CN112782203B - 一种晶相结构的判断方法及晶相标定模板 - Google Patents

一种晶相结构的判断方法及晶相标定模板 Download PDF

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Abstract

本发明实施例公开了一种晶相结构的判断方法，所述方法包括：提供晶相标定模板，所述晶相标定模板包括N个同心的晶相标定圆，不同所述晶相标定圆用于标定不同晶面间距的晶相结构；其中，N为大于或等于1的正整数；获取待判断样品的晶格衍射图像；将所述晶相标定模板放置在所述待判断样品的晶格衍射图像上，并使所述N个同心的晶相标定圆的圆心与所述晶格衍射图像的中心重合；基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构。

Description

一种晶相结构的判断方法及晶相标定模板
技术领域
本发明涉及材料表征领域，具体是涉及一种晶相结构的判断方法及晶相标定模板。
背景技术
目前，X射线衍射(X-ray diffraction,简称XRD)是业界表征材料晶相结构的主流方法。
然而，XRD只能表征控片，无法表征结构片；同时，在表征较薄的控片时XRD也很难收集到有效的信号。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例为解决背景技术中存在的至少一个问题而提供一种晶相结构的判断方法及晶相标定模板。
为了达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：
本发明实施例提供了一种晶相结构的判断方法，所述方法包括：提供晶相标定模板，所述晶相标定模板包括N个同心的晶相标定圆，不同所述晶相标定圆用于标定不同晶面间距的晶相结构；其中，N为大于或等于1的正整数；
获取待判断样品的晶格衍射图像；
将所述晶相标定模板放置在所述待判断样品的晶格衍射图像上，并使所述N个同心的晶相标定圆的圆心与所述晶格衍射图像的中心重合；
基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构。
上述方案中，所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，包括：
所述衍射光斑位于所述晶相标定圆上，确定所述待判断样品包含所述晶相标定圆所标定的晶相结构；和/或，
所述衍射光斑位于所述晶相标定圆内，确定所述待判断样品包含的晶相结构的晶面间距大于所述晶相标定圆所标定晶相结构的晶面间距；和/或，
所述衍射光斑位于所述晶相标定圆外，确定所述待判断样品包含的晶相结构的晶面间距小于所述晶相标定圆所标定晶相结构的晶面间距。
上述方案中，所述获取待判断样品的晶格衍射图像，包括：获取所述待判断样品不同位置处的多个所述晶格衍射图像；
所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，包括：
多个所述晶格衍射图像中均不存在位于所述晶相标定圆内的衍射光斑，确定所述待判断样品不存在晶面间距大于所述晶相标定圆对应的晶面间距的晶相结构。
上述方案中，所述待判断样品包括Al2O3薄膜；
所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，包括：
所述Al2O3薄膜的多个所述晶格衍射图像均不存在位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆内的衍射光斑，确定所述Al2O3薄膜的晶相结构为α相和/或γ相。
上述方案中，所述待判断样品包括Al2O3薄膜；
所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，包括：
所述Al2O3薄膜的多个所述晶格衍射图像中不存在位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆内的衍射光斑，且多个所述晶格衍射图像中的衍射光斑位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆上和/或晶面间距为/>对应的所述晶相标定圆上，确定所述Al2O3薄膜的晶相结构为γ相。
上述方案中，所述待判断样品包括Al2O3薄膜；
