CN113471256A - 显示面板及显示面板的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板及显示面板的制备方法。在支撑基板上形成第一缓冲层以及阻隔层，同时在阻隔层上制备第二缓冲层，并采用光罩工艺对第一缓冲层光照处理，从而使得第一缓冲层与阻隔层之间的粘附力下降，并继续制备形成第二缓冲层，其中，第二缓冲层为透明膜层。从而有效的提高了面板的透光性能及显示效果。

Description

显示面板及显示面板的制备方法
技术领域
本发明涉及显示面板制造的技术领域，特别是涉及一种显示面板及显示面板的制备方法。
背景技术
随着显示面板制造技术的不断提升，人们对显示面板及显示装置的质量以及使用性能的要求也越来越高。
当今，主流的显示屏主要有有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示屏以及液晶显示屏。其中，由于OLED显示屏的自发光性能，相比液晶显示屏省去了功耗高的背光模组，因此具有更节能环保的优点。同时，OLED显示屏还具有柔性可弯折等特点，因此，柔性OLED被广泛应用于各种设备之中。现有的柔性显示屏中，在制备形成OLED时，其柔性基板一般设置为双层聚酰亚胺膜层。而常用的聚酰亚胺膜层包括黄色聚酰亚胺和透明聚酰亚胺膜层，其中，黄色聚酰亚胺材料的热学性能、机械性能以及稳定性均较好。但是，由于黄色聚酰亚胺的光线透过率较低、黄值高等光学不足。因此，黄色聚酰亚胺膜层很难满足透明显示技术的需要。另一方面，若采用透明聚酰亚胺膜层，但是透明聚酰亚胺的热学性能和机械性能胶层，在现有制备技术中，很容易出现透明聚酰亚胺基板在高温时与其他膜层之间应力不匹配的问题，进而造成基板与其他膜层之间发生撕裂等问题，不利于OLED器件综合性能的提高。
综上所述，现有的OLED面板，在进行制备时，柔性聚酰亚胺基板不能很好的与其他膜层进行应力匹配，并且柔性膜层的透过率较低等问题。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板及显示面板的制备方法，以解决现有的OLED显示面板内的柔性的透光率较低，显示面板显示效果不理想等问题。
为解决上述技术问题，本发明实施例提供的技术方法如下：
本发明实施例的第一方面，提供了一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：
提供一支撑基板，在所述支撑基板上沉积并形成第一缓冲层；
在所述第一缓冲层上沉积并形成阻隔层；
提供一光罩，所述光罩包括透光区和遮光区，利用所述光罩对所述阻隔层和所述第一缓冲层进行光照处理，使所述透光区对应的所述第一缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力下降；
在所述阻隔层上沉积并形成第二缓冲层，并在所述第二缓冲层上制备形成薄膜晶体管器件层；
将所述支撑基板与所述第一缓冲层剥离，并使所述第一缓冲层与所述阻隔层分离。
根据本发明一实施例，所述第一缓冲层经过光照处理后，所述第一缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力小于所述第二缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力。
根据本发明一实施例，所述第二缓冲层的透光率大于所述第一缓冲层的透光率。
根据本发明一实施例，所述第一缓冲层为黄色聚酰亚胺膜层，所述第二缓冲层为透明聚酰亚胺膜层。
根据本发明一实施例，在对所述显示面板进行光罩处理过程中，照射光线为紫外光，所述紫外光的波长为300nm～400nm，照射的功率为0.1W～1W，在常温下照射8min～30min。
根据本发明一实施例，所述第二缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力为0.2N/cm～5N/cm，且所述第一缓冲层经光罩处理后，所述第一缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力小于0.2N/cm。
根据本发明一实施例，在制备形成所述第一缓冲层时，具体包括如下步骤：
将缓冲液涂布在所述支撑基板上，在370℃～460℃的温度下进行烘烤20min～80min，形成一膜层，并去除多余的缓冲液；
将所述支撑基板放入纯氮气中，使所述膜层发生缩合反应，并得到所述第一缓冲层。
根据本发明一实施例，在制备形成所述第二缓冲层时，还包括如下步骤：
