CN113555403A - 一种显示面板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及其制作方法,属于显示技术领域。所述显示面板包括:衬底,所述衬底包括显示区,所述显示区包括指纹识别区;像素定义层,所述像素定义层设置于所述衬底上,所述像素定义层限定出多个像素开口区,位于所述指纹识别区的像素定义层的相邻像素开口区之间设有透光区;减反射膜层,所述减反射膜层设置于所述指纹识别区且位于所述像素定义层背离所述衬底一侧,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影与所述透光区在所述衬底上的正投影重叠。在本申请实施例中,通过将反射光线穿过的部分膜层替换为减反射膜层,可以有效增加反射光线的透过率,提升屏下光学指纹识别的灵敏度。
Description
技术领域
本申请属于显示技术领域,具体涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
目前,由于OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光半导体)屏幕可以主动发光,故在OLED屏幕中往往会使用屏下光学式指纹识别。屏下光学式指纹识别具体原理如下:手指按压屏幕时,OLED屏幕发出光线将手指区域照亮,照亮指纹的反射光线透过屏幕子像素的间隙返回到紧贴于屏下的传感器上。但是,从指纹位置传递过来的反射光线会经过OLED器件中的很多膜层,由于部分膜层透光率较差,容易对指纹识别效果产生不良影响,出现指纹识别能力差、不灵敏等现象,若使手机指纹识别区域一直发强光,也会增加显示功耗,且影响屏幕寿命。
发明内容
本申请实施例的目的是提供一种显示面板及其制作方法,能够解决现有的屏下指纹识别方案中由于部分膜层透光率较差,容易对指纹识别效果产生不良影响,指纹识别能力差、不灵敏的问题。
为了解决上述技术问题,本申请是这样实现的:
第一方面,本申请实施例提供了一种显示面板,包括:
衬底,所述衬底包括显示区,所述显示区包括指纹识别区;
像素定义层,所述像素定义层设置于所述衬底上,所述像素定义层限定出多个像素开口区,位于所述指纹识别区的像素定义层的相邻像素开口区之间设有透光区;
减反射膜层,所述减反射膜层设置于所述指纹识别区且位于所述像素定义层背离所述衬底一侧,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影与所述透光区在所述衬底上的正投影重叠。
可选的,所述显示面板还包括:
发光层,所述发光层至少部分位于所述像素定义层的像素开口区内;
第一公共层,所述第一公共层设置于所述发光层背离所述衬底一侧,所述第一公共层的位于所述指纹识别区的部分设有镂空区,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影位于所述镂空区在所述衬底上的正投影内。
可选的,所述第一公共层包括电子传输层、电子注入层中的至少一者。
可选的,所述减反射膜层与所述第一公共层同层设置,且所述第一公共层与所述减反射膜层在垂直于所述衬底的方向上的厚度相同。
可选的,所述减反射膜层采用SiN、ZnS、SiO2、SiC、MgF、AZO、ITO中的至少一者制备。
第二方面,本申请实施例提供了一种显示面板的制作方法,所述方法包括:
提供一衬底,所述衬底包括显示区,所述显示区包括指纹识别区;
在所述衬底上形成像素定义层,所述像素定义层限定出多个像素开口区,位于所述指纹识别区的像素定义层的相邻像素开口区之间设有透光区;
在所述像素定义层背离所述衬底一侧形成减反射膜层,所述减反射膜层设置于所述指纹识别区,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影与所述透光区在所述衬底上的正投影重叠。
可选的,所述在所述像素定义层背离所述衬底一侧形成减反射膜层之前,所述方法还包括:
形成至少部分位于所述像素定义层的像素开口区内的发光层;
在所述发光层背离所述衬底一侧形成第一公共层,所述第一公共层的位于所述指纹识别区的部分设有镂空区,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影位于所述镂空区在所述衬底上的正投影内。
可选的,所述第一公共层包括电子传输层、电子注入层中的至少一者。
可选的,所述减反射膜层与所述第一公共层同层设置,且所述第一公共层与所述减反射膜层在垂直于所述衬底的方向上的厚度相同。
可选的,所述减反射膜层采用超高真空化学气相沉积UHVCVD工艺制备。
在本申请实施例中,通过将反射光线穿过的部分膜层替换为减反射膜层,可以有效增加反射光线的透过率,提升屏下光学指纹识别的灵敏度。