所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，包括：
所述Al2O3薄膜的多个所述晶格衍射图像中不存在位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆内的衍射光斑，且多个所述晶格衍射图像中的衍射光斑位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆上和/或晶面间距为/>对应的所述晶相标定圆上，确定所述Al2O3薄膜的晶相结构为α相。
上述方案中，所述获取待判断样品的晶格衍射图像，包括：
获取所述待判断样品的扫描透射电镜图像；
对所述待判断样品的所述扫描透射电镜图像进行傅里叶变换，得到所述待判断样品的晶格衍射图像。
本发明实施例还提供了一种晶相标定模板，用于确定待判断样品的晶相结构，其特征在于，包括：N个同心的晶相标定圆，不同所述晶相标定圆用于标定不同晶面间距的晶相结构，其中，N为大于或等于1的正整数。
上述方案中，所述待判断样品包括Al2O3薄膜；
所述N个同心的晶相标定圆中包括用于标定晶面间距为的晶相结构的晶相标定圆。
上述方案中，所述N个同心的晶相标定圆中还包括如下晶相标定圆中的至少一个：用于标定晶面间距为的晶相结构的晶相标定圆、用于标定晶面间距为/>的晶相结构的晶相标定圆和用于标定晶面间距为/>的晶相结构的晶相标定圆。
本发明实施例所提供的晶相结构的判断方法及晶相标定模板，其中，所述晶相结构的判断方法包括：提供晶相标定模板，所述晶相标定模板包括N个同心的晶相标定圆，不同所述晶相标定圆用于标定不同晶面间距的晶相结构，其中，N为大于或等于1的正整数；获取待判断样品的晶格衍射图像；将所述晶相标定模板放置在所述待判断样品的晶格衍射图像上，并使所述N个同心的晶相标定圆的圆心与所述晶格衍射图像的中心重合；基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构。如此，通过所述晶相标定模板与待判断样品的晶格衍射图像对比，可以快速有效的确定所述待判断样品包含的晶相结构。
附图说明
图1为本发明实施例提供的晶相结构的判断方法的流程图；
图2为本发明实施例提供的晶相标定模板的示意图；
图3为本发明实施例提供的待判断样品的晶格衍射图像；
图4为本发明实施例提供的晶相标定模板与待判断样品的晶格衍射图像的套设示意图；
图5为本发明实施例提供的Al2O3薄膜的晶相标定模板。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步详细的说明。
下面将参照附图更详细地描述本发明公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本发明的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本发明，而不应被这里阐述的具体实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本发明，并且能够将本发明公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本发明更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本发明可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本发明发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述；即，这里不描述实际实施例的全部特征，不详细描述公知的功能和结构。
在附图中，为了清楚，层、区、元件的尺寸以及其相对尺寸可能被夸大。自始至终相同附图标记表示相同的元件。
应当明白，当元件或层被称为“在……上”、“与……相邻”、“连接到”或“耦合到”其它元件或层时，其可以直接地在其它元件或层上、与之相邻、连接或耦合到其它元件或层，或者可以存在居间的元件或层。相反，当元件被称为“直接在……上”、“与……直接相邻”、“直接连接到”或“直接耦合到”其它元件或层时，则不存在居间的元件或层。应当明白，尽管可使用术语第一、第二、第三等描述各种元件、部件、区、层和/或部分，这些元件、部件、区、层和/或部分不应当被这些术语限制。这些术语仅仅用来区分一个元件、部件、区、层或部分与另一个元件、部件、区、层或部分。因此，在不脱离本发明教导之下，下面讨论的第一元件、部件、区、层或部分可表示为第二元件、部件、区、层或部分。而当讨论的第二元件、部件、区、层或部分时，并不表明本发明必然存在第一元件、部件、区、层或部分。