将所述第二缓冲对应的缓冲也涂布在所述阻隔层上，并在50℃～460℃的温度下进行烘烤20min～35min，以形成一膜层，并去除多余的缓冲液；
将所述支撑基板放入纯氮气中，使所述膜层发生缩合反应，并得到所述第一缓冲层。
根据本发明一实施例，所述第一缓冲层剥离后，还包括如下步骤：
对所述显示面板进行切割，所述显示面板切割完成后，使所述第一缓冲层与所述阻隔层分离。
根据本发明实施例的第二方面，还提供一种显示面板，显示面板包括：
衬底；
薄膜晶体管器件层，所述薄膜晶体管器件层设置在所述衬底上；以及
封装层，所述封装层设置在所述薄膜晶体管器件层上；
其中，所述衬底包括阻隔层以及缓冲层，所述缓冲层设置在所述阻隔层上，所述缓冲层为透明膜层，且所述阻隔层和所述缓冲层通过本申请实施例中提供的制备方法制备得到。
综上所述，本发明实施例的有益效果为：
本发明实施例提供一种显示面板及显示面板的制备方法。其中，在制备过程中，首先在支撑基板上形成第一缓冲层，并在缓冲层上形成阻隔层，同时在阻隔层上制备第二缓冲层，第一缓冲层制备完成后，采用光罩工艺对第一缓冲层光照处理，从而使得第一缓冲层与阻隔层之间的粘附力下降，并继续制备形成第二缓冲层，其中，第二缓冲层为透明的膜层。最后在制备形成薄膜晶体管器件层以及封装层。当最终切割形成面板时，由于第一缓冲层与阻隔层之间的粘附力较小，并且第二缓冲层为透明膜层，从而有效的提高了面板的透光性能，并提高了面板的显示效果。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果更显而易见。
图1为本申请实施例提供的显示面板的膜层结构示意图；
图2为本申请实施例提供的显示面板的制备工艺流程示意图；
图3-图7为本申请实施例中提供的显示面板制备工艺对应的膜层结构示意图；
图8为本申请实施例中制备形成的显示面板的俯视图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
随着柔性显示面板应用范围的不断扩大，人们希望制备得到的显示面板具有较好的发光性能以及显示效果。而在制备形成显示面板过程中，面板内部的各层膜层对显示面板的发光效果起到了重要的作用。本发明实施例提供一种显示面板及显示面板的制备方法，通过改变显示面板内部的膜层结构以及膜层材料，以有效的提高显示面板的光线透过率，并提高显示面板的发光效果和改善显示面板的制备工艺。
如图1所示，图1为本申请实施例提供的显示面板的膜层结构示意图。显示面板包括衬底基板100、缓冲层101、薄膜晶体管器件层102以及封装层103。
具体的，缓冲层101设置在衬底基板100上，薄膜晶体管器件层102设置在缓冲层101上，且封装层103设置在薄膜晶体管器件层102上。
本申请实施例中，在设置缓冲层101时，缓冲层101设置为透明缓冲膜层。由于缓冲层101设置为透明膜层，因此，缓冲层101可有效地提高衬底基板100的光线透过率的要求，进而有效提高显示面板透明显示的要求。
具体的，在设置缓冲层101时，缓冲层101可设置为透明的聚酰亚胺，由于透明聚酰亚胺膜层的光线透过率高，并且透明聚酰亚胺膜层具有较好的弯折性能。因此，当光线透过聚酰亚胺膜层时，光线的透过率较高，从而有效的提高了显示面板的光线透过率以及显示效果。
本申请实施例中，为了进一步提高缓冲层101的光线透过率，缓冲层101的膜层厚度设置为6um～15um之间。优选的，缓冲层101的膜层厚度可设置为10um，从而在保证缓冲层101支撑效果的同时，不增加显示面板的厚度。
其中，缓冲层101还可设置为其他透明的膜层，通过将缓冲层101设置为透明膜层，从而有效的提高基板的透过率，进而达到提高显示面板透明显示的目的。其他透明膜层所起到的作用与本申请实施例中提供的透明聚酰亚胺膜层所起到的作用相同，不再详细赘述。
进一步的，如图2所示，图2为本申请实施例提供的显示面板的制备工艺流程示意图。显示面板的制备工艺包括如下步骤：
S100：提供一支撑基板，在所述支撑基板上沉积并形成第一缓冲层；
S101：在所述第一缓冲层上沉积并形成阻隔层；
S102：提供一光罩，所述光罩包括透光区和遮光区，利用所述光罩对所述阻隔层和所述第一缓冲层进行光照处理，使所述透光区对应的所述第一缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力下降；
S103：在所述阻隔层上沉积并形成第二缓冲层，并在所述第二缓冲层上制备形成薄膜晶体管器件层；
S104：将所述支撑基板与所述第一缓冲层剥离，并使所述第一缓冲层与所述阻隔层分离。
如图3-图7所示，图3-图7为本申请实施例中提供的显示面板制备工艺对应的膜层结构示意图，结合图3-7中的膜层结构对显示面板的制备工艺进行说明。
