CN112859400B - 检测系统及检测方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种检测系统及方法，包括：检测平台，检测平台包括多个待检测区域，待检测区域用于放置待检测的显示面板；阵列测试器，用于检测显示面板是否异常；用于检测阵列测试器异常的至少一个检测装置，每个检测装置包括：第一支架，第一支架的长度与待检测区域的长度/宽度匹配；光学检测单元，设置在第一支架上，可在第一支架上移动，用于检测阵列测试器是否存在异常；清洁单元，设置在第一支架上，可在第一支架上移动，用于清除阵列测试器上的杂质。该检测系统及方法，新增清洁单元清洁阵列测试器表面的杂质，新增光学检测单元检测阵列测试器表面是否异常；减少阵列测试器的损耗，降低因阵列测试器表面异常造成的产品损坏，降低生产成本。

Description

检测系统及检测方法

技术领域

本申请涉及显示面板检测技术领域，尤其涉及一种检测系统及检测方法。

背景技术

阵列测试器(Array Tester)是薄膜晶体管液晶显示器(Thin film transistorliquid crystal display，TFT-LCD)在阵列制程(Array)完成后，对产品综合性能检测的一种设备。其基本检测方法是模拟TFT-LCD的工作原理，在基板测试器的量测头里灌注液晶，在薄膜晶体管一侧加电，不同的像素电压使得量测头内的液晶发生不同程度的偏转。根据电荷耦合器件(charge coupled device，CCD)通过液晶收集到的不同强度的光，再转换为电信号，进而判断薄膜晶体管是否异常。

因为模拟TFT-LCD的工作原理，因此基板测试器的量测头距离显示面板的表面很近。在设备实际运行时，会存在量测头超过使用寿命后发生异常的风险，比如表面边界翘曲，表面膜褶皱，或累积造成表面凸点等。这些异常会导致量测头异常，在测量显示面板的过程中，造成显示面板损坏。

发明内容

本申请实施例提供一种检测系统及检测方法，旨在解决现有技术下通过人工检测阵列测试器是否异常，效率以及准确率低的问题。

第一方面，本申请实施例提供一种检测系统，所述检测系统包括：

检测平台，所述检测平台包括多个待检测区域，所述待检测区域用于放置待检测的显示面板；

阵列测试器，所述阵列测试器用于检测所述显示面板是否异常；

用于检测所述阵列测试器异常的至少一个检测装置，每个检测装置包括：

第一支架，所述第一支架的长度与所述待检测区域的长度/宽度匹配；

光学检测单元，所述光学检测单元设置在所述第一支架上，所述光学检测单元可在所述第一支架上移动，所述光学检测单元用于检测阵列测试器是否存在异常；

清洁单元，所述清洁单元设置在所述第一支架上，所述清洁单元可在所述第一支架上移动，所述清洁单元用于清除所述阵列测试器上的杂质。

进一步地，所述清洁单元包括：

支撑轴，所述支撑轴与所述第一支架连接，并可在所述第一支架上移动；

夹持模块，所述夹持模块设置在所述支撑轴上，用于夹持清洁模块；

清洁模块，所述清洁模块用于清除所述阵列测试器上的杂质。

进一步地，所述支撑轴包括滑动轴承，所述支撑轴通过所述滑动轴承在所述第一支架上滑动。

进一步地，所述夹持模块为多个，所述清洁模块为无尘布，多个所述夹持模块夹持所述无尘布，使得所述无尘布处于张紧状态，使得张紧状态的无尘布擦拭所述阵列测试器，以去除所述阵列测试器上的杂质。

进一步地，所述至少一个检测装置为包括多个检测装置，所述多个检测装置设置在所述待检测区域的同一侧，且所述多个检测装置相对设置。

进一步地，所述检测系统还包括：

传感装置，所述传感装置设在所述检测第一支架的两端，用于检测所述清洁单元在所述第一支架上的位置，并根据所述清洁单元在所述第一支架上的位置判断所述清洁单元是否使用完毕；

