CN112986293A - 一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法 - Google Patents

一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112986293A
CN112986293A CN201911276825.5A CN201911276825A CN112986293A CN 112986293 A CN112986293 A CN 112986293A CN 201911276825 A CN201911276825 A CN 201911276825A CN 112986293 A CN112986293 A CN 112986293A
Authority
CN
China
Prior art keywords
crystal
cells
reciprocal
axis
electron diffraction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201911276825.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112986293B (zh
Inventor
施洪龙
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minzu University of China
Original Assignee
Minzu University of China
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minzu University of China filed Critical Minzu University of China
Priority to CN201911276825.5A priority Critical patent/CN112986293B/zh
Publication of CN112986293A publication Critical patent/CN112986293A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112986293B publication Critical patent/CN112986293B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20058Measuring diffraction of electrons, e.g. low energy electron diffraction [LEED] method or reflection high energy electron diffraction [RHEED] method
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20008Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
    • G01N23/2005Preparation of powder samples therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/2055Analysing diffraction patterns

Abstract

本发明涉及一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法,属于材料显微结构分析和晶体结构表征的技术领域。本发明的方法不必倾转到高对称性的带轴,不需要倾转为严格的正带轴,也不用记录每张电子衍射的倾转信息,所用透射电子显微镜不必具有大极靴的物镜;本发明的方法结合倒易空间重构法和传统的指标化方法,通过初基原胞和倒易角α*的双重检验,能有效克服传统指标化方法的不确定性,能准确识别晶体物相。在实际的电镜实验中可大大简化晶体倾转,所提出的分析方法不受晶系、对称性高低的影响,适用于所有晶系的物相识别。

Description

一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的 方法
技术领域
本发明涉及一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法,属于材料显微结构分析和晶体结构表征的技术领域。
背景技术
物相识别是材料制备和表征的首要环节,解决待测材料“是什么晶相”的问题。利用电子衍射对晶粒进行物相识别的典型流程是:通过倾转晶体,在同一晶粒上记录至少两张高对称性的带轴电子衍射花样,之后对这些电子衍射花样进行指标化。如果这些电子衍射花样都能用同一晶体结构(目标结构)指标化,可近似说明待测晶粒的晶体结构与目标结构一致。然而利用该方法进行物相识别将存在潜在的不确定性:在指标化时需根据所测晶面间距与目标晶面间距的匹配程度来设定晶面指数。利用透射电子显微镜测量晶面间距一般都有较大的误差(可高达
Figure BDA0002315784460000011
),使得所测晶面间距可能同时与多个目标晶面匹配。当衍射花样的对称性较低时,电子衍射花样指标化的不确定性将更加严重。所以,在很多情况下即使有两张电子衍射花样都能被同一目标晶体结构指标化,也不能完全确定晶相。
因此,有必要开发一种利用带轴电子衍射花样就能确定晶体物相的方法。
发明内容
为了改善上述技术问题,本发明提出一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法,包括如下步骤:
步骤1):记录待测晶体的两张带轴电子衍射花样或者两张带轴高分辨像;当为带轴高分辨像时,计算出带轴高分辨像的傅里叶变换图;
