CN112732115A - 触控显示面板及触控显示面板的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种触控显示面板及触控显示面板的制备方法，该触控显示面板包括：薄膜封装层；第一金属层，设置于所述薄膜封装层上；第一过渡层，设置于所述第一金属层上且包括贯穿所述第一过渡层的至少一个搭接孔；第二金属层，设置于所述第一过渡层上且通过所述搭接孔与所述第一金属层电性连接；及绝缘层，设置于所述第一过渡层和所述第二金属层上。在所述触控显示面板的所述显示区中，本发明通过将所述第一金属层直接制备在所述薄膜封装层上，省略了第二过渡层，简化了一道制备工序、缩减了面板的膜层数量和厚度，缩短生产节拍时间，提高了生产效率，以及使触控显示面板轻薄化，提升了产品质量。

Description

触控显示面板及触控显示面板的制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种触控显示面板及触控显示面板的制备方法。
背景技术
有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)屏幕具有轻薄，对比度高，柔性，透过率高等特性，已经开始成为高端智能手机的主流屏幕，其中屏下指纹，屏下摄像头，屏下发声等技术也相继被开发。
近年来，显示装置除了通过显示面板显示图像的功能之外，还包括用于与用户交互的触摸感测功能。在2016年，Y-OCTA(YOUM On-Cell Touch AMOLED)作为先进的柔性有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix organic light-emitting diode，AMOLED)显示器技术被提出来。Y-OCTA移除了薄膜基材，让触控电路直接图案化在薄膜封装层之上。Y-OCTA使AMOLED显示器更薄。目前主流的Y-OCTA是采用互容式，即采用两层金属(M1和M2)。结构如图1和图2所示，图1为现有技术中触控显示面板的显示区的结构示意图，图2为现有技术中触控显示面板的非显示区的结构示意图。图1中显示区薄膜封装层106上方主要设置有5层，即第一金属层101、第二金属层102、绝缘层103、第一过渡层104和第二过渡层105，图2中非显示区的换线孔区，包括四层金属：栅极层107、第一源漏极层108、第二源漏极层109和第二金属层102，所述非显示区还包括配向层110、层间介质层111、第一平坦化层112、第二平坦化层113、像素定义层114和间隔柱层115。
综上所述，现有技术中触控显示面板存在厚度较大、膜层过多，不利于缩短生产节拍时间以及使触控显示面板轻薄化等技术问题。
发明内容
本发明实施例提供一种触控显示面板以及触控显示面板的制备方法，用于减小触控显示面板的厚度和减少触控显示面板的膜层，以缩短生产节拍时间以及使触控显示面板轻薄化。
为解决上述问题，第一方面，本发明提供一种触控显示面板，其中，包括显示区，所述显示区包括：
薄膜封装层；
第一金属层，设置于所述薄膜封装层上；
第一过渡层，设置于所述第一金属层上且包括贯穿所述第一过渡层的至少一个搭接孔；
第二金属层，设置于所述第一过渡层上且通过所述搭接孔与所述第一金属层电性连接；及
绝缘层，设置于所述第一过渡层和所述第二金属层上。
在本发明的一些实施例中，还包括非显示区，所述非显示区包括五个金属膜层：
栅极层；
第一源漏极层，设置于所述栅极层上方且与所述栅极层电性连接；
第二源漏极层，设置于所述第一源漏极层上；
所述第一金属层，设置于所述第二源漏极层上；及
所述第二金属层，设置于所述第一金属层上。
在本发明的一些实施例中，所述第二源漏极层的材料和所述第一金属层的材料相同，均为钛、铝、钛多层层状复合材料。
在本发明的一些实施例中，还包括非显示区，所述非显示区包括四个金属膜层：
栅极层；
第一源漏极层，设置于所述栅极层上方且与所述栅极层电性连接；
第二源漏极层，设置于所述第一源漏极层上；及
所述第二金属层，设置于所述第二源漏极层上。
在本发明的一些实施例中，所述第二源漏极层的材料和所述第一金属层的材料不同，所述第二源漏极层的材料为钛、铝、钛多层层状复合材料，所述第一金属层的材料为钼、铝、钼多层层状复合材料。
在本发明的一些实施例中，所述搭接孔填充有所述第一金属层或所述第二金属层。
第二方面，本发明提供一种触控显示面板的制备方法，所述制备方法用于制备如第一方面中任一所述的触控显示面板，包括以下步骤：
