CN113621934B - 一种卷绕镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种卷绕镀膜设备，主要包括真空室、蒸发源、镀膜主辊、移动式挡板系统、控制系统和真空系统；蒸发源设置在镀膜主辊的下方，镀膜主辊内部通有冷却液，柔性基膜绕经镀膜主辊时进行蒸发镀膜；移动式挡板系统位于真空室内；移动式挡板系统包括移动挡板、竖直移动机构、横向移动机构和清洗模块；在真空室内为移动挡板设置有镀膜遮挡相位、蒸发源屏蔽相位和清洗相位；移动挡板在竖直移动机构和横向移动机构的作用下可分别进行竖直方向上的移动和横向移动，移动至镀膜遮挡相位、蒸发源屏蔽相位或清洗相位；清洗模块位于移动挡板的下方，当移动挡板处于清洗相位时，清洗模块对移动挡板上的附着物进行真空环境下的在线清洗。
Description
技术领域
本发明属于卷绕真空镀膜技术领域，特别涉及一种卷绕镀膜设备。
背景技术
在卷绕蒸发镀膜生产过程中，为防止蒸发过程中产生的高温及蒸发材料对处于镀膜主辊冷却保护范围之外的柔性薄膜造成损伤，通常在卷绕镀膜设备中设置挡板将蒸发镀膜区域和其它区域分隔开。然而，在真空镀膜工艺过程中，当启动蒸发源在柔性基膜上进行蒸发镀膜时，挡板上也同样会附着一定厚度的蒸发材料，当挡板上的附着的蒸发材料达到一定程度时就会因为内应力或冷热冲击发生脱落，造成对镀膜环境的污染，进而影响薄膜产品的质量。
为避免上述问题，一般需要对卷绕镀膜设备中的挡板进行定期清洗，或为挡板设置衬板，对衬板进行清洗。目前，在应用较多的单室卷绕镀膜机中通常采用固定挡板的设计或为固定挡板设置衬板，进行挡板或衬板清洗时，通常需要将其从设备中拆下来，采用喷砂、人工打磨或高压气体吹扫等方式在卷绕镀膜外部实施清洗，这种清洗方式费时费力，还会存在清洗不彻底、对挡板或衬板产生二次污染、损坏挡板或衬板表面造成夹气影响真空度等问题，对镀膜生产的稳定进行带来隐患。特别是在用于汽车动力电池电极层生产的高端多室卷绕真空镀膜设备中，传统的清洗方法会增加镀膜真空区域及镀膜核心部件暴露大气、受大气污染的机会，影响薄膜产品品质稳定性，且不利于高端智能化卷绕镀膜设备高度自动化生产的实施。
发明内容
为解决上述问题，本发明提出一种卷绕镀膜设备，该设备中的移动式挡板系统通过使移动挡板在不同相位之间的移动，在控制系统的控制下实现镀膜遮挡、蒸发源屏蔽及在线清洗等不同功能的切换，使卷绕镀膜设备结构更加紧凑，另一方面，也可实现卷绕镀膜设备日常维护的智能化和自动化，实现该设备工作的高度自动化。该设备中对移动挡板实施在真空环境下的在线清洗，清洗效果好，清洗周期短，无二次污染，清洗成本低，更重要的是可以避免卷绕镀膜设备中的镀膜真空区域及镀膜核心部件暴露大气、受大气污染，保证了薄膜产品品质稳定性。
本发明提供一种卷绕镀膜设备，主要包括真空室、蒸发源、镀膜主辊、移动式挡板系统、控制系统和真空系统；蒸发源设置在镀膜主辊的下方，镀膜主辊内部通有冷却液，柔性基膜绕经镀膜主辊时进行蒸发镀膜；移动式挡板系统位于真空室内；移动式挡板系统包括移动挡板、竖直移动机构、横向移动机构和清洗模块；在真空室内为移动挡板设置有镀膜遮挡相位、蒸发源屏蔽相位和清洗相位；移动挡板在控制系统的控制下在竖直移动机构和横向移动机构的作用下可分别进行竖直方向上的移动和横向移动，移动至镀膜遮挡相位、蒸发源屏蔽相位或清洗相位；清洗模块位于移动挡板的下方，当移动挡板处于清洗相位时，清洗模块对移动挡板上的在真空镀膜中形成的附着物进行真空环境下的在线清洗。蒸发源为抽屉式结构，控制系统可控制将蒸发源拉出或推回真空室。