步骤2):测量两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图的二维初基胞;
步骤3):确定两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图的重位衍射点;
步骤4):将目标晶体结构转化为初基原胞,计算出倒易初基胞的体积;
步骤5):利用倒易初基胞的体积进行三维重构,得到倒易初基胞;
步骤6):将步骤5)获得的倒易初基胞进行Niggli约化,得到约化胞;
步骤7):将步骤6)获得的约化胞转化为正格子;
步骤8):当步骤7)获得的正格子与步骤4)中的初基原胞相匹配时,可基本确定待测晶体的物相与步骤4)中的目标结构一致,即确认待测晶体为目标结构,否则返回执行步骤4-7)识别待测晶体是否为另一目标物相,至识别出正确物相。
根据本发明的实施方案,当存在相似物相时,使用如下步骤9-11)对步骤8)的结果进一步检验;
步骤9)利用目标晶体结构分别对两张电子衍射花样或傅里叶变换图进行指标化,得到带轴指数,并计算出两带轴之间的夹角θ12
步骤10)利用步骤9)获得的带轴间的夹角θ12重构出倒易初基胞的夹角α*
步骤11)如果步骤10)中计算出的夹角α*与步骤5)中的α*相匹配,就能完全确定待测晶体的物相。
根据本发明的实施方案,所述方法包括如下步骤:
步骤1’)记录待测晶体的任意两张带轴电子衍射花样,或者两张带轴高分辨像;当为带轴高分辨像时,计算出带轴高分辨像的傅里叶变换图;
步骤2’)在两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图上测量二维初基胞:以透射斑为二维初基胞的原点O,由最近邻的两个衍射点A和B为邻边形成的平行四边形作为二维初基胞,定义R1=OA,R2=OB,θ=∠AOB;由上述两张电子衍射花样或两张傅里叶变换图分别得到两套二维初基胞,表示为R11,R12,θ1和R21,R22,θ2
步骤3’)根据步骤2’)中的两套二维初基胞确定重位衍射点的方法包括:
步骤3.1’)将两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图上的任一衍射点(m,n)的衍射矢量的长度表示为
Figure BDA0002315784460000031
由此得两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图上所有衍射点的衍射矢量
Figure BDA0002315784460000032
Figure BDA0002315784460000033
步骤3.2’)当第一张衍射矢量和第二张衍射矢量的长度相匹配时,
Figure BDA0002315784460000034
即为重位衍射点;
步骤3.3’)以透射斑为中心,步骤3.2’)获得的重位衍射点为基准,将两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图旋转叠加得到叠加衍射图;
步骤4’)将目标晶体结构转化为初基原胞,计算出倒易初基胞的体积V*,计算方法包括:
步骤4.1’)根据目标晶体的点阵中心的类型,将目标晶体结构(a,b,c)利用如下关系转化为初基原胞(a0,b0,c0),得到初基胞参数(a0,b0,c0000);
Figure BDA0002315784460000035
Figure BDA0002315784460000041
步骤4.2’)利用步骤4.1’)中得到的初基原胞的原胞参数(a0,b0,c0000)计算出倒易初基胞的体积
Figure BDA0002315784460000042
步骤5’)结合步骤4’)中计算出的倒易初基胞体积V*进行三维倒易空间重构,得到倒易初基胞,方法包括:
步骤5.1’)在步骤3.3’)的叠加图上,以透射斑为原点O,以重位衍射点为A,在两套衍射点中分别找到衍射矢量最短的衍射点B和C;由OA、OB和OC三根共顶点的矢量构成倒易初基胞,直接测量出参数a*=OA,b*=OB,c*=OC,β*=∠AOC,γ*=∠AOB;
步骤5.2’)α*=∠BOC由步骤4.2’)中的倒易初基胞体积V*和步骤5.1’)中的参数a*,b*,c*,β*,γ*算出
Figure BDA0002315784460000043
Figure BDA0002315784460000044
,由此得到描述倒易初基胞的所有参数a*,b*,c*
Figure BDA0002315784460000045
β*,γ*
步骤6’)将步骤5’)中得到的倒易初基胞参数进行Niggli约化,包括如下步骤:
步骤6.1’)根据步骤5’)中得到的倒易初基胞参数a*,b*,c*
Figure BDA0002315784460000046
β*,γ*计算出任意指数ui,vi,wi的格点到晶格原点的长度ti
Figure BDA0002315784460000047
其中,格点指数ui,vi,wi为整数,正数、负数或零,在一定的ui,vi,wi范围内计算,得到ti列表;
步骤6.2’)在ti列表中找到三个最小的ti值,例如t1、t2和t3,要求t1和t2不共线,即矢量t1和t2的叉乘积所得的三个指数h,k和l均不为零;且要求具有最小ti值的三个矢量,其t3·t1×t2不能为零,由此得到三个不共面、共顶点的最短矢量t1、t2和t3
步骤6.3’)计算上述三个矢量间的夹角,其中,矢量t1和t2的夹角为:
Figure BDA0002315784460000051
矢量t2和t3的夹角为:
Figure BDA0002315784460000052
矢量t1和t3的夹角为:
Figure BDA0002315784460000053
步骤6.4’)由此得到约化胞:a*=t1,b*=t2,c*=t3
Figure BDA0002315784460000054
Figure BDA0002315784460000055
步骤7’)利用倒易关系将步骤6’)获得的约化胞转化为正格子:
Figure BDA0002315784460000056