附图说明
图1为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图2为本申请实施例提供的一种显示面板的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
本申请的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便本申请的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施,且“第一”、“第二”等所区分的对象通常为一类,并不限定对象的个数,例如第一对象可以是一个,也可以是多个。此外,说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一,字符“/”,一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
下面结合附图,通过具体的实施例及其应用场景对本申请实施例提供的显示面板和电子设备进行详细地说明。
请参考图1,图1为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图1所示,本申请实施例提供了一种显示面板,所述显示面板包括衬底101、像素定义层104以及减反射膜层106;其中,衬底101包括显示区,而所述显示区包括指纹识别区,可选的,所述指纹识别区可以是所述显示区的部分区域或者全部;所述像素定义层104设置于衬底101上,像素定义层104限定出多个像素开口区,而位于所述指纹识别区的像素定义层104的相邻像素开口区之间设有透光区,所述透光区用于透过手指反射回来的光线,以实现指纹识别,可选的,所述透光区可以是像素定义层104的相邻像素开口区之间的部分区域或者全部区域,所述透光区可以采用在像素定义层104的相邻像素开口区之间开设通孔的形式形成,也可以直接将像素定义层104的相邻像素开口区之间的部分设置为透明材料形成;所述减反射膜层106设置于所述指纹识别区内,并且,减反射膜层106位于所述像素定义层104背离所述衬底101的一侧,所述减反射膜层106在衬底101上的正投影与所述透光区在衬底101上的正投影重叠,也就是说,手指反射回来的光线先穿过减反射膜层106,再穿过所述透光区,而由于将所述透光区正对区域的膜层设置为减反射膜层106,因此可以有效提高反射光线的透过率,从而提高屏下指纹识别的灵敏度。
由此,在本申请实施例中,通过将反射光线穿过的部分膜层替换为减反射膜层,可以有效增加反射光线的透过率,提升屏下光学指纹识别的灵敏度。
本申请的一些实施例中,所述显示面板还包括发光层105和第一公共层107,其中,所述发光层105至少部分位于所述像素定义层104所限定出的像素开口区内,可选的,位于所述像素开口区内的发光层105的材料可以发出红光、绿光、蓝光、白光中的任一者,从而,通过在多个像素开口区内填充可以发出不同颜色光的材料,以进一步形成红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素、白色子像素等;而所述第一公共层107则设置于所述发光层105背离所述衬底101一侧,所述第一公共层107的位于所述指纹识别区的部分设有镂空区,所述减反射膜层106在所述衬底101上的正投影位于所述镂空区在所述衬底101上的正投影内,由此,所述镂空区即可用于容纳所述减反射膜层106。
在本申请的另一些实施例中,所述第一公共层107包括电子传输层、电子注入层中的至少一者,所述减反射膜层106与所述第一公共层107同层设置,且所述第一公共层107与所述减反射膜层106在垂直于所述衬底101的方向上的厚度相同。也就是说,所述第一公共层107仅为电子传输层、也可以仅为电子注入层,还可以包括电子传输层和电子注入层;而减反射膜层106与第一公共层107同层设置,在所述指纹识别区内,减反射膜层106和第一公共层107的图案形状互补,从而,既确保了像素的发光单元结构的完整,也即通过使电子传输层和电子注入层位于发光层105的上方以向发光层105传输注入电子,确保发光层105的发光效果,也确保了反射光的穿透率,也即发光层105发出的光经按压在显示面板上的手指114反射后无需穿过第一公共层107(第一公共层107的光线透过率低),而是穿过减反射膜层106,从而提高了反射光的穿透率。而所述第一公共层107与所述减反射膜层106在垂直于所述衬底101的方向上的厚度相同,可以提高显示面板的平整度,也即提高后续膜层形成时的平坦度。