竖直移动机构包括导杆和竖直驱动电机，移动挡板安装固定在可沿导杆滑动的竖直滑块上，竖直驱动电机可驱动移动挡板做竖直方向上的移动；横向移动机构包括滑轨和横向驱动电机，导杆安装固定在可沿滑轨滑动的横向滑块上，横向驱动电机可通过驱动导杆带动移动挡板做横向移动。移动挡板在竖直方向上的移动和横向移动均在卷绕镀膜设备的控制系统的控制下进行。
移动挡板为两块，分别位于镀膜主辊的两侧；当蒸发源停止工作时，由控制系统先控制一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位对尚有余热的蒸发源进行屏蔽覆盖，然后控制系统再控制另一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至清洗相位进行清洗；待蒸发源冷却后，控制系统再控制处于蒸发源屏蔽相位的移动挡板移动至清洗相位进行清洗。
移动挡板的下表面为外凸的弧形曲面；清洗模块的清洗作用面为与移动挡板的下表面互补的内凹的弧形曲面；在清洗作用面上布置有由多列喷嘴组成的喷嘴阵列，喷嘴的朝向为清洗作用面的法向方向；在清洗作用面上与弧形曲面母线垂直的一端设置有一排吹扫喷嘴，在清洗作用面上与这排吹扫喷嘴相对的一端设置有收集槽。
在清洗作用面的四个侧边上还设置有围板，使清洗模块对移动挡板进行清洗时形成一个相对独立的空间；真空室外部还设置有干冰供应源，干冰供应源与清洗模块相连接。
清洗相位位于接近清洗模块的位置；清洗模块对处于清洗相位的移动挡板进行清洗时，通过喷嘴阵列向移动挡板的下表面喷射干冰颗粒进行清洗，并通过吹扫喷嘴吹出的高压气体将落在清洗作用面上的清洗产物吹扫至收集槽中收集；喷嘴阵列喷射干冰颗粒进行清洗和吹扫喷嘴吹出高压气体进行吹扫交替进行；干冰颗粒喷射速度不低于9m/s。
在干冰颗粒与移动挡板表面的附着物撞击过程中，干冰颗粒高速撞击附着物，附着物受到干冰颗粒的动能冲击和低温冲击导致表面脆化产生龟裂，影响了附着物的机械性能；干冰颗粒携带强大的动能冲击附着物表面的裂缝，并在撞击瞬间气化，在千分之几秒内体积膨胀近千倍，形成微爆，将附着物以固态形式剥离移动挡板表面，达到清除附着物的目的。移动挡板下表面的弧形曲面设计是为了配合清洗过程做的特殊设计，该结构可以使附着物层在移动挡板下表面形成过程中就产生较大的内部应力，在干冰颗粒对移动挡板进行清洗时加剧附着物产生龟裂，易于与移动挡板表面剥离。而清洗模块的清洗作用面设计为内凹的弧形曲面，一方面是为了配合要清洗的移动挡板的下表面，另一方面也有利于对从移动挡板表面剥离脱落的固态附着物的收集，防止固态附着物下落时向四处飞溅，有利于吹扫喷嘴吹出的高压气体将落在清洗作用面上的固态附着物沿着该弧形曲面构成的吹扫通道吹扫至收集槽中收集。
竖直移动机构包括清洗限位开关；移动挡板向下移动至清洗相位时触发清洗限位开关，使移动挡板定位在清洗相位上，然后清洗模块对移动挡板进行清洗；移动挡板处于清洗相位上时，移动挡板的下表面与清洗作用面之间的间距控制在35mm以内，更加优选地，移动挡板的下表面与清洗作用面之间的间距控制在25mm以内。本发明经仿真模拟及测试验证研究发现，在干冰颗粒与移动挡板表面的附着物撞击过程中，干冰颗粒携带动能冲击附着物表面，使表面脆化产生龟裂，并在干冰颗粒携带强大的动能冲击附着物表面的裂缝时瞬间气化产生微爆；干冰颗粒在撞击时所携带的动能越大，则越能加剧龟裂的产生以及剧烈的微爆，附着物剥离的效果也就越佳。本发明经仿真模拟及测试验证研究还发现，当干冰颗粒从喷射口喷出飞行至在35mm以内的距离时，干冰颗粒仍能保持80%以上的动能，当干冰颗粒飞行至25mm以内的距离时，干冰颗粒能保持90%以上的动能。在此两种飞行距离范围内，显著地提升了干冰颗粒对移动挡板的清洗效果。而干冰颗粒飞行距离超过35mm，其携带用于撞击的动能则大幅衰减，对移动挡板的清洗效果也显著下降。
