm以上，更优选为0.5ppm以上，进一步优选为1ppm以上，进一步更优选为2ppm以上，特别优选为5ppm以上。

本发明的第5组合物中包含的聚合物α的含量可以通过与含有聚合物α的水相同的方法进行测定。例如通过固体NMR测定求出。

本发明的第5组合物可以包含1种单一的聚合物α，也可以包含2种以上不同的聚合物α。

含有上述聚合物α的水含有聚合物α以外的含氟聚合物。

作为聚合物α以外的含氟聚合物，可以适当采用本发明的第3处理方法中记载的含氟聚合物，可以适当采用优选的方式。

聚合物α以外的含氟聚合物的离子交换率优选超过53，更优选为100以上，进一步优选为1000以上，尤其进一步优选为2000以上，特别优选为5000以上。

作为聚合物α以外的含氟聚合物，优选PTFE。

本发明的第5组合物中，聚合物α以外的含氟聚合物的含量相对于组合物的质量优选为5000ppm以下。更优选为2000ppm以下，进一步优选为1000ppm以下，特别优选为500ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，可以实质上为0ppm，可以超过0ppm，可以为1ppm以上，可以为100ppm以上。

聚合物α以外的含氟聚合物的含量可以通过利用MF膜分离固体成分(聚合物α以外的含氟聚合物)的方法求出。

本发明的第5组合物可以包含聚合物α、水和聚合物α以外的含氟聚合物以外的物质。例如可以包含本发明的第3处理方法中记载的絮凝剂等。另外，本发明的第5组合物可以含有金属离子，可以含有2价以上的金属离子。作为2价以上的金属离子，可以适当含有本发明的第2组合物所含有的金属离子。

2价以上的金属离子的含量相对于组合物优选为0.05mg/L以上，更优选为0.1mg/L以上，进一步优选为0.15mg/L以上，特别优选为0.2mg/L以上。另外，2价以上的金属离子的含量优选为1000mg/L以下，更优选为500mg/L以下，进一步优选为250mg/L以下，进一步更优选为100mg/L以下，尤其进一步优选为50mg/L以下，特别优选为10mg/L以下，最优选为5mg/L以下。

本发明的第5组合物中，聚合物α、水和聚合物α以外的含氟聚合物的合计量优选为95.0质量％以上，优选为99.0质量％以上，进一步优选为99.9质量％以上，特别优选实质上仅由聚合物α、水和聚合物α以外的含氟聚合物构成。

本发明的第5组合物可以通过从本发明的第3处理方法中记载的含有聚合物α的水中除去聚合物α而得到。上述除去的方法可以适当采用上述本发明的第3处理方法中记载的方式。特别是通过采用对聚合物α进行絮凝、在含有该聚合物α的水中添加无机絮凝剂的工序作为除去工序的方法，能够适当地得到本发明的第5组合物。

本发明还提供一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物、水和2价以上的金属离子，上述聚合物的含量为250ppm以下(以下也称为“本发明的第6组合物”)。

本发明的第6组合物中，与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物(聚合物α)与本发明的第3处理方法中记载的聚合物相同，可以适当采用优选的方式。

本发明的第6组合物可以为聚合物的水溶液，也可以为聚合物的分散液。

本发明的第6组合物中，聚合物α的含量相对于组合物的质量为250ppm以下。聚合物α的含量优选为200ppm以下，更优选为150ppm以下，进一步优选为100ppm以下，进一步更优选为50ppm以下，尤其进一步优选为25ppm以下，特别优选为10ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，优选为0.1ppm以上，更优选为0.5ppm以上，进一步优选为1ppm以上，进一步更优选为2ppm以上，特别优选为5ppm以上。

本发明的第6组合物中包含的聚合物α的含量可以通过与含有聚合物α的水相同的方法进行测定。例如通过固体NMR测定求出。

本发明的第6组合物可以包含1种单一的聚合物α，也可以包含2种以上不同的聚合物α。

本发明的第6组合物包含2价以上的金属离子。作为2价以上的金属离子，没有特别限定，例如优选为构成作为上述无机絮凝剂所记载的金属盐的金属的离子，例如优选选自由Fe、Al和Ca组成的组中的至少1种。

本发明的第6组合物中，上述2价以上的金属离子的含量相对于组合物优选为0.05mg/L以上。更优选为0.1mg/L以上，进一步优选为0.15mg/L以上，特别优选为0.2mg/L以上。另外，上述2价以上的金属离子的含量优选为1000mg/L以下，更优选为500mg/L以下，进一步优选为250mg/L以下，进一步更优选为100mg/L以下，尤其进一步优选为50mg/L以下，特别优选为10mg/L以下，最优选为5mg/L以下。

上述2价以上的金属离子的含量通过Pack Test(共立理化学研究所制)的方法测定。

本发明的第6组合物可以包含聚合物α、水和2价以上的金属离子以外的物质。例如可以包含本发明的第3处理方法中记载的絮凝剂等。另外，本发明的第6组合物可以包含聚合物α以外的含氟聚合物。作为聚合物α以外的含氟聚合物，可以适当采用本发明的第3处理方法中记载的含氟聚合物。作为聚合物α以外的含氟聚合物，优选具有高于53的离子交换率(IXR)的含氟聚合物。另外，本发明的第4组合物可以包含PTFE。作为上述PTFE，可以适当采用本发明的第3处理方法中记载的PTFE。

本发明的第6组合物中，聚合物α以外的含氟聚合物的含量相对于组合物的质量优选为5000ppm以下。更优选为2000ppm以下，进一步优选为1000ppm以下，特别优选为500ppm以下。上述含量的下限值没有特别限定，可以实质上为0ppm，可以超过0ppm，可以为1ppm以上，可以为100ppm以上。

聚合物α以外的含氟聚合物的含量可以通过利用MF膜分离固体成分(聚合物α以外的含氟聚合物)的方法求出。

本发明的第6组合物中，聚合物α、水和2价以上的金属离子的合计量优选为95.0质量％以上，优选为99.0质量％以上，进一步优选为99.9质量％以上，特别优选实质上仅由聚合物α、水和2价以上的金属离子构成。

本发明的第6组合物可以通过从本发明的第3处理方法中记载的含有聚合物α的水中除去聚合物α而得到。上述除去的方法可以适当采用上述本发明的第3处理方法中记载的方式。特别是通过采用对聚合物α进行絮凝、在含有该聚合物α的水中添加无机絮凝剂(优选金属盐)的工序作为除去工序的方法，能够适当地得到本发明的第6组合物。

实施例

接着举出实验例对本发明进行说明，但本发明不仅限于该实验例。

下述实验例中，使用了下式：

CH₂＝CF(CF₂OCFCF₃COOH)

所表示的单体的均聚物(数均分子量9万、重均分子量19万)(以下称为“聚合物A”)。

关于上述数均分子量和重均分子量，通过(GPC)使用东曹株式会社制造的GPCHLC-8020，使用Shodex公司制造的柱(将1根GPCKF-801、1根GPCKF-802、2根GPCKF-806M串联连接)，以1ml/分钟的流速流入作为溶剂的四氢呋喃(THF)来进行测定，以单分散聚苯乙烯为标准计算出分子量。

实验例的各数值通过下述方法进行测定。

处理水溶液中的聚合物A含量

处理水溶液中的聚合物A含量通过下述方法进行测定。

聚合物A的校准曲线的制作

制备出5个等级的包含浓度已知的三氟乙酸钠和聚合物A的水溶液，进行¹⁹F NMR测定。由各样品中的三氟乙酸钠和聚合物A的浓度与三氟乙酸钠和聚合物A的峰面积值使用一次近似通过下述关系式(1)求出a。

A＝a×5×B×W×136.00/(3×X×256.08) (1)

A：来源于聚合物A的CF₂和CF₃的峰面积值(δ_Fppm：-78～-88(-CF-CF₂-O-、>CF-CF₃))

W：聚合物A的浓度(ppm)

B：三氟乙酸的峰面积值(δ_Fppm：-76(CF₃-))

X：三氟乙酸的浓度(ppm)

化学位移使用将来源于三氟乙酸钠的CF₃的峰设为-76.0ppm时的值。

使用蒸发器对处理水溶液进行浓缩。在浓缩后处理水溶液中添加三氟乙酸钠，进行¹⁹F NMR测定。由测定样品中的三氟乙酸钠的浓度与三氟乙酸钠和聚合物A的峰面积值通过下述关系式(2)求出处理水溶液中的聚合物A含量。

Y＝3×C×Z×P×256.08/(a×5×D×Q×136.00) (2)

C：聚合物A的峰面积值(δ_Fppm：-78～-88(-CF-CF₂-O-、>CF-CF₃))

Y：处理水溶液中的聚合物A含量(ppm)

D：三氟乙酸的峰面积值(δ_Fppm：-76(CF₃-))

Z：三氟乙酸的浓度(ppm)

P：浓缩前处理水溶液的质量(g)

Q：浓缩后处理水溶液的质量(g)

化学位移使用将来源于三氟乙酸钠的CF₃的峰设为-76.0ppm时的值。

pH

利用Hоriba公司制造的pH计D-20进行测定。

处理水溶液中的溶解铝浓度

使用作为简易水质分析产品的PACKTEST Aluminum(共立理化学研究所制造、型号WAK-AI、测定极限0.05mg/L)进行测定。

实施例1

作为模型水溶液，在包含聚合物A 500ppm的水溶液(水溶液A)100g中添加26.8质量％的硫酸铝水溶液0.37g。将含有聚合物A的水溶液(水溶液A)在容器中在温度25℃搅拌30分钟。搅拌后，pH为3.2。在含有聚合物A的水溶液(水溶液A)中添加作为pH调整剂的NaOH水溶液(25％)，将pH调整为7.3。

在pH调整后的水溶液中添加聚丙烯酰胺部分水解物(商品名：Floclan A1210、KATAYAMA NALCO公司制造)的0.07质量％水溶液0.34g。在温度25℃搅拌30分钟后，沉淀出铝沉淀物。

将沉淀出的铝沉淀物用过滤器滤纸过滤，得到处理水溶液。所得到的处理水溶液中的聚合物A的浓度为42ppm。所得到的处理水溶液中的溶解铝浓度为1mg/L。

实施例2

将硫酸铝水溶液的添加量变更为0.05g、pH调整前的pH变更为2.9、pH调整后的pH变更为6.8，除此以外与实验例1同样地得到处理水溶液。所得到的处理水溶液中的聚合物A的浓度为90ppm。所得到的处理水溶液中的溶解铝浓度为0.5mg/L。

Claims (27)

1.一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有聚合物(I)的水中除去所述聚合物(I)的除去工序，所述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)，

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m(I)

式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。

2.如权利要求1所述的处理方法，其中，所述聚合物(I)为水溶性聚合物。

3.如权利要求1或2所述的处理方法，其中，所述除去工序是对含有所述聚合物(I)的水进行过滤、吸附和絮凝中的至少1者的工序。

4.如权利要求1～3中任一项所述的处理方法，其中，所述除去工序是对含有所述聚合物(I)的水进行絮凝的工序。

5.如权利要求1～4中任一项所述的处理方法，其中，所述除去工序是在含有所述聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂的工序。

6.如权利要求5所述的处理方法，其中，所述无机絮凝剂为选自由铝盐、铁盐、钙盐、以及包含2价以上的金属元素和硅的硅酸盐矿物组成的组中的至少1种金属盐。

7.如权利要求5或6所述的处理方法，其中，所述无机絮凝剂为选自由硫酸铝和聚合氯化铝组成的组中的至少1种铝盐。

8.如权利要求1～7中任一项所述的处理方法，其中，所述除去工序是在含有所述聚合物(I)的水中添加高分子絮凝剂的工序。

9.如权利要求8所述的处理方法，其中，所述高分子絮凝剂为阴离子型高分子絮凝剂。

10.如权利要求1～9中任一项所述的处理方法，其中，所述除去工序是在含有所述聚合物(I)的水中添加无机絮凝剂、然后添加高分子絮凝剂的工序。

11.如权利要求1～10中任一项所述的处理方法，其中，含有所述聚合物(I)的水是经过了氟聚合物的聚合工序的水。

12.一种组合物，其特征在于，其包含聚合物(I)、水和含氟聚合物，所述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)，所述聚合物(I)的含量为250ppm以下，所述含氟聚合物不包括所述聚合物(I)，

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m(I)

式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。

13.如权利要求12所述的组合物，其中，所述聚合物(I)是与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物。

14.如权利要求12或13所述的组合物，其中，所述聚合物(I)是与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物。

15.一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物、水和含氟聚合物，所述水溶性聚合物的含量为250ppm以下，所述含氟聚合物不包括所述水溶性聚合物。

16.一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物、水和含氟聚合物，所述聚合物的含量为250ppm以下，所述含氟聚合物不包括所述聚合物。

17.如权利要求12～16中任一项所述的组合物，其中，所述含氟聚合物具有高于53的离子交换率。

18.如权利要求12～17中任一项所述的组合物，其中，所述含氟聚合物为聚四氟乙烯。

19.如权利要求12～18中任一项所述的组合物，其中，所述含氟聚合物的含量为1ppm～5000ppm。

20.如权利要求12～19中任一项所述的组合物，其中，进一步包含2价以上的金属离子。

21.如权利要求20所述的组合物，其中，2价以上的金属离子的含量为0.05mg/L～1000mg/L以上。

22.一种组合物，其特征在于，其包含聚合物(I)、水和2价以上的金属离子，所述聚合物(I)包含基于下述通式(I)所表示的单体的聚合单元(I)，所述聚合物(I)的含量为250ppm以下，

CX¹X³＝CX²R(-CZ¹Z²-A⁰)_m(I)

式中，X¹和X³各自独立地为F、Cl、H或CF₃；X²为H、F、烷基或含氟烷基；A⁰为阴离子性基团；R为连接基团；Z¹和Z²各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数。

23.一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物、水和2价以上的金属离子，所述水溶性聚合物的含量为250ppm以下。

24.一种组合物，其特征在于，其包含与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物、水和2价以上的金属离子，所述聚合物的含量为250ppm以下。

25.如权利要求22～24中任一项所述的组合物，其中，2价以上的金属离子的含量为0.05mg/L～1000mg/L以上。

26.一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上的水溶性聚合物的水中除去所述水溶性聚合物的工序。

27.一种水的处理方法，其特征在于，其包括从含有与碳原子键合的氢原子被氟原子所取代的比例为50％以上且包含离子性基团、离子交换率为53以下的聚合物的水中除去所述聚合物的工序。