提供一薄膜封装层，在所述薄膜封装层上制备第一金属层；
在所述第一金属层上制备第一过渡层和第二金属层；
在所述第一过渡层和所述第二金属层上制备绝缘层。
在本发明的一些实施例中，在提供一所述薄膜封装层之前还包括：提供一玻璃衬底，在所述玻璃衬底上制备阵列基板，所述阵列基板包括显示区；在所述阵列基板的所述显示区上制备电致发光层和所述薄膜封装层。
在本发明的一些实施例中，所述阵列基板还包括非显示区，在所述阵列基板的所述非显示区自下往上依次制备栅极层、第一源漏极层、第二源漏极层、所述第一金属层和所述第二金属层；其中，所述第二源漏极层的材料和所述第一金属层的材料相同，所述第二金属层通过所述第一金属层与所述第二源漏极层间接接触。
在本发明的一些实施例中，所述阵列基板还包括非显示区，在所述阵列基板的所述非显示区自下往上依次制备栅极层、第一源漏极层、第二源漏极层和所述第一金属层，通过干法刻蚀除去部分所述第一金属层，在所述第二源漏极层上制备所述第二金属层；其中，所述第二源漏极层的材料和所述第一金属层的材料不同，所述第二金属层与所述第二源漏极层直接接触。
相较于现有的触控显示面板及触控显示面板的制备方法，在所述触控显示面板的所述显示区中，本发明通过将所述第一金属层直接制备在所述薄膜封装层上，省略了现有技术的第二过渡层，简化了一道制备工序、缩减了面板的膜层数量和厚度，同时在所述非显示区中通过不对所述第一金属层进行蚀刻，或者在对所述第一金属层进行蚀刻之前，使得所述第一金属层与所述第二源漏极层材料不同，以达到缩短生产节拍时间，提高了生产效率、使触控显示面板轻薄化的同时，对所述第一金属层或所述第二源漏极层不造成损伤，提升了产品质量。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中触控显示面板的显示区的结构示意图；
图2为现有技术中触控显示面板的非显示区的结构示意图；
图3为本发明一个实施例中触控显示面板的显示区的结构示意图；
图4为本发明一个实施例中触控显示面板的非显示区的结构示意图；
图5为本发明另一个实施例中触控显示面板的非显示区的结构示意图；及
图6为本发明一个实施例中触控显示面板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
下面将结合附图及实施方式，对本发明实施例提供的一种触控显示面板及触控显示面板的制备方法分别作进一步的详细说明。
首先，本发明实施例提供一种触控显示面板。如图3所示，图3为本发明一个实施例中触控显示面板的显示区的结构示意图。所述触控显示面板，包括显示区，所述显示区20包括：薄膜封装层201；第一金属层202，设置于所述薄膜封装层201上；第一过渡层203，设置于所述第一金属层202上且包括贯穿所述第一过渡层203的至少一个搭接孔2031；；第二金属层204，设置于所述第一过渡层203上且通过所述搭接孔2031与所述第一金属层202电性连接；及绝缘层205，设置于所述第一过渡层203和所述第二金属层204上。
相较于现有的触控显示面板及触控显示面板的制备方法，在所述触控显示面板的所述显示区20中，本发明通过将所述第一金属层202直接制备在所述薄膜封装层201上，省略了第二过渡层，简化了一道制备工序、缩减了面板的膜层数量和厚度，缩短生产节拍时间，提高了生产效率，以及使触控显示面板轻薄化，提升了产品质量。
如图4所示，图4为本发明一个实施例中触控显示面板的非显示区的结构示意图。所述触控显示面板还包括非显示区30，所述非显示区30包括五个金属膜层：栅极层301；第一源漏极层302，设置于所述栅极层301上方且与所述栅极层301电性连接；第二源漏极层303，设置于所述第一源漏极层302上；所述第一金属层202，设置于所述第二源漏极层303上；及所述第二金属层204，设置于所述第一金属层202上。
所述第一过渡层203的材料通常为绝缘材料，优选为氮化硅等，用于阻隔所述第一金属层202与所述第二源漏极层303，防止所述第一金属层202与所述第二源漏极层303之间扩散金属原子。
一般情况下，所述非显示区30还包括换线孔区，上述膜层即位于所述换线孔区，现有技术中所述换线孔区通常只包括四层金属层：栅极层106、第一源漏极层107、第二源漏极层108和第二金属层102。在所述显示区沉积所述第一金属层101之后，会通过干法刻蚀去除所述换线孔区的所述第一金属层101，在所述第一过渡层104和所述第二过渡层105的保护下，可以实现不损伤其它材料相同的金属层。