镀膜遮挡相位位于镀膜主辊的两侧靠近镀膜主辊的位置；竖直移动机构包括遮挡限位开关；移动挡板向上移动至镀膜遮挡相位时触发遮挡限位开关，使移动挡板定位在镀膜遮挡相位上，处于镀膜遮挡相位上的移动挡板对蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间起到遮挡隔绝作用；移动挡板处于镀膜遮挡相位时，移动挡板边缘与镀膜主辊之间的间隙控制在2mm以内，该间隙形成动密封，可有效实现蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间的遮挡和隔热作用，防止蒸发过程中产生的高温及蒸发材料对处于镀膜主辊冷却保护范围之外的柔性薄膜造成损伤，防止蒸发过程对非镀膜空间产生污染。
蒸发源屏蔽相位位于蒸发源的正上方；竖直移动机构包括屏蔽限位开关；横向移动机构包括横移限位开关一和横移限位开关二；移动挡板由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位时，首先向下移动触发屏蔽限位开关，使移动挡板在竖直方向上停止移动，然后横向移动机构带动移动挡板做横向移动，当移动挡板横向移动至蒸发源屏蔽相位时触发横移限位开关二，使移动挡板定位在蒸发源屏蔽相位上对蒸发源进行屏蔽覆盖；移动挡板处于蒸发源屏蔽相位时，移动挡板的下表面与蒸发源之间的间距控制在5 - 25mm范围内；移动挡板由蒸发源屏蔽相位移至清洗相位时，首先横向移动至触发横移限位开关一，使移动挡板在横向上停止移动，然后竖直移动机构带动移动挡板向下移动至清洗相位。
移动挡板内设置有隔热夹层，隔热夹层可以选自真空隔热腔、气体隔热腔、金属氧化铝夹层等结构形式，该隔热夹层可有效帮助移动挡板实现蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间的遮挡和隔热作用，防止蒸发过程中产生的高温及蒸发材料对处于镀膜主辊冷却保护范围之外的柔性薄膜造成损伤。另一方面，当移动挡板位于蒸发源屏蔽相位对尚有余热的蒸发源进行屏蔽覆盖时，隔热夹层也有利于帮助移动挡板起到绝热作用。
本发明的卷绕镀膜设备的工作过程主要包括：
（1）通过真空系统对真空室进行抽真空；当真空室内的真空度达到设定值时，启动蒸发源在绕经镀膜主辊的柔性薄膜上进行真空镀膜；真空镀膜时，移动挡板处于位于镀膜主辊的两侧靠近镀膜主辊的镀膜遮挡相位，对蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间起到遮挡隔绝作用；
（2）当真空镀膜结束时，蒸发源停止工作，由控制系统先控制一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位对尚有余热的蒸发源进行屏蔽覆盖，然后控制系统再控制另一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至清洗相位进行清洗；待蒸发源冷却后，控制系统再控制处于蒸发源屏蔽相位的移动挡板移动至清洗相位进行清洗；
（3）移动挡板完成清洗后，在控制系统的控制下移动返回至镀膜遮挡相位；控制系统根据蒸发源内蒸发物料的状况控制启动蒸发源进行真空镀膜，或者控制将蒸发源拉出真空室进行维护及蒸发物料装填，然后将蒸发源推回真空室，再启动蒸发源进行真空镀膜。