空间关系术语例如“在……下”、“在……下面”、“下面的”、“在……之下”、“在……之上”、“上面的”等，在这里可为了方便描述而被使用从而描述图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。应当明白，除了图中所示的取向以外，空间关系术语意图还包括使用和操作中的器件的不同取向。例如，如果附图中的器件翻转，然后，描述为“在其它元件下面”或“在其之下”或“在其下”元件或特征将取向为在其它元件或特征“上”。因此，示例性术语“在……下面”和“在……下”可包括上和下两个取向。器件可以另外地取向(旋转90度或其它取向)并且在此使用的空间描述语相应地被解释。
在此使用的术语的目的仅在于描述具体实施例并且不作为本发明的限制。在此使用时，单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也意图包括复数形式，除非上下文清楚指出另外的方式。还应明白术语“组成”和/或“包括”，当在该说明书中使用时，确定所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或更多其它的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或组的存在或添加。在此使用时，术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。
为了彻底理解本发明，将在下列的描述中提出详细的步骤以及详细的结构，以便阐释本发明的技术方案。本发明的较佳实施例详细描述如下，然而除了这些详细描述外，本发明还可以具有其他实施方式。
随着半导体器件尺寸的逐渐减小，栅极介质的厚度也在逐渐变薄。要从根本上解决栅极漏电的问题，必须采用一种高k介质来取代传统的栅极介质。
目前，常用的作为栅极介质的高k介质主要包括Al2O3薄膜，处于固态的Al2O3可能是晶态，也可能是非晶态。其中，晶态的Al2O3又包括多种晶相结构，如处于稳态的α相，及处于亚稳态的γ相、δ相、θ相、κ相、χ相等。本申请人发现，不同晶相结构的Al2O3薄膜的k值不同，其中，γ相的Al2O3的k值最高。
在相关技术中，采用X射线衍射(X-ray diffraction,简称XRD)来表征Al2O3的晶相结构。然而，XRD只能表征控片，无法表征结构片；同时，在表征较薄的控片时XRD也很难收集到有效的信号。
基于此，提出了本发明实施例的以下技术方案。
本发明实施例提供了一种晶相结构的判断方法，具体参见图1。如图所示，所述判断方法包括如下步骤：
步骤101、提供晶相标定模板，所述晶相标定模板包括N个同心的晶相标定圆，不同所述晶相标定圆用于标定不同晶面间距的晶相结构，其中，N为大于或等于1的正整数；
步骤102、获取待判断样品的晶格衍射图像；
步骤103、将所述晶相标定模板放置在所述待判断样品的晶格衍射图像上，并使所述N个同心的晶相标定圆的圆心与所述晶格衍射图像的中心重合；
步骤104、基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构。
通过上述晶相结构的判断方法，可以快速、有效的确定待判断样品的晶相结构。
下面，结合图2至图4，对本发明实施例提供的晶相结构的判断方法再做进一步详细的说明。
在步骤101中，具体参见图2，提供晶相标定模板，所述晶相标定模板包括N个同心的晶相标定圆2，不同所述晶相标定圆2用于标定不同晶面间距的晶相结构，所述N为大于或等于1的正整数。
所述N的数量与实际需要标定的晶相结构有关，在一些具体的实施例中，所述N可以为1、2、3或4。
所述晶相标定模板可以通过绘图软件绘制得到。所述绘图软件包括但不限于VISION、CAD。可以理解的是，任何可以绘制图形的软件都可以应用至本发明实施例中来绘制所述晶相标定模板。
可以理解的是，所述晶相标定模板中单位尺寸所代表的实际距离与所述晶格衍射图像中的单位尺寸所代表的实际距离是相同的。