Figure BDA0002315784460000061
Figure BDA0002315784460000062
Figure BDA0002315784460000063
Figure BDA0002315784460000064
Figure BDA0002315784460000065
其中,
Figure BDA0002315784460000066
为倒易初基胞的体积;该正格子为约化后的初基原胞;
步骤8’)如果步骤7’)中的正格子(a,b,c,α,β,γ)与步骤4’)中的初基原胞(a0,b0,c0000)相匹配,说明待测晶体与目标结构一致,即待测晶体为目标结构;否则返回执行步骤4’-7’)识别待测晶体是否为另一目标物相,直至识别出正确物相为止。
根据本发明的实施方案,当存在相似物相时,所述方法还包括利用如下步骤9’-11’)对上述识别结果进行检验;
步骤9’)利用已识别出的目标结构分别对两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图进行指标化,得到带轴指数,并计算出两带轴间的夹角θ12,计算方法包括:
步骤9.1’)根据目标晶体结构的晶格常数a,b,c,α,β,γ,计算出d值表和晶面夹角列表;
Figure BDA0002315784460000067
Figure BDA0002315784460000071
其中,
Figure BDA0002315784460000072
为单胞体积,
d1和d2为的(h1k1l1)和(h2k2l2)晶面间距;参数Sij定义如下:
S11=b2c2 sin2α,S22=a2c2 sin2β,S33=a2b2 sin2γ
S12=abc2(cosαcosβ-cosγ),S23=a2bc(cosβcosγ-cosα)
S13=ab2c(cosγcosα-cosβ)
步骤9.2’)利用步骤2’)中的测量值R1,R2和θ,在d值表中查找与d1=1/R1相匹配的晶面,得到晶面指数(h1 k1 l1);
步骤9.3’)在d值表和晶面夹角列表中找到与d2=1/R2相匹配的晶面,得到晶面指数(h2 k2 l2);要求这两个晶面的夹角与测量夹角θ一致且对角点d3的指数正好满足(h3 k3l3)=(h1 k1 l1)+(h2 k2 l2);
步骤9.4’)根据步骤9.2’-9.3’)中的晶面指数(h1 k1 l1)和(h2 k2 l2)计算出带轴指数[u v w]:
Figure BDA0002315784460000073
步骤9.3’)根据上述两张电子衍射花样的带轴指数[u1 v1 w1]和[u2 v2 w2]计算出两带轴电子衍射花样间的夹角θ12
Figure BDA0002315784460000074
其中
Figure BDA0002315784460000075
Figure BDA0002315784460000076
步骤10’)结合步骤9.3’)中的带轴间的夹角θ12重构出倒易初基胞的夹角
Figure BDA0002315784460000077
步骤包括:
步骤10.1’)在△B1OC1中,OB1和OC1可直接测量获得,∠B1OC1为两晶带轴的夹角θ12,根据余弦定理计算出B1C1
步骤10.2’)在直角三角形CC2B中,CC2=B1C1,BC2可直接测量获得,由此得到BC;
步骤10.3’)结合步骤5.2’)中的测量参数b*=OB、c*=OC和步骤10.2’)中的BC,在△BOC中利用余弦定理计算出
Figure BDA0002315784460000081
步骤11’)如果步骤10’)中计算出的夹角
Figure BDA0002315784460000082
与步骤5’)中的
Figure BDA0002315784460000083
相匹配,说明待测晶体结构与目标晶体结构一致,即待测晶体为目标结构。
根据本发明的实施方案,步骤1)或1’)中的待测晶体为已知结构的材料,可根据X射线衍射的物相分析、元素分析、化学分析等方法分析出可能存在的物相(目标结构);
根据本发明的实施方案,步骤1)或1’)中的待测晶体可以是块材、粉末,也可以是单晶、多晶、微晶或纳米晶。
根据本发明的实施方案,步骤1)或1’)中,所述的带轴电子衍射花样可以是选区电子衍射、旋进电子衍射、纳米束电子衍射、微束电子衍射或会聚束电子衍射。
根据本发明的实施方案,步骤1)或1’)中,对所记录的两张带轴电子衍射花样没有高对称性的限制,可以是任意带轴。
根据本发明的实施方案,步骤1)或1’)中,所记录的带轴电子衍射花样不必满足严格的正带轴条件。
根据本发明的实施方案,步骤2’)中,所述二维初基胞所围的面积最小且两邻边OA与OB的夹角∠AOB=γ*≤90°。
根据本发明的实施方案,步骤4)或4’)中目标晶体结构为待测晶体可能出现的晶体结构,可根据X射线衍射的物相分析、元素分析、化学分析等方法分析出可能存在的物相,并在PDF数据库中检索出相应的晶格常数。
根据本发明的实施方案,步骤5’)中,衍射点B和C为第一套衍射花样和第二套衍射花样中的最小衍射矢量对应的衍射点。
有益效果
本发明提出利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法,可用于已知一些可能的晶体结构但还未确定最终结构的材料的物相识别。本发明的方法所用的电子衍射花样可以是选区电子衍射、纳米束电子衍射、旋进电子衍射。本发明与现有方法相比,其优点为:本发明的方法不必倾转到高对称性的带轴,不需要倾转为严格的正带轴,也不用记录每张电子衍射的倾转信息,所用透射电子显微镜不必具有大极靴的物镜;本发明的方法结合倒易空间重构法和传统的指标化方法,通过初基原胞和倒易角α*的双重检验,能有效克服传统指标化方法的不确定性,能准确识别晶体物相。在实际的电镜实验中可大大简化晶体倾转,所提出的分析方法不受晶系、对称性高低的影响,适用于所有晶系的物相识别。
附图说明
图1是实施例1利用两张电子衍射花样进行倒易空间重构的几何关系图。图中O为透射斑,A为重位衍射点,B和C分别为第一、二张衍射花样上的衍射点;线OO1⊥OA,BB1⊥OO1,CC1⊥OO1,CC2⊥BB1
