CN113266676A - 一种真空炉用水密封结构 - Google Patents

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    • B22D35/04—Equipment for conveying molten metal into beds or moulds into moulds, e.g. base plates, runners

Abstract

本发明公开了一种真空炉用水密封结构，它属于真空炉领域，包括炉体支撑架，所述炉体支撑架上设有真空炉，所述真空炉顶部设有浇注口，所述浇注口两侧设有铰接轴与所述炉体支撑架一侧顶部铰接；所述真空炉浇注口方向设有真空浇注通道，所述真空浇注通道设置在炉体支撑架一侧并位于浇注口一侧底部，所述真空浇注通道外围设有水密封槽，所述水密封槽中设有水；所述浇注口上方设有密封罩，所述密封罩扣设在水密封槽中，所述密封罩随真空炉倾翻且密封罩端部始终位于水密封槽中水的液面以下。

Description

一种真空炉用水密封结构
技术领域
本发明涉及真空炉领域，具体涉及一种真空炉用水密封结构。
背景技术
真空熔炼炉其熔炼、浇注是在一个真空腔内，内设流槽、隔离阀等结构，然而上述传统结构真空腔体占地面积大，结构复杂，成本较高，后期维护检修非常不方便；
为了降低相关成本，仅在熔炼部分采用抽真空结构，然而此时浇注则会出现与大气接触的情况，无法隔离空气，难以保证真空度要求，使得最终的产品产生微小瑕疵。
有鉴于上述现有技术存在的问题，本发明结合相关领域多年的设计及使用经验，辅以过强的专业知识，设计制造了一种真空炉用水密封结构，来克服上述缺陷。
发明内容
对于现有技术中所存在的问题，本发明提供的一种真空炉用水密封结构，能够保证浇注过程无空气接触，同时不影响炉体倾翻浇注。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：一种真空炉用水密封结构，包括炉体支撑架，所述炉体支撑架上设有真空炉，所述真空炉顶部设有浇注口，所述浇注口两侧设有铰接轴与所述炉体支撑架一侧顶部铰接；
所述真空炉浇注口方向设有真空浇注通道，所述真空浇注通道设置在炉体支撑架一侧并位于浇注口一侧底部，所述真空浇注通道外围设有水密封槽，所述水密封槽中设有水；
所述浇注口上方设有密封罩，所述密封罩扣设在水密封槽中，所述密封罩随真空炉倾翻且密封罩端部始终位于水密封槽中水的液面以下。
优选的，所述真空浇注通道底部设有流槽，所述流槽底部设有通道支架支撑。
优选的，所述流槽上连通有抽真空接头。
该发明的有益之处在于：
1.本发明利用密封罩始终位于水密封槽中水的液面以下这种结构，隔绝了大气，保证了浇注过程中的真空度，结构简单且灵活，不仅不影响真空炉的倾翻，还起到了隔绝空气的效果，保证了产品质量。
2.本发明提前对真空浇注通道进行抽真空，便可与浇注的真空炉实现真空浇注对接，成本低，维护方便，且不增加任何占地面积。
附图说明
图1为一种真空炉用水密封结构的主视图；
图2为一种真空炉用水密封结构的侧视图；
图3为一种真空炉用水密封结构的工作示意图。
图中：1-炉体支撑架、2-真空炉、3-密封罩、4-真空浇注通道、5-水密封槽、6-浇注口、7-流槽、8-抽真空接头、9-铰接轴、10-通道支架支撑。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员理解，下面结合附图对本发明作进一步的说明。
如图1至图3所示，一种真空炉2用水密封结构，包括炉体支撑架1，炉体支撑架1上设有真空炉2，真空炉2顶部设有浇注口6，浇注口6两侧设有铰接轴9与炉体支撑架1一侧顶部铰接，真空炉2绕铰接轴9倾翻通过浇注口6流出加热的铁水。
本发明真空炉2浇注口6方向设有真空浇注通道4，真空浇注通道4设置在炉体支撑架1一侧并位于浇注口6一侧底部，真空浇注通道4外围设有水密封槽5，水密封槽5中设有水，浇注口6上方设有密封罩3，密封罩3扣设在水密封槽5中，密封罩3随真空炉2倾翻且密封罩3端部始终位于水密封槽5中水的液面以下，从而利用上述结构，隔绝了大气，保证了浇注过程中的真空度，结构简单且灵活，不仅不影响真空炉2的倾翻，还起到了隔绝空气的效果，保证了产品质量。
本发明真空浇注通道4底部设有流槽7，流槽7底部设有通道支架支撑10，流槽7上连通有抽真空接头8，该结构可以提前对真空浇注通道4进行抽真空，然后再与浇注的真空炉2实现真空浇注对接，整个构造成本低，维护方便，且不增加任何占地面积。
应当理解，这些实施例的用途仅用于说明本发明而非意欲限制本发明的保护范围。此外，也应理解，在阅读了本发明的技术内容之后，本领域技术人员可以对本发明做各种改动、修改和/或变型，所有的这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种真空炉用水密封结构，其特征在于：包括炉体支撑架，所述炉体支撑架上设有真空炉，所述真空炉顶部设有浇注口，所述浇注口两侧设有铰接轴与所述炉体支撑架一侧顶部铰接；
所述真空炉浇注口方向设有真空浇注通道，所述真空浇注通道设置在炉体支撑架一侧并位于浇注口一侧底部，所述真空浇注通道外围设有水密封槽，所述水密封槽中设有水；
所述浇注口上方设有密封罩，所述密封罩扣设在水密封槽中，所述密封罩随真空炉倾翻且密封罩端部始终位于水密封槽中水的液面以下。
2.根据权利要求1所述的一种真空炉用水密封结构，其特征在于：所述真空浇注通道底部设有流槽，所述流槽底部设有通道支架支撑。
3.根据权利要求2所述的一种真空炉用水密封结构，其特征在于：所述流槽上连通有抽真空接头。
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