在步骤102中，获取待判断样品的晶格衍射图像，如图3所示。对于处于单晶状态或多晶状态的待判断样品，其晶格衍射图像中包括衍射光斑，所述衍射光斑到所述晶格衍射图像中心的距离的倒数值与所述衍射光斑对应的晶相结构的晶面间距相等。
所述衍射光斑与晶格衍射图像中心的距离与所述衍射光斑对应的晶相结构的晶面间距呈负相关的关系；换言之，所述衍射光斑与晶格衍射图像中心的距离越远，说明该衍射光斑对应的晶相结构的晶面间距越小；所述衍射光斑与晶格衍射图像中心的距离越近，说明该衍射光斑对应的晶相结构的晶面间距越大。
同样的，所述晶相标定圆的半径越大，其标定的晶相结构的晶面间距越小；所述晶相标定圆的半径越小，其标定的晶相结构的晶面间距越大。
在一些实施例中，所述待判断样品可以是控片，所述控片是指在未形成有器件的衬底上形成的薄膜层。
在另一些实施例中，所述待判断样品也可以是结构片，所述结构片是指在制备有器件的衬底上形成的薄膜层。
上述薄膜层包括但不限于Al2O3薄膜。可以理解的，任何需要进行晶相结构表征的材料都可以作为本发明实施例中的待判断样品。
在一实施例中，获取待判断样品的晶格衍射图像，包括：获取所述待判断样品的扫描透射电镜图像；对所述待判断样品的所述扫描透射电镜图像进行傅里叶变换，得到所述待判断样品的晶格衍射图像。
具体的，所述扫描透射电镜图像为高分辨率的扫描透射电镜图像。
在一具体的实施例中，获取所述待判断样品的扫描透射电镜图像，包括：对所述待判断样品进行切割，获得具有切割截面的待表征片；
采用扫描透射电镜对所述待表征片的所述切割截面进行拍摄，获得所述待判断样品的扫描透射电镜图像。
在一些实施例中，为了提高晶相判断的准确率，在获取所述待判断样品的扫描透射电镜图像时，会获取所述待判断样品不同位置处的多个扫描透射电镜图像，并将所述多个扫描透射电镜图像分别进行傅里叶变换，得到所述待判断样品的多个晶格衍射图像。
在步骤103中，将所述晶相标定模板放置在所述待判断样品的晶格衍射图像上，并使所述N个同心的晶相标定圆的圆心与所述晶格衍射图像的中心重合，如图4所示。
将所述晶相标定模板放置在所述待判断样品的晶格衍射图像上，使晶格衍射图像上的衍射光斑的位置与所述晶相标定圆之间的位置关系变得直观。
在步骤104中，基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构。
所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系包括以下三种情况中的至少之一：第一，所述衍射光斑位于所述晶相标定圆上；第二，所述衍射光斑位于所述晶相标定圆内；第三，所述衍射光斑位于所述晶相标定圆外。
对应于第一种情况，所述晶格衍射图像中的衍射光斑位于所述晶相标定圆上，确定所述待判断样品包含所述第一晶相标定圆所标定的晶相结构。具体参见图4，所述晶格衍射图像中的两个衍射光斑位于其中一个晶相标定圆上，确定所述待判断样品包含所述晶相标定圆所标定的晶相结构。
对应于第二种情况，所述晶格衍射图像中的衍射光斑位于所述晶相标定圆内，确定所述待判断样品包含的晶相结构的晶面间距大于所述晶相标定圆所标定晶相结构的晶面间距。
对应于第三种情况，所述晶格衍射图像中的衍射光斑位于所述晶相标定圆外，确定所述待判断样品包含的晶相结构的晶面间距小于所述晶相标定圆所标定晶相结构的晶面间距。
值得注意的是，当晶格衍射图像中的衍射光斑不出现在所述晶相标定圆上时，并不能说明所述待判判断样品一定不包含所述晶相标定圆所标定的晶相结构，有可能是待表征片太薄或者是其他原因导致所述晶相标定圆所标定的晶相结构未被扫描透射电镜拍摄到。
在一些实施例中，所述晶格衍射图像的数量为多个；所述获取待判断样品的晶格衍射图像，包括：获取所述待判断样品不同位置处的晶格衍射图像，得到多个所述晶格衍射图像。
当所述多个晶格衍射图像中均不存在位于所述晶相标定圆上的衍射光斑时，确定所述待判定样品不包含所述晶相标定圆所标定的晶相结构。
当所述多个所述晶格衍射图像中均不存在位于所述晶相标定圆内的衍射光斑，确定所述待判断样品不存在晶面间距大于所述晶相标定圆对应的晶面间距的晶相结构。
可以理解的是，获取的晶格衍射图像的数量越多，晶相结构的判断结果越准确。
下面，以Al2O3薄膜为例，进一步的阐述本发明实施例所提供的晶相结构的判断方法。