具体的，在显示面板的制备过程中，详见图3，首先提供一支撑基板300。本申请实施例中，支撑基板300可设置为玻璃基板，通过玻璃基板实现对其他膜层的支撑以及固定的作用。
支撑基板300设置完成后，再在该支撑基板300上设置第一缓冲层301。本申请实施例中，在设置第一缓冲层301时，将制备第一缓冲层301的材料沉积涂布在支撑基板300上。并将涂布的材料烘烤成膜，并最终形成本申请实施例中提供的第一缓冲层301。
具体的，本申请实施例中提供的第一缓冲层301以黄色聚酰亚胺膜层为例进行说明。在制备形成黄色聚酰亚胺膜层时，将预先制备的黄色聚酰胺酸溶液均匀的涂布在支撑基板300上。在涂布过程中，可采用旋转滴涂的工艺进行涂布。从而保证形成的膜层在支撑基板300各处的厚度的一致性。
涂布完成后，将涂布的溶液烘烤干燥，以使溶液最终形成本申请实施例中提供的第一缓冲层301。
具体的，在对溶液进行烘烤时，还包括如下步骤：
将涂布黄色聚酰胺酸溶液的支撑基板300转移至高纯氮气气氛中，并升高温度到370℃～460℃。本申请实施例中，将温度升高到370℃，并在370℃的温度下将该溶液烘烤80min，使溶液升温脱水并发生缩合反应，直至支撑基板300表面的溶液完全固化并形成本申请实施例中提供的第一缓冲层301。
优选的，在对支撑基板300上的溶液进行烘烤时，将支撑基板300转移至高纯氮气气氛中，并将温度升高到460℃，同时在460℃的温度下持续烘烤20min，至溶液完全固化并形成第一缓冲层301。
第一缓冲层301制备完成后，并将多余的溶液以及第一缓冲层301去除干净。
详见图4，继续制备阻隔层302。在第一缓冲层301上制备并形成阻隔层302。本申请实施例中，可将阻隔液直接涂布在第一缓冲层301上，并使其干燥，最终形成本申请中提高的阻隔层302。
其中，阻隔层302的材料可为无机材料，优选为SiNx等材料，以保证对外界的水汽、氧等物质的阻隔，防止外界的水汽等物质对显示面板造成影响，降低显示面板的综合性能。
优选的，在制备该阻隔层302时，还可直接制备形成好的阻隔层302贴合在第一缓冲层301上，制备完成后，第一缓冲层301与阻隔层302之间的粘附力为0.2N/cm～5N/cm，从而保证两膜层之间的粘附效果。
详见图5，阻隔层制备完成后，对显示面板进行光罩处理。通过光罩工艺，使显示面板内膜层之间的粘附力发生变化，进而改变各膜层之间的性能。
具体的，提供一光罩500，本申请实施例中，光罩500包括多个透光区502和遮光区501。当光线照射时，光线可从透光区502完全透过，而在遮光区501内，光线无法透过。因此，只有透光区502内对应的膜层的性能会发生变化。
在进行光照处理时，将光罩500放置在阻隔层302的上方，并向光罩500照射紫外光。为了提高紫外光对膜层的处理效果，本申请实施例中，照射的紫外光的波长选取300nm，同时，紫外光的照射功率选取为0.1W～1W。上述各项参数确定后，在常温下，照射30min。
照射完成后，由于第一缓冲层301在紫外光的作用下，其粘附性能会发生变化。具体的，在光照过程中，第一缓冲层301的光照区3012内的膜层的粘附性会发生变化，而在非光照区3011内的膜层的粘附性不会发生改变。因此，在透光区502对应区域内的第一缓冲层301的粘附力会减小，而遮光区501对应区域内的第一缓冲层301的粘附力不会发生变化。从而在第一缓冲层301的不同区域内形成不同的粘附力，以便后续对第一缓冲层301进一步处理。
优选的，在设置紫外光的各项参数时，紫外光的波长还可设置为400nm，照射功率设置为0.1W～1W，同时，在常温条件下，照射8min。以对第一缓冲层301完全进行处理。
本申请实施例中，光照处理完成后，透光区502内对应的第一缓冲层301与阻隔层302之间的粘附力小于0.2N/cm。这样，当后续对该区域内的膜层进行去除时，第一缓冲层301能较容易的从阻隔层302上脱离，进而有效的改善显示面板的制备工艺。
详见图6，光照处理完成后，继续制备其他膜层。本申请实施例中，在阻隔层302上制备并形成第二缓冲层303。
具体的，在制备形成第二缓冲层303时，将预先制备的透明聚酰胺酸溶液均匀的涂布在阻隔层302上。在涂布过程中，可采用旋转滴涂的工艺进行涂布。从而保证形成的膜层在阻隔层302各处的厚度的一致性。
涂布完成后，将涂布的溶液烘烤干燥，以使溶液最终形成本申请实施例中提供的第二缓冲层303，其中，形成的第二缓冲层303的膜层厚度为6um～15um。
具体的，在对溶液进行烘烤时，还包括如下步骤：