清洗模块位于移动挡板的下方；当移动挡板处于清洗相位时，由控制系统控制清洗模块对移动挡板上的附着物进行真空环境下的在线清洗；在清洗过程中，通过清洗作用面上的喷嘴阵列向移动挡板的下表面喷射干冰颗粒进行清洗，并通过吹扫喷嘴吹出的高压气体将落在清洗作用面上的清洗产物吹扫至收集槽中收集；喷嘴阵列喷射干冰颗粒进行清洗和吹扫喷嘴吹出高压气体进行吹扫交替进行；干冰颗粒喷射速度不低于9m/s。喷嘴阵列喷射干冰颗粒进行清洗和吹扫喷嘴吹出高压气体进行吹扫交替进行一次为一个清洗工作周期，清洗过程包括两个以上的清洗工作周期。
在下一次真空镀膜结束时，蒸发源停止工作，由控制系统先控制第二块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位对蒸发源进行屏蔽覆盖，然后控制系统再控制第一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至清洗相位进行清洗；待蒸发源冷却后，控制系统再控制处于蒸发源屏蔽相位的第二块移动挡板移动至清洗相位进行清洗。
附图说明
图1为本发明的卷绕镀膜设备的一种实施状态的结构示意图；
图2 为本发明的卷绕镀膜设备的另一种实施状态的示意图；
图3为本发明中的清洗模块的清洗作用面的俯视结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图进一步说明本发明的实施方式。应当理解的是，此处描述的具体实施方式仅用于举例说明和解释本发明，并不是用于限制本发明。
图1为本发明的卷绕镀膜设备的一种实施状态的结构示意图，如图所示，本发明提供一种卷绕镀膜设备，主要包括真空室10、蒸发源22、镀膜主辊3、移动式挡板系统、控制系统和真空系统27；蒸发源22设置在镀膜主辊3的下方，镀膜主辊内部通有冷却液，柔性基膜绕经镀膜主辊时进行蒸发镀膜；移动式挡板系统位于真空室10内；移动式挡板系统包括移动挡板、竖直移动机构、横向移动机构和清洗模块；移动挡板为两块，分别为移动挡板1和移动挡板2，分别位于镀膜主辊3的两侧；竖直移动机构、横向移动机构和清洗模块也为2个，分别为竖直移动机构4和竖直移动机构5、横向移动机构6和横向移动机构7，以及清洗模块8和清洗模块9。在真空室10内为移动挡板设置有镀膜遮挡相位、蒸发源屏蔽相位和清洗相位；移动挡板在控制系统的控制下在竖直移动机构和横向移动机构的作用下可分别进行竖直方向上的移动和横向移动，移动至镀膜遮挡相位、蒸发源屏蔽相位或清洗相位；清洗模块位于移动挡板的下方，当移动挡板处于清洗相位时，清洗模块对移动挡板上的在真空镀膜中形成的附着物进行真空环境下的在线清洗。蒸发源22为抽屉式结构，控制系统可控制将蒸发源22拉出或推回真空室10。
以竖直移动机构4和横向移动机构6为例，竖直移动机构4包括导杆11和竖直驱动电机12，移动挡板1安装固定在可沿导杆11滑动的竖直滑块13上，竖直驱动电机12可驱动移动挡板1做竖直方向上的移动；横向移动机构6包括滑轨14和横向驱动电机15，导杆11安装固定在可沿滑轨14滑动的横向滑块上，横向驱动电机15可通过驱动导杆11带动移动挡板1做横向移动。移动挡板在竖直方向上的移动和横向移动均在卷绕镀膜设备的控制系统的控制下进行。
当蒸发源停止工作时，由控制系统先控制一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位对尚有余热的蒸发源进行屏蔽覆盖，然后控制系统再控制另一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至清洗相位进行清洗；待蒸发源冷却后，控制系统再控制处于蒸发源屏蔽相位的移动挡板移动至清洗相位进行清洗。如图2所示的实施状态中，移动挡板2先由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位对尚有余热的蒸发源22进行屏蔽覆盖，然后控制系统再控制移动挡板1由镀膜遮挡相位移动至清洗相位，由清洗模块8对移动挡板1进行清洗。待蒸发源22冷却后，控制系统再控制处于蒸发源屏蔽相位的移动挡板2移动至清洗相位进行清洗。