晶态的Al2O3包括多种晶相结构，比较常见的有α相、γ相、δ相、θ相、κ相、χ相等。不同晶相结构的Al2O3薄膜的k值不同，其中，γ相的Al2O3的k值最高。为了获得高k值的Al2O3薄膜，需要在制备过程不断的调整参数，在此过程中，也需要不断的对制备得到的Al2O3薄膜的晶相结构进行表征，并根据表征的结果来调整所述参数。
表1示出了Al2O3常见的晶相结构及与晶相结构对应的一些晶面间距。如表1所示，α相的Al2O3和γ相的Al2O3的晶面间距均小于或等于所述α相的Al2O3较大的两个晶面间距为/>所述γ相的Al2O3较大的两个晶面间距为/>
表1 Al2O3的晶相结构及晶相结构对应的晶面间距
提供判断Al2O3薄膜的晶相结构的晶相标定模板，如图5所示，所述晶相标定模板包括N个同心的晶相标定圆，不同所述晶相标定圆用于标定不同晶面间距的晶相结构；N为大于或等于1的正整数。
在一实施例中，所述N个同心的晶相标定圆中包括用于标定晶面间距为的晶相结构的晶相标定圆21。
在一实施例中，所述N个同心的晶相标定圆中还包括如下晶相标定圆中的至少一个：用于标定晶面间距为的晶相结构的晶相标定圆22、用于标定晶面间距为的晶相结构的晶相标定圆23和用于标定晶面间距为/>的晶相结构的晶相标定圆24。
接着，获取Al2O3薄膜的晶格衍射图像。
在一实施例中，所述Al2O3薄膜的晶格衍射图像的数量为多个，获取Al2O3薄膜的晶格衍射图像，包括：获取所述Al2O3薄膜不同位置处的晶格衍射图像，得到Al2O3薄膜的多个所述晶格衍射图像。
将所述Al2O3薄膜的晶相结构的晶相标定模板放置在所述Al2O3薄膜的多个晶格衍射图像上，并使所述N个同心的晶相标定圆的圆心与所述多个晶格衍射图像的中心重合。
在一实施例中，多个所述晶格衍射图像均不存在位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆21内的衍射光斑，确定所述Al2O3薄膜的晶相结构为α相和/或γ相。
在一实施例中，多个所述晶格衍射图像中不存在位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆21内的衍射光斑，且多个所述晶格衍射图像中的衍射光斑位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆21上和/或晶面间距为/>对应的所述晶相标定圆22上，确定所述Al2O3薄膜的晶相结构为γ相。
在一实施例中，多个所述晶格衍射图像中不存在位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆21内的衍射光斑，且多个所述晶格衍射图像中的衍射光斑位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆23上和/或晶面间距为/>对应的所述晶相标定圆24上，确定所述Al2O3薄膜的晶相结构为α相。
所述Al2O3薄膜通过原子层沉积(ALD)或物理气相沉积(PVD)在衬底上形成，所述衬底上可以制备有其他器件或未制备有其他器件。
所述Al2O3薄膜的厚度可以较薄，例如小于或等于50nm；也可以较厚，如大于或等于100nm。
应当理解，本申请说明书通篇中提到的“一实施例”、“一些实施例”、“其他实施例”、“可选的实施例”或“一具体实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本申请的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“一实施例”、“一些实施例”、“其他实施例”、“可选的实施例”或“一具体实施例”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。应理解，在本申请的各种实施例中，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本申请实施例的实施过程构成任何限定。上述本申请实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种晶相结构的判断方法，其特征在于，所述方法包括：
提供晶相标定模板，所述晶相标定模板包括N个同心的晶相标定圆，不同所述晶相标定圆用于标定不同晶面间距的晶相结构；其中，N为大于或等于1的正整数；
获取待判断样品的晶格衍射图像；
