CN112725736A - 一种紫外光截止光学膜层镀膜方法 - Google Patents

一种紫外光截止光学膜层镀膜方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，涉及真空镀膜技术领域，解决了现有的对光学镜片进行真空镀膜后自身的可见光透光率显著降低，造成使用过程中镜片亮度不够，且观察不清楚等问题。一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，包括如下步骤：根据光学镜片的用途和种类对基材和镀膜材料进行选取，基材为熊猫钢化玻璃，镀膜材料采用二氧化硅和二氧化钛混合物，其中二氧化硅和二氧化钛按重量比为1.5:1，步骤B：对基材进行与加工处理，根据镜片用途对基材进行定型切割，对切割面进行粗磨，对于镀膜面进行精细研磨处理，保证在镀膜过程中镀膜材料更均匀。本发明通过对基材表面进行镀膜，能够有效保证紫外线和可见光的透过率，适用范围更广。

Description

一种紫外光截止光学膜层镀膜方法
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域，具体为一种紫外光截止光学膜层镀膜方法。
背景技术
随着社会经济的快速发展，人们的生活水平不断提升，使得人们对于健康越来越重视，进而越来越关注日常生活中紫外光线对人体眼睛及皮肤部位造成的伤害；在日常生活中所用眼镜、面罩、显示屏面板及一些特定的光学镜头均需求具备拦截紫外光线特性，通过对光学镜片的表面进行镀膜处理，能够对紫外线进行阻拦。
但是，现有的对光学镜片进行真空镀膜后自身的可见光透光率显著降低，造成使用过程中镜片亮度不够，且观察不清楚；因此，不满足现有的需求，对此我们提出了一种紫外光截止光学膜层镀膜方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，以解决上述背景技术中提出的现有的对光学镜片进行真空镀膜后自身的可见光透光率显著降低，造成使用过程中镜片亮度不够，且观察不清楚等问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，包括如下步骤：
步骤A：根据光学镜片的用途和种类对基材和镀膜材料进行选取，基材为熊猫钢化玻璃，镀膜材料采用二氧化硅和二氧化钛混合物，其中二氧化硅和二氧化钛按重量比为1.5:1；
步骤B：对基材进行与加工处理，根据镜片用途对基材进行定型切割，对切割面进行粗磨，对于镀膜面进行精细研磨处理，保证在镀膜过程中镀膜材料更均匀，镀膜表面更光滑，将二氧化硅和二氧化钛进行粉碎和混合，通过SHR高速搅拌混合机中进行研磨处理，使得镀膜材料碎至40目以下，经过多次过筛进而对粉碎程度进行控制；
步骤C：将打磨后的基片装夹在真空蒸发器内，将镀膜材料放置在蒸发源内，正空蒸发器分别与高真空泵和低真空泵连接，其中高真空泵与低真空泵通过过滤器连接，将挡板放置在蒸发源与基片中部，避免材料自由蒸发镀在基片表面，接通电源，启动真空蒸发器；
步骤D：通过真空蒸发器进行预处理操作，通过加热器对真空蒸发器内进行烘烤处理，使得将蒸发器内壁、内部夹具和基片等器件表面吸附的气体进行解吸，进而通过高真空泵进行抽取和排出，在高真空泵的一侧设置有冷凝器，通过冷凝器能够对器内的水分进行排除，在镀膜前对镀膜材料进行加热除气，使得镀膜材料进行自由蒸发，根据加热温度对自由蒸发时间t1进行控制，从而降低器内的活性气体，能够提高膜层质量；
步骤E：将真空度提高至P1以上，使得镀层材料分子到达基片的速率高于残余气体分子到达的速率，此时将挡板进行打开，将温度调至T1，进而镀膜材料分子能够进行蒸发和镀膜操作；
步骤F：根据使用的用途对镀膜材料加热温度和周期进行控制，整体周期为t2，进而能够对镀膜的厚度进行控制，通过膜厚检测计对镀膜厚度进行精确测量，进而确保膜层的质量，在对真空蒸发器进行降温后取出，进而对镀膜后的基片进行透光率的检测，要求钢化玻璃表面镀膜可见光透明度不小于X1，紫外光线透过率不大于X2，符合要求后进行打磨抛光处理，便于包装销售。
