CN113351422A - 涂布模具 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种涂布模具，其包括上模头及与上模头相对设置的下模头。上模头和下模头之间形成涂布区域，下模头开设有与涂布区域相连通的第一缓冲槽。其中，第一缓冲槽的侧壁上开设有多个收容槽。下模头上活动设置有与多个收容槽相对应的多个调节机构，多个调节机构沿下模头的长度方向间隔排列。每个调节机构包括调节块及连接杆，调节块滑动收容于相应收容槽中，连接杆与调节块相连接并伸出下模头外。采用本申请的涂布模具，通过控制所述调节块的移动，可使涂膜的横向厚度达到一致。
Description
技术领域
本申请涉及电池制造技术领域，尤其涉及一种电极极片涂布模具。
背景技术
电池生产过程中的一道重要工序是将阴阳极浆料涂布在集流体表面。现有一种涂布设备，其设置有一个或两个大容积的缓冲槽，并由中心进行供料。然而，浆料由中心供料到所述缓冲槽中后，其由中心往两侧流动，导致压力衰减，在进行宽幅涂布时，涂膜横向出现厚度从中间往两边逐渐减薄的问题，导致横向一致性较差。
发明内容
基于以上现有技术的不足，本申请提供一种涂膜厚度横向一致性较好的涂布模具。
本申请实施方式提供一种涂布模具，其包括上模头及与上模头相对设置的下模头。上模头和下模头之间形成涂布区域，下模头开设有与涂布区域相连通的第一缓冲槽。其中，第一缓冲槽的侧壁上开设有多个收容槽。下模头上活动设置有与多个收容槽相对应的多个调节机构，多个调节机构沿下模头的长度方向间隔排列。每个调节机构包括调节块及连接杆，调节块滑动收容于相应收容槽中，连接杆与调节块相连接并伸出下模头外。
本申请实施方式提供的涂布模具，通过活动设置在下模头上的多个调节机构，可对涂膜横向任一处的厚度进行局部调节，以使涂膜横向各处的厚度保持一致，提高了涂膜的横向一致性。
根据本申请一可选实施方式，下模头包括面向上模头的表面，收容槽邻近下模头的表面设置，以提高调节块调节其对应位置处的浆料的流动阻力的敏感性。
根据本申请一可选实施方式，下模头还开设有与涂布区域相连通的第二缓冲槽，第二缓冲槽与第一缓冲槽在下模头的宽度方向上间隔设置。通过设置第二缓冲槽，可消除因多个调节块边缘错位导致的速度阶跃问题。
根据本申请一可选实施方式，涂布区域包括与第一缓冲槽相对应的第一部分以及与第二缓冲槽相对应的第二部分。在下模头的宽度方向上，第二部分的宽度与第一部分的宽度之比为1/5～3/4，以消除因多个调节块边缘错位导致的速度阶跃问题。
根据本申请一可选实施方式，多个调节机构沿下模头的长度方向均匀间隔设置。
根据本申请一可选实施方式，多个调节机构的多个调节块在下模头的长度方向上无间隙排列。
根据本申请一可选实施方式，在下模头的长度方向上，位于两侧的调节块的长度小于位于中间的调节块的长度。
根据本申请一可选实施方式，在下模头的长度方向上，多个调节机构的调节块的长度彼此相等。
根据本申请一可选实施方式，每个调节机构还包括与连接杆相连接的调节器。通过设置调节器驱动连接杆，可提高工作效率。
根据本申请一可选实施方式，涂布模具还包括垫片，垫片设置于上模头及下模头之间，垫片设置有开口，开口、上模头及下模头共同形成涂布区域。通过设置垫片形成涂布区域，可简化涂布模具的加工工艺。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请一实施方式的涂布模具的立体结构示意图。
图2为图1所示涂布模具的立体分解图。
图3为图1所示涂布模具的侧视图。
图4为图1所示涂布模具的多个调节机构的结构示意图。
图5为本申请另一实施方式的涂布模具的多个调节机构的结构示意图。
主要元件符号说明
涂布模具 100
上模头 10
下模头 30
调节机构 50
涂布区域 20
出料口 40
表面 31
第一缓冲槽 32
通道 35
第一侧壁 321
第二侧壁 322
安装孔 323
收容槽 324
调节块 51
连接杆 53
第一调节块 511
第二调节块 513
第三调节块 515
调节器 55
第二缓冲槽 34
第一部分 22
第二部分 24
垫片 70
开口 71
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本申请。
具体实施方式
下面将结合本申请实施方式中的附图，对本申请实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅是本申请的一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本申请中的实施方式，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本申请保护的范围。
需要说明的是，除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。在本申请实施方式中使用的术语是仅仅出于描述特定实施方式的目的，而非旨在限制本申请。