将所述晶相标定模板放置在所述待判断样品的晶格衍射图像上，并使所述N个同心的晶相标定圆的圆心与所述晶格衍射图像的中心重合；
基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，当所述衍射光斑位于所述晶相标定圆上时，即确定所述待判断样品包含所述晶相标定圆所标定的晶相结构。
2.根据权利要求1所述的判断方法，其特征在于，所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，还包括：
所述衍射光斑位于所述晶相标定圆内，确定所述待判断样品包含的晶相结构的晶面间距大于所述晶相标定圆所标定晶相结构的晶面间距；和/或，
所述衍射光斑位于所述晶相标定圆外，确定所述待判断样品包含的晶相结构的晶面间距小于所述晶相标定圆所标定晶相结构的晶面间距。
3.根据权利要求1所述的判断方法，其特征在于，所述获取待判断样品的晶格衍射图像，包括：获取所述待判断样品不同位置处的多个所述晶格衍射图像；
所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，包括：
多个所述晶格衍射图像中均不存在位于所述晶相标定圆内的衍射光斑，确定所述待判断样品不存在晶面间距大于所述晶相标定圆对应的晶面间距的晶相结构。
4.根据权利要求3所述的判断方法，其特征在于，所述待判断样品包括Al2O3薄膜；
所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，包括：
所述Al2O3薄膜的多个所述晶格衍射图像均不存在位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆内的衍射光斑，确定所述Al2O3薄膜的晶相结构为α相和/或γ相。
5.根据权利要求3所述的判断方法，其特征在于，所述待判断样品包括Al2O3薄膜；
所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，包括：
所述Al2O3薄膜的多个所述晶格衍射图像中均不存在位于晶面间距为 对应的所述晶相标定圆内的衍射光斑，且多个所述晶格衍射图像中的衍射光斑位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆上和/或晶面间距为/>对应的所述晶相标定圆上，确定所述Al2O3薄膜的晶相结构为γ相。
6.根据权利要求3所述的判断方法，其特征在于，所述待判断样品包括Al2O3薄膜；
所述基于所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系，确定所述待判断样品的晶相结构，包括：
所述Al2O3薄膜的多个所述晶格衍射图像中不存在位于晶面间距为对应的所述晶相标定圆内的衍射光斑，且多个所述晶格衍射图像中的衍射光斑位于晶面间距为/>对应的所述晶相标定圆上和/或晶面间距为/>对应的所述晶相标定圆上，确定所述Al2O3薄膜的晶相结构为α相。
7.根据权利要求1所述的判断方法，其特征在于，所述获取待判断样品的晶格衍射图像，包括：
获取所述待判断样品的扫描透射电镜图像；
对所述待判断样品的所述扫描透射电镜图像进行傅里叶变换，得到所述待判断样品的晶格衍射图像。
8.一种晶相标定模板，用于确定待判断样品的晶相结构，其特征在于，包括：N个同心的晶相标定圆，不同所述晶相标定圆用于标定不同晶面间距的晶相结构，其中，N为大于或等于1的正整数；
所述待判断样品包括Al2O3薄膜；
所述N个同心的晶相标定圆中包括用于标定晶面间距为的晶相结构的晶相标定圆；
所述晶相标定模板被放置在所述待判断样品的晶格衍射图像上，并且所述N个同心的晶相标定圆的圆心与所述晶格衍射图像的中心重合；
所述晶格衍射图像中的衍射光斑与所述晶相标定圆的相对位置关系用于确定所述待判断样品的晶相结构，当所述衍射光斑位于所述晶相标定圆上时，即确定所述待判断样品包含所述晶相标定圆所标定的晶相结构。
9.根据权利要求8所述的晶相标定模板，其特征在于，所述N个同心的晶相标定圆中还包括如下晶相标定圆中的至少一个：用于标定晶面间距为 的晶相结构的晶相标定圆、用于标定晶面间距为/>的晶相结构的晶相标定圆和用于标定晶面间距为/>的晶相结构的晶相标定圆。
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