CN113253376A - 带有粘合剂层的光学层叠体及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供即使在贯穿孔(51)中填充有填充材料的情况下也能够将贯穿孔(51)的侧面与填充材料良好地密合的带有粘合剂层的光学层叠体(1)及显示装置。带有粘合剂层的光学层叠体(1)具有包含在直线偏振层的至少一面具有保护层的偏振板的光学层叠体(11)、和设于光学层叠体(11)的一面的粘合剂层(30),并具有沿层叠方向贯穿的贯穿孔(51)。直线偏振层的厚度为10μm以下。贯穿孔(51)的侧面中的光学层叠体部分的侧面(51b)的最大高度(Sa)为2.0μm以下。
Description
技术领域
本发明涉及在层叠方向上具有贯穿孔的带有粘合剂层的光学层叠体及显示装置。
背景技术
偏振板作为液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置等显示装置的偏振光的供给元件得到广泛使用,另外作为偏振光的检测元件得到广泛使用。一直以来,偏振板使用在偏振片的一面或两面粘接有保护膜的偏振板。
偏振板也被用于汽车的仪表显示部等中,为了固定各种仪表指针,已知有在偏振板形成贯穿孔的做法(例如专利文献1)。
另一方面,具备偏振板的显示装置也被拓展到笔记本型个人电脑、手机等移动设备中,从对显示目的的多样化、显示区分的明确化、装饰化等的要求出发,要求具有透射率不同的区域的偏振板。特别是在以智能手机、平板型终端为代表的中小型的便携终端中,从装饰性的观点出发,为了形成在整个面都没有交界线的设计,有时在整个面贴合偏振板。该情况下,由于在相机镜头的区域、画面下的图标、LOGO印刷的区域也重叠偏振板,因此有相机的灵敏度变差、设计性差之类的问题。为此,正在研究通过进行在偏振板形成贯穿孔等加工来抑制相机的灵敏度、设计性的降低的做法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2017-90896号公报
发明内容
发明所要解决的问题
包含形成有贯穿孔的偏振板的光学层叠体经由粘合剂层、粘接剂固化层等贴合层贴合于构建显示装置的构件等。若贴合于构建显示装置的构件等处的光学层叠体的贯穿孔为空洞,则有可能发生如下等不佳状况,即,因伴随着显示装置所暴露的温度变化产生的偏振片的收缩而在贯穿孔的周边产生裂纹。为此,有时向贯穿孔中填充粘合剂或粘接剂组合物等填充材料,将贯穿孔设为实心。
在上述的在贯穿孔中填充有填充材料的情况下,有时在贯穿孔与填充材料之间产生气泡。在贯穿孔内产生的气泡可能成为显示装置的外观不良的原因,或者在贯穿孔的位置配置相机等时可能成为使相机的灵敏度降低的原因。另外,在应用于显示装置的情况下,也有可能因显示装置所暴露的温度变化等,而在贯穿孔的侧面与填充材料之间产生剥离。
本发明的目的在于,提供即使在贯穿孔中填充有填充材料的情况下也能够将贯穿孔的侧面与填充材料良好地密合的带有粘合剂层的光学层叠体及显示装置。
用于解决问题的手段
本发明提供以下的带有粘合剂层的光学层叠体及显示装置。
〔1〕一种带有粘合剂层的光学层叠体,是具有沿层叠方向贯穿的贯穿孔的带有粘合剂层的光学层叠体,
所述带有粘合剂层的光学层叠体具有包含在直线偏振层的至少一面具有保护层的偏振板的光学层叠体、和设于所述光学层叠体的一面的粘合剂层,
所述直线偏振层的厚度为10μm以下,
所述贯穿孔的侧面中的所述光学层叠体部分的侧面的最大高度Sa为2.0μm以下。
〔2〕根据〔1〕中记载的带有粘合剂层的光学层叠体,其中,所述光学层叠体的厚度与所述粘合剂层的厚度的合计厚度为80μm以下。
〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的带有粘合剂层的光学层叠体,其中,在所述带有粘合剂层的光学层叠体的所述粘合剂层及光学层叠体分别贴合玻璃板,在将所得的试验用层叠体在温度85℃的条件下保持500小时的耐热试验中,所述贯穿孔周边的收缩量为100μm以下。
〔4〕根据〔1〕~〔3〕中任一项记载的带有粘合剂层的光学层叠体,其中,在所述粘合剂层的与所述光学层叠体侧相反的一侧,具有能够相对于所述粘合剂层剥离的剥离膜。
〔5〕根据〔1〕~〔4〕中任一项记载的带有粘合剂层的光学层叠体,其中,在所述光学层叠体的与设有所述粘合剂层的一侧相反的一侧,具有能够相对于所述光学层叠体剥离的防护膜。
〔6〕一种显示装置,其经由所述粘合剂层将〔1〕~〔3〕中任一项记载的带有粘合剂层的光学层叠体与图像显示元件贴合。
〔7〕根据〔6〕中记载的显示装置,其中,还在所述带有粘合剂层的光学层叠体的与所述图像显示元件侧相反的一侧依次具有贴合层及前面板,
在所述贯穿孔内填充有填充材料。
〔8〕根据〔7〕中记载的显示装置,其中,所述填充材料是与用于形成所述贴合层的贴合剂相同的贴合剂。
发明效果
根据本发明,能够提供即使在贯穿孔填充有填充材料的情况下也能够将贯穿孔的侧面与填充材料良好地密合的带有粘合剂层的光学层叠体。
附图说明
图1是示意性地表示本发明的带有粘合剂层的光学层叠体的一例的俯视图。
图2(a)是图1所示的带有粘合剂层的光学层叠体的x-x’剖视图,(b)是将(a)的虚线包围部分放大显示的说明图。
图3(a)是示意性地表示本发明的带有粘合剂层的光学层叠体的另一例的示意剖视图,(b)是将(a)的虚线包围部分放大显示的说明图。
图4是示意性地表示本发明的带有粘合剂层的光学层叠体的再另一例的示意剖视图。
图5是示意性地表示本发明的带有粘合剂层的光学层叠体的再另一例的示意剖视图。
图6是示意性地表示应用了图2所示的带有粘合剂层的光学层叠体的显示装置的一例的示意剖视图。
图7是示意性地表示应用了图3所示的带有粘合剂层的光学层叠体的显示装置的一例的示意剖视图。
图8是示意性地表示图2的(a)所示的带有粘合剂层的光学层叠体的制造方法的一例的示意剖视图。
图9是用于说明形成本发明的带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔的方法的一例的说明图。
附图标记说明
1、1a、1b带有粘合剂层的光学层叠体,5、5a、5b显示装置,10光学层叠体,11偏振板(光学层叠体),12相位差层,13第2贴合层,30粘合剂层,32剥离膜,42防护膜,45图像显示元件,46第1贴合层,47前面板,51贯穿孔,51a、51b侧面,55立铣刀。
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的光学层叠体的制造方法及光学层叠体的优选的实施方式进行说明。以下的所有附图是为了辅助本发明的理解而显示的图,图中所示的各构成要素的尺寸、形状不一定与实际的构成要素的尺寸、形状一致。
(带有粘合剂层的光学层叠体)
图1是示意性地表示本实施方式的带有粘合剂层的光学层叠体的一例的俯视图。图1中,表示出带有粘合剂层的光学层叠体的从光学层叠体侧观察到的俯视图。图2的(a)是图1所示的带有粘合剂层的光学层叠体的x-x’剖视图,图2的(b)是将图2的(a)的虚线包围部分放大显示的说明图。图3的(a)是示意性地表示本实施方式的带有粘合剂层的光学层叠体的另一例的示意剖视图,图3的(b)是将图3的(a)的虚线包围部分放大显示的说明图。图4及图5是示意性地表示本实施方式的带有粘合剂层的光学层叠体的再另一例的示意剖视图。
本实施方式的带有粘合剂层的光学层叠体1a、1b(以下有时将两者一并称作“带有粘合剂层的光学层叠体1”。)如图1~图3所示,具有沿层叠方向贯穿的贯穿孔51。另外,该带有粘合剂层的光学层叠体1具有光学层叠体10、和设于光学层叠体10的一面的粘合剂层30。该光学层叠体10具有偏振板11。该偏振板11在直线偏振层的至少一面具有保护层。