请参阅图1及图2，本申请实施方式提供一种涂布模具100，用于将浆料涂布于待涂布工件上。所述涂布模具100包括上模头10、下模头30以及多个调节机构50。所述下模头30与所述上模头10相对设置。所述上模头10和所述下模头30之间形成有涂布区域20及与所述涂布区域20相连通的出料口40。所述出料口40位于所述涂布模具100的一侧，用于供浆料流出所述涂布模具100外。所述多个调节机构50活动设置于所述下模头30上，用于调节经所述涂布区域20输出所述涂布模具100外的浆料的流速。
所述下模头30大致为矩形块状。所述下模头30包括面向所述上模头10的表面31。所述下模头30开设有第一缓冲槽32及与所述第一缓冲槽32相连通的通道35。所述第一缓冲槽32贯通所述表面31与所述涂布区域20相连通，并沿所述下模头30的长度方向L延伸。所述通道35贯通所述下模头30的一个侧面，用于向所述第一缓冲槽32供料。所述第一缓冲槽32的长度、宽度及高度可依据实际需要进行调节，通过调节所述第一缓冲槽32的体积，可使浆料获取较均匀的初始压力分布。
请一并参阅图2及图3，所述第一缓冲槽32包括相对设置的第一侧壁321及第二侧壁322。其中，所述第二侧壁322邻近所述出料口40设置，所述第一侧壁321远离所述出料口设置。所述第一侧壁321上开设有多个安装孔323。所述多个安装孔323沿所述下模头30的长度方向L间隔排列，并贯通所述下模头30的一个侧面。本实施方式中，所述多个安装孔323沿所述下模头30的长度方向L均匀间隔设置。所述第二侧壁322上开设有与所述多个安装孔323相对应的多个收容槽324，所述安装孔323与相应的收容槽324配合以共同安装所述调节机构50。根据本申请一实施方式，所述多个收容槽324依次连通；根据本申请另一实施方式，所述多个收容槽324沿所述下模头30的长度方向L间隔排列。
所述多个调节机构50沿所述下模头30的长度方向L间隔排列。本实施方式中，所述多个调节机构50沿所述下模头30的长度方向L均匀间隔设置。所述调节机构50包括调节块51及连接杆53。所述调节块51滑动收容于相应收容槽324中，所述连接杆53与所述调节块51相连接并通过所述安装孔323伸出所述下模头30外。所述调节块51密封地收容于相应收容槽324中。根据本申请一实施方式，所述调节块51的上表面与所述收容槽324的上侧壁相贴合，所述调节块51的下表面与所述收容槽324的下侧壁相贴合。通过驱动所述连接杆53，可驱动所述调节块51在所述收容槽324中朝向或远离所述第一缓冲槽32运动，从而改变所述第一缓冲槽32与所述调节块51相对应位置处的浆料的流动阻力，进而改变该位置处的浆料流量，以改变该位置处对应形成的涂膜的厚度。当所述调节块51远离所述收容槽324进入所述第一缓冲槽32中时，所述第一缓冲槽32与所述调节块51对应位置处的浆料的流动阻力增大，导致该位置处的浆料的流量减小，进而导致该位置处对应形成的涂膜的厚度减小。当所述调节块51远离所述第一缓冲槽32进入所述收容槽324中时，所述第一缓冲槽32与所述调节块51对应位置处的浆料的流动阻力减小，导致该位置处的浆料的流量增大，进而导致该位置处对应形成的涂膜的厚度增大。通过控制多个调节块51的运动，可使涂膜的横向厚度达到一致。
请参阅图4，多个调节块51在所述下模头30的长度方向L上无间隙排列，以使所述多个调节机构50可对涂膜在长度方向L上任一位置处的厚度进行调节。在所述下模头30的长度方向L，多个调节机构50的调节块51的长度彼此相等。
请参阅图5，根据本申请其他实施方式，在所述下模头30的长度方向L，位于两侧的调节块51的长度小于位于中间的调节块51的长度。沿长度方向L排列的多个调节块51包括位于中部的第一调节块511、位于第一调节块511两侧的两组第二调节块513以及位于两组第二调节块513两侧的第三调节块515。具体的，第一调节块511的数量为一个，第二调节块513的数量为四个，第三调节块515的数量为四个。第一调节块511、第二调节块513及第三调节块515的长度依次递减。可以理解的是，多个调节块51的长度的设置方式并不限于上述实施方式，其可根据涂膜厚度控制要求进行改变。
根据本申请其他实施方式，所述收容槽324设置有止挡件(图未示)，用于防止所述调节块51从所述收容槽324中脱落。
根据本申请其他实施方式，所述调节机构50还包括与所述连接杆53相连接的调节器55，用于驱动所述连接杆53运动。所述调节器55可以为千分尺或步进电机等。
根据本申请其他实施方式，所述收容槽324邻近所述下模头30的表面31设置，以提高所述调节块51调节其对应位置处的浆料的流动阻力的敏感性。通过调整所述收容槽324的上侧壁与所述下模头的表面31之间的距离，可控制所述调节块51对涂膜厚度的调节敏感性。当所述收容槽324的上侧壁与所述下模头的表面31之间的距离越小时，调节敏感性越高；当所述收容槽324的上侧壁与所述下模头的表面31之间的距离越大时，调节敏感性越低。