图2为实施例1利用两张电子衍射花样进行物相识别:(a)为电子衍射花样1#;(b)为电子衍射花样2#;(c)在叠加花样上的倒易空间重构,图中灰色点来自第一张衍射花样,亮点属于第二张衍射花样。
具体实施方式
下文将结合具体实施例对本发明的技术方案做更进一步的详细说明。应当理解,下列实施例仅为示例性地说明和解释本发明,而不应被解释为对本发明保护范围的限制。凡基于本发明上述内容所实现的技术均涵盖在本发明旨在保护的范围内。
除非另有说明,以下实施例中使用的原料均为市售商品,或者可以通过已知方法制备。
实施例1利用两张电子衍射花样进行物相识别
1)在JEOL JEM-2100型透射电子显微镜中,在200kV下记录二氧化硅还原产物的两张带轴电子衍射花样,如图2a和2b所示。
2)在两张带轴电子衍射花样上测量二维初基胞
以透射斑为中心(二维初基胞的原点O),以最近邻的衍射点A和B为邻边形成的平行四边形构建二维初基胞,如图2a和2b所示。由两张电子衍射花样得到两套二维初基胞,测量结果列于表1中。
表1
Figure BDA0002315784460000101
3)确定重位衍射点。将步骤2)中的测量结果依次代入公式
Figure BDA0002315784460000102
Figure BDA0002315784460000103
可得
Figure BDA0002315784460000104
Figure BDA0002315784460000105
Figure BDA0002315784460000106
长度相等,即第一张电子衍射花样中的(1,0)点和第二张电子衍射中的(1,0)点为重位衍射点;以透射斑为中心,以重位衍射点为基准,将两张带轴电子衍射花样旋转叠加得到叠加衍射图,如图2c所示。图中灰色衍射点来自第一张衍射图,亮点来自第二张衍射图。
4)将目标晶体结构转化为初基原胞,得到倒易初基胞的体积V*。该样品是二氧化硅还原产物,预计可能形成硅。单晶硅(PDF#77-2108)的晶格常数为
Figure BDA0002315784460000107
α=β=γ=90°,点阵中心为F。根据如下表2中7种点阵中心的晶胞(a,b,c)和初基原胞(a0,b0,c0)的对应关系计算出硅的初基原胞为
Figure BDA0002315784460000111
Figure BDA0002315784460000112
即,
Figure BDA0002315784460000113
Figure BDA0002315784460000114
α0=β0=γ0=60°。由上述原胞参数计算出倒易初基胞的体积
Figure BDA0002315784460000115
Figure BDA0002315784460000116
表2
Figure BDA0002315784460000117
5)三维倒易初基胞的重构
在步骤3)的叠加衍射图中,以透射斑为原点O,重位衍射点为A,在两套衍射点中分别取衍射矢量最短的衍射点B和C,由OA、OB和OC三根共顶点的矢量形成倒易初基胞,如图2c所示。可直接测量的参数为:
Figure BDA0002315784460000118
Figure BDA0002315784460000121
β*=∠AOC=71.5009°,γ*=∠AOB=59.9359°。利用步骤4)中的倒易初基胞体积
Figure BDA0002315784460000122
和公式
Figure BDA0002315784460000123
Figure BDA0002315784460000124
计算出
Figure BDA0002315784460000125
Figure BDA0002315784460000126
由此得到描述倒易初基胞的所有参数a*,b*,c*
Figure BDA0002315784460000127
β*,γ*
6)根据步骤5)得到的倒易初基胞参数进行约化。先计算出任意指数ui,vi,wi的格点到晶格原点的长度ti
Figure BDA0002315784460000128
其中,格点指数ui,vi,wi为整数,正数、负数或零,在一定的ui,vi,wi范围内计算,得到ti列表;再在ti列表中找到三个最小的ti值t1、t2和t3,要求t1和t2不共线,即矢量t1和t2的叉乘积所得的三个指数h,k和l均不为零;且要求具有最小ti值的三个矢量,其t3·t1×t2不能为零,由此得到三个不共面、共顶点的最短矢量。本实施例中t1、t2和t3分别为:
t1=1a*-2b*+1c*
t2=0a*-2b*+1c*
t3=0a*-1b*+1c*
计算上述三个矢量间的夹角,其中,矢量t1和t2的夹角为:
Figure BDA0002315784460000129
矢量t2和t3的夹角为:
Figure BDA0002315784460000131
矢量t1和t3的夹角为:
Figure BDA0002315784460000132
由此,得到约化后的倒易初基胞为:
Figure BDA0002315784460000133
Figure BDA0002315784460000134
Figure BDA0002315784460000135
7)利用倒易关系将步骤6)获得的约化胞转换为正格子:
Figure BDA0002315784460000136
Figure BDA0002315784460000137
Figure BDA0002315784460000138
Figure BDA0002315784460000139
其中,
Figure BDA00023157844600001310
Figure BDA00023157844600001311
为倒易初基胞的体积。
8)经比对,步骤7)中的正格子(a,b,c,α,β,γ)和步骤4)中的初基原胞(a0,b0,c0000)近似一致,说明该晶粒确为单晶硅结构。至此,物相识别结束。
由于存在相似物相,为了识别的单晶硅是否为准确的物相,我们采用如下步骤对分析结果进一步检验。