移动挡板的下表面为外凸的弧形曲面；清洗模块的清洗作用面为与移动挡板的下表面互补的内凹的弧形曲面。图3为本发明中的清洗模块的清洗作用面的俯视结构示意图，如图所示，在清洗模块的清洗作用面16上布置有由多列喷嘴17组成的喷嘴阵列，喷嘴的朝向为清洗作用面16的法向方向；在清洗作用面上与弧形曲面母线垂直的一端设置有一排吹扫喷嘴18，在清洗作用面上与这排吹扫喷嘴相对的一端设置有收集槽19。
在清洗作用面的四个侧边上还设置有围板，使清洗模块对移动挡板进行清洗时形成一个相对独立的空间；真空室外部还设置有干冰供应源28，干冰供应源与清洗模块相连接。
清洗相位位于接近清洗模块的位置；清洗模块对处于清洗相位的移动挡板进行清洗时，通过喷嘴阵列向移动挡板的下表面喷射干冰颗粒进行清洗，并通过吹扫喷嘴吹出的高压气体将落在清洗作用面上的清洗产物吹扫至收集槽中收集；喷嘴阵列喷射干冰颗粒进行清洗和吹扫喷嘴吹出高压气体进行吹扫交替进行；干冰颗粒喷射速度不低于9m/s。
以竖直移动机构4和横向移动机构6为例，竖直移动机构4包括清洗限位开关20；移动挡板1向下移动至清洗相位时触发清洗限位开关20，使移动挡板1定位在清洗相位上，然后清洗模块8对移动挡板1进行清洗；移动挡板处于清洗相位上时，移动挡板的下表面与清洗作用面之间的间距控制在35mm以内，更加优选地，移动挡板的下表面与清洗作用面之间的间距控制在25mm以内。镀膜遮挡相位位于镀膜主辊的两侧靠近镀膜主辊的位置；竖直移动机构4包括遮挡限位开关21；移动挡板1向上移动至镀膜遮挡相位时触发遮挡限位开关21，使移动挡板1定位在镀膜遮挡相位上，处于镀膜遮挡相位上的移动挡板对蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间起到遮挡隔绝作用；移动挡板处于镀膜遮挡相位时，移动挡板边缘与镀膜主辊之间的间隙控制在2mm以内。在图1所示的卷绕镀膜设备的实施状态中，移动挡板1和移动挡板2均处于镀膜遮挡相位上，对蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间起到遮挡隔绝作用。蒸发源屏蔽相位位于蒸发源22的正上方；竖直移动机构4包括屏蔽限位开关23；横向移动机构6包括横移限位开关一24和横移限位开关二25；移动挡板1由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位时，首先向下移动触发屏蔽限位开关23，使移动挡板1在竖直方向上停止移动，然后横向移动机构6带动移动挡板1做横向移动，当移动挡板1横向移动至蒸发源屏蔽相位时触发横移限位开关二25，使移动挡板1定位在蒸发源屏蔽相位上对蒸发源22进行屏蔽覆盖；移动挡板处于蒸发源屏蔽相位时，移动挡板的下表面与蒸发源之间的间距控制在5 - 25mm范围内；移动挡板1由蒸发源屏蔽相位移至清洗相位时，首先横向移动至触发横移限位开关一24，使移动挡板1在横向上停止移动，然后竖直移动机构4带动移动挡板1向下移动至清洗相位。
移动挡板内设置有隔热夹层26，隔热夹层可以选自真空隔热腔、气体隔热腔、金属氧化铝夹层等结构形式。
本发明用于卷绕镀膜设备的实施过程主要包括：