将涂布透明聚酰胺酸溶液的阻隔层302转移至高纯氮气气氛中，并升高温度到350℃～460℃。本申请实施例中，将温度升高到350℃，并在350℃的温度下将该溶液烘烤35min，使溶液升温脱水并发生缩合反应，直至阻隔层302表面的溶液完全固化并形成本申请实施例中提供的第二缓冲层303。
优选的，在对阻隔层302上的溶液进行烘烤时，还可将阻隔层302转移至高纯氮气气氛中，并将温度升高到460℃，同时在460℃的温度下持续烘烤20min或30min，至溶液完全固化并形成第二缓冲层303。
第二缓冲层303制备完成后，将多余的溶液以及不需要的部分第二缓冲层303去除干净，并最终形成本申请实施例中所需的透明膜层。当光线照射时，显示面板具有最大的光线透过率，从而有效的提高显示面板的显示效果。
本申请实施例中，第二缓冲层303的透光率大于第一缓冲层301的透光率。
详见图7所示，第二缓冲层303制备完成后，继续制备其他膜层。本申请实施例中，在透光区502对应的第二缓冲层303上制备并形成薄膜晶体管器件层700。而在遮光区对应的第二缓冲层303上不设置薄膜晶体管器件层700。薄膜晶体管器件层700设置完成后，再在薄膜晶体管器件层700上设置封装层等保护膜层，因此，本申请实施例中制备形成的显示面板内的膜层不仅具有黄色聚酰亚胺的热学性能、机械性能与稳定性，且后期可去除，膜层之间的应力匹配性较好，并且显示面板具有较高的光透过率。
如图8所示，图8为本申请实施例中制备形成的显示面板的俯视图。其中，第一区域800对应于支撑基板300以及设置在支撑基板300上的第一缓冲层301区域内的膜层。第二区域802对应于阻隔层302以及设置在阻隔层302上的第二缓冲层303区域内的膜层。同时，第三区域801对应于显示面板的薄膜晶体管器件层。
在本申请实施例中，第一区域800的面积大于第二区域802的面积，且第二区域802的面积大于第三区域801的面积，并且，在对显示面板进行光罩处理时，其掩膜板的结构与本申请实施例中图8的结构相对应，从而保证光罩处理的效果。
在支撑基板300上制备完成各膜层结构后，对该支撑基板进行切割。具体的，在切割时，沿着第三区域801对应的边缘进行切割，切割完成后，形成多个所需大小的显示面板。
当切割完成后，继续对显示面板进行处理。由于本申请实施例中需要将多余的膜层去除掉，具体的，需要将制备过程中形成的支撑基板以及第一缓冲层去除。由于第三区域801经过光照处理后，在第三区域801内的第一缓冲层与阻隔层之间的粘附力降低，因此，可通过激光剥离工序将支撑基板与第一缓冲层剥离，并且将第一缓冲层与阻隔层进行剥离。并最终形成本申请实施例中的显示面板，其中，显示面板内部的第二缓冲层为透明膜层，进而有效的提高了显示面板的光线透过率，提高了显示面板的显示效果。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及显示面板的制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供一支撑基板，在所述支撑基板上沉积并形成第一缓冲层；
在所述第一缓冲层上沉积并形成阻隔层；
提供一光罩，所述光罩包括透光区和遮光区，利用所述光罩对所述阻隔层和所述第一缓冲层进行光照处理，使所述透光区对应的所述第一缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力下降；
在所述阻隔层上沉积并形成第二缓冲层，并在所述第二缓冲层上制备形成薄膜晶体管器件层；
将所述支撑基板与所述第一缓冲层剥离，并使所述第一缓冲层与所述阻隔层分离。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一缓冲层经过光照处理后，所述第一缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力小于所述第二缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二缓冲层的透光率大于所述第一缓冲层的透光率。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一缓冲层为黄色聚酰亚胺膜层，所述第二缓冲层为透明聚酰亚胺膜层。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在对所述显示面板进行光罩处理过程中，照射光线为紫外光，所述紫外光的波长为300nm～400nm，照射的功率为0.1W～1W，在常温下照射8min～30min。