在带有粘合剂层的光学层叠体1中,直线偏振层的厚度为10μm以下。直线偏振层的厚度可以为8μm以下,也可以为6μm以下,也可以为5μm以下。通过使直线偏振层的厚度为上述范围内,能够减小光学层叠体10的厚度,因此易于如后所示地将填充材料填充到贯穿孔51中。
偏振板11在直线偏振层的一面或两面具有保护层。直线偏振层与保护层可以夹隔着粘合剂层或粘接剂固化层等贴合层层叠,也可以通过向直线偏振层上涂布固化性树脂等而在直线偏振层上直接形成保护层。偏振板11的厚度例如为60μm以下,也可以为55μm以下,通常为30μm以上,也可以为40μm以上,也可以为50μm以上。
光学层叠体10至少包含偏振板11。光学层叠体10也可以像图2所示的带有粘合剂层的光学层叠体1a那样光学层叠体10为偏振板11。光学层叠体10可以是偏振板11与相位差层等其他的光学功能层的层叠体,也可以像例如图3所示的带有粘合剂层的光学层叠体1b那样,是依次层叠有偏振板11、第2贴合层13、以及相位差层12的光学层叠体。第2贴合层13是粘合剂层或粘接剂固化层。第2贴合层13的厚度没有特别限定。第2贴合层13为粘合剂层时的厚度例如为20μm以下,也可以为15μm以下,也可以为10μm以下,通常为4μm以上,也可以为8μm以上。第2贴合层13为粘接剂固化层时的厚度例如为0.01μm以上,也可以为0.05μm以上,也可以为0.5μm以上,通常为5μm以下,也可以为3μm以下,也可以为2μm以下。
在光学层叠体10包含相位差层的情况下,相位差层可以为1层,也可以为2层。构成光学层叠体10的各层例如可以夹隔着粘合剂层或粘接剂固化层等贴合层层叠。
在光学层叠体10包含相位差层的情况下,光学层叠体10可以为圆偏振板。在光学层叠体10为圆偏振板的情况下,光学层叠体10可以[i]依次具有偏振板11、1/2波长相位差层、1/4波长相位差层;[ii]依次具有偏振板11、逆波长分散性的1/4波长相位差层、正C板;或[iii]依次具有偏振板11、正C板、逆波长分散性的1/4波长相位差层。可以在上述[i]~[iii]的各层之间设置贴合层。
由于在光学层叠体10形成有贯穿孔51的一部分,因此光学层叠体10具有沿厚度方向(层叠方向)贯穿的孔。孔的平面形状、大小、以及个数优选与后述的贯穿孔51的平面形状及大小相同。光学层叠体10的厚度没有特别限定,例如为70μm以下,也可以为60μm以下,通常为30μm以上,也可以为40μm以上,也可以为50μm以上。
带有粘合剂层的光学层叠体1的沿层叠方向贯穿的贯穿孔51的侧面51a(图2及图3的(b))中的光学层叠体10部分的侧面51b(图2及图3的(b))的最大高度Sa为2.0μm以下。上述最大高度Sa更优选为1.8μm以下,也可以为1.5μm以下,也可以为1.2μm以下。上述最大高度Sa通常为0.1μm以上,也可以为0.5μm以上。上述最大高度Sa可以利用后述的实施例中记载的方法进行测定。上述最大高度Sa例如可以利用贯穿孔51的形成方法、构成光学层叠体的层的种类等进行调整。
带有粘合剂层的光学层叠体1如后述的图6及图7所示,例如经由粘合剂层30贴合于显示装置5a、5b的图像显示元件45,在带有粘合剂层的光学层叠体1的光学层叠体10侧,夹隔着第1贴合层46设置显示装置5a、5b的前面板47而使用。在带有粘合剂层的光学层叠体1的贯穿孔51所存在的区域,配置显示装置中配备的相机镜头、图标、LOGO等印刷部。在如上所述地将带有粘合剂层的光学层叠体1应用于显示装置5a、5b的情况下,若贯穿孔51为空洞,则有可能伴随着显示装置5a、5b所暴露的温度变化而使直线偏振层发生收缩等,由此发生在贯穿孔51的周边产生裂纹等不佳状况。为此,有时向设于图像显示元件45上的带有粘合剂层的光学层叠体1的贯穿孔51中填充树脂材料等填充材料,将贯穿孔51设为实心。
带有粘合剂层的光学层叠体1中,通过使上述最大高度Sa为上述的范围内,贯穿孔51的侧面51a中的光学层叠体10部分的侧面51b变为平滑的状态。由此,在将填充材料向贯穿孔51内填充时,填充材料易于进入到贯穿孔51内,可以抑制在贯穿孔51的侧面51b与填充材料之间产生气泡的情况。另外,可以抑制因耐热试验而在贯穿孔的侧面与填充材料之间产生剥离、发泡的情况。由此,可以使贯穿孔51的侧面51b与填充材料良好地密合,在贯穿孔51所存在的区域配置相机镜头、图标、LOGO等印刷部的情况下,可以抑制相机的灵敏度的降低、设计性的降低。填充材料可以使用合适的树脂材料,然而优选使用与构成第1贴合层46的粘合剂或粘接剂组合物相同的材料。
带有粘合剂层的光学层叠体1所具有的贯穿孔51的平面形状没有特别限定,可以设为圆形;椭圆形;卵圆形;三角形、四边形等多边形;多边形的至少1个角被制成圆角(具有R的形状)的圆角多边形等。
贯穿孔51的俯视时的直径优选为0.5mm以上,也可以为1mm以上,也可以为2mm以上,也可以为3mm以上。贯穿孔51的俯视时的直径优选为20mm以下,也可以为15mm以下,也可以为10mm以下,也可以为7mm以下,也可以为5mm以下。贯穿孔51的俯视时的直径是指连接贯穿孔51的俯视时的外周的任意两点的直线中长度最长的直线的长度。
带有粘合剂层的光学层叠体1可以具有1个贯穿孔51,也可以具有2个以上。在具有2个以上的贯穿孔51的情况下,贯穿孔51的形状、直径可以彼此相同,也可以彼此不同。
在带有粘合剂层的光学层叠体1中,贯穿孔51的直径(d)[mm]与光学层叠体10的厚度及粘合剂层30的厚度的合计厚度(t)[mm]的比(d/t)优选为30以上,也可以为50以上,也可以为80以上,也可以为100以上,通常为300以下。通过使上述比(d/t)为上述的范围内,在使用构成第1贴合层46(图6、图7)的材料作为填充材料来填充贯穿孔51的情况下,易于将填充材料向贯穿孔51内填充。上述合计厚度(t)在图2及图3的(a)所示的带有粘合剂层的光学层叠体1中相当于贯穿孔51的深度。
带有粘合剂层的光学层叠体1的贯穿孔51的容积当中,设于光学层叠体10的孔所占有的容积、以及设于粘合剂层30的孔所占有的容积的合计容积优选为2.0mm3以下,更优选为1.5mm3以下,进一步优选为1.0mm3以下,通常为0.1mm3以上。通过使上述合计容积为上述的范围内,易于抑制在贯穿孔51的侧面51b与填充材料之间产生气泡的情况,易于使贯穿孔51的侧面与填充材料良好地密合。
上述合计容积在图2及图3的(a)所示的带有粘合剂层的光学层叠体1中相当于整个贯穿孔51的容积。
由于在粘合剂层30形成有贯穿孔51的一部分,因此粘合剂层30具有沿厚度方向贯穿的孔。孔的平面形状、大小、以及个数优选与上述的贯穿孔51的平面形状及大小相同。粘合剂层30的厚度没有特别限定,例如为40μm以下,也可以为30μm以下,也可以为25μm以下,通常为15μm以上,也可以为20μm以上。
光学层叠体10的厚度与粘合剂层30的厚度的合计厚度没有特别限定,优选为80μm以下,也可以为75μm以下,也可以为70μm以下,也可以为60μm以下,通常为30μm以上。通过使上述合计厚度为上述的范围内,易于抑制在贯穿孔51的侧面51a与填充材料之间产生气泡的情况,易于使贯穿孔51的侧面与填充材料良好地密合。
在带有粘合剂层的光学层叠体1的形成两面的粘合剂层及光学层叠体分别贴合玻璃板,在将所得的试验用层叠体在温度85℃的条件下保持500小时的耐热试验中,贯穿孔51周边的收缩量优选为100μm以下,更优选为95μm以下,也可以为90μm以下,通常为30μm以上。
通过使上述收缩量为上述的范围内,易于抑制在贯穿孔51的侧面51a与填充材料之间产生剥离的情况。上述收缩量可以利用后述的实施例中记载的方法进行测定。例如在直线偏振层由聚乙烯醇系树脂膜形成的情况下,可以通过调整直线偏振层的拉伸倍率、直线偏振层的厚度来调整上述收缩量。