9)利用目标晶体结构(单晶硅(PDF#77-2108))分别对电子衍射花样进行指标化,得到带轴指数θ12=8.04947°,计算步骤为:
步骤9.1’)根据预测目标晶体结构的晶格常数a,b,c,α,β,γ,计算出d值表和晶面夹角列表;
Figure BDA0002315784460000141
Figure BDA0002315784460000142
其中,
Figure BDA0002315784460000143
为单胞体积,
d1和d2为的(h1k1l1)和(h2k2l2)晶面间距;参数Sij定义如下:
S11=b2c2 sin2α,S22=a2c2 sin2β,S33=a2b2 sin2γ
S12=abc2(cosαcosβ-cosγ),S23=a2bc(cosβcosγ-cosα)
S13=ab2c(cosγcosα-cosβ)
步骤9.2’)利用步骤2)中的测量值R1,R2和θ,在d值表中查找与d1=1/R1相匹配的晶面,得到第一张电子衍射花样中的A点的晶面指数为(h1 k1 l1)=(0 2 2),第二张电子衍射花样中的A点的晶面指数为(h1 k1 l1)=(0 2 2);
步骤9.3’)在d值表和晶面夹角列表中找到与d2=1/R2相匹配的晶面,得到晶面指数(h2 k2 l2);要求这两个晶面的夹角与测量夹角θ一致且对角点d3的指数正好满足(h3 k3l3)=(h1 k1 l1)+(h2 k2 l2)。其中,第一张衍射花样中的B点的晶面指数为(h2 k2 l2)=(20 2),第二张衍射花样中的B点的晶面指数为(h2 k2 l2)=(3 -1 3);
步骤9.4’)根据步骤9.2’-9.3’)中的晶面指数(h1 k1 l1)和(h2 k2 l2)计算出带轴指数[u v w]:
Figure BDA0002315784460000144
其中,第一张电子衍射花样的带轴指数[u1 v1 w1]=[1 1 -1],第二张电子衍射花样的带轴指数[u2 v2 w2]=[4 3 -3]。
步骤9.3’)根据上述两张电子衍射花样的带轴指数[u1 v1 w1]=[1 1 -1]和[u2 v2w2]=[4 3 -3]计算出两带轴电子衍射花样间的夹角θ12=8.04947°:
Figure BDA0002315784460000151
其中
Figure BDA0002315784460000152
Figure BDA0002315784460000153
10)根据步骤9)中的两带轴之间的夹角θ12=8.04947°计算出倒易初基胞的夹角
Figure BDA0002315784460000154
具体的计算过程为:
步骤10.1’)在△B1OC1中,OB1和OC1直接测量获得,∠B1OC1为两晶带轴的夹角θ12,根据余弦定理计算出B1C1
步骤10.2’)在直角三角形CC2B中,CC2=B1C1,BC2直接测量获得,由此得到BC;
步骤10.3’)结合步骤5.2’)中的测量参数b*=OB、c*=OC和步骤10.2’)中的BC,在△BOC中利用余弦定理计算出
Figure BDA0002315784460000155
11)倒易初基胞的夹角
Figure BDA0002315784460000156
与步骤5)中的夹角
Figure BDA0002315784460000157
高度一致,说明该晶粒的确为单晶硅。
以上,对本发明的实施方式进行了说明。但是,本发明不限定于上述实施方式。凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1):记录待测晶体的两张带轴电子衍射花样或者两张带轴高分辨像;当为带轴高分辨像时,计算出带轴高分辨像的傅里叶变换图;
步骤2):测量两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图的二维初基胞;
步骤3):确定两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图的重位衍射点;
步骤4):将目标晶体结构转化为初基原胞,计算出倒易初基胞的体积;
步骤5):利用倒易初基胞的体积进行三维重构,得到倒易初基胞;
步骤6):将步骤5)获得的倒易初基胞进行Niggli约化,得到约化胞;
步骤7):将步骤6)获得的约化胞转化为正格子;
步骤8):当步骤7)获得的正格子与步骤4)中的初基原胞相匹配时,可基本确定待测晶体的物相与步骤4)中的目标结构一致,即确认待测晶体为目标结构,否则返回执行步骤4-7)识别待测晶体是否为另一目标物相,至识别出正确物相。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,当存在相似物相时,使用如下步骤9-11)对步骤8)的结果进一步检验;
步骤9)利用目标晶体结构分别对两张电子衍射花样或傅里叶变换图进行指标化,得到带轴指数,并计算出两带轴之间的夹角θ12
步骤10)利用步骤9)获得的带轴间的夹角θ12重构出倒易初基胞的夹角α*
步骤11)如果步骤10)中计算出的夹角α*与步骤5)中的α*相匹配,就能完全确定待测晶体的物相。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1’)记录待测晶体的任意两张带轴电子衍射花样,或者两张带轴高分辨像;当为带轴高分辨像时,计算出带轴高分辨像的傅里叶变换图;
步骤2’)在两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图上测量二维初基胞:以透射斑为二维初基胞的原点O,由最近邻的两个衍射点A和B为邻边形成的平行四边形作为二维初基胞,定义R1=OA,R2=OB,θ=∠AOB;由上述两张电子衍射花样或两张傅里叶变换图分别得到两套二维初基胞,表示为R11,R12,θ1和R21,R22,θ2
步骤3’)根据步骤2’)中的两套二维初基胞确定重位衍射点的方法包括:
步骤3.1’)将两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图上的任一衍射点(m,n)的衍射矢量的长度表示为
Figure FDA0002315784450000021
由此得两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图上所有衍射点的衍射矢量
Figure FDA0002315784450000022
Figure FDA0002315784450000023
步骤3.2’)当第一张衍射矢量和第二张衍射矢量的长度相匹配时,
Figure FDA0002315784450000024
即为重位衍射点;
步骤3.3’)以透射斑为中心,步骤3.2’)获得的重位衍射点为基准,将两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图旋转叠加得到叠加衍射图;
步骤4’)将目标晶体结构转化为初基原胞,计算出倒易初基胞的体积V*,计算方法包括:
步骤4.1’)根据目标晶体的点阵中心的类型,将目标晶体结构(a,b,c)利用如下关系转化为初基原胞(a0,b0,c0),得到初基胞参数(a0,b0,c0000);
Figure FDA0002315784450000025
Figure FDA0002315784450000031
步骤4.2’)利用步骤4.1’)中得到的初基原胞的原胞参数(a0,b0,c0000)计算出倒易初基胞的体积
Figure FDA0002315784450000032
步骤5’)结合步骤4’)中计算出的倒易初基胞体积V*进行三维倒易空间重构,得到倒易初基胞,方法包括:
步骤5.1’)在步骤3.3’)的叠加图上,以透射斑为原点O,以重位衍射点为A,在两套衍射点中分别找到衍射矢量最短的衍射点B和C;由OA、OB和OC三根共顶点的矢量构成倒易初基胞,直接测量出参数a*=OA,b*=OB,c*=OC,β*=∠AOC,γ*=∠AOB;
步骤5.2’)α*=∠BOC由步骤4’)中的倒易初基胞体积V*和步骤5.1’)中的参数a*,b*,c*,β*,γ*算出
Figure FDA0002315784450000033
Figure FDA0002315784450000034
由此得到描述倒易初基胞的所有参数a*,b*,c*
Figure FDA0002315784450000035
β*,γ*
步骤6’)将步骤5’)中得到的倒易初基胞参数进行Niggli约化,包括如下步骤:
步骤6.1’)根据步骤5’)中得到的倒易初基胞参数a*,b*,c*
Figure FDA0002315784450000041
β*,γ*计算出任意指数ui,vi,wi的格点到晶格原点的长度ti
Figure FDA0002315784450000042
其中,格点指数ui,vi,wi为整数,正数、负数或零,在一定的ui,vi,wi范围内计算,得到ti列表;
步骤6.2’)在ti列表中找到三个最小的ti值,例如t1、t2和t3,要求t1和t2不共线,即矢量t1和t2的叉乘积所得的三个指数h,k和l均不为零;且要求具有最小ti值的三个矢量,其t3·t1×t2不能为零,由此得到三个不共面、共顶点的最短矢量t1、t2和t3
步骤6.3’)计算上述三个矢量间的夹角,其中,矢量t1和t2的夹角为:
Figure FDA0002315784450000043
矢量t2和t3的夹角为:
Figure FDA0002315784450000044
矢量t1和t3的夹角为:
Figure FDA0002315784450000051
步骤6.4’)由此得到约化胞:a*=t1,b*=t2,c*=t3
Figure FDA0002315784450000052
Figure FDA0002315784450000053
步骤7’)利用倒易关系将步骤6’)获得的约化胞转化为正格子:
Figure FDA0002315784450000054
Figure FDA0002315784450000055
Figure FDA0002315784450000056
Figure FDA0002315784450000057
Figure FDA0002315784450000058
Figure FDA0002315784450000059
其中,
Figure FDA00023157844500000510
为倒易初基胞的体积;该正格子为约化后的初基原胞;
步骤8’)如果步骤7’)中的正格子(a,b,c,α,β,γ)与步骤4’)中的初基原胞(a0,b0,c0000)相匹配,则确定待测晶体与目标结构一致,即待测晶体为目标结构;否则返回执行步骤4’-7’)识别待测晶体是否为另一目标物相,直至识别出正确物相。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,当存在相似物相时,所述方法还包括利用如下步骤9’-11’)对上述识别结果进行检验;
步骤9’)利用已识别出的目标结构分别对两张带轴电子衍射花样或傅里叶变换图进行指标化,得到带轴指数,并计算出两带轴间的夹角θ12,计算方法包括:
步骤9.1’)根据目标晶体结构的晶格常数a,b,c,α,β,γ,计算出d值表和晶面夹角列表;
Figure FDA0002315784450000061
Figure FDA0002315784450000062
其中,
Figure FDA0002315784450000063
为单胞体积,d1和d2为的(h1k1l1)和(h2k2l2)晶面间距;参数Sij定义如下:
S11=b2c2 sin2α,S22=a2c2 sin2β,S33=a2b2 sin2γ
S12=abc2(cosαcosβ-cosγ),S23=a2bc(cosβcosγ-cosα)
S13=ab2c(cosγcosα-cosβ)
步骤9.2’)利用步骤2’)中的测量值R1,R2和θ,在d值表中查找与d1=1/R1相匹配的晶面,得到晶面指数(h1 k1 l1);
