CN111162108A - 一种显示面板、其制作方法及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置，该显示面板，包括：衬底基板，第一电极层，第二电极层，激发光源层，封装层，位于第二电极层与封装层之间的光转换层；光转换层，包括：多个光转换结构；显示面板包括多个像素单元，且显示面板中的至少部分像素单元分别对应一个光转换结构；激发光源层，用于出射特定颜色的光线，并激发光转换结构发出对应颜色的光线；光转换层采用荧光材料制作。通过采用荧光材料制作光转换层，光转换层在制作过程中不会接触水汽和氧气，因而可以将光转换层设置在第二电极层与封装层之间，减小了激发光源层与光转换层之间的距离，避免了相邻像素单元之间容易产生串扰的现象，提高了显示面板的性能。

Description

一种显示面板、其制作方法及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤指一种显示面板、其制作方法及显示装置。
背景技术
有机电致发光显示器(Organic Light-Emitting Diode，OLED)由于具有亮度高、色彩饱和、轻薄、可弯曲等优点而受到了平板显示与照明领域的高度重视。
在OLED显示器的彩色显示对于显示质量具有非常大的影响，目前，可以通过激发光源激发量子点材料制作的光转换膜层，来实现不同颜色的出光，然而，由于量子点材料成膜过程中产生的水汽和氧气会对OLED显示器造成影响，因此，只能将光转换膜层制作于封装层的上方，造成激发光源与光转换膜层之间的距离太大，极易产生色串扰，影响产品性能。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板、其制作方法及显示装置，用以解决现有技术中存在的激发光源与光转换膜层之间的距离太大导致产品性能较差的问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上的第一电极层，位于所述第一电极层背离所述衬底基板一侧的第二电极层，位于所述第一电极层与所述第二电极层之间的激发光源层，位于所述第二电极层背离所述衬底基板一侧的封装层，位于所述第二电极层与所述封装层之间的光转换层；
所述光转换层，包括：多个光转换结构；
所述显示面板包括多个像素单元，且所述显示面板中的至少部分所述像素单元分别对应一个所述光转换结构；
所述激发光源层，用于出射特定颜色的光线，并激发所述光转换结构发出对应颜色的光线；
所述光转换层采用荧光材料制作。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述激发光源层，用于发出蓝色的光线；
所述光转换层中的多个所述转换结构分为第一光转换结构和第二光转换结构；
所述第一光转换结构，用于在所述激发光源层的激发下发出红色的光线；
所述第二光转换结构，用于在所述激发光源层的激发下发出绿色的光线。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述第二电极层包括氧化铟锌材料。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，还包括：位于所述第二电极层与所述封装层之间的光取出层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，还包括：位于所述封装层背离所述衬底基板一侧的遮光层；
所述遮光层包括用于分别暴露各所述像素单元的多个开口。
第二方面，本发明实施例还提供了一种上述显示面板的制作方法，包括：
在衬底基板上形成第一电极层；
在所述第一电极层之上形成所述激发光源层和所述第二电极层；
采用荧光材料在所述第二电极层之上形成光转换层；
在所述光转换层之上形成封装层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述采用蒸镀工艺在所述第一电极层之上形成所述激发光源层和所述第二电极层，包括：
采用蒸镀工艺并采用非精细金属掩膜版在所述第一电极层之上形成所述激发光源层；
采用蒸镀工艺并采用非精细金属掩膜版形成所述第二电极层；或，采用真空溅射工艺形成所述第二电极层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述在所述第二电极层之上形成光转换层，包括：
采用蒸镀工艺或喷墨打印工艺，在所述第二电极层之上形成所述光转换层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述采用荧光材料在所述第二电极层之上形成光转换层之后，所述在所述光转换层之上形成封装层之前，还包括：
采用蒸镀工艺在所述光转换层之上形成光取出层。