所述第二源漏极层303的材料和所述第一金属层202的材料相同，均为钛、铝、钛多层层状复合材料。在本实施例中，由于省略了所述第二过渡层105，当所述第二源漏极层303的材料和所述第一金属层202的材料相同时，通过保留所述第一金属层202，既可以节省工序，又可以防止干法刻蚀损伤所述第二源漏极层303。优选的，所述第二源漏极层303和所述第一金属层202均为钛、铝、钛多层层状复合材料。本实施例以钛层作为外层，以铝层作为芯层，将钛层和铝层进行复合获得同时具备轻质、高强度、高吸能性、易于成形、各组元间结合良好，具有优异的力学性能的所述第二源漏极层303和所述第一金属层202。
如图5所示，图5为本发明另一个实施例中触控显示面板的非显示区的结构示意图。所述触控显示面板还包括非显示区30，所述非显示区包括四个金属膜层：栅极层301；第一源漏极层302，设置于所述栅极层301上方且与所述栅极层301电性连接；第二源漏极层303，设置于所述第一源漏极层302上；及所述第二金属层204，设置于所述第二源漏极层303上。
所述第二源漏极层303的材料和所述第一金属层202的材料不同，所述第二源漏极层303的材料为钛、铝、钛多层层状复合材料，所述第一金属层202的材料为钼、铝、钼多层层状复合材料。为了进一步增进所述触控显示面板的轻薄化，在所述显示区沉积所述第一金属层202之后，会通过干法刻蚀去除所述换线孔区的所述第一金属层202，而由于省略了所述第二过渡层105，为了保护与所述第一金属层202直接接触的所述第二源漏极层303，使所述第二源漏极层303的材料与所述第一金属层202的材料不同，可以实现干法蚀刻时仅去除所述第一金属层202，而不损伤所述第二源漏极层303。优选的，所述第二源漏极层303的材料为钛、铝、钛多层层状复合材料，所述第一金属层202的材料为钼、铝、钼多层层状复合材料，选择合适的刻蚀气体，可以使得所述第一金属层202的刻蚀速度远大于所述第二源漏极层303的刻蚀速度，所述第一金属层202刻蚀完成后，所述第二源漏极层303几乎未被刻蚀或者仅被刻蚀极小部分。
优选的，所述第一源漏极层302的材料与所述第二源漏极层303的材料相同，均为钛、铝、钛多层层状复合材料。
所述搭接孔2031填充有所述第一金属层202或所述第二金属层204。在所述触控面板的所述显示区中，所述第一金属层202与所述第二金属层204之间间隔有所述第一过渡层203，为了实现所述第一金属层202与所述第二金属层204搭接，所述第一过渡层203中设置有至少一个所述搭接孔2031，所述第一金属层202和所述第二金属层204中的一者或两者填充于所述搭接孔2031。一般情况下，为了制备方便，填充的是所述第二金属层204。
在上述实施例的基础上，所述触控显示面板的所述非显示区30还包括配向层304、层间介质层305、第一平坦化层306、第二平坦化层307、像素定义层308和间隔柱层309。所述栅极层301设置于所述配向层304上，所述层间介质层304设置于所述栅极层301与所述第一源漏极层302之间，所述第一平坦化层307设置于所述第一源漏极层302与所述第二源漏极层303之间，所述第二平坦化层307、所述像素定义层308和所述间隔柱层309依次层叠在所述第二源漏极层303上。
为了更好地制得本发明实施例中的触控显示面板，在所述触控显示面板的基础之上，本发明实施例中还提供了一种触控显示面板的制备方法，所述制备方法用于制备如上述实施例中所述的触控显示面板。
如图6所示，图6为本发明一个实施例中触控显示面板的制备方法的流程图。一种触控显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、提供一薄膜封装层201，在所述薄膜封装,201上制备第一金属层202；
S2、在所述第一金属层202上制备第一过渡层203和第二金属层204；
S3、在所述第一过渡层203和所述第二金属层204上制备绝缘层205。
在一些实施例中，在提供一所述薄膜封装层201之前还包括：提供一玻璃衬底，在所述玻璃衬底上制备阵列基板，所述阵列基板包括显示区20；在所述阵列基板的所述显示区20上制备电致发光层和所述薄膜封装层201。
在一个具体的实施例中，所述阵列基板还包括非显示区30，在所述阵列基板的所述非显示区自下往上依次制备栅极层301、第一源漏极层302、第二源漏极层303、所述第一金属层202和所述第二金属层204；其中，所述第二源漏极层303和所述第一金属层202的材料相同，所述第二金属层204通过所述第一金属层202与所述第二源漏极层303间接接触。
在另一个具体的实施例中，所述阵列基板还包括非显示区30，在所述阵列基板的所述非显示区自下往上依次制备栅极层301、第一源漏极层302、第二源漏极层303和所述第一金属层202，通过干法刻蚀除去部分所述第一金属层202，在所述第二源漏极层303上制备所述第二金属层204；其中，所述第二源漏极层303和所述第一金属层202的材料不同，所述第二金属层204与所述第二源漏极层303直接接触。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见上文针对其他实施例的详细描述，此处不再赘述。具体实施时，以上各个单元或结构可以作为独立的实体来实现，也可以进行任意组合，作为同一或若干个实体来实现，以上各个单元、结构或操作的具体实施可参见前面的方法实施例，在此不再赘述。
以上对本发明实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种触控显示面板，其特征在于，包括显示区，所述显示区包括：
薄膜封装层；
第一金属层，设置于所述薄膜封装层上；
第一过渡层，设置于所述第一金属层上且包括贯穿所述第一过渡层的至少一个搭接孔；
第二金属层，设置于所述第一过渡层上且通过所述搭接孔与所述第一金属层电性连接；及
绝缘层，设置于所述第一过渡层和所述第二金属层上。
2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，还包括非显示区，所述非显示区包括五个金属膜层：
栅极层；
第一源漏极层，设置于所述栅极层上方且与所述栅极层电性连接；
第二源漏极层，设置于所述第一源漏极层上；
所述第一金属层，设置于所述第二源漏极层上；及
所述第二金属层，设置于所述第一金属层上。
3.根据权利要求2所述的触控显示面板，其特征在于，所述第二源漏极层的材料和所述第一金属层的材料相同，均为钛、铝、钛多层层状复合材料。
4.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，还包括非显示区，所述非显示区包括四个金属膜层：
栅极层；
第一源漏极层，设置于所述栅极层上方且与所述栅极层电性连接；
第二源漏极层，设置于所述第一源漏极层上；及
所述第二金属层，设置于所述第二源漏极层上。
5.根据权利要求4所述的触控显示面板，其特征在于，所述第二源漏极层的材料和所述第一金属层的材料不同，所述第二源漏极层的材料为钛、铝、钛多层层状复合材料，所述第一金属层的材料为钼、铝、钼多层层状复合材料。
6.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述搭接孔填充有所述第一金属层或所述第二金属层。
7.一种触控显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一薄膜封装层，在所述薄膜封装层上制备第一金属层；
在所述第一金属层上制备第一过渡层和第二金属层；
在所述第一过渡层和所述第二金属层上制备绝缘层。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在提供一所述薄膜封装层之前还包括：提供一玻璃衬底，在所述玻璃衬底上制备阵列基板，所述阵列基板包括显示区；在所述阵列基板的所述显示区上制备电致发光层和所述薄膜封装层。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述阵列基板还包括非显示区，在所述阵列基板的所述非显示区自下往上依次制备栅极层、第一源漏极层、第二源漏极层、所述第一金属层和所述第二金属层；其中，所述第二源漏极层的材料和所述第一金属层的材料相同，所述第二金属层通过所述第一金属层与所述第二源漏极层间接接触。
10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述阵列基板还包括非显示区，在所述阵列基板的所述非显示区自下往上依次制备栅极层、第一源漏极层、第二源漏极层和所述第一金属层，通过干法刻蚀除去部分所述第一金属层，在所述第二源漏极层上制备所述第二金属层；其中，所述第二源漏极层的材料和所述第一金属层的材料不同，所述第二金属层与所述第二源漏极层直接接触。
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