6.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力为0.2N/cm～5N/cm，且所述第一缓冲层经光罩处理后，所述第一缓冲层与所述阻隔层之间的粘附力小于0.2N/cm。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在制备形成所述第一缓冲层时，具体包括如下步骤：
将缓冲液涂布在所述支撑基板上，在370℃～460℃的温度下进行烘烤20min～80min，形成一膜层，并去除多余的缓冲液；
将所述支撑基板放入纯氮气中，使所述膜层发生缩合反应，并得到所述第一缓冲层。
8.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在制备形成所述第二缓冲层时，还包括如下步骤：
将所述第二缓冲对应的缓冲也涂布在所述阻隔层上，并在350℃～460℃的温度下进行烘烤20min～35min，以形成一膜层，并去除多余的缓冲液；
将所述支撑基板放入纯氮气中，使所述膜层发生缩合反应，并得到所述第一缓冲层。
9.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一缓冲层剥离后，还包括如下步骤：
对所述显示面板进行切割，所述显示面板切割完成后，使所述第一缓冲层与所述阻隔层分离。
10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：
衬底；
薄膜晶体管器件层，所述薄膜晶体管器件层设置在所述衬底上；以及
封装层，所述封装层设置在所述薄膜晶体管器件层上；
其中，所述衬底包括阻隔层以及缓冲层，所述缓冲层设置在所述阻隔层上，所述缓冲层为透明膜层，且所述阻隔层和所述缓冲层通过如权利要求1～9中任一项所述的制备方法制备得到。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102810512A (zh) * 2012-07-16 2012-12-05 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示器件的制造方法
CN103515542A (zh) * 2012-06-25 2014-01-15 三星显示有限公司 供体基板、用其激光诱导热成像及制造oled装置的方法
US20140042662A1 (en) * 2011-04-15 2014-02-13 Toyobo Co., Ltd. Laminate, production method for same, and method of creating device structure using laminate
CN108428666A (zh) * 2018-03-29 2018-08-21 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 柔性tft背板的制作方法及柔性tft背板
JP6376271B1 (ja) * 2017-12-08 2018-08-22 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 フレキシブルデバイス用積層体の製造方法
CN109087932A (zh) * 2018-06-26 2018-12-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性基板的剥离方法与显示面板
JP2019137865A (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 大日本印刷株式会社 ポリイミド組成物、ポリイミド組成物の製造方法、ポリイミドフィルムの製造方法、積層体の製造方法、ディスプレイ用光学部材の製造方法、タッチパネル部材の製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
CN110234687A (zh) * 2017-01-25 2019-09-13 住友化学株式会社 聚酰亚胺系膜及层叠体
CN110783347A (zh) * 2019-10-12 2020-02-11 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及其制备方法