第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：上述显示面板。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置，该显示面板，包括：衬底基板，位于衬底基板之上的第一电极层，位于第一电极层背离衬底基板一侧的第二电极层，位于第一电极层与第二电极层之间的激发光源层，位于第二电极层背离衬底基板一侧的封装层，位于第二电极层与封装层之间的光转换层；光转换层，包括：多个光转换结构；显示面板包括多个像素单元，且显示面板中的至少部分像素单元分别对应一个光转换结构；激发光源层，用于出射特定颜色的光线，并激发光转换结构发出对应颜色的光线；光转换层采用荧光材料制作。本发明实施例提供的上述显示面板中，通过采用荧光材料制作光转换层，光转换层在制作过程中不会接触水汽和氧气，因而对显示面板的内部结构不会产生影响，从而可以将光转换层设置在第二电极层与封装层之间，减小了激发光源层与光转换层之间的距离，避免了相邻像素单元之间容易产生串扰的现象，提高了显示面板的性能。
附图说明
图1为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图；
图2为绿色荧光材料的吸收谱与蓝色激发光源层的发射谱示意图；
图3为本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法流程图。
具体实施方式
针对现有技术中存在的激发光源与光转换膜层之间的距离太大导致产品性能较差的问题，本发明实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置。
下面结合附图，对本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，如图1所示，包括：衬底基板10，位于衬底基板10之上的第一电极层11，位于第一电极层11背离衬底基板10一侧的第二电极层12，位于第一电极层11与第二电极层12之间的激发光源层13，位于第二电极层12背离衬底基板10一侧的封装层14，位于第二电极层12与封装层14之间的光转换层15；
光转换层15，包括：多个光转换结构151；
显示面板包括多个像素单元(如图1中的P_1、P_2和P_3)，且显示面板中的至少部分像素单元分别对应一个光转换结构151；
激发光源层13，用于出射特定颜色的光线，并激发光转换结构151发出对应颜色的光线；
光转换层15采用荧光材料制作。
本发明实施例提供的上述显示面板中，通过采用荧光材料制作光转换层，光转换层在制作过程中不会接触水汽和氧气，因而对显示面板的内部结构不会产生影响，从而可以将光转换层设置在第二电极层与封装层之间，减小了激发光源层与光转换层之间的距离，避免了相邻像素单元之间容易产生串扰的现象，提高了显示面板的性能。
本发明实施例提供的上述显示面板可以为有机电致发光显示面板，具体地，上述第一电极层11可以为阳极，第二电极层12可以为阴极；或者，上述第一电极层11可以为阴极，第二电极层12可以为阳极，此处不做限定，在本发明实施例中均以第一电极层11为阳极，第二电极层12为阴极为例进行说明。在具体实施时，第一电极层11可以采用氧化铟锡(Indium tin oxide，ITO)等透明导电材料制作，并且，第一电极层11还包括金属反射层，金属反射层可以采用银(Ag)等金属材料制作，第一电极层11可以为ITO-Ag-ITO的叠层结构。第二电极层12可以为半透明金属材料，例如可以采用镁、银或镁银合金等材料制作。
本发明实施例中，显示面板包括多个像素单元，例如图1中的像素单元P_1、P_2和P_3，本发明实施例中以像素单元P_1显示红色，像素单元P_2显示绿色，及像素单元P_3显示蓝色为例进行说明，在具体实施时，像素单元还可以显示其他颜色，例如黄色、白色等，此处不对像素单元的颜色进行限定。
本发明实施例中，显示面板中的至少部分像素单元分别对应一个光转换结构151，显示面板中其余的像素单元可以与激发光源层13对应，激发光源层13可以发出特定颜色的光线，以使对应的像素单元出射某种颜色的光线，并且，激发光源层13出射的光线还能够激发光转换结构151发出对应颜色的光线，以使光转换结构对应的像素单元能够出射相应颜色的光线，在具体实施时，可以根据实际需要的像素单元的颜色，来选择光转换结构151采用的具体荧光材料，以实现不同颜色的出光，从而实现显示面板的彩色显示。
对于传统的OLED显示面板来说，在制作有机发光层的蒸镀工艺过程中需要较多的高精度金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)，例如每种颜色的像素单元都需要一个掩膜版，并且，由于不同颜色的像素单元对应的光学腔长不同，例如通常光学腔长从大至小依次为：红色像素单元、绿色像素单元、蓝色像素单元，这就需要对红色像素单元和绿色像素单元进行膜层加厚，膜层加厚过程中也需要分别使用高精度金属掩膜版，高精度金属掩膜版是非常精细的掩膜版，其开口的尺寸与像素单元的尺寸相当，因而高精度金属掩膜版的制作成本较高，且掩膜版属于耗材，使用寿命与蒸镀的显示面板的数量呈正相关的关系，另外，使用高精度金属掩膜版进行的蒸镀工艺也比较复杂，因而，造成OLED显示器的制作成本较高。
而本发明实施例中，通过在第一电极层11和第二电极层12之间设置激发光源层13，激发光源层13可以采用有机发光材料制作，可以通过激发光源层13出射特定颜色的光线，并激发光转换结构151发出对应颜色的光线，其中，激发光源层13可以采用非精细金属掩膜版(Open Mask)，从而减少了FMM Mask的使用数量。Open Mask为大开口的掩膜版，OpenMask的开口可以与显示面板的尺寸相当，因而，Open Mask的制作成本会更低，且采用OpenMask进行蒸镀的工艺也比较简单，本发明实施例减少了FMM Mask的使用数量，大大降低了OLED显示器的制作成本。另外，对像素单元进行加厚工艺可以与光转换层的制作工艺共用掩膜版，从而进一步减少了FMM Mask的使用数量，进一步降低制作成本。
在此基础上，本发明实施例中，通过采用荧光材料制作光转换层15，在制作光转换层15的过程中不会接触水汽和氧气，因而光转换层15的制作工艺不会影响显示面板的内部结构，例如不会损伤有机功能层，因而，本发明实施例中，可以将光转换层设置在第二电极12与封装层14之间，从而可以减小激发光源层13与光转换层15之间的距离，避免了相邻像素单元之间容易产生串扰的现象，提高了显示面板的性能。具体地，封装层14可以包括交替层叠的有机层和无机层，且封装层14的厚度约为12μm，因而本发明实施例中，至少能使激发光源层13与光转换层15之间的距离减小12μm。
在一些实施例中，上述第二电极层12一般为半透明的，一般透过率大约为50％，显示面板在息屏状态时，外界光线会透过第二电极层12射向第一电极层11，第一电极层11通常具有较高的反射率，一般大于90％，因而，外界光线会被第一电极层11反射，而出现息屏状态下发亮的问题，本发明实施例中，通过在第二电极层12与封装层14之间设置光转换层15，光转换层15具有很强的光吸收作用，因而，在息屏状态下，外界光线会先射向光转换层15后，会被光转换层15吸收，从而发明实施例提供的显示面板还可以解决息屏状态下屏幕发亮的问题。
具体地，本发明实施例提供的上述显示面板中，同样参照图1，激发光源层13，用于发出蓝色的光线；
光转换层15中的多个转换结构151分为第一光转换结构(如图1中于像素单元P_1对应的光转换结构)和第二光转换结构如图1中于像素单元P_2对应的光转换结构)；
第一光转换结构，用于在激发光源层的激发下发出红色的光线；
第二光转换结构，用于在激发光源层的激发下发出绿色的光线。
由于蓝光的波长小于红光和绿光的波长，也就是说，蓝色的光线的能量更高，因而，蓝色的光线更容易激发光转换结构发出红光和绿光，使光转换的过程更容易。并且，经验证蓝光转换为红光和绿光的转换效率较高，图2中示出了绿色荧光材料的吸收谱与蓝色激发光源层的发射谱，图中曲线S1表示蓝色激发光源层的发射谱，曲线S2表示绿色荧光材料的吸收谱，从图中可以明显看出，蓝色激发光源层的发射谱的峰值位置与绿色荧光材料的吸收谱的峰值位置很近，因而，可以证明蓝光的转换效率较高。
在实际应用中，本发明实施例提供的上述显示面板中，上述第二电极层可以包括氧化铟锌(IZO)材料。由于IZO材料具有一定的封装效果，可以避免水汽和氧气侵入到内部的有机功能层，进一步保证光转换层不会损伤显示面板的内部结构。
为了提高显示面板的出光效率，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图1所示，还可以包括：位于第二电极层12与封装层14之间的光取出层16。
光取出层16可以采用高折射率的材料制作，从而可以避免光转换层15出射的光线发生全反射，从而起到提高光出射能力的作用。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示面板中，参照图1，还可以包括：位于封装层14背离衬底基板10一侧的遮光层17；
遮光层17包括用于分别暴露各像素单元的多个开口。
通过在封装层14背离衬底基板10的一侧设置遮光层17，可以避免相邻的像素单元之间发生串扰，也可以遮挡显示面板中的一些信号走线，提高显示面板的显示效果。
此外，如图1所示，上述显示面板，还可以包括：有机功能层18，有机功能层18可以包括空穴注入层(HIL)181、空穴传输层(HTL)182、电子阻挡层(EBL)183、空穴阻挡层(HBL)184、电子传输层(ETL)185等膜层。
第二方面，本发明实施例还提供了一种上述显示面板的制作方法，由于该制作方法解决问题的原理与上述显示面板相似，因此该制作方法的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法，如图3所示，包括：
S201、在衬底基板上形成第一电极层；
S202、在第一电极层之上形成激发光源层和第二电极层；
S203、采用荧光材料在第二电极层之上形成光转换层；
S204、在光转换层之上形成封装层。
本发明实施例提供的上述制作方法中，通过采用荧光材料制作光转换层，光转换层在制作过程中不会接触水汽和氧气，因而对显示面板的内部结构不会产生影响，从而可以将光转换层设置在第二电极层与封装层之间，减小了激发光源层与光转换层之间的距离，避免了相邻像素单元之间容易产生串扰的现象，提高了显示面板的性能。
具体地，本发明实施例提供的上述制作方法中，上述步骤S202，可以包括：
采用蒸镀工艺并采用非精细金属掩膜版(Open Mask)在第一电极层之上形成激发光源层；
采用蒸镀工艺并采用非精细金属掩膜版形成第二电极层；或，采用真空溅射工艺形成第二电极层。
参照图1可知，激发光源层13和第二电极层12均为整层设置，因而，可以采用OpenMask制作激发光源层和第二电极层，相比于采用FMM Mask，采用Open Mask制作激发光源层和第二电极层的工艺成本更低。具体地，可以采用镁、银等材料制作上述第二电极层。此外，第二电极层也可以采用真空溅射工艺制作，在真空溅射工艺过程中也无需采用FMM Mask，制作成本较低。
此外，在上述步骤S202中，还可以包括采用蒸镀工艺形成有机功能层中的各膜层，例如形成空穴注入层(HIL)181、空穴传输层(HTL)182、电子阻挡层(EBL)183、空穴阻挡层(HBL)184、电子传输层(ETL)185等膜层。
具体地，本发明实施例提供的上述制作方法中，上述步骤S203，可以包括：
采用蒸镀工艺或喷墨打印工艺，在第二电极层之上形成光转换层。
采用蒸镀工艺或喷墨打印工艺制作光转换层，在制作工艺过程中不会引入氧气和水汽，因而不会对显示面板内部的有机功能层产生影响，保证显示面板的内部结构不会受到损伤。为了形成光转换层中的各光转换结构，可以采用高精度金属掩膜版制作上述光转换层，且对光转换结构进行加厚的工艺过程可以与光转换层制作过程共用掩膜版，从而节省掩膜版。
进一步地，本发明实施例提供的上述制作方法中，在上述步骤S203之后，在上述步骤S204之前，还可以包括：
采用蒸镀工艺在光转换层之上形成光取出层。
通过在光转换层之上形成光取出层，可以避免光转换层出射的光线发生全反射，从而起到提高光出射能力的作用。
此外，在形成上述光取出层之后，还可以包括：在光取出层之上形成封装层，封装层包括层叠设置的无机层和有机层，其中无机层可以采用SiN、SiO、SiON等材料制作。在形成封装层之后，还可以包括：在封装层之上形成封装层。
第三方面，基于同一发明构思，本发明实施例提供一种显示装置，包括上述显示面板，该显示装置可以应用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。由于该显示装置解决问题的原理与上述显示面板相似，因此该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的上述显示面板、其制作方法及显示装置，通过采用荧光材料制作光转换层，光转换层在制作过程中不会接触水汽和氧气，因而对显示面板的内部结构不会产生影响，从而可以将光转换层设置在第二电极层与封装层之间，减小了激发光源层与光转换层之间的距离，避免了相邻像素单元之间容易产生串扰的现象，提高了显示面板的性能。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上的第一电极层，位于所述第一电极层背离所述衬底基板一侧的第二电极层，位于所述第一电极层与所述第二电极层之间的激发光源层，位于所述第二电极层背离所述衬底基板一侧的封装层，位于所述第二电极层与所述封装层之间的光转换层；
所述光转换层，包括：多个光转换结构；
所述显示面板包括多个像素单元，且所述显示面板中的至少部分所述像素单元分别对应一个所述光转换结构；
所述激发光源层，用于出射特定颜色的光线，并激发所述光转换结构发出对应颜色的光线；
所述光转换层采用荧光材料制作。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述激发光源层，用于发出蓝色的光线；
所述光转换层中的多个所述转换结构分为第一光转换结构和第二光转换结构；
所述第一光转换结构，用于在所述激发光源层的激发下发出红色的光线；
所述第二光转换结构，用于在所述激发光源层的激发下发出绿色的光线。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二电极层包括氧化铟锌材料。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：位于所述第二电极层与所述封装层之间的光取出层。
5.如权利要求1～4任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括：位于所述封装层背离所述衬底基板一侧的遮光层；
所述遮光层包括用于分别暴露各所述像素单元的多个开口。
6.一种如权利要求1～5任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成第一电极层；
在所述第一电极层之上形成所述激发光源层和所述第二电极层；
采用荧光材料在所述第二电极层之上形成光转换层；
在所述光转换层之上形成封装层。
7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述在所述第一电极层之上形成所述激发光源层和所述第二电极层，包括：
采用蒸镀工艺并采用非精细金属掩膜版在所述第一电极层之上形成所述激发光源层；
采用蒸镀工艺并采用非精细金属掩膜版形成所述第二电极层；或，采用真空溅射工艺形成所述第二电极层。
8.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述在所述第二电极层之上形成光转换层，包括：
采用蒸镀工艺或喷墨打印工艺，在所述第二电极层之上形成所述光转换层。
9.如权利要求6～8任一项所述的制作方法，其特征在于，所述采用荧光材料在所述第二电极层之上形成光转换层之后，所述在所述光转换层之上形成封装层之前，还包括：
采用蒸镀工艺在所述光转换层之上形成光取出层。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1～5任一项所述的显示面板。
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