请再次参阅图2及图3，所述下模头30还开设有第二缓冲槽34。所述第二缓冲槽34贯通所述表面31与所述涂布区域20相连通。所述第二缓冲槽34与所述第一缓冲槽32在所述下模头30的宽度方向W上间隔设置。所述第二缓冲槽34位于所述出料口40与所述第一缓冲槽32之间，经由所述通道35供料的浆料依次经由所述第一缓冲槽32及所述第二缓冲槽34流出所述涂布模具100外。在通过移动调节块51对涂膜的局部区域的厚度进行调节时，被移动的调节块51的边缘与未被移动的调节块51的边缘产生错位，会导致速度阶跃问题。通过设置所述第二缓冲槽34，可消除因多个调节块51边缘错位导致的速度阶跃问题。
所述涂布区域20包括与所述第一缓冲槽32相对应的第一部分22以及与所述第二缓冲槽34相对应的第二部分24。在所述下模头30的宽度方向W上，所述第二部分24的宽度与所述第一部分22的宽度之比为1/5～3/4。
所述上模头10大致为矩形块状，其设置于所述下模头30上方且封盖所述第一缓冲槽32及所述第二缓冲槽34。
根据本申请一实施方式，所述涂布模具100还包括垫片70。所述垫片70设置于所述上模头10与所述下模头30之间，并与所述上模头10及所述下模头30共同形成涂布区域20及出料口40。所述涂布区域20形成于所述上模头10与所述下模头30之间，并与所述第一缓冲槽32及所述第二缓冲槽34分别相连通。所述出料口40形成于所述上模头10与所述下模头30的侧边之间，并与所述涂布区域20相连通，从而从所述涂布区域20排料至所述待涂布工件。
所述垫片70包括相对设置的第一表面与第二表面。所述第一表面与所述上模头10的下表面相贴，所述第二表面与所述下模头30的上表面相贴。所述垫片70设置有开口71，所述开口71贯通所述垫片70的第一表面与第二表面并覆盖所述第一缓冲槽32及第二缓冲槽34。所述开口71的侧面、所述上模头10的下表面及所述下模头30的上表面共同形成所述涂布区域20。
本申请提供的涂布模具100，通过设置多个调节机构50，可对涂膜横向(涂布模具100的长度方向L)任一处的厚度进行局部调节，以使涂膜横向各处的厚度保持一致，提高横向一致性。另外，通过设置所述第二缓冲槽34，可消除因多个调节块51边缘错位导致的速度阶跃问题。另外，所述调节机构50活动设置于所述下模头30上，其位于所述垫片70下方，当移动所述调节机构50时，不会对所述垫片70产生干涉。
以上所揭露的仅为本申请较佳实施方式而已，当然不能以此来限定本申请，因此依本申请所作的等同变化，仍属本申请所涵盖的范围。
Claims (10)
1.一种涂布模具，其特征在于，所述涂布模具包括上模头及与所述上模头相对设置的下模头，所述上模头和所述下模头之间形成涂布区域，所述下模头开设有与所述涂布区域相连通的第一缓冲槽，
其中，所述第一缓冲槽的侧壁上开设有多个收容槽，所述下模头上活动设置有与所述多个收容槽相对应的多个调节机构，所述多个调节机构沿所述下模头的长度方向间隔排列，每个所述调节机构包括调节块及连接杆，所述调节块滑动收容于相应收容槽中，所述连接杆与所述调节块相连接并伸出所述下模头外。
2.如权利要求1所述的涂布模具，其特征在于，所述下模头包括面向所述上模头的表面，所述收容槽邻近所述下模头的表面设置。
3.如权利要求1所述的涂布模具，其特征在于，所述下模头还开设有与所述涂布区域相连通的第二缓冲槽，所述第二缓冲槽与所述第一缓冲槽在所述下模头的宽度方向上间隔设置。
4.如权利要求3所述的涂布模具，其特征在于，所述涂布区域包括与所述第一缓冲槽相对应的第一部分以及与所述第二缓冲槽相对应的第二部分，在所述下模头的宽度方向上，所述第二部分的宽度与所述第一部分的宽度之比为1/5～3/4。
5.如权利要求1所述的涂布模具，其特征在于，所述多个调节机构沿所述下模头的长度方向均匀间隔设置。
6.如权利要求1所述的涂布模具，其特征在于，多个调节机构的多个调节块在所述下模头的长度方向上无间隙排列。
7.如权利要求1所述的涂布模具，其特征在于，在所述下模头的长度方向上，位于两侧的调节块的长度小于位于中间的调节块的长度。
8.如权利要求1所述的涂布模具，其特征在于，在所述下模头的长度方向上，多个调节机构的调节块的长度彼此相等。
9.如权利要求1所述的涂布模具，其特征在于，每个调节机构还包括与所述连接杆相连接的调节器。
10.如权利要求6所述的涂布模具，其特征在于，所述涂布模具还包括垫片，所述垫片设置于所述上模头及所述下模头之间，所述垫片设置有开口，所述开口、所述上模头及所述下模头共同形成所述涂布区域。
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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