带有粘合剂层的光学层叠体1的俯视时的形状没有特别限定,可以举出长方形、正方形等四边形;四边形的至少1个角被制成圆角(具有R的形状)的圆角四边形等。在带有粘合剂层的光学层叠体1为四边形或圆角四边形的情况下,1边的长度优选为50mm以上,也可以为60mm以上,也可以为70mm以上,另外,也可以为300mm以下,也可以为250mm以下,也可以为200mm以下,也可以为160mm以下。在带有粘合剂层的光学层叠体1为长方形或圆角长方形的情况下,在上述1边的长度的范围内,长边的长度例如也可以为100mm以上,另外也可以为300mm以下,也可以为170mm以下,短边的长度也可以为50mm以上,另外也可以为150mm以下,也可以为100mm以下。对于圆角四边形及圆角长方形所具有的4边中的相邻的2条边的交界,设为将圆角部分的轮廓长度二等分的位置。
带有粘合剂层的光学层叠体1也可以如图4及图5所示,在粘合剂层30的与光学层叠体10侧相反的一侧,具有能够相对于粘合剂层30剥离的剥离膜32。剥离膜32是用于对粘合剂层30的与光学层叠体10侧相反的一侧的表面进行被覆保护的膜。在带有粘合剂层的光学层叠体1具有剥离膜32的情况下,由于在剥离膜32也形成有贯穿孔51的一部分,因此剥离膜32具有沿厚度方向贯穿的孔。孔的平面形状、大小、以及个数优选与上述的贯穿孔51的平面形状及大小相同。
带有粘合剂层的光学层叠体1也可以如图4及图5所示,在光学层叠体10的与粘合剂层30侧相反的一侧,具有能够相对于光学层叠体10剥离的防护膜42。防护膜42是用于对光学层叠体10的与粘合剂层30侧相反的一侧的表面进行被覆保护的膜。在带有粘合剂层的光学层叠体1具有防护膜42的情况下,由于在防护膜42也形成有贯穿孔51的一部分,因此防护膜42具有沿厚度方向贯穿的孔。孔的平面形状、大小、以及个数优选与上述的贯穿孔51的平面形状及大小相同。
(显示装置)
图6及图7是示意性地表示分别应用了图2及图3所示的带有粘合剂层的光学层叠体的显示装置的一例的示意剖视图。作为显示装置,可以举出液晶显示装置、有机EL(电致发光)显示装置、无机EL显示装置、等离子体显示装置、电场发射型显示装置等。
显示装置5a、5b(以下有时将两者一并称作“显示装置5”。)如图6及图7所示,将带有粘合剂层的光学层叠体1与图像显示元件45经由带有粘合剂层的光学层叠体1的粘合剂层30贴合。显示装置5可以还在带有粘合剂层的光学层叠体1的与图像显示元件45侧相反的一侧依次具有第1贴合层46及前面板47。该情况下,优选在设于图像显示元件45上的带有粘合剂层的光学层叠体1的贯穿孔51中,填充有具有透光性的填充材料。所谓透光性,是指波长400nm~700nm的范围的可见光透射80%以上的性质。
在显示装置5为液晶显示装置的情况下,图像显示元件45例如为液晶单元,在显示装置5为有机EL显示装置的情况下,图像显示元件45例如为有机EL元件。
第1贴合层46是用于将带有粘合剂层的光学层叠体1的光学层叠体10侧与前面板47贴合的层,是粘合剂层或粘接剂固化层。第1贴合层46的厚度没有特别限定,然而第1贴合层46为粘合剂层时的厚度例如为300μm以下,也可以为250μm以下,也可以为200μm以下,通常为50μm以上,也可以为100μm以上,也可以为150μm以上。第1贴合层46为粘接剂固化层时的厚度例如为0.1μm以上,也可以为0.5μm以上,也可以为1μm以上,通常为10μm以下,也可以为5μm以下,也可以为3μm以下。
前面板47是配置于显示装置的最前面的透光性构件,可以用玻璃板、树脂层形成。
填充材料只要是能够填充贯穿孔51的材料,就没有特别限定,然而优选为树脂材料。填充材料也可以使用与作为构成第1贴合层46的材料的粘合剂或粘接剂组合物相同的粘合剂或粘接剂组合物。在使用构成第1贴合层46的材料作为填充材料的情况下,可以在填充贯穿孔51的同时形成第1贴合层46。填充材料也可以使用与构成粘合剂层30的粘合剂相同的粘合剂。
显示装置5可以在图像显示元件45与带有粘合剂层的光学层叠体1之间、或带有粘合剂层的光学层叠体1与前面板47之间具有触摸传感器面板。
(带有粘合剂层的光学层叠体的制造方法)
图8是示意性地表示图2的(a)所示的带有粘合剂层的光学层叠体的制造方法的一例的示意剖视图。图9是用于说明形成带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔的方法的一例的说明图。如后所述,图9中,显示出从原料光学层叠体侧观察到的形成有预钻孔的原料层叠体的局部俯视图。
带有粘合剂层的光学层叠体1的制造方法如图8所示,包括:
准备原料层叠体1m的工序,所述原料层叠体1m具有包含在直线偏振层的至少一面具有保护层的偏振板11m的原料光学层叠体10m、和设于原料光学层叠体10m的一面的粘合剂层30m;以及
在原料层叠体1m形成贯穿孔51的工序。
准备原料层叠体1m的工序是准备没有形成贯穿孔51的原料层叠体1m的工序。原料层叠体1m可以在粘合剂层30m的与原料光学层叠体10m侧相反的一侧具有能够相对于粘合剂层30m剥离的剥离膜,也可以在原料光学层叠体10m的与粘合剂层30m侧相反的一侧具有能够相对于原料光学层叠体10m剥离的防护膜。
在原料层叠体1m形成贯穿孔51的工序没有特别限定,优选利用能够将最大高度Sa设为上述范围内的方法来进行,所述最大高度Sa是带有粘合剂层的光学层叠体1的沿层叠方向贯穿的贯穿孔51的侧面51a中的光学层叠体10部分的侧面51b的最大高度,可以利用1种方法来进行,也可以组合2种以上的方法来进行。
在原料层叠体1m形成贯穿孔51的工序优选使用立铣刀55来进行。立铣刀55是在具有旋转轴的工具主体的一个前端侧设有在外周面具有切削刃的切削部的刀具。立铣刀55能够通过以旋转轴为中心旋转而利用形成于外周面的切削刃对原料层叠体1m进行切削。在原料层叠体1m形成贯穿孔51的工序可以对1片原料层叠体1m进行,也可以层叠多片来进行。在层叠多片的情况下,虽然层叠片数也要根据原料层叠体1m的厚度而定,然而例如可以设为10片以上,也可以为30片以上,也可以为40片以上,通常为70片以下,也可以为60片以下。
在原料层叠体1m形成贯穿孔51的工序例如可以包括:
在原料层叠体1m形成贯穿原料层叠体1m的预钻孔51m的工序、以及
从预钻孔51m形成贯穿孔51的工序。
形成预钻孔51m的工序例如可以如下所示地进行。如图8所示,从原料层叠体1m的原料光学层叠体10m侧将以旋转轴为中心旋转的立铣刀55的前端压接在形成贯穿孔51的位置,形成贯穿原料层叠体1m的预钻孔。此时,在使立铣刀55的前端沿原料层叠体1m的层叠方向移动的同时形成预钻孔。
预钻孔51m设为如下的孔,即,贯穿原料层叠体1m,且其中心与贯穿孔51的中心一致,并且直径小于贯穿孔51的直径。贯穿孔51的直径与预钻孔51m的直径的差优选为0.3mm以上,也可以为0.5mm以上,也可以为0.8mm以上,通常为2mm以下,也可以为1.5mm以下。
在形成预钻孔51m的工序中,立铣刀55的转速没有特别限定,通常为500rpm以上,也可以为1000rpm以上,也可以为5000rpm以上,也可以为10000rpm以上,也可以为20000rpm以上。立铣刀55的转速通常为100000rpm以下,也可以为80000rpm以下,也可以为70000rpm以下。在形成预钻孔51m的工序中,立铣刀55的前端的移动速度(立铣刀55在原料层叠体1m的层叠方向上的移动速度)没有特别限定,通常为50mm/分钟以上,也可以为70mm/分钟以上,也可以为100mm/分钟以上,也可以为120mm/分钟以上。立铣刀55的前端的移动速度通常为300mm/分钟以下,也可以为250mm/分钟以下,也可以为200mm/分钟以下。
