CN112959781B - 一种光学膜基材及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光学膜基材，包括聚酯薄膜(3)以及在聚酯薄膜(3)的至少一面形成的亚克力涂层(2)，所述聚酯薄膜(3)为单层或者多层复合结构。另外，本发明还提出了上述光学膜基材的制备方法，包括聚酯薄膜(3)的制备步骤，以及获得聚酯薄膜(3)之后，在聚酯薄膜(3)的表面形成亚克力涂层(2)的步骤。本发明的光学膜基材提供了改进的亚克力涂层配方，其相对普通亚克力材料具备更高的折射率，可以提高亚克力涂层的附着力，并提供更加完善的折射率组合以消除结构影像。
Description
技术领域
本发明涉及光学显示、照明等领域的光学膜片，尤其涉及用于生产各种光学膜的基材，特别涉及一种光学膜基材及其制备方法。
背景技术
光学、照明等领域中的保护膜、反射膜、扩散膜、增亮膜、遮光膜等，都需要用到聚酯薄膜基材。聚酯薄膜具有优良的机械性能、尺寸稳定性、耐化学性和电气绝缘性，广泛应用于包装、电子电器、光学等领域。另外，光学领域的聚酯薄膜基材对光学性能要求也很高，如扩散膜和增亮膜的透光率通常要求能够高于90％以上，雾度低于2.0以下；保护膜的透光率通常则要求能够高于94％以上，雾度则低于1以下。
CN 106125171 A公开了一种光学膜，包括第一光学膜和第二光学膜，所述第一光学膜包括基材层，棱镜层，粘合剂层，所述棱镜层包括多个棱镜结构，所述棱镜结构至少之一具有第一峰脊和第二峰脊，第一峰脊和第二峰脊形成一沟槽；所述粘合剂层填入沟槽；所述第一光学膜通过粘合剂层与所述第二光学膜粘合。通过在棱镜结构上设置双峰结构形成沟槽并将粘合剂填入沟槽，避免牺牲第一光学膜棱镜结构的尖端结构，提高光学膜亮度。
CN 202631771 U公开了一种光学膜及显示装置。其光学膜的结构包括：光学膜基材和光学图案层，该光学膜基材与光学图案层接触的表面有至少一个凹槽，该凹槽的至少一个侧面倾斜。该现有技术提供的光学膜结构，在光学膜基材与光学图案层接触的表面设置有至少一个侧面倾斜的凹槽结构，入射光线在经过凹槽的倾斜侧面时进行了光线会聚，使光线会聚效果更好。该现有技术的光学膜使同样角度的入射光线的出射光线更加集中，达到了更好的聚光、增亮效果。
上述现有技术的光学膜，其上的各种微观结构都需要附着在一层光学透明的基材上，该基材即为光学膜的基本功能层。作为光学膜的基础，上述现有技术中的基材可以采用透明PET，PP或PC塑料等制成。这种透明基材需要满足光学膜基本的强度、柔韧性、透光性、耐热性等等要求。
另外，本领域技术人员也可以参考其它有关聚酯薄膜的现有技术来获得用于光学膜的基材。例如，CN 108610609 A公开了一种高收缩性聚酯薄膜及其制备方法，所述高收缩性聚酯薄膜包括以下原料：对苯二甲酸、乙二醇、二硬脂酸羟基铝、环糊精、纳米二氧化硅、混合催化剂。该现有技术以对苯二甲酸和乙二醇为主要原料经酯化、聚合反应得到聚酯树脂液，在聚合过程中添加合理比例的二硬脂酸羟基铝和环糊精可以粘附在得到的共聚物表面，并与聚合物作用形成一定的空间位阻，有效降低聚合物的结晶能力，而纳米二氧化硅的加入不但可以协助二硬脂酸羟基铝和环糊精增大共聚物之间的间距，降低共聚物的结晶能力，还能够提高聚酯薄膜的耐磨性能，延长聚酯薄膜的使用寿命、扩大聚酯薄膜的使用范围，提高聚酯薄膜的热收缩率。
然而作为光学膜基材，需要保持较低的收缩性以确保基材涂层稳定，高收缩性的聚酯薄膜并不适于作为光学膜基材来使用。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供光学膜基材及其制备方法，以减少或避免前面所提到的问题。