（1）通过真空系统对真空室进行抽真空；当真空室内的真空度达到设定值时，启动蒸发源在绕经镀膜主辊的柔性薄膜上进行真空镀膜；真空镀膜时，移动挡板处于位于镀膜主辊的两侧靠近镀膜主辊的镀膜遮挡相位，对蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间起到遮挡隔绝作用；
（2）当真空镀膜结束时，蒸发源停止工作，由控制系统先控制一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位对尚有余热的蒸发源进行屏蔽覆盖，然后控制系统再控制另一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至清洗相位进行清洗；待蒸发源冷却后，控制系统再控制处于蒸发源屏蔽相位的移动挡板移动至清洗相位进行清洗；
（3）移动挡板完成清洗后，在控制系统的控制下移动返回至镀膜遮挡相位；控制系统根据蒸发源内蒸发物料的状况控制启动蒸发源进行真空镀膜，或者控制将蒸发源拉出真空室进行维护及蒸发物料装填，然后将蒸发源推回真空室，再启动蒸发源进行真空镀膜。
清洗模块位于移动挡板的下方；当移动挡板处于清洗相位时，由控制系统控制清洗模块对移动挡板上的附着物进行真空环境下的在线清洗；在清洗过程中，通过清洗作用面上的喷嘴阵列向移动挡板的下表面喷射干冰颗粒进行清洗，并通过吹扫喷嘴吹出的高压气体将落在清洗作用面上的清洗产物吹扫至收集槽中收集；喷嘴阵列喷射干冰颗粒进行清洗和吹扫喷嘴吹出高压气体进行吹扫交替进行；干冰颗粒喷射速度不低于9m/s。喷嘴阵列喷射干冰颗粒进行清洗和吹扫喷嘴吹出高压气体进行吹扫交替进行一次为一个清洗工作周期，清洗过程包括两个以上的清洗工作周期。
在下一次真空镀膜结束时，蒸发源停止工作，由控制系统先控制第二块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位对蒸发源进行屏蔽覆盖，然后控制系统再控制第一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至清洗相位进行清洗；待蒸发源冷却后，控制系统再控制处于蒸发源屏蔽相位的第二块移动挡板移动至清洗相位进行清洗。
Claims (5)
1.一种卷绕镀膜设备，其特征在于：主要包括真空室、蒸发源、镀膜主辊、移动式挡板系统、控制系统和真空系统；蒸发源设置在镀膜主辊的下方，镀膜主辊内部通有冷却液，柔性基膜绕经镀膜主辊时进行蒸发镀膜；移动式挡板系统位于真空室内；移动式挡板系统包括移动挡板、竖直移动机构、横向移动机构和清洗模块；移动挡板为两块，分别位于镀膜主辊的两侧；在真空室内为移动挡板设置有镀膜遮挡相位、蒸发源屏蔽相位和清洗相位；移动挡板在控制系统的控制下、在竖直移动机构和横向移动机构的作用下可分别进行竖直方向上的移动和横向移动，移动至镀膜遮挡相位、蒸发源屏蔽相位或清洗相位；清洗模块位于移动挡板的下方，当移动挡板处于清洗相位时，由控制系统控制清洗模块对移动挡板上的附着物进行真空环境下的在线清洗；
竖直移动机构包括导杆和竖直驱动电机，移动挡板安装固定在可沿导杆滑动的竖直滑块上，竖直驱动电机可驱动移动挡板做竖直方向上的移动；横向移动机构包括滑轨和横向驱动电机，导杆安装固定在可沿滑轨滑动的横向滑块上，横向驱动电机可通过驱动导杆带动移动挡板做横向移动；镀膜遮挡相位位于镀膜主辊的两侧靠近镀膜主辊的位置；真空镀膜时，移动挡板处于镀膜遮挡相位；竖直移动机构包括遮挡限位开关；移动挡板向上移动至镀膜遮挡相位时触发遮挡限位开关，使移动挡板定位在镀膜遮挡相位上，处于镀膜遮挡相位上的移动挡板对蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间起到遮挡隔绝作用；移动挡板处于镀膜遮挡相位时，移动挡板边缘与镀膜主辊之间的间隙控制在2mm以内，该间隙形成动密封，可有效实现蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间的遮挡和隔热作用，防止蒸发过程中产生的高温及蒸发材料对处于镀膜主辊冷却保护范围之外的柔性薄膜造成损伤；