在形成预钻孔51的工序中,为了形成1个预钻孔51,使立铣刀55沿原料层叠体1m的层叠方向移动的次数可以为多次,也可以设为1次。
从预钻孔51m形成贯穿孔51的工序例如可以如下所示地进行。图9中,显示出从原料光学层叠体10m侧观察到的形成有预钻孔51m的原料层叠体1m的局部俯视图。如图9所示,首先,在向预钻孔51m中插入立铣刀55的状态下,将以旋转轴为中心旋转的立铣刀55的切削部压接在预钻孔51m的侧周面,进行预钻孔51m的切削。关于该工序,在形成预钻孔51m的工序结束后,不从预钻孔51中抽出立铣刀55,而是维持将立铣刀55插入预钻孔51m内的状态,由此可以与形成预钻孔51m的工序连续地进行。在如上所述地进行预钻孔51m的侧周面的切削时,以沿与立铣刀55的旋转轴的旋转方向(图9所示的箭头的方向)相同的方向旋转移动立铣刀55的方式(图9中预钻孔51m内记载的箭头的方向),在使立铣刀55相对于预钻孔51m相对移动的同时进行切削。优选在平行于与原料光学层叠体10m的层叠方向正交的方向地移动立铣刀55的同时,进行立铣刀55的旋转移动。由此,可以切削预钻孔51m的侧周面而扩张预钻孔51m,从而形成贯穿孔51。
如上所述,在形成贯穿孔51时,使立铣刀55的旋转轴的旋转方向与立铣刀55的旋转移动的旋转方向一致,由此易于将贯穿孔51的侧面51a(图2及图3的(b))中的光学层叠体10部分的侧面51b(图2及图3的(b))的最大高度Sa制成2.0μm以下。
在从预钻孔51m形成贯穿孔51的工序中,立铣刀的转速没有特别限定,例如可以设为形成预钻孔51m时说明过的转速。在从预钻孔51m形成贯穿孔51的工序中,立铣刀55的旋转移动速度(立铣刀55在旋转的方向上的移动速度)没有特别限定,通常为400mm/分钟以上,也可以为500mm/分钟以上,也可以为600mm/分钟以上。立铣刀55的旋转移动速度通常为1000mm/分钟以下,也可以为900mm/分钟以下,也可以为800mm/分钟以下。在从预钻孔51m形成贯穿孔51的工序中,立铣刀55旋转1圈时预钻孔51m被切削扩张的宽度w(图9)没有特别限定,通常为0.01mm以上,也可以为0.03mm以上,也可以为0.05mm以上。上述宽度w通常为0.5mm以下,也可以为0.3mm以下,也可以为0.1mm以下。立铣刀55的旋转次数虽然也要根据预钻孔51m的直径与贯穿孔51的直径的差、上述宽度w的大小而定,然而例如可以为3次以上,也可以为5次以上,也可以为8次以上,通常为20次以下,也可以为18次以下,也可以为15次以下。旋转次数如下设定,即,从穿过旋转的开始位置并且连接预钻孔51m的中心与预钻孔51m的外周的半径上,开始立铣刀55的旋转移动,将立铣刀55送回到该半径上时计数为1次。
(显示装置的制造方法)
显示装置5(图6及图7)的制造方法包括:
从图2及图3所示的带有粘合剂层的光学层叠体1a、1b、或图4及图5所示的带有粘合剂层的光学层叠体剥离掉剥离膜32,将所得的构件经由粘合剂层30贴合于图像显示元件45的工序;
在设于图像显示元件45上的带有粘合剂层的光学层叠体具有防护膜42的情况下,剥离防护膜42的工序;
从光学层叠体10侧向设于图像显示元件45上的带有粘合剂层的光学层叠体1的贯穿孔51中填充填充材料的工序;以及
在带有粘合剂层的光学层叠体1的光学层叠体10侧夹隔着第1贴合层46设置前面板47的工序。
在带有粘合剂层的光学层叠体1不具有防护膜42的情况下不实行剥离防护膜42的工序。
填充填充材料的工序只要是能够向设于图像显示元件45上的带有粘合剂层的光学层叠体1的贯穿孔51中填充填充材料的方法,就没有特别限定。在填充材料为与用于形成第1贴合层46的贴合剂相同的贴合剂的情况下,例如可以如下所示地进行。
在第1贴合层46为粘合剂层的情况下,可以同时进行填充填充材料的工序和设置前面板47的工序。首先,在前面板47的一面,使用用于形成第1贴合层46的粘合剂形成粘合剂层。然后,使设于图像显示元件45上的带有粘合剂层的光学层叠体1的光学层叠体10侧与前面板47的粘合剂层侧相面对,在减压条件下(例如真空条件下或低压条件下)层叠。由此,能够抑制在带有粘合剂层的光学层叠体1的贯穿孔51内残留异物、空气等情况。其后,以使设于前面板47的粘合剂层的一部分进入贯穿孔51内的方式进行加压,利用构成粘合剂层的粘合剂填充贯穿孔51。此时,为了使粘合剂层的一部分易于进入贯穿孔51,优选设为加热条件下。接下来,进行填充于贯穿孔51内的粘合剂、以及配置于前面板47与光学层叠体10之间的粘合剂层的干燥或固化处理等,形成第1贴合层46。对于粘合剂或粘合剂层的干燥或固化处理,只要根据粘合剂的种类,进行加热处理、活性能量射线的照射处理等即可。
在第1贴合层46为粘接剂固化层的情况下,向设于图像显示元件45上的带有粘合剂层的光学层叠体1的光学层叠体10侧,涂布用于形成粘接剂固化层的粘接剂组合物。此时,在形成有贯穿孔51的位置,以填埋贯穿孔51内的空洞的方式,涂布粘接剂组合物。粘接剂组合物的涂布也可以在大气压条件下进行,然而从能够抑制气泡向粘接剂组合物中的混入的方面出发,优选在减压条件下进行。
其后,在向光学层叠体10侧涂布粘接剂组合物而形成的粘接剂组合物层上重叠前面板47,在将前面板47朝向光学层叠体10侧推压的同时使粘接剂组合物层固化而形成作为粘接剂固化层的第1贴合层46。由于在粘接剂组合物是因加热而使流动性提高的粘接剂组合物的情况下,通过在重叠前面板47时加热粘接剂组合物来提高流动性,粘接剂组合物向贯穿孔51内的填充变得容易,因此优选。作为粘接剂组合物的涂布方法,可以使用公知的方法,例如可以举出挤压法、凹版涂布法、模涂法、狭缝涂布法、棒涂法、涂布器法、柔版印刷法等印刷法等。对于粘接剂组合物层的固化处理,只要根据粘接剂组合物中含有的成分的种类,进行加热处理、活性能量射线的照射处理等即可。
以下,对本实施方式的带有粘合剂层的光学层叠体及显示装置中使用的各构件的详情进行说明。
(直线偏振层)
直线偏振层具有如下的性质,即,在使无偏振的光入射时,使具有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透射。直线偏振层可以是包含聚乙烯醇(以下有时也简称为“PVA”。)系树脂膜的层,也可以是使二色性色素在聚合性液晶化合物中取向、并使聚合性液晶化合物聚合而得的固化膜。
作为包含PVA系树脂膜的直线偏振层,例如可以举出对聚乙烯醇(以下有时也简称为“PVA”。)系膜、部分缩甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜实施了利用碘、二色性染料等二色性物质的染色处理、以及拉伸处理的膜等。为了使光学特性优异,优选使用将PVA系树脂膜用碘染色并进行单轴拉伸而得的直线偏振层。
聚乙烯醇系树脂可以通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化来制造。聚乙酸乙烯酯系树脂可以是作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯,此外还可以是乙酸乙烯酯与能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体的共聚物。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体,例如可以举出不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的丙烯酰胺类等。
聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85~100摩尔%左右,优选为98摩尔%以上。聚乙烯醇系树脂也可以被改性,例如也可以使用由醛类改性了的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等。聚乙烯醇系树脂的平均聚合度通常为1000~10000左右,优选为1500~5000左右。聚乙烯醇系树脂的平均聚合度可以依照JIS K 6726(1994)求出。若平均聚合度小于1000,则难以获得优选的偏振性能,若大于10000,则有膜加工性差的情况。
作为其他的包含PVA系树脂膜的直线偏振层的制造方法,可以举出包括如下工序的方法,即,首先准备基材膜,向基材膜上涂布聚乙烯醇系树脂等树脂的溶液,进行除去溶剂的干燥等而在基材膜上形成树脂层。需要说明的是,可以在基材膜的形成树脂层的面预先形成底漆层。作为基材膜,可以使用PET等树脂膜、使用了能够在后述的保护层中使用的热塑性树脂的膜。作为底漆层的材料,可以举出将直线偏振层中使用的亲水性树脂交联而得的树脂等。
然后,根据需要调整树脂层的水分等溶剂量,其后,对基材膜及树脂层进行单轴拉伸,接下来,将树脂层用碘等二色性色素染色而使二色性色素吸附于树脂层并取向。接下来根据需要将吸附有二色性色素并取向了的树脂层用硼酸水溶液处理,进行冲掉硼酸水溶液的洗涤工序。由此,制造出吸附有二色性色素并取向了的树脂层,即制造出直线偏振层的膜。各工序中可以采用公知的方法。
基材膜及树脂层的单轴拉伸可以在染色前进行,也可以在染色中进行,也可以在染色后的硼酸处理中进行,也可以在这些的多个阶段中分别进行单轴拉伸。基材膜及树脂层可以沿MD方向(膜输送方向)进行单轴拉伸,该情况下,可以在圆周速度不同的辊间以单轴方式进行拉伸,也可以使用热辊以单轴方式进行拉伸。另外,基材膜及树脂层也可以沿TD方向(与膜输送方向垂直的方向)进行单轴拉伸,该情况下,可以使用所谓的拉幅机法。另外,基材膜及树脂层的拉伸可以是在大气中进行拉伸的干式拉伸,也可以是在用溶剂使树脂层溶胀的状态下进行拉伸的湿式拉伸。为了体现出直线偏振层的性能,拉伸倍率为4倍以上,优选为5倍以上,特别优选为5.5倍以上。拉伸倍率的上限没有特别限定,然而从抑制断裂等观点出发,优选为8倍以下。
利用上述方法制作出的直线偏振层可以通过在层叠后述的保护层后剥离基材膜而得到。根据该方法,能够实现直线偏振层的进一步的薄膜化。
作为使二色性色素在聚合性液晶化合物中取向、并使聚合性液晶化合物聚合而得的作为固化膜的直线偏振层的制造方法,可以举出如下的方法,即,向基材膜上涂布包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏振层形成用组合物,并在将聚合性液晶化合物保持液晶状态的同时聚合而使之固化,形成直线偏振层。如此所述地得到的直线偏振层处于层叠于基材膜的状态,可以将带有基材膜的直线偏振层作为后述的偏振板使用。作为基材膜,可以使用PET等树脂膜、使用了后述的保护层中能够使用的热塑性树脂的膜。
作为二色性色素,可以使用具有分子的长轴方向上的吸光度与短轴方向上的吸光度不同的性质的色素,例如优选在300~700nm的范围具有吸收极大波长(λmax)的色素。作为此种二色性色素,例如可以举出吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等,其中优选偶氮色素。作为偶氮色素,可以举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、二苯乙烯偶氮色素等,更优选双偶氮色素、三偶氮色素。
偏振层形成用组合物可以包含溶剂、光聚合引发剂等聚合引发剂、光敏剂、阻聚剂等。对于偏振层形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物、二色性色素、溶剂、聚合引发剂、光敏剂、阻聚剂等,可以使用公知的物质,例如可以使用日本特开2017-102479号公报、日本特开2017-83843号公报中例示的物质。另外,聚合性液晶化合物也可以使用作为用于获得后述的作为相位差层的固化物层的聚合性液晶化合物例示的化合物。对于使用偏振层形成用组合物形成直线偏振层的方法,也可以采用上述公报中例示的方法。
(偏振板)
直线偏振层可以在其一面或两面层叠保护层而制成偏振板。该偏振板是所谓的直线偏振板。作为能够在直线偏振层的一面或两面层叠的保护层,例如可以使用透明性、机械强度、热稳定性、阻水性、各向同性、拉伸性等优异的由热塑性树脂形成的膜。作为此种热塑性树脂的具体例,可以举出三乙酰纤维素等纤维素树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂;聚醚砜树脂;聚砜树脂;聚碳酸酯树脂;尼龙、芳香族聚酰胺等聚酰胺树脂;聚酰亚胺树脂;聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃树脂;具有环系及降冰片烯结构的环状聚烯烃树脂(也称作降冰片烯系树脂);(甲基)丙烯酸类树脂;聚芳酯树脂;聚苯乙烯树脂;聚乙烯醇树脂、以及它们的混合物。
在直线偏振层的两面层叠有保护层的情况下,两个保护层的树脂组成可以相同,也可以不同。需要说明的是,本说明书中所谓“(甲基)丙烯酸类”,是指可以是丙烯酸类或甲基丙烯酸类的任意者。(甲基)丙烯酸酯等的“(甲基)”也是相同的含义。
保护层可以是具有相位差特性的层,也可以是具有硬涂层、防反射层等功能层的层。保护层的厚度优选为3μm以上,更优选为5μm以上。另外,保护层的厚度优选为50μm以下,更优选为30μm以下。需要说明的是,上述的上限值及下限值可以任意地组合。
(相位差层)
相位差层可以包含聚合性液晶化合物的固化物层,也可以是经过拉伸的树脂膜。
在相位差层包含聚合性液晶化合物的固化物层的情况下,作为聚合性液晶化合物,可以使用棒状的聚合性液晶化合物及圆盘状的聚合性液晶化合物,可以使用它们中的一方,也可以使用包含它们双方的混合物。在棒状的聚合性液晶化合物相对于基材层而言发生水平取向或垂直取向的情况下,该聚合性液晶化合物的光轴与该聚合性液晶化合物的长轴方向一致。在圆盘状的聚合性液晶化合物发生取向的情况下,该聚合性液晶化合物的光轴存在于与该聚合性液晶化合物的圆盘面正交的方向。作为棒状的聚合性液晶化合物,例如可以合适地使用日本特表平11-513019号公报(权利要求1等)中记载的聚合性液晶化合物。作为圆盘状的聚合性液晶化合物,可以合适地使用日本特开2007-108732号公报([0020]~[0067]段等)、日本特开2010-244038号公报([0013]~[0108]段等)中记载的聚合性液晶化合物。
为了使通过将聚合性液晶化合物聚合而形成的固化物层体现出面内相位差,只要使聚合性液晶化合物沿合适的方向取向即可。在聚合性液晶化合物为棒状的情况下,通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面而言水平地取向而体现出面内相位差,该情况下,光轴方向与慢轴方向一致。在聚合性液晶化合物为圆盘状的情况下,通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面而言水平地取向而体现出面内相位差,该情况下,光轴与慢轴正交。聚合性液晶化合物的取向状态可以利用取向层与聚合性液晶化合物的组合进行调整。
聚合性液晶化合物是具有至少1个聚合性基团、并且具有液晶性的化合物。在并用2种以上的聚合性液晶化合物的情况下,优选至少1种在分子内具有2个以上的聚合性基团。所谓聚合性基团,是指参与聚合反应的基团,优选为光聚合性基团。此处,所谓光聚合性基团,是指能够利用由后述的光聚合引发剂产生的活性自由基、酸等来参与聚合反应的基团。作为聚合性基团,可以举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙基、氧杂环丁烷基、苯乙烯基、烯丙基等。其中,优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙基及氧杂环丁烷基,更优选丙烯酰氧基。聚合性液晶化合物所具有的液晶性可以是热致性液晶,也可以是溶致性液晶,若对热致液晶以有序度进行分类,则可以是向列液晶,也可以是近晶液晶。