步骤9.3’)在d值表和晶面夹角列表中找到与d2=1/R2相匹配的晶面,得到晶面指数(h2k2 l2);要求这两个晶面的夹角与测量夹角θ一致且对角点d3的指数正好满足(h3 k3 l3)=(h1 k1 l1)+(h2 k2 l2);
步骤9.4’)根据步骤9.2’-9.3’)中的晶面指数(h1 k1 l1)和(h2 k2 l2)计算出带轴指数[u v w]:
Figure FDA0002315784450000071
步骤9.3’)根据上述两张电子衍射花样的带轴指数[u1 v1 w1]和[u2 v2 w2]计算出两带轴电子衍射花样间的夹角θ12
Figure FDA0002315784450000072
其中
Figure FDA0002315784450000073
Figure FDA0002315784450000074
步骤10’)结合步骤9.3’)中的带轴间的夹角θ12重构出倒易初基胞的夹角
Figure FDA0002315784450000075
步骤包括:
步骤10.1’)在△B1OC1中,OB1和OC1直接测量获得,∠B1OC1为两晶带轴的夹角θ12,根据余弦定理计算出B1C1
步骤10.2’)在直角三角形CC2B中,CC2=B1C1,BC2直接测量获得,由此得到BC;
步骤10.3’)结合步骤5.2’)中的测量参数b*=OB、c*=OC和步骤10.2’)中的BC,在△BOC中利用余弦定理计算出
Figure FDA0002315784450000076
步骤11’)如果步骤10’)中计算出的夹角
Figure FDA0002315784450000077
与步骤5’)中的
Figure FDA0002315784450000078
相匹配,说明待测晶体结构与目标晶体结构一致,即待测晶体为目标结构。
5.根据权利要求1-4任一项所述的方法,其特征在于,所述待测晶体为已知结构的材料,可根据X射线衍射的物相分析、元素分析、化学分析方法分析出可能存在的物相。
6.根据权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,所述待测晶体是块材、粉末,或者是单晶、多晶、微晶或纳米晶。
7.根据权利要求1-6任一项所述的方法,其特征在于,所述的带轴电子衍射花样是选区电子衍射、旋进电子衍射、纳米束电子衍射、微束电子衍射或会聚束电子衍射;
优选地,对所记录的两张带轴电子衍射花样没有高对称性的限制,可以是任意带轴;
优选地,步骤1)或1’)中,所记录的带轴电子衍射花样不必满足严格的正带轴条件。
8.根据权利要求1-7任一项所述的方法,其特征在于,步骤2’)中,所述二维初基胞所围的面积最小且两邻边OA与OB的夹角∠AOB=γ*≤90°。
9.根据权利要求1-8任一项所述的方法,其特征在于,所述目标晶体结构为待测晶体可能形成的晶体结构,可根据X射线衍射的物相分析、元素分析、化学分析等方法分析出可能存在的物相,并在PDF数据库中检索出对应的晶格常数。
10.根据权利要求1-9任一项所述的方法,其特征在于,衍射点B和C为第一套衍射花样和第二套衍射花样中的最小衍射矢量对应的衍射点。
CN201911276825.5A 2019-12-12 2019-12-12 一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法 Active CN112986293B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911276825.5A CN112986293B (zh) 2019-12-12 2019-12-12 一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911276825.5A CN112986293B (zh) 2019-12-12 2019-12-12 一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112986293A true CN112986293A (zh) 2021-06-18
CN112986293B CN112986293B (zh) 2023-02-21

Family

ID=76331812

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911276825.5A Active CN112986293B (zh) 2019-12-12 2019-12-12 一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112986293B (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101413906A (zh) * 2008-11-25 2009-04-22 山东理工大学 电子背散射衍射确定未知晶体布拉菲点阵的方法
CN101768008A (zh) * 2009-01-06 2010-07-07 中国科学院金属研究所 结构复杂材料的三维倒易空间重构方法
CN101832956A (zh) * 2010-04-08 2010-09-15 西北工业大学 单晶电子衍射花样重构未知纳米相布拉菲点阵的方法
CN105021637A (zh) * 2015-08-03 2015-11-04 华东交通大学 基于ebsd花样确定晶体倒易初基胞基矢的方法
CN105136829A (zh) * 2015-08-03 2015-12-09 华东交通大学 确定ebsd花样中晶体倒易矢量的二维几何关系的方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101413906A (zh) * 2008-11-25 2009-04-22 山东理工大学 电子背散射衍射确定未知晶体布拉菲点阵的方法
CN101768008A (zh) * 2009-01-06 2010-07-07 中国科学院金属研究所 结构复杂材料的三维倒易空间重构方法