为解决上述技术问题，本发明提出了一种光学膜基材，包括聚酯薄膜以及在聚酯薄膜的至少一面形成的亚克力涂层，其中，所述聚酯薄膜为单层或者多层复合结构；所述亚克力涂层包含如下组分：聚甲基丙烯酸甲酯、正硅酸乙酯、硫化锌以及甲基三乙氧基硅烷。
优选地，所述亚克力涂层进一步包含γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷。
优选地，所述亚克力涂层的折射率为1.60以上。
另外，本发明还提出了一种光学膜基材的制备方法，所述光学膜基材包括聚酯薄膜以及在聚酯薄膜的至少一面形成的亚克力涂层，所述方法包括聚酯薄膜的制备步骤，以及获得聚酯薄膜之后，在聚酯薄膜的表面形成亚克力涂层的步骤；所述亚克力涂层包含如下组分：70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、以及10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷。
优选地，形成所述亚克力涂层的步骤包括：将构成亚克力涂层的组分按照每100重量份的比例，添加到50-200重量份的乙醚和50-100重量份的去离子水中均匀混合，然后通过旋涂或者喷涂方式涂覆在复合聚酯薄膜的表面，在90-100℃下固化2-3小时，即可制备获得亚克力涂层。
优选地，所述聚酯薄膜的制备步骤包括：将含有功能料切片的聚酯母料切片，输入薄膜制备机构，通过熔融挤出、模头铸片、横向远红外拉伸、冷却定型、收卷、分切，制成单层结构的聚酯薄膜；所述亚克力涂层形成在所述聚酯薄膜的一侧或者两侧。
优选地，所述聚酯薄膜的制备步骤包括：将含有功能料切片的聚酯母料切片作为聚酯薄膜的工作聚酯层的原料，将普通膜用聚酯切片作为聚酯薄膜的支撑聚酯层的原料，分别输入薄膜制备机构，通过熔融挤出、模头铸片、横向远红外拉伸、冷却定型、收卷、分切，制成双层复合结构的聚酯薄膜；所述亚克力涂层形成在聚酯薄膜的工作聚酯层的外表面。
优选地，所述聚酯薄膜的制备步骤包括：将含有功能料切片的聚酯母料切片作为聚酯薄膜的两侧的工作聚酯层的原料，将普通膜用聚酯切片作为聚酯薄膜的中间的支撑聚酯层的原料，分别输入薄膜制备机构，通过熔融挤出、模头铸片、横向远红外拉伸、冷却定型、收卷、分切，制成三层复合结构的聚酯薄膜；所述亚克力涂层形成在所述聚酯薄膜的两侧的工作聚酯层的外表面。
优选地，所述聚酯母料切片中含有1.0wt％～5.0wt％的功能料切片，所述功能料切片包含聚苯乙烯或聚乙烯、聚乳酸、气凝胶、碱土金属硅酸盐以及聚二甲基硅氧烷。
优选地，所述碱土金属硅酸盐优选为硅酸镁或者硅酸钙，最优选为硅酸镁。
本发明的光学膜基材，对于聚酯薄膜以及在聚酯薄膜的至少一面形成的亚克力涂层均提供了改进。其中，改进的亚克力涂层配方相对普通亚克力材料具备更高的折射率，可以提高亚克力涂层的附着力，并提供更加完善的折射率组合以消除结构影像。
另外，本发明的光学基膜，进一步提供了改进的聚酯薄膜及其制备方法，使得本发明的光学膜基材的聚酯薄膜，可以为亚克力涂层提供更好的附着力，同时使得本发明中的聚酯薄膜具备优异的加工性能、良好的拉伸强度和透光率以及阻燃性能。另外，本发明的对聚酯薄膜的改进增进了其光泽度、耐磨、耐高温、隔热性能的提高。
附图说明
以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。其中，
图1显示的是本发明的一种光学膜基材的剖面结构示意图；
图2显示的是本发明的另一种光学膜基材的剖面结构示意图；
图3显示的是本发明的又一种光学膜基材的剖面结构示意图；
图4显示的是本发明的再一种光学膜基材的剖面结构示意图。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现详细说明本发明的具体实施方式。
光学膜是一类比较精细的薄膜，对薄膜的机械性能、尺寸稳定性、耐化学性、电气绝缘性、透光性等等要求都很高。鉴于现有技术的问题，本发明提出了一种光学膜基材。本发明的基材，可以通过热压成型、紫外光照射成型、粘接、涂覆或者溅射等方式在基材上附着一层或者多层条纹、凸起等微观结构、透明电路、折射层、金属氧化物层、金属溅射层等等，用以获得不同功能、结构的光学膜，所述光学膜可用于光学、照明等领域中的保护膜、反射膜、扩散膜、增亮膜、遮光膜等等，不一而足。
如图1-4所示，本发明的光学膜基材包括聚酯薄膜3以及在聚酯薄膜3的至少一面形成的亚克力涂层2，所述聚酯薄膜3为单层或者多层复合结构。其中，图1和图2所示实施例中，聚酯薄膜3为单层结构。图3所示实施例中，聚酯薄膜3为双层复合结构，该双层复合结构的聚酯薄膜3由双层共挤而成的工作聚酯层31和支撑聚酯层33构成，其中亚克力涂层2涂覆在工作聚酯层31的表面。图4所示实施例中，聚酯薄膜3为三层复合结构，该三层复合结构的聚酯薄膜由三层共挤而成的工作聚酯层31和夹在两层工作聚酯层31之间的支撑聚酯层33构成，其中，亚克力涂层2涂覆在工作聚酯层31的表面。另外，在图1和图3所示实施例中，仅在聚酯薄膜3的一面形成了亚克力涂层2。在图2和图4所示实施例中，在聚酯薄膜3的两面均形成了亚克力涂层2。
本发明的光学膜基材中，亚克力涂层2为工作涂层，用于在其上形成各种微观结构、透明电路、折射层、金属氧化物层、金属溅射层等等。聚酯薄膜3提供基本的强度、柔韧性、透光性、耐热性等功能。当聚酯薄膜3为多层复合结构的时候，工作聚酯层31可以为亚克力涂层以及外侧的微观结构、透明电路、折射层、金属氧化物层、金属溅射层等提供良好的附着力，支撑聚酯层33可以为整个光学膜提供一定的结构支撑，以满足成本、厚度、强度、柔韧性等要求。
在具体实施例中，亚克力涂层2的厚度为5～10μm。聚酯薄膜3的厚度为30～300μm。双层复合结构的聚酯薄膜3中的工作聚酯层31的厚度为10～50μm，支撑聚酯层33的厚度为20～250μm。三层复合结构的聚酯薄膜3中的工作聚酯层31的厚度为10～50μm，支撑聚酯层33的厚度为10～200μm。
另外，本发明提供了一种改进的亚克力涂层配方，以提高亚克力涂层的附着力，并提供更加完善的折射率组合以消除结构影像。具体来说，本发明的亚克力涂层2通过涂覆在聚酯薄膜3的外表面固化而成，其相对普通亚克力材料具备更高的折射率。普通亚克力材料对光线的折射率通常为1.47～1.50左右，本发明的亚克力涂层2的折射率优选大于1.60，更有选为1.65左右。高折射率的亚克力涂层有利于消除基材上形成的微观结构、涂层、电路等图案的影像，有利于提高光学膜的视觉感受效果。
进一步地，本发明的亚克力涂层2可以包含如下组分：聚甲基丙烯酸甲酯、正硅酸乙酯、硫化锌以及甲基三乙氧基硅烷。其中，添加有硫化锌的聚甲基丙烯酸甲酯可以提供固化后的硬质亚克力表面，为外侧各种反射层等等提供稳定的支撑，同时可以获得较高的光折射率。正硅酸乙酯和甲基三乙氧基硅烷用于提供紧致附着的氧化硅结构，提高耐磨性能以及优异的电化学特性，便于在其上形成各种金属反射层。
在一个具体实施例中，亚克力涂层2可以由70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、2-5重量份的硫化锌以及10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷组成。上述亚克力涂层的组分可以按照每100重量份的比例，添加到50-200重量份的乙醚和50-100重量份的去离子水中均匀混合，然后通过旋涂或者喷涂方式涂覆在复合聚酯薄膜3的表面，在90-100℃下固化2-3小时，即可获得本发明的亚克力涂层。
进一步地，还可以在上述亚克力涂层的组分中进一步添加5-10重量份的γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷，用以对涂层中的氧化硅提供进一步地偶联修饰，可以进一步提高亚克力涂层中氧化硅的致密性以及电绝缘特性。此时，所述亚克力涂层2可以由70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、2-5重量份的硫化锌、10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷以及5-10重量份的γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷组成。同样的，上述亚克力涂层的组分同样可以按照每100重量份的比例，添加到50-200重量份的乙醚和50-100重量份的去离子水中均匀混合，然后通过旋涂或者喷涂方式涂覆在复合聚酯薄膜3的表面，在90-100℃下固化2-3小时，即可获得本发明的亚克力涂层。
另外，本发明还提供了一种制备本发明的光学膜基材的制备方法，使得本发明的光学膜基材的聚酯薄膜3，可以进一步提高亚克力涂层的附着力，同时使得本发明中的聚酯薄膜具备优异的加工性能、良好的拉伸强度和透光率以及阻燃性能。具体来说，本发明的光学膜基材的制备方法包括聚酯薄膜3的制备步骤，以及获得聚酯薄膜3之后，在聚酯薄膜3的表面形成亚克力涂层2的步骤。其中，有关获得亚克力涂层2的步骤前面已经进行了描述，下面主要针对聚酯薄膜3的制备步骤进行详细说明。
应当说明的是，本发明试图将图1～4所示的各种实施例的光学膜基材描述在一个专利发明中，难免会出现遗漏，本领域技术人员应当基于发明人的发明意图对本发明进行理解，而不能仅限于文字上的具体实施例。
例如，对于图1和图2的单层结构的聚酯薄膜，本发明的聚酯薄膜的制备步骤包括：将含有功能料切片(后面将对此进一步详细说明)的聚酯母料切片，输入薄膜制备机构，通过熔融挤出、模头铸片、横向远红外拉伸、冷却定型、收卷、分切，制成单层结构的聚酯薄膜。然后在聚酯薄膜的一侧或者两侧形成亚克力涂层。
或者，对于图3所示的双层复合结构的聚酯薄膜，本发明的聚酯薄膜的制备步骤包括：将含有功能料切片的聚酯母料切片作为工作聚酯层31的原料，将普通膜用聚酯切片作为支撑聚酯层33的原料，分别输入薄膜制备机构，通过熔融挤出、模头铸片、横向远红外拉伸、冷却定型、收卷、分切，制成双层复合结构的聚酯薄膜。然后在聚酯薄膜的工作聚酯层31的外表面形成亚克力涂层。
或者，对于图4所示的三层复合结构的聚酯薄膜，本发明的聚酯薄膜的制备步骤包括：将含有功能料切片的聚酯母料切片作为两侧的工作聚酯层31的原料，将普通膜用聚酯切片作为中间的支撑聚酯层33的原料，分别输入薄膜制备机构，通过熔融挤出、模头铸片、横向远红外拉伸、冷却定型、收卷、分切，制成三层复合结构的聚酯薄膜。然后在聚酯薄膜的两侧的工作聚酯层31的外表面分别形成亚克力涂层。
由此，本发明的聚酯薄膜的制备方法，进一步包括本发明的聚酯母料切片的制备步骤。本发明的普通膜用聚酯切片可以购买或者通过现有的聚酯制备工艺获得，其为本领域公知常识，在此不再一一赘述。其中，本发明的聚酯母料切片可以通过在普通聚酯中添加1.0wt％～5.0wt％的功能料切片(后面将对此进一步详细说明)制备获得；也可以在购买或者制备的普通膜用聚酯切片中添加1.0wt％～5.0wt％的功能料切片，然后通过熔融共挤制备获得。
进一步地，本发明的聚酯薄膜的制备方法，进一步包括功能料切片的制备步骤。本发明的功能料切片包含聚苯乙烯或聚乙烯、聚乳酸、气凝胶、碱土金属硅酸盐以及聚二甲基硅氧烷。
功能料切片中的气凝胶俗称“蓝烟”，是一种具有多孔、无序、具有纳米量级连续网络结构的低密度二氧化硅气凝胶，比表面积比普通二氧化硅大很多，用现有技术的磷酸酯偶联剂、硅烷偶联剂(例如乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三(β-甲氧乙氧基)硅烷等)比普通二氧化硅更加难以分散。由于密度非常低，很容易漂浮，无法分散到聚酯内部。气凝胶的多孔结构可以通过聚二甲基硅氧烷与聚乳酸以及聚丙乙烯或聚乙烯产生强大的结合力，增大了气凝胶的密度，可以使气凝胶沉入聚酯内部。碱土金属硅酸盐的比表面积也很大，疏松多孔特性与气凝胶类似，但是分散性却较好，利用碱土金属硅酸盐的硅元素成分与气凝胶产生的吸附，可以提高气凝胶的分散性，避免团聚。
另外需要提及的是，由于二氧化硅气凝胶的添加，制得的聚酯薄膜的收缩率会发生较为明显的变化，对于热收缩薄膜是相当有利的。然而光学领域(例如显示基膜、窗膜等)用到的聚酯薄膜，要求薄膜的收缩率尽量保持较低的水平较为理想。本发明中，通过硅酸盐成分与气凝胶的结合，一方面提高分散性，另一方面利用碱土金属降低添加了气凝胶的薄膜的收缩率，进而提高薄膜的光学性能。在一个具体实施例中，所述碱土金属硅酸盐优选为硅酸镁或者硅酸钙，最优选为硅酸镁。
在一个具体实施例中，功能料切片中各组分的重量份含量分别为：气凝胶50-55重量份、聚乳酸10～15重量份、聚苯乙烯或聚乙烯30～60重量份，聚二甲基硅氧烷30～40重量份，碱土金属硅酸盐10～15重量份。
当功能料切片添加到聚酯中的时候，聚乳酸在高温下容易分解成水和二氧化碳，从而与气凝胶脱离。气凝胶以及碱土金属硅酸盐的硅原子由于结合了聚二甲基硅氧烷的硅原子，聚二甲基硅氧烷另一端的高分子可以与聚酯的烷烃结合，气凝胶即便失去了聚乳酸的亲和，通过聚二甲基硅氧烷仍然可以将气凝胶和碱土金属硅酸盐保持在聚酯内部。而分解的聚乳酸所产生的二氧化碳会形成气泡，将聚酯中的其它固态无机物粒子带到产品的表层，例如可以将金属盐抗氧化剂、催化剂等带到聚酯的表层部分，可以在聚酯表面形成凸凹结构，起到了抗粘连的作用，从而可以减少无机抗粘连粒子的投加量，提高了聚酯的透光性。例如经检测，一般在减少20％～30％的抗粘连粒子的用量的情况下，聚酯薄膜的抗粘连效果并无明显变化，而聚酯薄膜的透光性能够得到大幅提升。碱土金属硅酸盐中的碱土元素易于与聚酯中常用磷类化合物催化剂、稳定剂、阻燃剂等形成具有适当强度的相互作用的络合物，除了可以提高气凝胶的分散性之外，还可以提高气凝胶以及碱土金属硅酸盐在聚酯中的结合力，有利于提高聚酯薄膜的光线透过率。另外如前所述，硅酸镁或硅酸钙之类的碱土金属硅酸盐的加入，可以降低聚酯薄膜的收缩率，尤其适用于添加到光学领域聚酯薄膜之中，有利于提高光学基膜的光学性能。
在本发明的一个具体实施例中，优选可以将50-55重量份的粒径0.5μm～10μm的气凝胶颗粒120℃烘干4小时；将10～15重量份的粒径0.5μm～10μm的碱土金属硅酸盐颗粒120℃烘干4小时；将10～15重量份的粒径0.5mm以下的聚乳酸颗粒110℃烘干4小时；将10～15重量份的粒径0.5mm以下的聚苯乙烯或聚乙烯颗粒110℃烘干4小时。将上述烘干后的颗粒，常温投入到30～40重量份的液态聚二甲基硅氧烷中高速搅拌2小时，获得膏状料，搅拌速度1000-1500rpm。将110℃烘干4小时的20～45重量份的聚苯乙烯或聚乙烯颗粒(此处可以不用粉碎，仅以购买的颗粒形式烘干即可)，与上述膏状料投入挤出机的混料区，均匀混合后熔融挤出、造粒获得功能料切片。
聚二甲基硅氧烷不溶于水，与普通无机颗粒的亲和力较差，需要高速搅拌的剪切力才能分散，不适于直接添加到聚酯中。聚二甲基硅氧烷的硅原子可以与气凝胶以及碱土金属硅酸盐的硅原子形成牢固的分子结合，结合力很强，施加高速搅拌也不会让二者分离。聚二甲基硅氧烷另一端的高分子可以与聚酯的烷烃结合，结合力也很强。不但分散效果很好，而且由于是分子结合，不会脱离结合发生团聚现象。而普通二氧化硅表面光滑，与现有偶联剂的结合力不够，分散时搅拌力度过大会与偶联剂脱离，添加到聚酯中仍然会团聚。
优选地，制备的功能料切片在生产出来后24小时内，与已经制备好的普通膜用聚酯切片均匀混合，最后熔融、共挤、切粒、干燥，获得功能料切片的含量为1.0wt％～5.0wt％的聚酯母料切片。
或者，在另一个具体实施例中，本发明的功能料切片优选在聚酯的缩聚阶段投入，同样是在生产出来后24小时内投入功能料切片。例如，本发明的聚酯母料切片可以通过如下步骤制备：在通用聚合反应釜中加入对苯二甲酸，乙二醇，二氧化锗，在230～265℃、0.2～0.3Mpa(表压)下进行酯化反应，酯化结束后，泄压至常压，加入磷酸三乙酯以及功能料切片进行缩聚，常压搅拌10分钟，升温降度压到280℃及100Pa以下，经1～3小时反应完毕后，挤出、切粒，获得功能料切片的含量为1.0wt％～5.0wt％的膜用聚酯。其中，磷酸三乙酯可作为缩聚催化剂，也可以作为稳定剂使用，功能料切片中的碱土金属离子可以与磷酸三乙酯形成较为牢固的络合物，可以充分发挥功能料切片的功能。经检测，添加了功能料切片的聚酯母料，对其中的原聚酯的粘度影响很小，有利于保持聚酯参数的稳定性。另外，对聚酯薄膜的光泽度、耐磨、耐高温以及隔热性能均有10％～20％的改善。
本领域技术人员应当理解，虽然本发明是按照多个实施例的方式进行描述的，但是并非每个实施例仅包含一个独立的技术方案。说明书中如此叙述仅仅是为了清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体加以理解，并将各实施例中所涉及的技术方案看作是可以相互组合成不同实施例的方式来理解本发明的保护范围。
以上所述仅为本发明示意性的具体实施方式，并非用以限定本发明的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和原则的前提下所作的等同变化、修改与结合，均应属于本发明保护的范围。
Claims (7)
1.一种光学膜基材的制备方法，所述光学膜基材包括聚酯薄膜（3）以及在聚酯薄膜（3）的至少一面形成的亚克力涂层（2），其特征在于，所述方法包括聚酯薄膜（3）的制备步骤，以及获得聚酯薄膜（3）之后，在聚酯薄膜（3）的表面形成亚克力涂层（2）的步骤；
所述聚酯薄膜的制备步骤包括：将含有功能料切片的聚酯母料切片，输入薄膜制备机构，通过熔融挤出、模头铸片、横向远红外拉伸、冷却定型、收卷、分切，制成单层结构的聚酯薄膜；所述亚克力涂层形成在所述聚酯薄膜的一侧或者两侧；
所述聚酯母料切片中含有1.0 wt%～5.0 wt%的功能料切片，所述功能料切片包含气凝胶50～55重量份、聚乳酸10～15重量份、聚苯乙烯或聚乙烯30～60重量份，聚二甲基硅氧烷30～40重量份，碱土金属硅酸盐10～15重量份；
所述亚克力涂层（2）包含如下组分：70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、2-5重量份的硫化锌以及10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷。
2.一种光学膜基材的制备方法，所述光学膜基材包括聚酯薄膜（3）以及在聚酯薄膜（3）的至少一面形成的亚克力涂层（2），其特征在于，所述方法包括聚酯薄膜（3）的制备步骤，以及获得聚酯薄膜（3）之后，在聚酯薄膜（3）的表面形成亚克力涂层（2）的步骤；
所述聚酯薄膜（3）的制备步骤包括：将含有功能料切片的聚酯母料切片作为聚酯薄膜（3）的工作聚酯层（31）的原料，将普通膜用聚酯切片作为聚酯薄膜（3）的支撑聚酯层（33）的原料，分别输入薄膜制备机构，通过熔融挤出、模头铸片、横向远红外拉伸、冷却定型、收卷、分切，制成双层复合结构的聚酯薄膜；所述亚克力涂层（2）形成在聚酯薄膜（3）的工作聚酯层（31）的外表面；
所述聚酯母料切片中含有1.0 wt%～5.0 wt%的功能料切片，所述功能料切片包含气凝胶50～55重量份、聚乳酸10～15重量份、聚苯乙烯或聚乙烯30～60重量份，聚二甲基硅氧烷30～40重量份，碱土金属硅酸盐10～15重量份；
所述亚克力涂层（2）包含如下组分：70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、2-5重量份的硫化锌以及10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷。
3.一种光学膜基材的制备方法，所述光学膜基材包括聚酯薄膜（3）以及在聚酯薄膜（3）的至少一面形成的亚克力涂层（2），其特征在于，所述方法包括聚酯薄膜（3）的制备步骤，以及获得聚酯薄膜（3）之后，在聚酯薄膜（3）的表面形成亚克力涂层（2）的步骤；
所述聚酯薄膜（3）的制备步骤包括：将含有功能料切片的聚酯母料切片作为聚酯薄膜（3）的两侧的工作聚酯层（31）的原料，将普通膜用聚酯切片作为聚酯薄膜（3）的中间的支撑聚酯层（33）的原料，分别输入薄膜制备机构，通过熔融挤出、模头铸片、横向远红外拉伸、冷却定型、收卷、分切，制成三层复合结构的聚酯薄膜；所述亚克力涂层（2）形成在所述聚酯薄膜（3）的两侧的工作聚酯层（31）的外表面；
所述聚酯母料切片中含有1.0 wt%～5.0 wt%的功能料切片，所述功能料切片包含气凝胶50～55重量份、聚乳酸10～15重量份、聚苯乙烯或聚乙烯30～60重量份，聚二甲基硅氧烷30～40重量份，碱土金属硅酸盐10～15重量份；
所述亚克力涂层（2）包含如下组分：70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、2-5重量份的硫化锌以及10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷。
4.如权利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，形成所述亚克力涂层（2）的步骤包括：将构成亚克力涂层的组分按照每100重量份的比例，添加到50-200重量份的乙醚和50-100重量份的去离子水中均匀混合，然后通过旋涂或者喷涂方式涂覆在复合聚酯薄膜的表面，在90-100℃下固化2-3小时，即可制备获得亚克力涂层。
5.一种如权利要求1-3之一所述的方法制备的光学膜基材，包括聚酯薄膜（3）以及在聚酯薄膜（3）的至少一面形成的亚克力涂层（2），其特征在于，所述聚酯薄膜（3）为单层或者多层复合结构；所述亚克力涂层形成在所述聚酯薄膜的含有功能料切片的聚酯母料切片形成的结构的外表面；所述聚酯母料切片中含有1.0 wt%～5.0 wt%的功能料切片，所述功能料切片包含气凝胶50～55重量份、聚乳酸10～15重量份、聚苯乙烯或聚乙烯30～60重量份，聚二甲基硅氧烷30～40重量份，碱土金属硅酸盐10～15重量份；所述亚克力涂层（2）包含如下组分：70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、2-5重量份的硫化锌以及10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷。
6.如权利要求5所述的光学膜基材，其特征在于，所述亚克力涂层（2）进一步包含5-10重量份的γ-（2，3-环氧丙氧基）丙基三甲氧基硅烷。
7.如权利要求5所述的光学膜基材，其特征在于，所述亚克力涂层（2）的折射率为1.60以上。
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