在相位差层包含聚合性液晶化合物的固化物层的情况下,相位差层也可以包含取向层。取向层具有使聚合性液晶化合物沿所期望的方向取向的取向限制力。取向层可以是将聚合性液晶化合物的分子轴相对于基材层而言垂直取向的垂直取向层,也可以是将聚合性液晶化合物的分子轴相对于基材层而言水平取向的水平取向层,也可以是使聚合性液晶化合物的分子轴相对于基材层而言倾斜取向的倾斜取向层。第1取向层和第2取向层可以是相同的取向层,也可以是不同的取向层。
作为取向层,优选如下的取向层,即,具有不会因液晶层形成用组合物的涂布等而溶解的耐溶剂性,并具有对于用于溶剂的除去、聚合性液晶化合物的取向的加热处理的耐热性。作为取向层,可以举出由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、在层表面具有凹凸图案、多个沟槽(groove)的沟槽取向层。
聚合性液晶化合物的固化物层可以通过向基材层上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物并进行干燥、使聚合性液晶化合物聚合而形成。也可以将液晶层形成用组合物涂布在形成于基材层上的取向层上。
作为基材层,可以使用由树脂材料形成的膜,例如可以举出使用了作为用于形成上述的保护层的热塑性树脂说明过的树脂材料的膜。基材层的厚度没有特别限定,一般而言从强度、处置性等操作性的方面出发,优选为1~300μm以下,更优选为20~200μm,进一步优选为30~120μm。基材层可以与聚合性液晶化合物的固化物层一起作为相位差层组装到光学层叠体中,也可以剥离基材层,仅将聚合性液晶化合物的固化物层、或将该固化物层及取向层作为相位差层组装到光学层叠体中。
作为经过拉伸的树脂膜中使用的树脂膜,可以举出包含能够用于形成上述的保护层的热塑性树脂的膜。作为拉伸处理,可以举出单轴拉伸、双轴拉伸等。拉伸处理中的拉伸方向可以是未拉伸树脂的长度方向,也可以是与长度方向正交的方向,也可以是与长度方向倾斜相交的方向。在单轴拉伸的情况下,只要沿这些方向中的任意方向拉伸未拉伸树脂即可。双轴拉伸可以是沿这些方向中的2个拉伸方向同时地进行拉伸的同时双轴拉伸,也可以是在沿规定的方向拉伸后沿另外的方向进行拉伸的逐次双轴拉伸。
(粘合剂层)
粘合剂层是指使用粘合剂形成的层。本说明书中所谓“粘合剂”,是通过将其自身粘贴于图像显示元件等被粘物而体现出粘接性的物质,是被称作所谓的压敏型粘接剂的物质。另外,后述的活性能量射线固化型粘合剂可以通过照射能量射线来调整交联度、粘接力。
作为粘合剂,可以没有特别限制地使用以往公知的光学的透明性优异的粘合剂,例如可以使用具有丙烯酸系、氨基甲酸酯系、硅酮系、聚乙烯基醚系等基础聚合物的粘合剂。另外,也可以是活性能量射线固化型粘合剂、热固化型粘合剂等。它们当中,适合为以透明性、粘合力、再剥离性(以下也称作再加工性。)、耐候性、耐热性等优异的丙烯酸系树脂作为基础聚合物的粘合剂。粘合剂层优选由包含(甲基)丙烯酸系树脂、交联剂、硅烷化合物的粘合剂组合物的反应产物构成,也可以包含其他成分。
粘合剂层可以使用活性能量射线固化型粘合剂形成。活性能量射线固化型粘合剂在粘合剂组合物中配合多官能性丙烯酸酯等紫外线固化性化合物,在形成粘合剂层后照射紫外线而使之固化,由此能够形成更硬的粘合剂层。活性能量射线固化型粘合剂具有受到紫外线、电子束等能量射线的照射而发生固化的性质。活性化能量射线固化型粘合剂在能量射线照射前也具有粘合性,因此是具有与图像显示元件等被粘物密合、并能够因能量射线的照射而固化来调整密合力的性质的粘合剂。
活性能量射线固化型粘合剂中一般作为主成分包含丙烯酸系粘合剂和能量射线聚合性化合物。通常还配合有交联剂,另外根据需要也可以配合光聚合引发剂、光敏剂等。
(防护膜)
防护膜是用于对光学层叠体的表面进行被覆保护的膜,能够相对于光学层叠体剥离地设置。防护膜优选设于构成光学层叠体的表面的偏振板。防护膜可以是在防护膜用树脂膜形成有粘合剂层的膜,也可以由自粘合性膜形成。防护膜的厚度例如可以为30~200μm,优选为30~150μm,更优选为30~120μm。
作为构成防护膜用树脂膜的树脂,例如可以举出聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂之类的聚烯烃系树脂;环状聚烯烃系树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯之类的聚酯系树脂;聚碳酸酯系树脂;(甲基)丙烯酸系树脂等。其中,优选聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂。防护膜用树脂膜可以是1层结构,也可以具有2层以上的多层结构。
作为构成防护膜用粘合剂层的粘合剂,可以使用与构成上述的粘合剂层的粘合剂相同的粘合剂。另外,防护膜可以通过向防护膜用树脂膜面上涂布粘合剂并进行干燥等而形成粘合剂层来得到。根据需要,对于防护膜用树脂膜的粘合剂的涂布面,为了提高密合性,可以实施表面处理(例如电晕处理等),也可以形成底漆层(也称作底涂层)等薄层。另外,根据需要,可以具有剥离层,其用于将防护膜用粘合剂层的与防护膜用树脂膜侧相反的一侧的表面被覆而进行保护。该剥离层可以在与光学层叠体贴合时的适当的时机剥离。
自粘合性膜是如下的膜,即,能够在不设置粘合剂层等用于附着的机构的情况下利用其自身来附着,并且能够维持该附着状态。自粘合性膜例如可以使用聚丙烯系树脂及聚乙烯系树脂等来形成。
(剥离膜)
剥离膜是将粘合剂层被覆保护、或者支承粘合剂层的膜,且具有能够相对于粘合剂层剥离的作为隔片的功能。作为剥离膜,可以举出对基材膜的粘合剂层侧的表面实施了硅酮处理等脱模处理的膜。作为形成基材膜的树脂材料,可以举出与上述的形成保护层的树脂材料相同的材料。树脂膜可以是1层结构,也可以是2层以上的多层结构的多层树脂膜。
(第1贴合层、第2贴合层)
第1贴合层及第2贴合层(以下有时将两者一并称作“贴合层”。)可以各自独立地设为粘合剂层或粘接剂固化层。粘合剂层可以使用粘合剂形成,粘接剂层可以使用粘接剂组合物形成。在贴合层为粘合剂层的情况下,可以使用上述的粘合剂层一项中说明过的粘合剂。
粘接剂固化层可以通过使粘接剂组合物中的固化性成分固化来形成。作为用于形成粘接剂固化层的粘接剂组合物,是压敏型粘接剂(粘合剂)以外的粘接剂,例如可以举出水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂。
作为水系粘接剂,例如可以举出使聚乙烯醇系树脂溶解、或分散于水中而得的粘接剂。对于使用了水系粘接剂时的干燥方法没有特别限定,例如可以采用使用热风干燥机、红外线干燥机进行干燥的方法。
作为活性能量射线固化性粘接剂,例如可以举出包含因紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的无溶剂型的活性能量射线固化性粘接剂。通过使用无溶剂型的活性能量射线固化性粘接剂,能够提高层间的密合性。
作为活性能量射线固化性粘接剂,为了显示出良好的粘接性,优选包含阳离子聚合性的固化性化合物、自由基聚合性的固化性化合物的任意一方或双方。活性能量射线固化性粘接剂可以还包含用于引发上述固化性化合物的固化反应的阳离子聚合引发剂、或自由基聚合引发剂。
作为阳离子聚合性的固化性化合物,例如可以举出环氧系化合物(在分子内具有1个或2个以上的环氧基的化合物)、氧杂环丁烷系化合物(在分子内具有1个或2个以上的氧杂环丁烷环的化合物)、或它们的组合。