CN101832956A (zh) * 2010-04-08 2010-09-15 西北工业大学 单晶电子衍射花样重构未知纳米相布拉菲点阵的方法
CN105021637A (zh) * 2015-08-03 2015-11-04 华东交通大学 基于ebsd花样确定晶体倒易初基胞基矢的方法
CN105136829A (zh) * 2015-08-03 2015-12-09 华东交通大学 确定ebsd花样中晶体倒易矢量的二维几何关系的方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
赵长安: ""未知点阵电子衍射谱的标定"", 《兵器材料科学与工程》 *
郭可信: ""约化胞与电子衍射谱的标定"", 《物理学报》 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN112986293B (zh) 2023-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
He Texture analysis
Tamura XMAS: A versatile tool for analyzing synchrotron X-ray microdiffraction data
Boultif et al. Powder pattern indexing with the dichotomy method
Kunze et al. Advances in automatic EBSP single orientation measurements
Morawiec Automatic orientation determination from Kikuchi patterns
JP2016502661A (ja) 画像解析によって粒子を特性評価する方法
Lider X-ray divergent-beam (Kossel) technique: A review
EP3935373B1 (en) Methods and apparatus for electron backscatter diffraction sample characterisation
Wang et al. Measuring crystal orientation from etched surfaces via directional reflectance microscopy
Dingley et al. Determination of crystal phase from an electron backscatter diffraction pattern
CN112986293B (zh) 一种利用两张带轴电子衍射花样或高分辨像进行物相识别的方法
Gajjar et al. Crystallographic tomography and molecular modelling of structured organic polycrystalline powders
Lin Phase identification using series of selected area diffraction patterns and energy dispersive spectrometry within TEM
CN112782202B (zh) 一种利用电子衍射花样重构晶体布拉菲格子的方法
Bauer et al. Structure quality of LuFeO3 epitaxial layers grown by pulsed-laser deposition on sapphire/Pt
Ferrucci et al. Evaluation of a laser scanner for large volume coordinate metrology: a comparison of results before and after factory calibration
CN110927191A (zh) 劳厄衍射图谱的标定方法
Borcha et al. Distribution of local deformations in diamond crystals according to the analysis of Kikuchi lines profile intensities
CN110927190A (zh) 在劳厄衍射图谱中识别同一晶带轴衍射峰的方法
Ball et al. Implementing and evaluating far-field 3D X-ray diffraction at the I12 JEEP beamline, Diamond Light Source
CN116380954A (zh) 单晶材料的二维衍射数据处理方法及系统
Glowinski et al. Twist, tilt, and symmetric grain boundaries in hexagonal materials
Fodchuk et al. A strain state in synthetic diamond crystals by the data of electron backscatter diffraction method
Isaenkova et al. Comparison of the results of texture analysis of zirconium alloys based on the data of backscattered electron diffraction and X-ray radiation of different powers
He Stress measurement

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant