CN112768617A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括基板和阳极层；其中，所述阳极层包括层叠设置于所述基板上的第一金属氧化层、第一金属层、第二金属氧化层、第二金属层以及第三金属氧化层。本申请通过将阳极层设计为第一金属氧化层、第一金属层、第二金属氧化层、第二金属层以及第三金属氧化层的层叠结构，能够有效避免现有技术中采用两层氧化铟锡夹一层银的阳极层结构时，最外层的氧化铟锡层上发生分层、断裂以及剥落等现象后，暴露在外的银层上发生腐蚀，从而破坏产品稳定性的问题。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管显示装置(Organic Light Emitting Display，OLED)具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示装置；目前，有机发光二极管的阳极金属结构，例如由氧化铟锡(ITO)形成的透明导电膜，具有透明性和导电性，已成功应用于光电工业。
现有技术中，阳极层一般采用氧化铟锡(ITO)-银层(Ag)-氧化铟锡(ITO)的层叠结构，其透明性和导电性优异，特别是其导电率是单层氧化铟锡(ITO)的十倍左右，现已成功应用于光电工业；然而，在阳极层的层叠结构中，最外层的氧化铟锡层上容易发生分层、断裂以及剥落等现象，从而导致暴露在外的银层上发生腐蚀，进而破坏产品的稳定性。
发明内容
本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，用以提升产品的可靠性。
为实现上述效果，本申请提供的技术方案如下：
一种显示面板，包括：
基板；
阳极层，设置在所述基板上；
其中，所述阳极层包括层叠设置于所述基板上的第一金属氧化层、第一金属层、第二金属氧化层、第二金属层以及第三金属氧化层。
本申请的显示面板中，所述第一金属氧化层的厚度和所述第二金属氧化层的厚度均小于所述第三金属氧化层的厚度。
本申请的显示面板中，所述第一金属氧化层、所述第二金属氧化层以及所述第三金属氧化层均为氧化铟锡膜。
本申请的显示面板中，所述第一金属层和所述第二金属层均为银层。
本申请还提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括阳极区和与所述阳极区相邻的非阳极区，所述制备方法包括以下步骤：
提供一基板；
在所述基板上依次制备第一金属氧化层、第一金属层、第二金属氧化层、第二金属层以及第三金属氧化层；
对所述第三金属氧化层、所述第二金属层、所述第二金属氧化层、所述第一金属层以及所述第一金属氧化层图案化处理，形成位于所述阳极区的阳极层。
本申请的制备方法中，对所述第三金属氧化层、所述第二金属层、所述第二金属氧化层、所述第一金属层以及所述第一金属氧化层图案化处理的步骤包括：
在所述第三金属氧化层上制备一光阻层；
采用掩模板对所述光阻层进行曝光、随后对所述光阻层进行显影，去除对应于所述非阳极区的所述光阻层；
依次刻蚀对应于所述非阳极区的所述第三金属氧化层、所述第二金属层、所述第二金属氧化层、所述第一金属层以及第一金属氧化层；
剥离所述光阻层。
本申请的制备方法中，所述第一金属氧化层、所述第一金属层、所述第二金属氧化层、所述第二金属层以及所述第三金属氧化采用蒸镀方式依次制备于所述基板表面；其中，所述第一金属氧化层的厚度和所述第二金属氧化层的厚度均小于所述第三金属氧化层的厚度。
本申请的制备方法中，所述第一金属氧化层、所述第二金属氧化层以及所述第三金属氧化层的材料均为氧化铟锡。
本申请的制备方法中，所述第一金属层和所述第二金属层的材料均为银。
本申请的有益效果：本申请通过将阳极层设计为第一金属氧化层、第一金属层、第二金属氧化层、第二金属层以及第三金属氧化层的层叠结构，能够有效避免现有技术中采用两层氧化铟锡夹一层银的阳极层结构时，最外层的氧化铟锡层上发生分层、断裂以及剥落等现象后，暴露在外的银层上发生腐蚀，从而破坏产品稳定性的问题。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为现有技术中显示面板的结构示意图；
图2为本申请所提供的显示面板结构示意图；
图3为本申请实施例所提供的显示面板结构示意图；
图4为本申请实施例所提供的显示面板的制备方法的步骤流程图；
图5A～图5E为本申请实施例所提供的显示面板的制备过程中的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
请参阅图1，现有技术中显示面板的结构示意图。
现有技术中，所述显示面板包括基板10和设置于所述基板10上的阳极层20；其中，所述阳极层20采用两层氧化铟锡夹一层银的结构，即，所述阳极层20包括依次层叠于所述基板10上的第一氧化铟锡层21、银层22以及第二氧化铟锡层23，该设计因其透明性和导电性优异，已成功应用于光电工业；然而，在所述阳极层20的层叠结构中，在最外层的所述第二氧化铟锡层23上容易发生分层、断裂以及剥落等现象，从而导致暴露在外的所述银层22上发生腐蚀，进而破坏产品的稳定性。基于此，本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，能够解决上诉缺陷。
请参阅图2，本申请所提供的显示面板结构示意图。
在本申请中，所述显示面板包括基板10；设置在所述基板10上的阳极层20。
其中，所述阳极层20包括层叠设置于所述基板10上的第一金属氧化层21、第一金属层22、第二金属氧化层23、第二金属层24以及第三金属氧化层25。
本申请通过将阳极层20设计为第一金属氧化层21、第一金属层22、第二金属氧化层23、第二金属层24以及第三金属氧化层25的层叠结构，能够有效避免现有技术中采用两层氧化铟锡夹一层银的阳极层结构时，最外层的氧化铟锡层上发生分层、断裂以及剥落等现象后，暴露在外的银层上发生腐蚀，从而破坏产品稳定性的问题。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
实施例一
请参阅图3，本申请实施例所提供的显示面板结构示意图。
在本实施例中，所述显示面板包括基板10；设置于所述基板10上的阳极层20；其中，所述阳极层20包括层叠设置于所述基板10上的第一金属氧化层21、第一金属层22、第二金属氧化层23、第二金属层24以及第三金属氧化层25。
在本实施例中，所述显示面板包括阳极区100和与所述阳极区100相邻的非阳极区200；所述第一金属氧化层21、所述第一金属层22、所述第二金属氧化层23、所述第二金属层24以及所述第三金属氧化层25在所述基板10上的投影位于所述阳极区100内。
在本实施例中，所述第一金属氧化层21、所述第二金属氧化层23以及所述第三金属氧化层25的材料包括但不限于铟锡氧化物，进一步的，在本实施例中，所述第一金属氧化层21、所述第二金属氧化层23以及所述第三金属氧化层25均为氧化铟锡膜。
在本实施例中，所述第一金属氧化层21的厚度和所述第二金属氧化层23的厚度均小于所述第三金属氧化层25的厚度，从而增加了所述第三金属氧化层25的稳定性，进而为第二金属层24提供了有效的保护；同时，可以保证所述第三金属氧化层25在所述第一金属氧化层21和所述第二金属氧化层23制备时，不易被蚀刻掉。
在本实施例中，所述第一金属层22和所述第二金属层24的材料包括但不限于银，进一步的，在本实施例中，所述第一金属层22和所述第二金属层24均为银层。
在本实施例中，所述阳极层20包括层叠设置于所述基板10上的第一氧化铟锡层21、第一银层22、第二氧化铟锡层23、第二银层24以及第三氧化铟锡层25。
可以理解的是，所述第一氧化铟锡层21的厚度、所述第一银层22的厚度、所述第二氧化铟锡层23的厚度、所述第二银层24的厚度以及所述第三氧化铟锡层25的厚度均可以根据实际需要进行设计，在本实施例中不做限定。
本实施例通过将所述阳极层21设计为所述第一氧化铟锡层21、所述第一银层22、所述第二氧化铟锡层23、所述第二银层24以及所述第三氧化铟锡层25的层叠结构，能够有效避免现有技术中采用两层氧化铟锡夹一层银的阳极层结构时，最外层的氧化铟锡层上发生分层、断裂以及剥落等现象后，暴露在外的银层上发生腐蚀，从而破坏产品的稳定性的问题；同时，当所述第三氧化铟锡层25上发生分层、断裂以及剥落等现象后，所述第二银层24发生腐蚀反应，位于所述第二银层24下方的所述第二氧化铟锡层23依旧可以为所述第一银层22提供有效的保护，从而使所述阳极层20正常工作，确保产品的稳定性。
实施例二
请参阅图4，本申请实施例所提供的显示面板的制备方法的步骤流程图。
在本实施例中，所述显示面板包括阳极区100和与所述阳极区100相邻的非阳极区200，所述显示面板的制备方法包括以下步骤：
步骤S10：在基板10上依次制备第一金属氧化层21、第一金属层22、第二金属氧化层23、第二金属层24以及第三金属氧化层25，如图5A所示。
在本实施例中，所述第一金属氧化层21、所述第二金属氧化层23以及所述第三金属氧化层24的材料包括但不限于铟锡氧化物；所述第一金属层22和所述第二金属层24的材料包括但不限于银。
进一步的，所述第一金属氧化层21、所述第二金属氧化层23以及所述第三金属氧化层25均为氧化铟锡膜；所述第一金属层22和所述第二金属层24均为银层。
本实施例通过将所述阳极层21设计为所述第一氧化铟锡层21、所述第一银层22、所述第二氧化铟锡层23、所述第二银层24以及所述第三氧化铟锡层25的层叠结构，能够有效避免现有技术中采用两层氧化铟锡夹一层银的阳极层结构时，最外层的氧化铟锡层上发生分层、断裂以及剥落等现象后，暴露在外的银层上发生腐蚀，从而破坏产品的稳定性的问题。
在本实施例中，所述第一金属氧化层21、所述第一金属层22、所述第二金属氧化层23、所述第二金属层24以及所述第三金属氧化层25均采用蒸镀方式依次制备于所述基板10的上表面；其中，所述第一金属氧化层21的厚度和所述第二金属氧化层23的厚度均小于所述第三金属氧化层25的厚度。
在本实施例中，所述步骤S10包括以下步骤：
步骤S11：提供一基板10，所述基板10包括但不限于玻璃基板和柔性衬底。
进一步的，在本实施例中，所述基板10为柔性透明的PI基板，主要为聚酰亚胺，PI材料可以有效的提高透光率。