作为自由基聚合性的固化性化合物,例如可以举出(甲基)丙烯酸系化合物(在分子内具有1个或2个以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物)、具有自由基聚合性的双键的其他的乙烯基系化合物、或它们的组合。
活性能量射线固化性粘接剂根据需要可以含有敏化剂。通过使用敏化剂,反应性提高,可以进一步提高粘接剂固化层的机械强度、粘接强度。作为敏化剂,可以适当地使用公知的敏化剂。在配合敏化剂的情况下,对于其配合量,相对于活性能量射线固化性粘接剂的总量100质量份,优选设为0.1~20质量份的范围。
活性能量射线固化性粘接剂根据需要可以含有离子捕获剂、抗氧化剂、链转移剂、增粘剂、热塑性树脂、填充剂、流动调节剂、增塑剂、消泡剂、防静电剂、流平剂、溶剂等添加剂。
在使用了活性能量射线固化性粘接剂的情况下,可以照射紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线,使粘接剂组合物层固化而形成粘接剂层。作为活性能量射线,优选紫外线,作为该情况下的光源,可以使用低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯、金属卤化物灯等。
(图像显示元件)
图像显示元件可以根据显示装置的种类来选择。图像显示元件例如可以举出液晶单元、有机EL显示元件、无机EL显示元件、等离子体显示元件、电场发射型显示元件等显示元件等。
(前面板)
是能够作为用于保护显示装置的显示元件等的层发挥作用、并能够透射光的板状体,板状体通常优选为玻璃制或树脂制。在前面板为玻璃制的情况下,可以使用钠钙玻璃、低碱玻璃、无碱玻璃等。
在前面板为树脂制的情况下,可以使用树脂膜或在树脂膜的至少一个面设有硬涂层而进一步提高了硬度的带有硬涂层的树脂膜。在使用带有硬涂层的树脂膜的情况下,优选以配置于显示装置的最表面的方式设置硬涂层。另外,前面板也可以具有抗蓝光功能、视角调整功能等。
作为形成前面板的树脂膜,只要是能够透射光的树脂膜,就没有限定。例如可以举出由三乙酰纤维素、乙酰纤维素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙酰纤维素、丁酰纤维素、乙酰丙酰纤维素、聚酯、聚苯乙烯、聚酰胺、聚醚酰亚胺、聚(甲基)丙烯酸类树脂、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚砜、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰胺酰亚胺等高分子形成的膜。这些高分子可以单独使用或混合使用2种以上。在显示装置为柔性显示器的情况下,可以合适地使用能够以具有优异的挠曲性、且具有高强度及高透明性的方式构成的由聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺等高分子形成的树脂膜。
(填充材料)
填充材料优选为具有透光性的树脂材料。所谓透光性,是指波长400nm~700nm的范围的可见光透射80%以上的性质。填充材料的透光性也可以是上述波长区域的可见光透射85%以上的性质,也可以是透射90%以上的性质,也可以是透射95%以上的性质。作为树脂材料,可以举出选自热塑性树脂、固化性树脂、粘合剂、以及粘接剂组合物中的1种以上,优选为粘合剂或粘接剂组合物。
作为热塑性树脂,可以举出链状聚烯烃系树脂(聚丙烯系树脂等)、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)等聚烯烃系树脂;三乙酰纤维素、二乙酰纤维素等纤维素酯系树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯系树脂;聚碳酸酯系树脂;(甲基)丙烯酸系树脂;聚苯乙烯系树脂等。作为固化性树脂,可以举出热固性树脂、紫外线固化性树脂等活性能量射线固化性树脂等。作为粘合剂及粘接剂组合物,可以举出上述的物质。
实施例
以下,给出实施例及比较例而对本发明进一步具体说明,然而本发明并不受这些例子限定。
[最大高度Sa的测定]
将实施例及比较例中得到的带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔在俯视下等分为4个,从各分割片分别剥离防护膜及剥离膜,以贯穿孔的侧面(形成了贯穿孔的外周的侧面)中的由光学层叠体(偏振板)形成的部分作为观察表面,测定出该观察表面的算术平均高度。算术平均高度如下得到,即,使用白色干涉仪(VertScan、菱化系统公司制)将倍率设为50倍,沿各分割片的观察表面的贯穿孔的外周方向任意选择不同的3个位置,在该3个位置观察光学层叠体的整个层叠方向的表面并进行确定,在各分割片中分别得到3个算术平均高度。从对4个分割片的各自3个位置得到的算术平均高度(合计12个算术平均高度)中将最大的算术平均高度确定为最大高度Sa[μm]。
[贯穿孔的观察]
在实施例及比较例中得到的双面带有玻璃板的层叠体中,使用数码显微镜VHX-1000(Keyence公司制)以100倍观察活性能量射线固化性树脂向设于带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔中的填充状态。依照下述的基准评价了观察的结果。
A:没有观察到气泡的残留、未填充的空隙。
B:观察到气泡的残留、未填充的空隙。
[耐热试验]
将实施例及比较例中得到的双面带有玻璃板的层叠体作为试验用层叠体,使用Perfect Oven PH401,进行在温度85℃的条件下保持500小时的耐热试验,测定出贯穿孔周边的收缩量。由于在耐热试验前的试验用层叠体中,在偏振板及粘合剂层的层叠体所具有的贯穿孔上的玻璃板(俯视时贯穿孔所处的部分的玻璃板)处基本上不存在粘合剂,然而当偏振板因耐热试验而收缩时,贯穿孔的直径即变大,因此在耐热试验后的试验用层叠体中,在贯穿孔上的玻璃板处存在粘合剂,所以通过比较在耐热试验的前后的试验用层叠体的贯穿孔上的玻璃板处存在的粘合剂的宽度来确定收缩量。使用数码显微镜(VHX-1000、Keyence公司制),首先对耐热试验前的试验用层叠体拍摄贯穿孔周边的放大照片,然后对耐热试验后的试验用层叠体,拍摄与耐热试验前拍摄的贯穿孔相同的贯穿孔的周边的放大照片,对比所拍摄出的2张放大照片,由此来进行粘合剂的宽度的比较。将耐热试验前后的试验用层叠体的贯穿孔处的粘合剂的宽度的差的最大值确定为收缩量。
另外,在耐热试验后的试验用层叠体的光学层叠体侧的贯穿孔的内部或周边,对活性能量射线固化性树脂的固化物与光学层叠体之间(1)、或玻璃板与活性能量射线固化性树脂的固化物之间(2)的各自的状态,使用数码显微镜VHX-1000(Keyence公司制)以100倍进行观察。依照下述的基准评价了观察的结果。
A:在活性能量射线固化性树脂的固化物与光学层叠体之间(1)及玻璃板与活性能量射线固化性树脂的固化物之间(2)中均没有观察到剥离的产生、发泡的产生。
B:在活性能量射线固化性树脂的固化物与光学层叠体之间(1)及玻璃板与活性能量射线固化性树脂的固化物之间(2)中的至少一方观察到剥离的产生、发泡的产生。
〔实施例1〕
(偏振板的制作)
作为直线偏振层准备出对聚乙烯醇系树脂膜(Kuraray Poval Films VF-TS#2000(Kuraray公司制))进行拉伸并用碘染色的、厚度8μm的吸附有碘并取向了的膜。在直线偏振层的一个面,经由聚乙烯醇系树脂水溶液的粘接剂,贴合厚度32μm的保护层(1)(在表面具有硬涂层的纤维素系树脂膜(25KCHCN-TC、TOPPAN TOMOEGAWA OPTICAL FILMS制)),在直线偏振层的另一面,经由聚乙烯醇系树脂水溶液的粘接剂,贴合厚度13μm的保护层(2)(环状烯烃系树脂膜(ZF14-013-1330、日本Zeon制))而得到偏振板。
