CN113613804A - 用于清洁螺杆机壳体的壳体清洁装置 - Google Patents
用于清洁螺杆机壳体的壳体清洁装置 Download PDFInfo
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Abstract
本申请公开了一种用于清洁螺杆机(2)的壳体(3)的壳体清洁装置(4)，其具有相对壳体(3)能位移的支撑单元(14)以及布置在支撑单元(14)处的至少一个壳体清洁单元(15)，以用于清洁壳体(3)的内壁(38)，其中至少一个壳体清洁单元(15)能可逆地插入到壳体(3)中。相关联的用于清洁螺杆机(2)的至少一个处理元件轴的轴清洁装置包括清洁腔室以及布置在清洁腔室中的至少一个轴清洁单元，在清洁腔室中能布置有至少一个处理元件轴。
Description
本专利申请要求德国专利申请DE102019203661.9的优先权，其内容通过引用并入本文。
技术领域
本申请涉及一种用于清洁螺杆机壳体的壳体清洁装置。本申请还涉及一种用于清洁螺杆机的至少一个处理元件轴的轴清洁装置，以及一种包括这种壳体清洁装置和/或这种轴清洁装置的清洁系统。本申请还涉及一种用于清洁螺杆机的方法。
背景技术
从DE4417357A1中已知一种用于清洁螺杆机的方法和装置。清洁是通过使清洁液流过螺杆机来进行的，其中，尤其是在螺杆机的壳体中设置有用于供应清洁液的接头。这种装置需要针对螺杆机进行复杂的设计工作，需要频繁维护，并且不能始终保证所需的清洁质量。
发明内容
本申请的目的在于提供一种改进的用于清洁螺杆机壳体的壳体清洁装置，其特别易于维护并确保高清洁质量。
该目的通过具有权利要求1的特征的壳体清洁装置来实现。根据本申请，已经认识到，具有支撑单元和布置在其上的壳体清洁单元的壳体清洁装置必须被设计成使得至少一个壳体清洁单元可以可逆地插入到螺杆机的壳体中，以确保螺杆机壳体区域内的高清洁质量带来的维护成本低——尤其是无需结构上的修改措施。为了清洁壳体，螺杆机的至少一个处理元件轴从壳体中移除。螺杆机可以被设计为单轴螺杆机。优选地，螺杆机是多轴螺杆机，尤其是双轴螺杆机。优选地，所有处理元件轴都从壳体中移除以清洁壳体。“可插入到壳体中”应被理解为可插入到壳体的内部空间中，尤其是壳体的处理空间中。优选地，支撑单元和/或至少一个壳体清洁单元可沿着内部空间，尤其是处理空间的纵向延伸范围的至少25％，尤其是至少50％，尤其是75％，插入到壳体中。为此，支撑单元和/或至少一个壳体清洁单元的尺寸小于内部空间的尺寸，尤其是在支撑单元的纵向轴线的径向方向上小于内部空间的尺寸。支撑单元的纵向延伸范围优选为内部空间长度的至少25％，尤其是至少50％，尤其是至少75％，尤其是至少100％。有利地，这确保可以对壳体的内壁在其整个长度上可靠地进行清洁。
根据本申请的一方面，壳体清洁单元可相对壳体沿壳体的纵向方向和/或横向于壳体的纵向方向位移，尤其是在清洁壳体时。因此可以以特别灵活且安全的方式对壳体进行清洁。
支撑单元可以刚性地设计，尤其是被设计成刚性杆；或柔性地设计，尤其是被设计成链和/或绳。支撑单元可以被设计成伸缩杆，从而容易地插入到壳体中和/或用于在壳体中位移。因此即使在只有很小的安装空间可用时也可以对壳体进行清洁。
根据本申请的一方面，壳体清洁装置被设计用于将至少一种清洁介质引入壳体中。至少一种清洁介质可以包括液体成分，尤其是水和/或溶剂和/或酸性清洁介质和/或碱性清洁介质，和/或固体成分，尤其是清洁颗粒，尤其是清洁砂和/或陶瓷颗粒和/或干冰，和/或固体和液体成分的悬浮液，和/或压缩空气，尤其是热空气，和/或蒸汽。尤其是，壳体清洁装置可以被设计为同时地或在时间上相继地将不同的清洁介质引入到壳体中。壳体清洁装置可以被设计为使用液体清洁介质进行湿式清洁。壳体清洁装置可以被设计成在可调节的温度和/或压力下将清洁介质引入到壳体中。壳体清洁装置也可以尤其仅被设计用于干式清洁，尤其是使用压缩空气。优选地，壳体清洁装置被设计用于在多个在时间上连贯的步骤中清洁壳体。优选地，干式清洁在连贯的清洁步骤的最后进行，以避免壳体腐蚀。尤其是，最后的清洁步骤可以包括施加抗腐蚀剂。尤其是，用压缩空气干燥壳体确保可靠地避免腐蚀。
优选地，壳体清洁装置包括用于控制清洁介质的流入和/或流出的至少一个流入阀和/或至少一个流出阀。因此可以以特别灵活的方式控制清洁过程。
壳体包括用于供给待输送的介质的供给开口。进一步地，壳体包括用于排放待输送的介质的排放开口。根据本申请的一方面，壳体清洁装置包括用于封闭排放开口的封闭单元。优选地，封闭单元能够以密封的方式附接至壳体。封闭单元可以具有用于将至少一种清洁介质引出壳体的排放管线。进一步地，封闭单元可以具有用于使支撑单元穿过的支撑单元馈通件。在支撑单元馈通件的区域中，支撑单元可以穿过封闭单元。优选地，封闭单元具有用于相对支撑单元密封的馈通件密封件。封闭单元可以具有用于轴向和/或旋转地安装支撑单元的馈通件轴承。通过将封闭单元布置在壳体上，可以在清洁过程中最大限度地密封壳体。由于支撑单元馈通件，支撑单元和/或至少一个壳体清洁单元在距壳体限定的距离处可以最大限度地自由位移。
根据本申请的一方面，壳体清洁装置具有壳体驱动设备。壳体驱动设备可以附接至支撑单元，尤其是以可逆的方式进行附接。壳体驱动设备优选地配置成使支撑单元和/或至少一个壳体清洁单元相对壳体旋转地和/或平移地位移，尤其是沿着壳体的纵向延伸范围位移。壳体驱动设备可以集成到封闭单元中，尤其是集成到馈通件轴承中。壳体驱动设备能够实现壳体清洁的自动化。
根据本申请的一方面，至少一个壳体清洁单元被设计用于清洁螺杆机的灯笼状齿轮。优选地，至少一个壳体清洁单元固定地布置在灯笼状齿轮中或者能够可逆地插入到灯笼状齿轮中。有利地，这确保灯笼状齿轮也可以可靠地不受污染物影响。
螺杆机优选地具有供给料斗，其用于供给介质，尤其用于计量介质(介质借助螺杆机待被输送)。介质例如可以是塑料介质，尤其是颗粒形态。壳体清洁装置可以具有用于经由供给料斗供给清洁介质的料斗供给装置。可以经由共同的供应装置向料斗供给装置和至少一个壳体清洁单元供应清洁介质。尤其是，料斗供给装置和至少一个清洁单元与同一供应装置流体导通地连接。因此可以特别可靠且高效地清洁螺杆机的供给料斗。
根据权利要求2所述的壳体清洁装置确保对壳体进行特别可靠的清洁。优选地，可以经由至少一个壳体清洁喷嘴排放一种以上清洁介质。优选地，至少一个壳体清洁单元包括至少两个具有不同喷嘴形状的壳体清洁喷嘴。
至少一个壳体清洁喷嘴的喷嘴形状可以是环形的，尤其是圆形的或槽形的。
支撑单元可以具有用于引导至少一种清洁介质的集成管线。为此，支撑单元可以被设计为空心杆和/或管。至少一个壳体清洁喷嘴可以与支撑单元流体导通地连接。因此，壳体清洁装置特别容易操作。
根据权利要求3所述的壳体清洁装置确保对壳体进行特别频繁的清洁。至少一个壳体清洁喷嘴附接至支撑单元，优选地是以旋转方式驱动的。至少一个壳体清洁喷嘴可以是被电机驱动的。替代地，至少一个壳体清洁喷嘴借助于清洁介质的流动，尤其是借助于清洁介质的排放，是可旋转驱动的。为此，至少一个壳体清洁喷嘴可以被设计成，使得在排放清洁介质时提供关于壳体喷嘴轴线的扭矩，至少一个壳体清洁喷嘴围绕该壳体喷嘴轴线可旋转地安装。
根据权利要求4所述的壳体清洁装置确保对壳体进行改进的清洁。壳体接触清洁元件可以被设计成清洁刷和/或清洁海绵和/或用于去除顽固污渍的清洁链和/或用于从清洁介质中筛出污染物的清洁筛和/或清洁布和/或去尘胶(pull-off lip)，尤其是用于将潮湿的表面拖干。设计成清洁刷的壳体接触清洁元件可以设计成实心刷和/或螺旋形螺旋刷，尤其是具有连续的刷梳和/或彼此间隔开的刷束。优选地，设计成清洁刷的壳体接触清洁元件被与处理元件轴的螺杆元件相似地配置。优选地，相互间隔开的支撑单元的清洁刷被设计成使得他们在壳体的清洁过程中以擦拭的方式彼此接触，尤其彼此接合。优选地，壳体接触清洁元件被设计成使得清洁刷可以根据壳体的污染程度相互组合，尤其可以以模块化和/或可逆的方式与支撑单元连接。例如，相对软的清洁刷可用于壳体的输送区，而较硬的清洁刷可用于壳体的熔化区。为了同时对输送区和熔化区进行清洁，可以将较软和较硬的刷子彼此相距一定距离附接至支撑单元。至少一个壳体接触清洁元件可以具有塑料材料和/或金属，尤其是有色金属，尤其是黄铜和/或铜。
根据本申请的一方面，至少一个壳体接触清洁元件相对于至少一个支撑单元能够位移，尤其是能够旋转。例如，至少一个壳体接触清洁元件可以配置为可旋转的清洁辊。
根据本申请的另一方面，壳体清洁装置具有至少两个壳体接触清洁元件。他们可以围绕在横向方向上彼此间隔开的轴线可旋转地安装。优选地，至少两个壳体接触清洁元件被设计为彼此紧密啮合和/或彼此穿透。有利地，这确保至少两个壳体接触清洁元件对彼此进行清洁。
根据本申请的一方面，壳体清洁装置具有至少一个配置为壳体清洁喷嘴的壳体清洁单元和至少一个配置为壳体接触清洁元件的壳体清洁单元。优选地，至少一个壳体清洁喷嘴沿纵向轴线布置在与至少一个壳体接触清洁元件相同的高度处。
根据权利要求5所述的壳体清洁装置可以特别便宜地制造。联结部分优选地被设计用于与传递灯中的灯笼状联结器扭矩传递连接。联结部分可以形成为花键连接。壳体驱动设备可以完全由螺杆机的轴驱动器形成。可以节省用于使得支撑单元和/或至少一个壳体清洁单元相对于壳体进行位移的附加部件。
根据本申请的一方面，联结部分和/或灯笼状联结器被配置为提供对连接到其上的支撑单元和/或壳体清洁装置的特定设计的自动检测。这使得螺杆机，尤其是螺杆机的控制装置能够自动检测壳体清洁装置的连接。可根据壳体清洁装置的特定设计自动选择清洁程序。螺杆机的操作参数可以相应地被预设，尤其是出于安全原因而受到限制。
根据权利要求6所述的壳体清洁装置确保对壳体进行特别可靠且频繁的清洁。为了以旋转方式驱动支撑单元，支撑单元可以以扭矩传递的方式连接到轴驱动器和/或壳体驱动设备，如上所述。替代地，旋转所需的扭矩可以通过经由至少一个壳体清洁喷嘴排放清洁介质来提供。
根据权利要求7所述的壳体清洁装置能够以特别灵活的方式应用并且能够易于维护。由于至少一个壳体清洁单元可以借助至少一个支撑联结器可逆地附接至支撑单元这一事实，至少一个壳体清洁单元可以根据相应的清洁过程的要求进行调整。例如，可以选择至少一个壳体清洁单元，使得其尺寸安全地确保容易插入到壳体中并可靠地清洁壳体。尤其是，连接到支撑单元的至少一个壳体接触清洁元件可以被配置为与壳体可靠地接合。优选地，至少一个支撑联结器无需工具即可松开。优选地，至少一个支撑联结器包括机械连接器和/或至少一个用于引导至少一种清洁介质的流体导通连接器。
根据权利要求8所述的壳体清洁装置可以特别容易且安全地在壳体中位移。通过形成具有导向单元的壳体清洁装置，能够可靠地防止壳体清洁装置撞击壳体。导向单元可以是接触式或非接触式设计。根据本申请的一方面，导向单元可以由壳体接触清洁元件形成，尤其是作为清洁刷。壳体接触清洁元件，尤其是清洁刷，可以配置成在壳体中对壳体清洁装置进行导向，尤其是同心地进行导向。接触导向单元可以具有导向体，用于在壳体中机械地对壳体清洁装置，尤其是支撑单元进行导向。导向体优选地具有中心凹部，支撑单元穿过该中心凹部。导向体可以配置成圆盘形和/或星形。优选地，导向体具有排液槽，至少一种清洁介质可通过该排液槽沿纵向轴线流出。
设计为非接触式的导向单元确保通过排放至少一种清洁介质对支撑单元进行导向。为此，导向单元可以具有用于排放清洁介质的导向喷嘴。导向喷嘴可以被设计为壳体清洁喷嘴。由于支撑单元在壳体中的非接触式导向，减少了内壁上的机械应力。可以可靠地防止对壳体的损伤。
根据权利要求9所述的壳体清洁装置可以特别灵活且成本效益高地运行。可逆可互连的支撑模块可以具有不同的尺寸。尤其是，支撑模块可以具有不同的壳体清洁单元。可以更换单个支撑模块使得壳体清洁装置能够适应相应的清洁要求，以及由于磨损而更换单个支撑模块。
根据本申请的一方面，支撑单元可具有从主支撑模块分支出来的至少一个分支支撑模块。
根据权利要求10所述的壳体清洁装置在使用中特别灵活。具有与纵向轴线横向隔开一段距离布置的壳体清洁单元的壳体清洁装置可以灵活地应用于不同内径的壳体，其中纵向轴线和壳体清洁单元之间的距离是可调节的。优选地，至少两个壳体清洁单元，尤其是在直径上彼此相对的至少两个壳体清洁单元，可以与纵向轴线横向隔开一段可调节的距离而布置在支撑单元上。有利地，这允许同时对螺杆机的多个壳体孔进行清洁。至少两个壳体清洁单元可以优选地布置在支撑单元处，使得两个壳体清洁单元之间的距离对应于壳体孔的中心纵向轴线之间的距离。因此，壳体清洁装置被设计用于对多轴螺杆机进行高效清洁。
根据本申请的一方面，壳体清洁装置被配置用于非旋转对称地清洁壳体。这使得能够以高效的方式清洁多轴螺杆机，尤其是多个壳体孔。
根据权利要求11所述的壳体清洁装置确保在壳体中对至少一种清洁介质进行可靠运送。为了沿着纵向轴线输送污染物，至少一个壳体清洁喷嘴可以具有至少部分地在纵向轴线方向，尤其在流出方向，尤其是排放开口的方向上定向的喷射方向。至少一个壳体清洁喷嘴也可以与螺杆机的输送方向相反地定向。因此，可以高效地浸泡污染物。至少一个壳体清洁喷嘴优选横向于支撑单元的纵向延伸定向，以便污染物可靠地从壳体中松脱。根据本申请的另一方面，至少一个壳体接触清洁元件，尤其是清洁刷和/或去尘胶(pull-offlip)，以螺旋形的方式配置，尤其是具有输送节距。螺旋形的壳体接触清洁元件优选具有至少一个，尤其是至少两个，尤其是至少三个螺纹。当至少一个壳体接触清洁元件旋转时，可以由此输送清洁介质，尤其是在流出的方向上，尤其是在排放开口的方向上。
优选地，至少一个壳体清洁单元，尤其是壳体接触清洁元件和/或壳体清洁喷嘴，设计用于将壳体清洁装置相对螺杆机的壳体位移，尤其是线性位移和/或旋转。例如，壳体清洁喷嘴可以定向成使得通过所述壳体清洁喷嘴施加的流体质量流引起使壳体清洁装置相对壳体位移的脉冲。壳体接触清洁元件可以被配置成使得基于壳体接触清洁元件与壳体的接触，借助于壳体驱动设备的壳体清洁装置的位移引起壳体清洁装置相对壳体的位移。例如，为此，壳体清洁单元可以包括倾斜定向的清洁刷和/或在位移方向上定向的壳体清洁喷嘴。
根据权利要求12所述的壳体清洁装置可以特别经济地运行。壳体控制装置可以与至少一个流入阀和至少一个流出阀信号连通，用于控制经由至少一个壳体清洁喷嘴排放的清洁介质的质量流。进一步地，壳体控制装置可以与壳体驱动设备信号连通，用于支撑单元相对壳体的自动位移。壳体控制装置也可以与至少一个壳体接触清洁元件的驱动器和/或用于输送清洁介质的泵信号连通。因此可以以特别节省成本和时间的方式对壳体进行清洁。
本申请的目的还在于创建一种用于清洁螺杆机的至少一个处理元件轴的轴清洁装置，轴清洁装置可用于现有的螺杆机并确保以特别可靠的方式清洁处理元件轴，且易于维护。
通过具有权利要求13的特征的轴清洁装置来实现该目的。根据本申请的轴清洁装置的优点对应于所描述的壳体清洁装置的优点。尤其是，至少一个轴清洁单元可以进一步发展为具有至少一个壳体清洁单元的特征。
优选地，清洁腔室具有至少一个，尤其至少两个，尤其至少三个，尤其至少四个清洁部分。优选地，清洁部分通过腔室密封件以流体密封或液体密封的方式彼此分开。腔室密封件可被设计为密封帘。
根据本申请的另一方面，轴清洁装置可被配置为接收至少一个处理元件轴而并不相对清洁腔室位移。优选地，至少一个轴清洁单元被配置为使得其相对至少一个处理元件轴和/或清洁腔室是可位移的。例如，至少一个轴清洁单元可以被设计为沿着腔室纵向轴线和/或围绕腔室纵向轴线，尤其是围绕处理元件轴，尤其是以圆形和/或螺旋的方式是可位移的。因此可以特别频繁且可靠地进行处理元件轴的清洁。
根据本申请的一方面，清洁腔室具有至少一个观察窗。通过观察窗，可以监控处理元件轴的清洁状态。清洁腔室可具有用于由用户手动清洁的手通道，尤其是密封的手通道。为此，轴清洁装置可以具有轴清洁单元，可以将轴清洁单元相对至少一个处理元件轴手动位移。
根据权利要求14所述的轴清洁装置确保特别彻底地清洁至少一个处理元件轴。优选地，至少一个轴清洁喷嘴可以进一步发展为具有至少一个壳体清洁喷嘴的特征。
根据权利要求15所述的轴清洁装置可以特别经济地运行。轴驱动装置可以被设计用于至少一个处理元件轴相对清洁腔室平移的和/或旋转的位移。例如，处理元件轴可以借助轴驱动装置以纯旋转的方式位移，尤其是围绕清洁腔室的腔室纵向轴线位移。替代地，至少一个处理元件轴可以借助轴驱动装置相对清洁腔室平移地位移。尤其是，轴驱动装置可以被配置为在清洁过程中使处理元件轴移动穿过清洁腔室，尤其移动穿过多个清洁部分。由于轴清洁装置形成有轴驱动装置，至少一个处理元件轴的清洁可以自动化。
根据权利要求16所述的轴清洁装置确保特别彻底地清洁至少一个处理元件轴。可靠地防止了由于与湿气相关的腐蚀而对处理元件轴施加的应力。在至少一个湿式清洁部分中，液体清洁介质被施加到处理元件轴上。在至少一个干式清洁部分中，在不使用液体清洁介质的情况下清洁处理元件轴。尤其是，至少一个干式清洁部分被配置为对处理元件轴进行干燥。为此，轴清洁装置可以在干式清洁部分的区域中具有至少一个干燥风机。
至少一个轴清洁单元可以具有至少一个轴接触清洁元件。至少一个轴接触清洁元件可以进一步发展为具有至少一个壳体接触清洁元件的特征。优选地，至少一个轴接触清洁元件可以被以旋转方式驱动。尤其是，至少一个轴接触清洁元件可以被配置为清洁刷，尤其是与至少一个处理元件轴紧密啮合的清洁刷。根据本申请的一方面，至少一个轴清洁单元在干式清洁部分中具有呈清洁刷形式的至少一个轴接触清洁单元。
根据本申请的另一方面，轴清洁装置被配置为在至少一个清洁部分中仅排放清水。轴清洁装置还可以被配置为在至少一个清洁部分中排放含有碱和/或酸和/或清洁颗粒的清洁介质。优选地，湿式清洁部分包括，尤其依次包括浸泡部分和/或清洁部分和/或清水冲洗部分。轴清洁装置也可以被设计用于完全的干式清洁。为此，轴清洁装置可以被设计用于排放气态的清洁介质，尤其是设有清洁颗粒的清洁介质，和/或被设计具有，尤其是仅具有用于接触清洁处理元件轴的至少一个轴接触清洁元件。
根据权利要求17所述的轴清洁装置可以特别灵活且经济地运行。优选地，至少两个可逆地可互连的腔室模块均被设计为形成至少一个，尤其是至少两个清洁部分。有利地，这确保可以根据至少一个处理元件轴的长度灵活地调整清洁腔室。此外，不同的清洁功能可以相互组合。可以更换单个腔室模块，以易于维护。
本申请的目的还在于创建一种用于螺杆机的清洁系统，清洁系统可以灵活地用于不同的螺杆机并且确保特别彻底地清洁螺杆机。
通过具有权利要求18的特征的清洁系统来实现该目的。根据本申请的清洁系统的优点对应于已经描述的壳体清洁装置和轴清洁装置的优点。基于具有供应装置的清洁系统的设计，可以可靠地确保提供至少一种清洁介质。可以可靠地防止接口问题。
根据本申请的一方面，供应装置被配置为提供至少两种清洁介质。优选地，至少两种，尤其是至少三种，尤其是至少四种清洁介质在组成方面不同。此外，供应装置可以被配置为控制至少一种清洁介质的压力和/或温度。尤其是，供应装置可以被设计为提供上述清洁介质中的至少一种。
优选地，供应装置被设计为环路供应装置。环路供应装置的特征在于，将至少一种清洁介质循环地供应给壳体清洁装置和/或轴清洁装置。这种供应装置可以以特别经济且环保的方式运行。
供应装置可以被设计用于清洁介质的机械和/或化学和/或生物处理。尤其是，用于处理清洁介质的供应装置可以具有清洁单元，尤其是过滤器和/或油分离器和/或用于化学清洁的清洁元件。这允许从至少一种清洁介质中移除污染物。
根据权利要求19所述的清洁系统可以特别经济地运行。污染传感器例如可以被设计为光学传感器和/或电导传感器和/或pH值传感器和/或粘度传感器和/或压力传感器和/或流量传感器，尤其是流速传感器。借助pH值传感器，可以检测清洁介质的碱性或酸性到什么程度。已知pH值，可借助供应装置控制和/或调节向清洁介质供应包含碱或酸的清洁剂。基于清洁介质的粘度值和/或压力值和/或流量值，供应装置可以控制和/或调节清洁介质的液体供应和/或输送，尤其是输送泵的运行。此外，供应装置可以被设计为将借助污染传感器确定的测量值与极限值进行比较，以便在超出极限值时执行保护功能，尤其是警告功能和/或封闭功能。优选地，污染传感器布置在供应装置的入口区域中，清洁介质在该入口区域中未被清洁。污染传感器也可以布置在壳体清洁装置和/或轴清洁装置的出口处。这允许特别可靠地得出螺杆机的污染状态。替代地，污染传感器可以布置在供应装置的上游。因此，可以得出清洁介质的污染等级。供应装置还可以具有多个污染传感器。供应装置可以被设计为确保基于测量值更换清洁介质。
根据权利要求20所述的清洁系统确保螺杆机的可靠清洁并且可以特别经济地运行。优选地，控制装置与壳体控制装置和/或轴控制装置信号连通。清洁功能例如可以包括支撑单元和/或至少一个壳体清洁单元相对壳体的和/或处理元件轴相对清洁腔室和/或至少一个轴清洁单元的确定位移移动。进一步地，这些清洁功能可以包括用于排放至少一种清洁介质的特定顺序，尤其是在特定压力和/或温度下排放至少一种清洁介质的特定顺序。尤其是，清洁功能可以被设计用于排放不同的清洁介质，尤其是不同组合的清洁介质。可以根据清洁介质的污染程度终止清洁，从而实现最佳清洁时长。
本申请的目的还在于创建一种用于清洁螺杆机的方法，用于清洁螺杆机的方法适用于对不同螺杆机灵活清洁并确保对螺杆机特别可靠且经济的清洁。
通过具有权利要求21的特征的方法来实现该目的。根据本申请的方法的优点对应于已经描述的壳体清洁装置、轴清洁装置和清洁系统的优点。
根据本申请的一方面，可以浸泡壳体和/或至少一个处理元件轴。为此，将具有液体成分的清洁介质施加到处理元件轴和/或壳体的内壁上。尤其是在确定的暴露时间之后，可以进行壳体和/或至少一个处理元件轴的清洁。有利地，这确保即使是特别强烈粘附的污染物也能够可靠地松脱。
根据本申请的一方面，加热壳体和/或清洁腔室。优选地，在浸泡和/或清洁期间进行加热。这可以进一步改善清洁结果。
可以借助至少一个壳体清洁单元和/或至少一个轴清洁单元来执行壳体和/或至少一个处理元件轴的清洁。
根据权利要求22至24的方法确保对螺杆机进行可靠且经济的清洁。优选地，根据测量值函数，尤其是测量值的变化来确定清洁过程的时长。因此，可以根据螺杆机的实际污染状态函数来控制清洁强度和/或清洁工作。
可以完全干燥地清洁壳体和/或处理元件轴，即无需液体清洁介质。
根据本申请的一方面，通过用至少一种清洁介质，尤其是液体清洁介质对壳体进行至少20％，尤其至少40％，尤其至少60％，尤其至少80％，尤其是完全的填充，来执行壳体的清洁。
根据本申请的一方面，支撑单元仅基于经由至少一个壳体清洁喷嘴排放的清洁介质的流动而位移，尤其沿着纵向轴线位移。
附图说明
从以下几个实施例的描述中，本申请的其他特征、优点和细节将是显而易见的。附图为：
图1示出了具有用于清洁螺杆机壳体的壳体清洁装置和供应装置的清洁系统的示意图，其中壳体清洁装置具有带有壳体清洁喷嘴的壳体清洁单元，
图2示出了根据另一个实施例所述的具有壳体清洁装置的清洁系统的示意图，其中壳体清洁装置具有带有壳体接触清洁元件的壳体清洁单元，
图3示出了根据另一个实施例所述的具有壳体清洁装置的清洁系统的示意图，其中壳体清洁装置具有带有用于与驱动设备连接的联结部分的支撑单元，
图4示出了根据另一个实施例所述的壳体清洁装置，其中用于清洁多轴螺杆机壳体的壳体清洁装置具有与支撑单元的纵向轴线径向间隔开的两个壳体清洁单元，以及
图5示出了轴清洁装置的示意图，其中轴清洁装置被设计用于清洁螺杆机的处理元件轴。
具体实施方式
参考图1，描述了用于螺杆机2的清洁系统1的第一实施例。清洁系统1被设计用于清洁螺杆机2的处理部件，尤其是螺杆机2的壳体3。为此，清洁系统1包括壳体清洁装置4和用于提供清洁介质R的供应装置5。
螺杆机2具有轴驱动器6。轴驱动器6包括驱动齿轮。轴驱动器6的驱动齿轮与灯笼状齿轮7连通。灯笼状齿轮7包括灯笼状联结器8，用于将驱动齿轮的驱动轴可逆地、扭矩传递连接至图5中所示的处理元件轴9。螺杆机2具有第二处理元件轴(未示出)，处理元件轴可经由第二灯笼状联结器和驱动齿轮的第二驱动轴被以旋转方式驱动。处理元件轴9被配置有用于扭矩传递连接至驱动轴的轴联结部分10。为了清洁螺杆机，将处理元件轴9从壳体3中移除。
壳体3在灯笼状齿轮7的一侧借助灯密封件11以流体密封的方式密封。壳体3的与灯笼状齿轮7相对的排放开口借助封闭单元12密封。壳体3具有供给料斗13，用于借助螺杆机2供给待输送的介质。
壳体清洁装置4具有支撑单元14和壳体清洁单元15。支撑单元14被设计为刚性支撑杆。壳体清洁单元15可以借助支撑联结器16可逆地连接到支撑单元14。尤其是，壳体清洁单元15可以无需工具就从支撑单元14上移除。
壳体清洁单元15包括用于排放清洁介质R的多个壳体清洁喷嘴17。为了将清洁介质R供应到壳体清洁单元15，支撑单元14包括流体通道(未示出)。
壳体清洁单元15相对支撑单元可旋转地安装到支撑单元14。尤其是，壳体清洁单元15围绕支撑单元14的纵向轴线18可旋转地安装。单个壳体清洁喷嘴17被配置为使得壳体清洁喷嘴相对壳体喷嘴基体19可旋转地安装。尤其是，这些壳体清洁喷嘴17围绕壳体喷嘴轴线20可旋转地安装。
封闭单元12具有支撑单元馈通件21。为了流体密封地封闭壳体3，封闭单元12包括与支撑单元14配合的馈通件密封件22。为了对支撑单元14进行导向，封闭单元12包括馈通件轴承23。馈通件轴承23是导向单元24的部分，用于在壳体3中对支撑单元14进行轴向导向。在壳体清洁单元15的一侧，导向单元24被设计为非接触式。在此通过排放清洁介质R来确保在壳体3中对支撑单元14进行轴向导向。由此，壳体清洁单元15非接触式支撑在壳体3上。
一些壳体清洁喷嘴17具有在封闭单元12的方向上的定向。这确保清洁介质R和污染物在封闭单元12的方向上沿着纵向轴线18被输送。壳体清洁装置4具有壳体驱动设备25。壳体驱动设备25与支撑单元14可操作地连接以相对壳体3平移和旋转的位移。尤其是，支撑单元14借助壳体驱动设备25沿着纵向轴线18是可位移的并且围绕纵向轴线18是可旋转的。为此，壳体驱动设备25具有电动机(未示出)。
支撑单元14具有可逆地可互连的支撑模块26。支撑模块26借助模块联结器27彼此连接。
壳体清洁装置4还包括壳体控制装置28，用于自动控制支撑单元14相对壳体3的位移并且用于控制经由壳体清洁喷嘴17排放的清洁介质R的质量流。为此，壳体控制装置28与壳体驱动设备25信号连通。进一步地，壳体控制装置28与壳体清洁装置4的流入阀29和流出阀30信号连通。流入阀29与支撑单元14流体导通地连接并且流出阀30与封闭单元12的流出管线31流体导通地连接。
壳体清洁装置4与供应装置5连接。供应装置5具有泵32和处理装置33。泵32被设计为将清洁介质R从壳体3中抽吸出来并且提供用于经由壳体清洁喷嘴17排放清洁介质R的输送压力。
处理装置33包括过滤单元(未示出)，用于从清洁介质R中过滤出污物颗粒。污染传感器34布置在处理装置33处。污染传感器34被设计为检测与清洁介质R的污染程度相关的测量值。
泵32和污染传感器34与清洁系统1的控制装置35信号连通。控制装置35被设计用于不同清洁功能和清洁时长的自动控制。为此，控制装置35也与壳体控制装置28信号连通。为了与壳体清洁装置4连接，供应装置5具有流出联结器36和流入联结器37。
清洁系统1或用于清洁螺杆机2的壳体3的壳体清洁装置4的运行模式如下：
在输送操作中，经由供给料斗13向螺杆机2供应有待输送的介质。处理元件轴9布置在壳体3中并且经由灯笼状齿轮7的灯笼状联结器8连接到轴驱动器6，使得处理元件轴可以被以旋转方式驱动。通过旋转地驱动处理元件轴9，介质在壳体3的供给开口和排放开口之间被输送。部分待输送的介质粘附并污染壳体3以及处理元件轴9。
为了清洁壳体3，将排放单元(未示出)从螺杆机2中移除并且将处理元件轴9从壳体3中取出。
壳体清洁单元15布置在壳体3处。封闭单元12以密封方式连接到壳体3而不是排放单元。支撑单元14突出穿过封闭单元12并且可以借助馈通件轴承23相对封闭单元沿着纵向轴线18位移。壳体清洁单元15附接至支撑单元14并且布置在封闭单元12的区域中。借助灯密封件11以流体密封的方式封闭灯笼状齿轮7。壳体清洁装置4经由流出联结器36和流入联结器37以流体导通的方式连接到供应装置5。
清洁过程由来自控制装置35的控制信号启动。激活泵32，并且在流入阀29处于压力下以清洁液体RF的形式提供清洁介质R。响应于来自控制装置35的信号，借助壳体控制装置28来打开流入阀29和流出阀30。清洁介质R经由支撑单元14到达壳体清洁单元15。清洁介质R经由壳体清洁喷嘴17被排放到壳体3中。基于被排放的清洁介质R，壳体清洁喷嘴17围绕壳体旋转轴线20旋转。由此将清洁介质R特别均匀地散布在壳体3的内壁38上。
在封闭单元12的方向上定向的壳体清洁喷嘴17支持清洁介质R经由流出管线31的流出。在壳体3中被排放的清洁介质R经由流出管线31和流出阀30以及流出联结器36返回至供应装置5。
控制装置35提供用于使支撑单元14相对壳体3位移的信号。借助壳体控制装置28，壳体驱动设备25被激活。供给运动从壳体驱动设备25被传递到支撑单元14。同时，围绕纵向轴线18的旋转移动从壳体驱动设备25被传递到支撑单元14。壳体清洁单元15在灯笼状齿轮7的方向上围绕纵向轴线18旋转位移。
根据存储在控制装置35中的控制程序，执行不同的清洁功能，其中壳体清洁单元15沿着纵向轴线交替位移，并且其中由泵32提供的用于经由壳体清洁喷嘴17排放清洁介质R的压力是变化的。
在清洁装置5中，清洁介质R首先被供给到处理装置33中。在处理装置33中，从壳体3中冲出的污物颗粒被过滤掉。不含污物颗粒的清洁介质被泵32吸入。
借助污染传感器34，检测与清洁介质R的污染程度相关的测量值。测量值用于确定壳体3的污染状态。基于污染状态，尤其是测量值来控制清洁过程，尤其是清洁强度和时长。
在完成清洁过程之后，停用泵32。将壳体清洁装置4从螺杆机2上移除。将处理元件轴9插入到壳体3中并连接到相应的灯笼状联结器8。将喷射头重新附接至壳体3。螺杆机2准备重新运作。
参考图2，描述了清洁系统1或壳体清洁装置4的另一个实施例。与之前的实施例相比，导向单元包括附接至支撑单元14的导向体39。导向体39以圆盘形的方式配置。支撑单元14在中心穿过导向体39并且固定地连接到导向体39。导向体39安装在内壁38上，以便可沿纵向轴线18位移。
除了壳体清洁喷嘴17之外，壳体清洁单元15包括壳体接触清洁元件40。壳体接触清洁元件40被设计为清洁刷。
根据上述实施例所述的清洁系统1的运行模式对应于根据之前描述的实施例所述的清洁系统1的运行模式。当支撑单元14沿着纵向轴线18位移时，由导向体39沿着内壁38以特别可靠的方式对壳体清洁单元15进行导向。尤其是，确保了壳体清洁单元15到内壁38的隔开导向，由此可以避免对壳体3和壳体清洁单元15的损伤。
当支撑单元14围绕纵向轴线18旋转时，壳体接触清洁元件40在内壁38上方移动。由此可靠地将牢固粘附的污物颗粒从内壁38上刷掉。借助壳体接触清洁元件40，壳体3的凹部和/或传感器表面，尤其是布置在凹部中的传感器的表面，也可以被可靠地清洁。
参考图3，描述了清洁系统1或壳体清洁装置4的另一个实施例。与前面的实施例相比，壳体清洁装置4不具有壳体驱动设备25。支撑单元14包括用于与轴驱动器6，尤其是与灯笼状联结器8连接的联结部分41。支撑单元14包括三个支撑模块26，支撑模块借助两个模块联结器27相互连接。具有壳体清洁喷嘴17的壳体清洁单元15布置在支撑模块26处，支撑模块布置在灯笼状齿轮7的一侧。两个布置在封闭单元12一侧的支撑模块26分别与壳体清洁单元15连接，壳体清洁单元15具有壳体清洁喷嘴17和壳体接触清洁元件40。
壳体控制装置28(用于控制支撑单元14围绕纵向轴线18进行旋转移动以及用于控制经由壳体清洁喷嘴17排放的清洁介质R的质量流)与轴驱动器6、流入阀29和流出阀30信号连通。
根据上述实施例的清洁系统1的运行模式对应于根据之前所述的实施例的清洁系统1的运行模式。为了组装支撑单元14，支撑模块26经由模块联结器27彼此连接。因此可以根据污染状态和壳体3的几何形状灵活地配置壳体清洁装置4。尤其是，根据壳体3沿着纵向轴线18的延伸并且根据壳体3的内径来选择附接有相应壳体清洁单元15的支撑模块26。
将壳体清洁装置4插入到壳体3中。联结部分41与灯笼状联结器8不可旋转地连接。经由来自控制装置35和壳体控制装置28的信号，支撑单元14借助轴驱动器6被以旋转方式驱动。由供应装置5提供的清洁介质R经由壳体清洁喷嘴17被排放到壳体3中。壳体接触清洁元件40移动到内壁38上方并且接触式地清洁内壁38。
参考图4，描述了壳体清洁装置4的另一个实施例。与前述实施例相比，支撑单元14具有与纵向轴线18径向间隔开的两个支撑臂42。支撑臂42在支撑单元14处沿直径彼此相对地布置。多个壳体清洁喷嘴17布置在各个支撑臂42上。壳体清洁喷嘴17均可围绕壳体喷嘴轴线20旋转地安装在壳体喷嘴基体19上。
壳体喷嘴基体19均借助一个支撑联结器16附接至支撑单元14的相应支撑臂42上。可以分别可变地调节支撑联结器16和纵向轴线18之间的径向距离D1、D2。为此，支撑臂42具有臂接合点43。支撑联结器16经由伸缩杆44彼此连接。伸缩杆44的长度是可变地可调节的且是可锁定的。
壳体清洁装置4具有用于沿着支撑单元14引导清洁介质R的管45。分配器46与流入阀29流体导通地连接。支撑联结器16借助管45以流体导通的方式连接到分配器46。
根据上述实施例的具有壳体清洁装置4的清洁系统1的运行模式对应于根据之前所述实施例示例的清洁系统1的运行模式。基于具有两个彼此间隔开的支撑臂42的支撑单元14的设计，壳体清洁装置4特别适用于清洁多轴螺杆机。优选地，相应的距离D1、D2被调节为使得其对应于壳体3的两个壳体孔的中心纵向轴线之间的距离。壳体3的两个壳体孔可以由此被同时清洁。支撑单元14可借助壳体驱动设备25沿纵向轴线18位移。壳体清洁喷嘴17围绕相应的壳体旋转轴线20的旋转确保对相应的内壁38进行可靠的清洁。
被污染的或有缺陷的壳体清洁喷嘴17可以通过拆下相应的支撑联结器16而被特别容易地更换。尤其是，适合于相应的应用区域的壳体清洁喷嘴17可以附接至支撑单元14。
参考图5，描述了清洁系统1的另一个实施例。与之前的实施例相比，清洁系统1包括用于清洁螺杆机2的处理元件轴9的轴清洁装置47。轴清洁装置47包括清洁腔室48和布置在清洁腔室48中的多个轴清洁单元49。清洁腔室48的内部空间50的尺寸被设计成使得可以对相应的处理元件轴9进行导向通过清洁腔室的内部空间。清洁腔室48具有多个清洁部分51a、51b、51c、51d。清洁部分51a、51b、51c、51d借助腔室密封件52彼此隔开。腔室密封件52确保相应的清洁部分51a、51b、51c、51d在最大可能程度上与飞溅水隔绝。
轴清洁装置47包括轴驱动设备53，用于使处理元件轴9相对清洁腔室48位移，尤其位移通过内部空间50。轴驱动设备53被设计为带式输送机。
清洁腔室48在第一清洁部分51a中沿输送方向54具有配置有轴清洁喷嘴55的轴清洁单元49。在沿输送方向54下游布置的清洁部分51b中，布置有多个轴清洁单元49。这些轴清洁单元49包括轴清洁喷嘴55和轴接触清洁元件56。轴接触清洁元件56被设计为旋转驱动的清洁刷，尤其是刷辊。随后的清洁部分51c中的轴清洁单元49具有轴清洁喷嘴55。在最后的清洁部分51d中，轴清洁单元49被设计为干燥风机57，用于干燥位移通过清洁腔室48的处理元件轴9。
轴清洁单元49与轴控制装置58(用于自动控制处理元件轴9相对清洁腔室48的位移)信号连通，用于控制轴清洁单元49并用于控制经由轴清洁喷嘴55排放的清洁介质R的质量流。壳体控制装置与流入阀29(用于供给不同的清洁介质R)和流出阀30(用于使负载有污物颗粒的清洁介质R流出)信号连通。
轴清洁装置47与供应装置5(未示出)连接。为此，壳体控制单元与控制装置35信号连通。流入阀29与流入联结器37流体导通地连接，并且流出阀30与流出联结器36流体导通地连接。与前面的实施例相比，供应装置5具有用于提供清水的附加管线。附加管线经由附加的供给联结器37与第三清洁部分51c的轴清洁喷嘴55流体导通地连接。
设计将清洁腔室48细分为多个清洁部分51a、51b、51c、51d，以用于不同清洁过程的空间上的分离执行。第一清洁部分51a被设计为浸泡部分。第二清洁部分51b被配置为喷射和接触清洁部分。第三清洁部分51c被设计为冲洗部分，用于用清水冲洗处理元件轴9并用于移除清洁介质。第四清洁部分51d被设计用于干燥处理元件轴9。
清洁腔室48以模块化的方式配置。为此，清洁腔室48包括四个可逆地可互连的腔室模块59。腔室模块59沿纵向的腔室轴线60彼此连接。基于模块化设计，清洁腔室48可以灵活地适应于处理元件轴9的几何形状，尤其是长度。取决于处理元件轴9的性质，也可以根据腔室模块的清洁功能来选择腔室模块59。例如，设计为湿式清洁部分的清洁部分51a、51b、51c可以由纯干式清洁部分代替。
带有轴清洁装置47的清洁系统1的运行模式如下：
如上所述，将相应的处理元件轴9首先从螺杆机2上移除。将处理元件轴9供给到轴驱动设备53。轴驱动设备53借助轴控制装置58被激活。处理元件轴9被引入清洁腔室48的内部空间50中。轴控制装置58提供信号以打开流入阀29和流出阀30，并且清洗介质R经由轴清洁喷嘴55被排放到内部50中。轴控制装置58提供用于激活轴接触清洁元件56的旋转驱动的信号。
处理元件轴9沿着腔室纵向轴线60位移通过清洁腔室48。在第一清洁部分51a中，处理元件轴9施加有用于浸泡污染物的清洁介质R。在第二清洁部分51b中，借助设计为旋转清洁刷的轴接触清洁元件56以及借助轴清洁喷嘴55来清洁处理元件轴9。在第三清洁部分51c中，用经由轴清洁喷嘴55排放的清水来净化清洁介质R。在第四清洁部分51d中，借助干燥风机57来干燥处理元件轴9。从清洁腔室48中输送出的处理元件轴9被清洗并被干燥。
根据供应装置5和控制装置35的运行模式，如上所述，可以对应于处理元件轴9的污染状态来控制清洁过程，尤其是清洁强度和时长。