告警装置，所述告警模块用于在所述清洁模块使用完毕后生成告警以更换所述清洁单元中的清洁模块。

进一步地，所述检测系统还包括：

第二支架，所述阵列测试器通过所述第二支架垂直设置在所述检测平台上方。

进一步地，在垂直于所述检测平台的方向上，所述第一支架设置在所述第二支架和所述检测平台之间。

进一步地，所述光学检测单元的精度为20um至45um。

第二方面，本申请实施例提供一种检测方法，用于如上任一项所述的检测系统，所述方法包括：

控制阵列测试器从静置区出发，测量当前待检测的显示面板的数量，确定需要测量的待检测的显示面板的范围，并检测所述显示面板是否异常；

当所述阵列测试器测量所述待检测的显示面板结束后，将所述阵列测试器回归至所述静置区；

利用检测装置中的清洁单元对所述阵列测试器进行清洁，以去除所述阵列测试器上的杂质；

利用检测装置中的光学检测单元检测所述阵列测试器表面是否出现异常；

若所述阵列测试器出现异常，则确定所述当前待检测面板出现了异常。

本申请实施例提供的检测系统及检测方法，通过新增清洁单元，来清洁阵列测试器表面的杂质，以及新增光学检测单元检测阵列测试器表面是否有边界翘曲、膜褶皱或凸点。减少阵列测试器的损耗，降低因阵列测试器表面形态变化造成的产品损坏，降低生产成本。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本申请实施例提供的阵列测试器的检测装置一实施例示意图；

图2为本申请实施例提供的阵列测试器的一实施例结构示意图；

图3为本申请实施例提供的阵列测试器检测显示面板一实施例示意图；

图4为本申请实施例提供的阵列测试器的测试方法一实施例流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本申请实施例提供一种检测系统，检测系统中主要包括检测平台、阵列测试器和阵列测试器的检测装置，其中阵列测试器用于检测显示面板是否异常，而检测装置用于检测阵列测试器是否异常，避免阵列测试器异常导致对显示面板造成损坏。

如图1所示，为本申请实施例提供的检测系统一实施例示意图，其中，检测系统可以包括：

检测平台，检测平台包括多个待检测区域，待检测区域用于放置待检测的显示面板。

阵列测试器，阵列测试器用于检测显示面板是否异常。

用于检测阵列测试器异常的至少一个检测装置，每个检测装置包括：

第一支架，第一支架的长度与待检测区域的长度/宽度匹配。

光学检测单元，光学检测单元设置在第一支架上，光学检测单元可沿第一方向移动，光学检测单元用于检测阵列测试器是否存在异常。

清洁单元，清洁单元设置在第一支架上，清洁单元可沿第一方向移动，清洁单元用于清除阵列测试器上的杂质。

本申请实施例提供的检测系统，通过新增清洁单元，来清洁阵列测试器表面的杂质，以及新增光学检测单元检测阵列测试器表面是否有边界翘曲、膜褶皱或凸点。减少阵列测试器的损耗，降低因阵列测试器表面形态变化造成的产品损坏，降低生产成本。

如图1中所示，图1所示的检测系统中包括检测平台11，而检测平台11上包括多个待检测区域，检测平台11上的不同待检测区域内主要用于放置待检测的显示面板，等待阵列测试器12(图中未示出)检测显示面板是否异常。

而阵列测试器12与检测平台11所处的平面垂直设置，阵列测试器12垂直设置在检测平台11所处的平面上方。

如图2所示，为本申请实施例提供的阵列测试器的一实施例结构示意图，其中阵列测试器12可以包括从上至下依次设置的感光单元121、分束器122和量测头123。其中量测头123中设置在检测平台11的上方，显示面板放置在检测平台11上的待检测区域内；且量测头123中灌注有液晶以模拟TFT-LCD的工作原理，来检测显示面板是否异常。

具体的，外部光线经过分束器122后，到达量测头123，由于量测头123中灌注有液晶，使得量测头123内的液晶发生不同程度的偏转，并反射不同强度的光线至感光单元121。而感光单元121将接受到的反射光转换为电信号，进而检测显示面板是否异常。

如图3所示，为本申请实施例提供的阵列测试器检测显示面板一实施图。从图3中可以看出，由于量测头123检测显示面板是否异常时是利用TFT-LCD的工作原理，因此量测头123与显示面板之间的距离很近，通常在0-50um内。此时若是量测头123表面翘曲或出现褶皱等问题，由于量测头123与显示面板距离较近，变形的量测头123会对显示面板造成损坏。

而本申请实施例提供的阵列测试器的检测装置，可以检测阵列测试器是否异常，具体的主要检测量测头123是否出现前述表面翘曲、出现褶皱或表面凸点等异常。

如图1中所示，待检测的显示面板放置在检测平台11上等待检测，第一支架13通常设置在检测平台11的侧边上。而检测平台11的俯视图为矩形结构，因此第一支架13的长度需要和检测平台11的长度或宽度匹配。具体的，当第一支架13沿着检测平台11的长度方向设置时，第一支架13的长度与检测平台11的长度匹配；当第一支架13沿着检测平台11的宽度方向设置时，第一支架13的长度与检测平台11的宽度匹配。

在上述实施例中，检测系统中还包括用于检测阵列测试器异常的至少一个检测装置，且每个检测装置均包括第一支架13、光学检测单元14和清洁单元15。而光学检测单元14设置在第一支架13上，且光学检测单元14可以在第一支架上移动，以检测阵列测试器12是否存在异常。其中，检测阵列测试器12是否存在异常，主要是检测阵列测试器中的量测头123是否存在异常。

而清洁单元15也设置在第一支架13上，同时清洁单元15也可以在第一支架上移动，以检测阵列测试器12是否存在异常。其中，检测阵列测试器12是否存在异常，主要是检测阵列测试器中的量测头123是否存在异常。

在本申请的一些实施例中，清洁单元15可以包括支撑轴(图中未示出)，清洁单元15通过支撑轴与第一支架13连接，支撑轴可以在第一支架上移动以使得清洁单元15可以在第一支架上移动。

在本申请的一些实施例中，支撑轴可以包括滑动轴承，支撑轴通过滑动轴承在第一支架13上滑动。

清洁单元15还可以包括夹持模块和清洁模块(图中未示出)，而夹持模块设置在支撑轴上，用于夹持清洁模块。清洁模块通过夹持模块设置在支撑轴上，清洁模块随着支撑轴的移动而移动，清洁模块是清洁单元中真正用于清除阵列测试器上杂质的模块。

在本申请的一个具体实施例中，清洁单元15中的夹持模块可以为撑布夹子，且撑布夹子为多个；而清洁模块为无尘布，无尘布在夹持模块的控制下清除阵列测试器上的杂质。

具体的，多个夹持模块夹持无尘布，即多个撑布夹子将无尘布撑开拉直，使得无尘布处于张紧状态，使得当需要对量测头123进行清洁时，多个撑布夹子在第一支架13上移动，同时利用张紧的无尘布，从量测头123的一侧沿着同一个方向擦到另一侧，完成对阵列测试器即量测头123的清洁。

在本申请的另一些实施例中，清洁单元也可以为其他具有清洁效果的装置，本申请中不做限定。

如图1所示的实施例中，检测装置仅为一个，即检测装置中的第一支架13、清洁单元15和光学检测单元14也均只有一个；而在本申请的另一些实施例中，检测装置可以为多个，即检测装置中的第一支架13、清洁单元15和光学检测单元14均可以为多个；而多个检测装置设置检测平台11的同一侧。需要说明的是，检测装置的数量与第一支架13、清洁单元15、光学检测单元14的数量相同。

具体的，请参考图1，多个第一支架13可以设置在检测平台11上设置有待检测区域的一侧；即多个检测装置设置在检测平台11上设置有待检测区域的一侧；即多个检测装置均设在检测平台11上方。同时，多个第一支架13还可以相对设置，使得多个检测装置也相对设置，即多个检测装置可以设置在检测平台11上相对的两个侧边。而检测平台11上同一侧边处的检测装置的数量不做限定，即多个检测装置无需均匀设置在检测平台11上相对的两个侧边。这样设置使得不论阵列检测器12处于哪个位置，设置在多个第一支架13上的多个清洁单元15和光学检测单元14均可以对阵列检测器12进行检测。

如图1中所示，在本申请的一个具体实施例中，第一支架13设置在检测平台11上方，而第一支架13沿着X轴方向设置，即沿着检测平台的长度方向设置。光学检测单元14和清洁单元15设置在第一支架13上，光学检测单元14和清洁单元15也沿着X轴方向移动，以对量测头123进行清洁。

在本申请的实施例中，检测系统还可以包括传感装置和告警装置。其中，传感装置(图中未示出)设置在第一支架的两侧，用于检测清洁单元在第一支架上的位置，并根据清洁单元在第一支架上的位置判断清洁单元是否使用完毕；而告警模块(图中未示出)主要用于当清洁模块使用完毕后生成告警以提示操作人员更换清洁单元中的清洁模块。

具体的，当清洁单元15在第一支架13上移动以清洁阵列检测器时，若是清洁单元15从第一支架13的一端移动到另一端，则可以认为清洁单元15清洁完毕，此时需要更换清洁单元上的清洁模块。因此需要利用传感转装置时刻检测清洁单元15在第一支架上的位置，以判断清洁单元15是否清洁完毕。

具体的，若清洁模块为无尘布，则当无尘布对阵列检测器清洁完毕后，需要更换无尘布，避免已经使用的无尘布上沾染杂质，导致在后续的清洁过程中对阵列检测器造成损坏，因此告警模块在无尘布使用完毕后，生成告警以提示操作人员更换新的无尘布，便于后续使用。

即当传感装置检测到清洁单元从第一支架13上的一端移动到另一端后，传感装置可以判断清洁单元15使用完毕，传感装置发送信号至告警装置，而告警装置则会生成告警以提示更换清洁单元中的清洁模块。

本申请的实施例中，清洁单元15主要用于清除阵列测试器上的杂质，而光学检测单元14则是检测阵列测试器是否异常，主要是检测量测头表面是否存在边界翘曲、褶皱或凸点等异常。

其中，光学检测单元14可以为自动光学检测单元(Auto-mated OpticalInspection，AOI)，其中AOI技术也称为机器视觉检测(machine vision inspection,MVI)技术或自动视觉检测(automated visual inspection,AVI)技术。利用AOI技术对量测头表面进行异常识别的具体过程可以参考现有技术，此处不做任何限定。

而在本申请的一些实施例中，光学检测单元14可以为多个，进一步提高检测的精度。而对于单个光学检测单元14来说，光学检测单元14的精度可以为20um至45um。即光学检测单元14检测到的量测头123与初始未工作的量测头123相比，表面发生位移(边界翘曲、褶皱或凸点)的范围在20um至45um时，光学检测单元14可以检测出来。

请结合图1和图2，在本申请的另一些实施例中，检测系统还可以包括：第二支架(图中未示出)，而阵列测试器设置在第二支架上，且第二支架可以控制阵列测试器在垂直于检测平台11所处的平面的方向上移动，便于阵列测试器更好的测试显示面板是否异常。

而检测系统还可以包括第三支架，第三支架与检测平台11处于同一水平面，包括扎针治具等其他装置可以通过第三支架与检测平台11连接，以实现其他的功能。

而在本申请的实施例中，由于清洁单元和光学检测单元设置在第一支架上检测阵列测试器12是否异常，主要为检测阵列测试器12上的量测头123是否异常，而量测头123位于阵列测试器上靠近检测平台11的一侧；又由于测量头123在垂直于显示面板所处的平面的方向上可以移动，因此，第一支架13在垂直于检测平台11所处的平面的方向上的高度，需要处于第二支架和检测平台11之间，避免清洁单元和光学检测单元超出量测头的移动范围。即在垂直于检测平台11的方向上，第一支架13设置在第二支架和检测平台11之间。

请参考图1、图2和图3，在图1、图2和图3所示的实施例中，第一支架13沿着X方向设置，清洁单元15和光学检测单元14设置在第一支架13上；而第二支架(图中未示出)设置在检测平台11所处的平面的上方，阵列测试器12设置在第二支架上，阵列测试器12中的量测头123靠近显示面板进行测量，且量测头123可以沿着Z方向移动。

而第三支架(图中未示出)与检测平台11处于同一水平面，第三支架上可以设置扎针治具等其他装置以实现其他功能。由于量测头可以沿着Z方向移动，因此第一支架在Z方向上的高度需要处于第二支架和第三支架之间，避免超出量测头的在Z方向上的移动范围。即第一支架沿着Z方向是可以移动的。

本申请实施例还提供一种阵列测试器的检测方法，如图4所示，该方法用于如上任一项所述的检测系统，该方法可以包括：

41、控制阵列测试器从静置区出发，测量当前待检测的显示面板的数量，确定需要测量待检测的显示面板的范围，并检测显示面板是否异常。

在本申请的实施例中，检测平台11包括放置待检测的显示面板的待检测区域，以及设置阵列测试器、检测装置等设备的静置区。在未对显示面板进行检测时，阵列测试器设置在静置区；当开始检测时，阵列测试器从静置区出发，依次检测当前检测平台11上的待检测的显示面板，在检测显示面板是否异常的同时，也测量了当前待检测的显示面板的数量，以确定了需要测量的范围。

42、当阵列测试器测量待检测的显示面板结束后，将阵列测试器回归至静置区。

当阵列测试器对待检测的显示面板测量结束后，阵列测试器会回到静置区，以便对阵列测试器进行检测。

43、利用检测装置中的清洁单元对阵列测试器进行清洁，以去除阵列测试器上的杂质。

44、利用检测装置中的光学检测单元检测阵列测试器表面是否出现异常。

在本申请的实施例中，清洁单元15沿着第一支架13移动以清洁阵列测试器，而光学检测单元14也沿着第一支架13移动以检测阵列测试器是否出现异常。具体的，当第一支架13沿着X轴方向设置时，清洁单元15和光学检测单元14均设置在第一支架13上，且沿着X轴方向移动。

清洁单元15可以对阵列测试器12进行清洁，去除阵列测试器12上的杂质，而光学检测单元14主要是检测阵列测试器12表面是否出现异常。

45、若阵列测试器出现异常，则确定当前待检测面板出现了异常。

由于每一次阵列测试器12检测显示面板结束后，均会对阵列测试器12进行清洁和光学检测，此时若是检测到阵列测试器12出现问题，则可以确定是阵列测试器12刚刚检测的显示面板出现了异常，即可以确定出现异常的显示面板，便于对出现异常的显示面板进行处理。

在本申请的实施例中，对阵列测试器进行检测的检测装置可以包括如上任一项所述的检测系统中的检测装置，具体包括如上任一项所述的检测装置中的清洁单元和光学检测单元。

本申请实施例提供的阵列测试器的检测方法，通过新增清洁单元，来清洁阵列测试器表面的杂质，以及新增光学检测单元检测阵列测试器表面是否有边界翘曲、膜褶皱或凸点。减少阵列测试器的损耗，降低因阵列测试器表面形态变化造成的产品损坏，降低生产成本。

在本申请的一些实施例中，检测系统还可以包括传感模块和告警模块，因此该方法还可以包括：

利用传感模块检测清洁单元的位置；根据清洁单元的位置判断清洁单元是否使用完毕；若清洁单元使用完毕，则告警模块生成告警以提示更换清洁单元中的清洁模块；告警模块生成告警以提示更换清洁单元中的清洁模块。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种检测系统及检测方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种检测系统，其特征在于，所述检测系统包括：

检测平台，所述检测平台包括多个待检测区域，所述待检测区域用于放置待检测的显示面板；

阵列测试器，所述阵列测试器用于检测所述显示面板是否异常；

用于检测所述阵列测试器异常的至少一个检测装置，每个检测装置包括：

第一支架，所述第一支架的长度与所述待检测区域的长度/宽度匹配；

光学检测单元，所述光学检测单元设置在所述第一支架上，所述光学检测单元可在所述第一支架上移动，所述光学检测单元用于检测阵列测试器是否存在异常；

清洁单元，所述清洁单元设置在所述第一支架上，所述清洁单元可在所述第一支架上移动，所述清洁单元用于清除所述阵列测试器上的杂质。

2.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述清洁单元包括：

支撑轴，所述支撑轴与所述第一支架连接，并可在所述第一支架上移动；

夹持模块，所述夹持模块设置在所述支撑轴上，用于夹持清洁模块；

清洁模块，所述清洁模块用于清除所述阵列测试器上的杂质。

3.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述支撑轴包括滑动轴承，所述支撑轴通过所述滑动轴承在所述第一支架上滑动。

4.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述夹持模块为多个，所述清洁模块为无尘布，多个所述夹持模块夹持所述无尘布，使得所述无尘布处于张紧状态，使得张紧状态的无尘布擦拭所述阵列测试器，以去除所述阵列测试器上的杂质。

5.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述至少一个检测装置为包括多个检测装置，所述多个检测装置设置在所述待检测区域的同一侧，且所述多个检测装置相对设置。

6.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述检测系统还包括：

传感装置，所述传感装置设在所述检测第一支架的两端，用于检测所述清洁单元在所述第一支架上的位置，并根据所述清洁单元在所述第一支架上的位置判断所述清洁单元是否使用完毕；

告警装置，所述告警装置用于在所述清洁单元使用完毕后生成告警以更换所述清洁单元中的清洁模块。

7.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述检测系统还包括：

第二支架，所述阵列测试器通过所述第二支架垂直设置在所述检测平台上方。

8.根据权利要求7所述的检测系统，其特征在于，在垂直于所述检测平台的方向上，所述第一支架设置在所述第二支架和所述检测平台之间。

9.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述光学检测单元的精度为20um至45um。

10.一种检测方法，其特征在于，用于如权利要求1-9任一项所述的检测系统，所述方法包括：

控制阵列测试器从静置区出发，测量当前待检测的显示面板的数量，确定需要测量的待检测的显示面板的范围，并检测所述显示面板是否异常；

当所述阵列测试器测量所述待检测的显示面板结束后，将所述阵列测试器回归至所述静置区；

利用检测装置中的清洁单元对所述阵列测试器进行清洁，以去除所述阵列测试器上的杂质；

利用检测装置中的光学检测单元检测所述阵列测试器表面是否出现异常；

若所述阵列测试器出现异常，则确定所述当前待检测面板出现了异常。

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