CN111725277A (zh) * 2020-06-11 2020-09-29 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7279063B2 (en) * 2004-01-16 2007-10-09 Eastman Kodak Company Method of making an OLED display device with enhanced optical and mechanical properties
JP2006236626A (ja) * 2005-02-22 2006-09-07 Shinshu Univ 電極層付き可撓性樹脂フィルムの製造方法
CN106887407B (zh) * 2017-01-11 2019-03-29 瑞声科技（南京）有限公司 柔性电子器件及其制造方法
CN107039594A (zh) * 2017-04-14 2017-08-11 京东方科技集团股份有限公司 柔性显示面板的封装方法、柔性显示面板及显示装置
CN109841734B (zh) * 2019-03-28 2021-04-02 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示面板的制备方法、柔性显示面板及显示装置
CN111584504B (zh) * 2020-05-11 2023-10-27 合肥维信诺科技有限公司 显示面板及其制备方法
CN111951680B (zh) * 2020-08-20 2022-09-30 京东方科技集团股份有限公司 一种胶膜、柔性显示面板、制作方法以及胶膜去除方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140042662A1 (en) * 2011-04-15 2014-02-13 Toyobo Co., Ltd. Laminate, production method for same, and method of creating device structure using laminate
CN103619591A (zh) * 2011-04-15 2014-03-05 东洋纺株式会社 层叠体、其制造方法以及使用该层叠体的器件结构体的制作方法
CN103515542A (zh) * 2012-06-25 2014-01-15 三星显示有限公司 供体基板、用其激光诱导热成像及制造oled装置的方法
CN102810512A (zh) * 2012-07-16 2012-12-05 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示器件的制造方法
CN110234687A (zh) * 2017-01-25 2019-09-13 住友化学株式会社 聚酰亚胺系膜及层叠体
JP6376271B1 (ja) * 2017-12-08 2018-08-22 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 フレキシブルデバイス用積層体の製造方法
JP2019137865A (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 大日本印刷株式会社 ポリイミド組成物、ポリイミド組成物の製造方法、ポリイミドフィルムの製造方法、積層体の製造方法、ディスプレイ用光学部材の製造方法、タッチパネル部材の製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
CN108428666A (zh) * 2018-03-29 2018-08-21 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 柔性tft背板的制作方法及柔性tft背板
CN109087932A (zh) * 2018-06-26 2018-12-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性基板的剥离方法与显示面板
CN110783347A (zh) * 2019-10-12 2020-02-11 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及其制备方法
CN111725277A (zh) * 2020-06-11 2020-09-29 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置

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