优选的，所述步骤D中自由蒸发时间t1为30min。
优选的，所述步骤E中真空度P1为1.3×10-4Pa，所述蒸发温度T1为2950℃。
优选的，所述步骤F中蒸发周期t2为194min，所述钢化玻璃表面镀膜可见光透明度X1为98％，所述紫外光线透过率X2为10％。
优选的，所述步骤A中熊猫钢化玻璃的透光率不小于百分之九十二。
优选的，所述步骤B中SHR高速搅拌混合机转速不小于2400r/min。
优选的，所述步骤F中膜厚检测计采用电阻法对膜层厚度进行检测。
优选的，所述紫外光线透过率为10％时波长为320-400nm。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明通过对基材打磨后进一步进行真空蒸发镀膜处理，使得镀膜后材料表面更加光滑，且在对紫外线进行阻拦的基础上有效提高可见光的透过率，进而使用更舒适，便于观察使用。
附图说明
图1为本发明整体的流程示意图；
图2为本发明蒸发器预处理的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
请参阅图1至图2，本发明提供的一种实施例：一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，包括如下步骤：
步骤A：根据光学镜片的用途和种类对基材和镀膜材料进行选取，基材为熊猫钢化玻璃，镀膜材料采用二氧化硅和二氧化钛混合物，其中二氧化硅和二氧化钛按重量比为1.5:1；
步骤B：对基材进行与加工处理，根据镜片用途对基材进行定型切割，对切割面进行粗磨，对于镀膜面进行精细研磨处理，保证在镀膜过程中镀膜材料更均匀，镀膜表面更光滑，将二氧化硅和二氧化钛进行粉碎和混合，通过SHR高速搅拌混合机中进行研磨处理，使得镀膜材料碎至40目以下，经过多次过筛进而对粉碎程度进行控制；
步骤C：将打磨后的基片装夹在真空蒸发器内，将镀膜材料放置在蒸发源内，正空蒸发器分别与高真空泵和低真空泵连接，其中高真空泵与低真空泵通过过滤器连接，将挡板放置在蒸发源与基片中部，避免材料自由蒸发镀在基片表面，接通电源，启动真空蒸发器；
步骤D：通过真空蒸发器进行预处理操作，通过加热器对真空蒸发器内进行烘烤处理，使得将蒸发器内壁、内部夹具和基片等器件表面吸附的气体进行解吸，进而通过高真空泵进行抽取和排出，在高真空泵的一侧设置有冷凝器，通过冷凝器能够对器内的水分进行排除，在镀膜前对镀膜材料进行加热除气，使得镀膜材料进行自由蒸发，根据加热温度对自由蒸发时间t1进行控制，从而降低器内的活性气体，能够提高膜层质量；
步骤E：将真空度提高至P1以上，使得镀层材料分子到达基片的速率高于残余气体分子到达的速率，此时将挡板进行打开，将温度调至T1，进而镀膜材料分子能够进行蒸发和镀膜操作；
步骤F：根据使用的用途对镀膜材料加热温度和周期进行控制，整体周期为t2，进而能够对镀膜的厚度进行控制，通过膜厚检测计对镀膜厚度进行精确测量，进而确保膜层的质量，在对真空蒸发器进行降温后取出，进而对镀膜后的基片进行透光率的检测，要求钢化玻璃表面镀膜可见光透明度不小于X1，紫外光线透过率不大于X2，符合要求后进行打磨抛光处理，便于包装销售。
进一步，所述步骤D中自由蒸发时间t1为30min。
进一步，所述步骤E中真空度P1为1.3×10-4Pa，所述蒸发温度T1为2950℃。
进一步，所述步骤F中蒸发周期t2为194min，所述钢化玻璃表面镀膜可见光透明度X1为98％，所述紫外光线透过率X2为10％。
进一步，所述步骤A中熊猫钢化玻璃的透光率不小于百分之九十二。
进一步，所述步骤B中SHR高速搅拌混合机转速不小于2400r/min。
进一步，所述步骤F中膜厚检测计采用电阻法对膜层厚度进行检测。
进一步，所述紫外光线透过率为10％时波长为320-400nm。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (8)

1.一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤A：根据光学镜片的用途和种类对基材和镀膜材料进行选取，基材为熊猫钢化玻璃，镀膜材料采用二氧化硅和二氧化钛混合物，其中二氧化硅和二氧化钛按重量比为1.5:1；
步骤B：对基材进行与加工处理，根据镜片用途对基材进行定型切割，对切割面进行粗磨，对于镀膜面进行精细研磨处理，保证在镀膜过程中镀膜材料更均匀，镀膜表面更光滑，将二氧化硅和二氧化钛进行粉碎和混合，通过SHR高速搅拌混合机中进行研磨处理，使得镀膜材料碎至40目以下，经过多次过筛进而对粉碎程度进行控制；
步骤C：将打磨后的基片装夹在真空蒸发器内，将镀膜材料放置在蒸发源内，正空蒸发器分别与高真空泵和低真空泵连接，其中高真空泵与低真空泵通过过滤器连接，将挡板放置在蒸发源与基片中部，避免材料自由蒸发镀在基片表面，接通电源，启动真空蒸发器；
步骤D：通过真空蒸发器进行预处理操作，通过加热器对真空蒸发器内进行烘烤处理，使得将蒸发器内壁、内部夹具和基片等器件表面吸附的气体进行解吸，进而通过高真空泵进行抽取和排出，在高真空泵的一侧设置有冷凝器，通过冷凝器能够对器内的水分进行排除，在镀膜前对镀膜材料进行加热除气，使得镀膜材料进行自由蒸发，根据加热温度对自由蒸发时间t1进行控制，从而降低器内的活性气体，能够提高膜层质量；
步骤E：将真空度提高至P1以上，使得镀层材料分子到达基片的速率高于残余气体分子到达的速率，此时将挡板进行打开，将温度调至T1，进而镀膜材料分子能够进行蒸发和镀膜操作；
步骤F：根据使用的用途对镀膜材料加热温度和周期进行控制，整体周期为t2，进而能够对镀膜的厚度进行控制，通过膜厚检测计对镀膜厚度进行精确测量，进而确保膜层的质量，在对真空蒸发器进行降温后取出，进而对镀膜后的基片进行透光率的检测，要求钢化玻璃表面镀膜可见光透明度不小于X1，紫外光线透过率不大于X2，符合要求后进行打磨抛光处理，便于包装销售。
2.根据权利要求1所述的一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，其特征在于：所述步骤D中自由蒸发时间t1为30min。
3.根据权利要求1所述的一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，其特征在于：所述步骤E中真空度P1为1.3×10-4Pa，所述蒸发温度T1为2950℃。
4.根据权利要求1所述的一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，其特征在于：所述步骤F中蒸发周期t2为194min，所述钢化玻璃表面镀膜可见光透明度X1为98％，所述紫外光线透过率X2为10％。
5.根据权利要求1所述的一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，其特征在于：所述步骤A中熊猫钢化玻璃的透光率不小于百分之九十二。
6.根据权利要求1所述的一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，其特征在于：所述步骤B中SHR高速搅拌混合机转速不小于2400r/min。
7.根据权利要求1所述的一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，其特征在于：所述步骤F中膜厚检测计采用电阻法对膜层厚度进行检测。
8.根据权利要求4所述的一种紫外光截止光学膜层镀膜方法，其特征在于：所述紫外光线透过率为10％时波长为320-400nm。
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