(带有粘合剂层的光学层叠体的制作)
在作为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的剥离膜上形成厚度20μm的粘合剂层,将所得的带有剥离膜的粘合剂层的粘合剂层侧贴合于偏振板的保护层(2)侧的表面。在厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜形成厚度15μm的粘合剂层,将所得的防护膜(厚度53μm)的粘合剂层侧贴合于偏振板的保护层(1)侧的表面。由此,得到具有防护膜/偏振板(保护层(1)/直线偏振层/保护层(2))/粘合剂层/剥离膜的层结构的层叠体片。以使层叠体片中含有的直线偏振层的吸收轴方向的长度为70mm、与之正交的方向的长度为160mm的方式,将层叠体片裁割为长方形而得到原料层叠体。
将原料层叠体层叠50片,将立铣刀的前端压接在原料层叠体的光学层叠体侧(防护膜侧),在使立铣刀的前端沿原料层叠体的层叠方向移动的同时,形成贯穿原料层叠体的、直径为2mm的俯视形状为圆形的预钻孔。立铣刀的直径为2mm,刃数为2刃,立铣刀的转速为50000rpm,立铣刀的前端的移动速度(在原料层叠体的层叠方向上的移动速度)为150mm/分钟。
在形成预钻孔后,在向预钻孔内插入立铣刀的状态下,一边使立铣刀以旋转轴为中心旋转,一边使立铣刀沿与旋转轴的旋转方向相同的方向旋转移动(参照图9),在如此所述地使立铣刀相对于预钻孔相对移动的同时,切削预钻孔的侧周面,形成直径为4mm的俯视形状为圆形的贯穿孔,得到带有粘合剂层的光学层叠体。此时的立铣刀的转速为50000rpm,立铣刀的旋转移动速度(立铣刀在旋转的方向上的移动速度)为700mm/分钟,立铣刀每旋转1圈所切削的宽度w(参照图9)为0.05mm,立铣刀的旋转次数为10次。在带有粘合剂层的光学层叠体中,在如下位置形成贯穿孔,即,贯穿孔的外周与长边的最短距离、以及贯穿孔的外周与短边的最短距离均为2.5mm的位置。
对于带有粘合剂层的光学层叠体,测定出贯穿孔的侧面中的偏振板部分的侧面的最大高度Sa。将结果表示于表1中。
(双面带有玻璃板的层叠体的制作)
从上文中得到的带有粘合剂层的光学层叠体剥离掉剥离膜,将由此露出的粘合剂层贴合于玻璃板(1)(Eagle XG玻璃、Corning公司制)。其后,在从带有粘合剂层的光学层叠体剥离防护膜而露出的光学层叠体的表面,在真空条件下贴合带有粘合剂层的玻璃板的粘合剂层侧,所述带有粘合剂层的玻璃板在玻璃板(2)(Eagle XG玻璃、102mm×160mm尺寸、Corning公司制)上形成有活性能量射线固化性树脂(CEF7106、3M公司制)的粘合剂层(厚度150μm)。其后,在温度50℃、压力0.5MPa的条件下进行5分钟的高压釜处理后,进行粘合剂层的UV固化处理,得到双面带有玻璃板的层叠体。
在双面带有玻璃板的层叠体中,观察设于带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔。将结果表示于表1中。
〔实施例2〕
除了在温度60℃、压力0.5MPa的条件下进行5分钟的高压釜处理以外,与实施例1同样地得到双面带有玻璃板的层叠体。在双面带有玻璃板的层叠体中,观察设于带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔。将结果表示于表1中。
〔实施例3〕
除了在温度60℃、压力0.5MPa的条件下进行15分钟的高压釜处理以外,与实施例1同样地得到双面带有玻璃板的层叠体。在双面带有玻璃板的层叠体中,观察设于带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔。将结果表示于表1中。
〔实施例4〕
除了在温度70℃、压力0.5MPa的条件下进行15分钟的高压釜处理以外,与实施例1同样地得到双面带有玻璃板的层叠体。在双面带有玻璃板的层叠体中,观察设于带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔。将结果表示于表1中。
另外,对双面带有玻璃板的层叠体进行耐热试验。将结果表示于表2中。
〔比较例1〕
除了将直线偏振层的厚度设为12μm、将保护层(2)的厚度设为23μm以外,与实施例1同样地得到带有粘合剂层的光学层叠体及双面带有玻璃板的层叠体。对于带有粘合剂层的光学层叠体,测定出贯穿孔的侧面中的偏振板部分的侧面的最大高度Sa。在双面带有玻璃板的层叠体中,观察设于带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔。将结果表示于表1中。
〔比较例2〕
除了对原料层叠体进行利用尖峰刀(日文原文:ピナクル刃)的冲裁加工而形成贯穿孔以外,与实施例4同样地得到带有粘合剂层的光学层叠体及双面带有玻璃板的层叠体。
对于带有粘合剂层的光学层叠体,测定出贯穿孔的侧面中的偏振板部分的侧面的最大高度Sa。另外,在双面带有玻璃板的层叠体中,观察设于带有粘合剂层的光学层叠体的贯穿孔,对双面带有玻璃板的层叠体进行耐热试验。将结果表示于表1及表2中。
【表1】
【表2】
Claims (8)
1.一种带有粘合剂层的光学层叠体,是具有沿层叠方向贯穿的贯穿孔的带有粘合剂层的光学层叠体,
所述带有粘合剂层的光学层叠体具有:包含在直线偏振层的至少一面具有保护层的偏振板的光学层叠体、和设于所述光学层叠体的一面的粘合剂层,
所述直线偏振层的厚度为10μm以下,
所述贯穿孔的侧面中的所述光学层叠体部分的侧面的最大高度Sa为2.0μm以下。
2.根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学层叠体,其中,
所述光学层叠体的厚度与所述粘合剂层的厚度的合计厚度为80μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的带有粘合剂层的光学层叠体,其中,
在所述带有粘合剂层的光学层叠体的所述粘合剂层及光学层叠体分别贴合玻璃板,在将所得的试验用层叠体在温度85℃的条件下保持500小时的耐热试验中,所述贯穿孔周边的收缩量为100μm以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的带有粘合剂层的光学层叠体,其中,
在所述粘合剂层的与所述光学层叠体侧相反的一侧,具有能够相对于所述粘合剂层剥离的剥离膜。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的带有粘合剂层的光学层叠体,其中,
在所述光学层叠体的与设有所述粘合剂层的一侧相反的一侧,具有能够相对于所述光学层叠体剥离的防护膜。
6.一种显示装置,其中,经由所述粘合剂层将权利要求1~3中任一项所述的带有粘合剂层的光学层叠体与图像显示元件贴合。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其中,
还在所述带有粘合剂层的光学层叠体的与所述图像显示元件侧相反的一侧依次具有贴合层及前面板,
在所述贯穿孔内填充有填充材料。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其中,
所述填充材料是与用于形成所述贴合层的贴合剂相同的贴合剂。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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