步骤S20：对所述第三金属氧化层25、所述第二金属层24、所述第二金属氧化层23、所述第一金属层22以及所述第一金属氧化层21图案化处理，形成位于所述阳极区100的阳极层20。
在本实施例中，所述步骤S20包括以下步骤：
步骤S21：在所述第三金属氧化层25上制备一光阻层30，如图5B所示。
步骤S22：采用掩模板对所述光阻层30进行曝光、随后对所述光阻层30进行显影，去除对应于所述非阳极区200的所述光阻层30，如图5C所示。
步骤S23：依次刻蚀对应于所述非阳极区200的所述第三金属氧化层25、所述第二金属层24、所述第二金属氧化层23、所述第一金属层22以及第一金属氧化层21，如图5D所示。
步骤S24：剥离所述光阻层80，如图5E所示。
可以理解的是，在所述步骤S23中，可以同时对所述第二金属层24、所述第二金属氧化层23以及所述第一金属层22进行蚀刻，也可以分别对所述第二金属层24、所述第二金属氧化层23以及所述第一金属层22进行蚀刻，本实施例对此不做限制。
在本实施例中当所述第三氧化铟锡层25上发生分层、断裂以及剥落等现象后，所述第二银层24发生腐蚀反应，位于所述第二银层24下方的所述第二氧化铟锡层23依旧可以为所述第一银层22提供有效的保护，从而使所述阳极层21正常工作，确保产品的稳定性。
实施例三
本实施例提供一种显示装置，所述显示装置包括上述实施例所述的显示面板。
所述显示面板已经在实施例一中进行了详细的说明，在此不在重复说明。
本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括基板；阳极层，设置在所述基板上；其中，所述阳极层包括层叠设置于所述基板上的第一金属氧化层、第一金属层、第二金属氧化层、第二金属层以及第三金属氧化层。
本申请通过将阳极层设计为第一金属氧化层、第一金属层、第二金属氧化层、第二金属层以及第三金属氧化层的层叠结构，能够有效避免现有技术中采用两层氧化铟锡夹一层银的结构的阳极层时，最外层的氧化铟锡层上发生分层、断裂以及剥落等现象后，暴露在外的银层上发生腐蚀，从而破坏产品的稳定性的问题。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；
阳极层，设置在所述基板上；
其中，所述阳极层包括层叠设置于所述基板上的第一金属氧化层、第一金属层、第二金属氧化层、第二金属层以及第三金属氧化层。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属氧化层的厚度和所述第二金属氧化层的厚度均小于所述第三金属氧化层的厚度。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属氧化层、所述第二金属氧化层以及所述第三金属氧化层均为氧化铟锡膜。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层和所述第二金属层均为银层。
5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括阳极区和与所述阳极区相邻的非阳极区，所述制备方法包括以下步骤：
在基板上依次制备第一金属氧化层、第一金属层、第二金属氧化层、第二金属层以及第三金属氧化层；
对所述第三金属氧化层、所述第二金属层、所述第二金属氧化层、所述第一金属层以及所述第一金属氧化层图案化处理，形成位于所述阳极区的阳极层。
6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，对所述第三金属氧化层、所述第二金属层、所述第二金属氧化层、所述第一金属层以及所述第一金属氧化层图案化处理的步骤包括：
在所述第三金属氧化层上制备一光阻层；
采用掩模板对所述光阻层进行曝光、随后对所述光阻层进行显影，去除对应于所述非阳极区的所述光阻层；
依次刻蚀对应于所述非阳极区的所述第三金属氧化层、所述第二金属层、所述第二金属氧化层、所述第一金属层以及第一金属氧化层；
剥离所述光阻层。
7.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述第一金属氧化层、所述第一金属层、所述第二金属氧化层、所述第二金属层以及所述第三金属氧化层均采用蒸镀方式依次制备于所述基板表面；其中，所述第一金属氧化层的厚度和所述第二金属氧化层的厚度均小于所述第三金属氧化层的厚度。
8.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述第一金属氧化层、所述第二金属氧化层以及所述第三金属氧化层的材料均为氧化铟锡。
9.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述第一金属层和所述第二金属层的材料均为银。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至4中任一项所述的显示面板。
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