在本申请的另一些实施例中,所述减反射膜层106采用SiN、ZnS、SiO2、SiC、MgF、AZO、ITO中的至少一者制备。也就是说,减反射膜层106的材料可以是SiN、ZnS、SiO2、SiC、透明薄膜MgF、掺铝氧化锌AZO、氧化铟锡ITO中的任一者,或者多者结合;由此,减反射膜层106可以减少或消除器件光学表面的反射光,增加透光量,减少或消除杂散光。
本申请的一些实施例中,衬底101与像素定义层104之间还沿背离衬底101的方向上依次设置有阳极102和第二公共层103,第二公共层103可以包括空穴注入层和空穴传输层。在第一公共层107背离衬底101的一侧还沿背离衬底101的方向依次设置有阴极108、封盖层(CPL,Capping Layer)109、封装层110、贴合层111、柔性层112和盖合透镜层113,其中,阴极108、第一公共层107、发光层105、第二公共层103以及阳极102构成完整的发光单元。
在本申请的另一些实施例中,所述显示面板还包括光学指纹识别模组201,所述光学指纹识别模组201设置于所述衬底101背离所述像素定义层104的一侧,所述光学指纹识别模组201与所述指纹识别区正对设置。在发光层105受激发发光时,光线照射到按压在所述显示面板表面的手指114,而后反射回所述显示面板内,并经由减反射膜层106回到光学指纹识别模组201处,光学指纹识别模组201对接收到的反射光进行处理实现指纹识别。
在本申请实施例中,通过将像素定义层的相邻像素开口区之间的透光区正对的透光率不佳的第一公共层替换为透光率极佳的减反射膜层,从而有效增加了反射光线的透过率,提升了屏下光学指纹识别的灵敏度;而由于提高了反射光线的透过率,因此,在保证指纹识别能力的前提下,可以降低指纹识别区域的亮度,从而减少功耗,一定程度上也有助于提升指纹识别区域的寿命,减少烧屏等常见异常的发生。
请参考图2,图2为本申请实施例提供的一种显示面板的流程示意图。如图2所示,本申请的另一些实施例还提供了一种显示面板的制作方法,用于制作上述实施例中的显示面板,所述方法包括以下步骤:
步骤21:提供一衬底,所述衬底包括显示区,所述显示区包括指纹识别区;
步骤22:在所述衬底上形成像素定义层,所述像素定义层限定出多个像素开口区,位于所述指纹识别区的像素定义层的相邻像素开口区之间设有透光区;
步骤23:在所述像素定义层背离所述衬底一侧形成减反射膜层,所述减反射膜层设置于所述指纹识别区,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影与所述透光区在所述衬底上的正投影重叠。
在本申请实施例中,通过将反射光线穿过的部分膜层替换为减反射膜层,可以有效增加反射光线的透过率,提升屏下光学指纹识别的灵敏度。
本申请的一些实施例中,所述在所述像素定义层背离所述衬底一侧形成减反射膜层之前,所述方法还包括:
形成至少部分位于所述像素定义层的像素开口区内的发光层;
在所述发光层背离所述衬底一侧形成第一公共层,所述第一公共层的位于所述指纹识别区的部分设有镂空区,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影位于所述镂空区在所述衬底上的正投影内。
也就是说,在衬底101上形成了像素定义层104之后,先形成至少部分位于所述像素定义层的像素开口区内的发光层105,形成发光层105时可以使用高精度金属网状掩膜板遮挡材料蒸镀路径,确保将对应的材料蒸镀至对应的像素开口区;之后,再在发光层105背离所述衬底101一侧形成第一公共层107,也即,在发光层105真空热蒸镀完成后,使用高精度的金属网状掩膜板将指纹识别区中的所述像素定义层的相邻像素开口区之间的间隙位置处(即透光区)进行遮挡,来蒸镀第一公共层107,即蒸镀电子传输层和电子注入层;而后,再进行减反射膜层106的制备。
本申请的再一些实施例中,减反射膜层106采用超高真空化学气相沉积UHVCVD((Ultra high vacuum CVD)工艺制备。所谓CVD,即Chemical Vapor Deposition,气相沉积法;CVD工艺制作得到的薄膜形成方向性小,微观均匀性好,薄膜纯度高,残余应力小,延展性强,薄膜受到的辐射损伤较小。而本申请实施例中采用超高真空化学气相沉积工艺,相对于较低真空的化学气相沉积工艺,超高真空化学气相沉积工艺可以提供较高的真空,从而避免子像素被水、氧气等氧化的风险。
可选的,所述第一公共层包括电子传输层、电子注入层中的至少一者。
可选的,所述减反射膜层与所述第一公共层同层设置,且所述第一公共层与所述减反射膜层在垂直于所述衬底的方向上的厚度相同。
可以知道,本申请实施例中制备得到的显示面板与上述显示面板实施例中的显示面板的结构相同,且能达到相同的技术效果,为避免重复,这里不再赘述。本申请实施例中的制作方法可以增加相应步骤以制备相应结构,在此不再赘述。
在本申请实施例中,通过将像素定义层的相邻像素开口区之间的透光区正对的透光率不佳的第一公共层替换为透光率极佳的减反射膜层,从而有效增加了反射光线的透过率,提升了屏下光学指纹识别的灵敏度;而由于提高了反射光线的透过率,因此,在保证指纹识别能力的前提下,可以降低指纹识别区域的亮度,从而减少功耗,一定程度上也有助于提升指纹识别区域的寿命,减少烧屏等常见异常的发生。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。此外,需要指出的是,本申请实施方式中的方法和装置的范围不限按示出或讨论的顺序来执行功能,还可包括根据所涉及的功能按基本同时的方式或按相反的顺序来执行功能,例如,可以按不同于所描述的次序来执行所描述的方法,并且还可以添加、省去、或组合各种步骤。另外,参照某些示例所描述的特征可在其他示例中被组合。
上面结合附图对本申请的实施例进行了描述,但是本申请并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本申请的启示下,在不脱离本申请宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式,均属于本申请的保护之内。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底,所述衬底包括显示区,所述显示区包括指纹识别区;
像素定义层,所述像素定义层设置于所述衬底上,所述像素定义层限定出多个像素开口区,位于所述指纹识别区的像素定义层的相邻像素开口区之间设有透光区;
减反射膜层,所述减反射膜层设置于所述指纹识别区且位于所述像素定义层背离所述衬底一侧,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影与所述透光区在所述衬底上的正投影重叠。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:
发光层,所述发光层至少部分位于所述像素定义层的像素开口区内;
第一公共层,所述第一公共层设置于所述发光层背离所述衬底一侧,所述第一公共层的位于所述指纹识别区的部分设有镂空区,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影位于所述镂空区在所述衬底上的正投影内。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一公共层包括电子传输层、电子注入层中的至少一者。
4.根据权利要求2或3所述的显示面板,其特征在于,所述减反射膜层与所述第一公共层同层设置,且所述第一公共层与所述减反射膜层在垂直于所述衬底的方向上的厚度相同。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述减反射膜层采用SiN、ZnS、SiO2、SiC、MgF、AZO、ITO中的至少一者制备。
6.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一衬底,所述衬底包括显示区,所述显示区包括指纹识别区;
在所述衬底上形成像素定义层,所述像素定义层限定出多个像素开口区,位于所述指纹识别区的像素定义层的相邻像素开口区之间设有透光区;
在所述像素定义层背离所述衬底一侧形成减反射膜层,所述减反射膜层设置于所述指纹识别区,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影与所述透光区在所述衬底上的正投影重叠。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述在所述像素定义层背离所述衬底一侧形成减反射膜层之前,所述方法还包括:
形成至少部分位于所述像素定义层的像素开口区内的发光层;
在所述发光层背离所述衬底一侧形成第一公共层,所述第一公共层的位于所述指纹识别区的部分设有镂空区,所述减反射膜层在所述衬底上的正投影位于所述镂空区在所述衬底上的正投影内。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述第一公共层包括电子传输层、电子注入层中的至少一者。
9.根据权利要求7或8所述的方法,其特征在于,所述减反射膜层与所述第一公共层同层设置,且所述第一公共层与所述减反射膜层在垂直于所述衬底的方向上的厚度相同。
10.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述减反射膜层采用超高真空化学气相沉积UHVCVD工艺制备。
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