移动挡板内设置有隔热夹层，隔热夹层为选自真空隔热腔、气体隔热腔、金属氧化铝夹层结构形式中的一种，该隔热夹层可有效帮助移动挡板实现蒸发镀膜区域与真空室内的其它区域之间的遮挡和隔热作用，防止蒸发过程中产生的高温及蒸发材料对处于镀膜主辊冷却保护范围之外的柔性薄膜造成损伤；
蒸发源屏蔽相位位于蒸发源的正上方；当蒸发源停止工作时，由控制系统先控制一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位对尚有余热的蒸发源进行屏蔽覆盖，然后控制系统再控制另一块移动挡板由镀膜遮挡相位移动至清洗相位进行清洗；待蒸发源冷却后，控制系统再控制处于蒸发源屏蔽相位的移动挡板移动至清洗相位进行清洗；
移动挡板的下表面为外凸的弧形曲面；清洗模块的清洗作用面为与移动挡板的下表面互补的内凹的弧形曲面；在清洗作用面上布置有由多列喷嘴组成的喷嘴阵列，喷嘴的朝向为清洗作用面的法向方向；清洗相位位于接近清洗模块的位置；清洗模块对处于清洗相位的移动挡板进行清洗时，通过喷嘴阵列向移动挡板的下表面喷射干冰颗粒进行清洗；竖直移动机构包括清洗限位开关；移动挡板向下移动至清洗相位时触发清洗限位开关，使移动挡板定位在清洗相位上，然后清洗模块对移动挡板进行清洗；移动挡板处于清洗相位上时，移动挡板的下表面与清洗作用面之间的间距控制在25mm以内；
蒸发源为抽屉式结构，控制系统可控制将蒸发源拉出或推回真空室；移动挡板完成清洗后，在控制系统的控制下移动返回至镀膜遮挡相位；控制系统根据蒸发源内蒸发物料的状况控制启动蒸发源进行真空镀膜，或者控制将蒸发源拉出真空室进行维护及蒸发物料装填，然后将蒸发源推回真空室，再启动蒸发源进行真空镀膜。
2.根据权利要求1所述的卷绕镀膜设备，其特征在于：在清洗作用面上与弧形曲面母线垂直的一端设置有一排吹扫喷嘴，在清洗作用面上与这排吹扫喷嘴相对的一端设置有收集槽。
3.根据权利要求1所述的卷绕镀膜设备，其特征在于：在清洗作用面的四个侧边上还设置有围板，使清洗模块对移动挡板进行清洗时形成一个相对独立的空间；真空室外部还设置有干冰供应源，干冰供应源与清洗模块相连接。
4.根据权利要求1所述的卷绕镀膜设备，其特征在于：清洗模块对处于清洗相位的移动挡板进行清洗时，通过吹扫喷嘴吹出的高压气体将落在清洗作用面上的清洗产物吹扫至收集槽中收集；喷嘴阵列喷射干冰颗粒进行清洗和吹扫喷嘴吹出高压气体进行吹扫交替进行；干冰颗粒喷射速度不低于9m/s。
5.根据权利要求1所述的卷绕镀膜设备，其特征在于：竖直移动机构包括屏蔽限位开关；横向移动机构包括横移限位开关一和横移限位开关二；移动挡板由镀膜遮挡相位移动至蒸发源屏蔽相位时，首先向下移动触发屏蔽限位开关，使移动挡板在竖直方向上停止移动，然后横向移动机构带动移动挡板做横向移动，当移动挡板横向移动至蒸发源屏蔽相位时触发横移限位开关二，使移动挡板定位在蒸发源屏蔽相位上对蒸发源进行屏蔽覆盖；移动挡板处于蒸发源屏蔽相位时，移动挡板的下表面与蒸发源之间的间距控制在5-25mm范围内；移动挡板由蒸发源屏蔽相位移至清洗相位时，首先横向移动至触发横移限位开关一，使移动挡板在横向上停止移动，然后竖直移动机构带动移动挡板向下移动至清洗相位。
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