带有壳体清洁装置4或轴清洁装置47的清洁系统1确保了对壳体3或螺杆机2的相应处理元件轴9进行特别高效且可靠的清洁。带有供应装置5的清洁系统1的设计允许对壳体3和处理元件轴9进行环保且节省资源的清洁。
Claims (24)
1.一种用于清洁螺杆机壳体的壳体清洁装置，具有
-相对于所述壳体(3)能位移的支撑单元(14)，以及
-附接至所述支撑单元(14)的至少一个壳体清洁单元(15)，用于清洁所述壳体(3)的内壁(38)，
-其中至少一个所述壳体清洁单元(15)能可逆地插入到所述壳体(3)中。
2.根据权利要求1所述的壳体清洁装置，其特征在于，至少一个所述壳体清洁单元(15)具有至少一个壳体清洁喷嘴(17)，用于排放至少一种清洁介质(R)。
3.根据权利要求2所述的壳体清洁装置，其特征在于，至少一个所述壳体清洁喷嘴(17)相对所述支撑单元(14)可旋转地安装。
4.根据前述权利要求中任一项所述的壳体清洁装置，其特征在于，至少一个所述壳体清洁单元(15)具有与所述支撑单元(14)连接的至少一个壳体接触清洁元件(40),用于接触清洁所述壳体(3)。
5.根据前述权利要求中任一项所述的壳体清洁装置，其特征在于，所述支撑单元(14)具有用于与所述螺杆机(2)的轴驱动器(6)连接的联结部分(41)。
6.根据前述权利要求中任一项所述的壳体清洁装置，其特征在于，所述支撑单元(14)被设计为相对于所述壳体(3)可旋转地安装。
7.根据前述权利要求中任一项所述的壳体清洁装置，其特征在于，设有至少一个支撑联结器(16)，用于将至少一个所述壳体清洁单元(15)与所述支撑单元(14)可逆地连接。
8.根据前述权利要求中任一项所述的壳体清洁装置，其特征在于，设有导向单元(24)，用于在所述壳体(3)上对所述支撑单元(14)进行轴向地导向。
9.根据前述权利要求中任一项所述的壳体清洁装置，其特征在于，所述支撑单元(14)被设计为是模块化的，并且为此具有至少两个支撑模块(26)，所述支撑模块(26)沿着所述支撑单元(14)的纵向轴线(18)能可逆地彼此连接。
10.根据前述权利要求中任一项所述的壳体清洁装置，其特征在于，所述支撑单元(14)具有调节元件(44)，所述调节元件(44)被设计为使得至少一个所述壳体清洁单元(15)在横向上与所述支撑单元(14)的纵向轴线(18)以可调节的距离(D)能布置在所述支撑单元(14)处。
11.根据前述权利要求中任一项所述的壳体清洁装置，其特征在于，至少一个所述壳体清洁单元(15)被设计为沿着所述支撑单元(14)的纵向轴线(18)输送污染物。
12.根据前述权利要求中任一项所述的壳体清洁装置，其特征在于，设有壳体控制装置(28)，用于自动控制所述支撑单元(14)相对于所述壳体(3)的位移和/或被引入到所述壳体(3)中的至少一种清洁介质(R)的质量流。
13.一种用于清洁螺杆机的至少一个处理元件轴的轴清洁装置，具有
-清洁腔室(48)，在所述清洁腔室(48)中能布置有至少一个处理元件轴(9)，以及
-布置在所述清洁腔室(48)中的至少一个轴清洁单元(49)。
14.根据权利要求13所述的轴清洁装置，其特征在于，至少一个所述轴清洁单元(49)具有至少一个轴清洁喷嘴(55)，用于排放至少一种清洁介质(R)。
15.根据权利要求13或14所述的轴清洁装置，其特征在于，设有轴驱动设备(53)，用于相对于至少一个所述轴清洁单元(49)位移所述处理元件轴(9)。
16.根据权利要求13至15中任一项所述的轴清洁装置，其特征在于，设有至少一个湿式清洁部分(51a，51b，51c)和/或至少一个干式清洁部分(51d)。
17.根据权利要求13至16中任一项所述的轴清洁装置，其特征在于，所述清洁腔室(48)被设计为是模块化的并且为此具有至少两个腔室模块(59)，所述腔室模块(59)沿着所述清洁腔室(48)的腔室纵向轴线(60)能够可逆地彼此连接。
18.一种清洁系统，具有
-用于提供至少一种清洁介质(R)的供应装置(5)，以及
-根据权利要求1至12中任一项所述的壳体清洁装置(4)和/或根据权利要求13至17中任一项所述的轴清洁装置(47)。
19.根据权利要求18所述的清洁系统，其特征在于，所述供应装置(5)具有污染传感器(34)，用于检测与至少一种清洁介质(R)的污染程度相关的测量值。
20.根据权利要求18或19所述的清洁系统，其特征在于，设有控制装置(35)，用于自动控制清洁功能和/或清洁时长。
21.一种用于清洁螺杆机的方法，包括如下步骤：
-提供带有壳体(3)和至少一个处理元件轴(9)的螺杆机(2)，
-提供根据权利要求1至12中任一项所述的壳体清洁装置(4)和/或根据权利要求13至17中任一项所述的轴清洁装置(47)，
-将至少一个所述处理元件轴(9)从所述壳体(3)上移除，
-清洁所述壳体(3)和/或至少一个所述处理元件轴(9)，其中至少一个所述处理元件轴(9)布置在所述壳体(3)外部。
22.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，经由至少一个壳体清洁喷嘴(17)和/或至少一个轴清洁喷嘴(55)排放至少一种清洁介质(R)。
23.根据权利要求21或22所述的方法，其特征在于，确定与至少一种清洁介质(R)的污染程度相关的测量值。
24.根据权利要求23所述的方法，其特征在于，根据所述测量值控制清洁过程。
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