CN112558363A - 液晶显示装置 - Google Patents

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Abstract

公开了一种液晶显示装置，该液晶显示装置可以包括：第一基板和第二基板，各个基板具有显示区域和非显示区域；液晶层，该液晶层位于所述第一基板与所述第二基板之间；柱状间隔体，该柱状间隔体位于所述第一基板上的所述显示区域和所述非显示区域中的每一个中；以及薄膜层叠层，该薄膜层叠层位于所述第二基板上的所述显示区域和所述非显示区域中的每一个中，其中，在所述显示区域中从所述第二基板到所述薄膜层叠层的一端的距离与在所述非显示区域中从所述第二基板到所述薄膜层叠层的一端的距离相同。

Description

液晶显示装置
本申请是原案申请号为201510891126.7的发明专利申请(申请日：2015年12月7日，发明名称：液晶显示装置)的分案申请。
技术领域
本发明的实施方式涉及液晶显示装置，并且更具体地，涉及一种用于维持液晶显示装置的单元间隙的柱状间隔体(spacer)。
背景技术
由于诸如良好的便携性和低工作电压的低功耗的优点，液晶显示(LCD)装置被广泛地用在笔记本计算机、监视器、宇宙飞船、飞机等的各种领域中。
LCD装置包括：下基板，其中薄膜晶体管形成在该下基板上；上基板，其中滤色器形成在该上基板上；以及液晶层，该液晶层形成在下基板与上基板之间。并且，用于维持下基板与上基板之间的单元间隙的柱状间隔体形成在下基板与上基板之间。
在下文中，将参照附图描述现有技术的LCD装置。
图1A是例示了现有技术的LCD装置的平面图。图1B是例示了现有技术的LCD装置的截面图，其中，图1B是沿着图1A的A-B线和C-D线的截面图。
如图1A所示，现有技术的LCD装置1包括用于显示图像的显示区域以及在显示区域周边制备的非显示区域。柱状间隔体30被设置在显示区域和非显示区域中的每一个中。
如图1B所示，柱状间隔体30形成在下基板20与上基板10之间。更详细地，遮光层12形成在上基板10上的显示区域和非显示区域中。柱状间隔体30被设置在遮光层12上。也就是说，在上基板10上的显示区域中具有柱状间隔体30的区域的截面结构与在上基板10上的非显示区域中具有柱状间隔体30的区域的截面结构相同。
然而，在下基板20的情况下，显示区域的截面结构与非显示区域的截面结构不同。也就是说，在显示区域的情况下，薄膜晶体管层22形成在下基板20上。此外，在非显示区域的情况下，薄膜晶体管层22未形成在下基板20上。
在具有柱状间隔体30的区域的情况下，下基板20上的显示区域的截面结构与下基板20上的非显示区域的截面结构不同。更详细地，在非显示区域中柱状间隔体30与下基板20之间的距离(D1)比在显示区域中柱状间隔体30与下基板20的薄膜晶体管层22之间的距离(D2)更长。
因此，非显示区域的单元间隙(D1)比显示区域的单元间隙(D2)更大，由此液晶显示装置的整个单元间隙不是均匀的。
发明内容
因此，本发明的实施方式致力于一种基本上消除了由于现有技术的局限和缺点而导致的一个或更多个问题的液晶显示装置。
本发明的实施方式的一个方面在于提供一种能够在显示区域和非显示区域二者中维持均匀的单元间隙的液晶显示装置。
本发明的附加的优点和特征将在以下的描述中部分地阐述，并且部分地对于研究了以下部分的本领域普通技术人员而言将变得显而易见，或者可以从本发明的实践中学习到。本发明的目标和其它优点可以通过在所撰写的说明书及其权利要求书以及附图中特别指出的结构来实现和获得。
为了实现这些和其它优点并且根据本发明的目的，如本文所具体实现和广义描述的，提供了一种液晶显示装置，该液晶显示装置可以包括：第一基板和第二基板，各个基板具有显示区域和非显示区域；液晶层，该液晶层位于所述第一基板与所述第二基板之间；柱状间隔体，该柱状间隔体位于所述第一基板上的所述显示区域和所述非显示区域中的每一个中；以及薄膜层，该薄膜层位于所述第二基板上的所述显示区域和所述非显示区域中的每一个中，其中，在所述显示区域中从所述第二基板到所述薄膜层的一端的距离与在所述非显示区域中从所述第二基板到所述薄膜层的一端的距离相同。
在本发明的另一方面中，提供了一种液晶显示装置，该液晶显示装置包括：第一基板和第二基板；液晶层，该液晶层位于所述第一基板与所述第二基板之间；至少一个柱状间隔体，该至少一个柱状间隔体位于所述液晶显示装置在所述第一基板上的显示区域和非显示区域中的每一个中；以及薄膜层叠层，该薄膜层叠层位于所述第二基板上的所述显示区域和所述非显示区域中，其中，在所述显示区域中从所述第二基板到所述薄膜层叠层的一部分的一端的距离与在所述非显示区域中从所述第二基板到所述薄膜层叠层的一部分的一端的距离相同，所述显示区域中的所述薄膜层叠层的所述部分被布置在所述显示区域中的所述第二基板与所述至少一个柱状间隔体之间，并且所述非显示区域中的所述薄膜层叠层的所述部分被布置在所述非显示区域中的所述第二基板与所述至少一个柱状间隔体之间，其中，所述显示区域中的所述薄膜层叠层的所述部分的层叠结构与所述非显示区域中的所述薄膜层叠层的所述部分的层叠结构相同。
在一个或更多个实施方式中，所述非显示区域或所述显示区域中的所述薄膜层叠层的所述部分的所述端对应于所述薄膜层叠层的与所述液晶层接触的上表面。
在一个或更多个实施方式中，在所述非显示区域中从所述第一基板到所述至少一个柱状间隔体的下端的距离与在所述显示区域中从所述第一基板到所述至少一个柱状间隔体的下端的距离相同。
在一个或更多个实施方式中，所述非显示区域中的所述薄膜层叠层的所述部分的所述端与所述非显示区域中的所述至少一个柱状间隔体之间的距离与所述显示区域中的所述薄膜层叠层的所述部分的所述端与所述显示区域中的所述至少一个柱状间隔体之间的距离相同。
在一个或更多个实施方式中，所述显示区域中的所述至少一个柱状间隔体和/或所述非显示区域中的所述至少一个柱状间隔体包括主要柱状间隔体和辅助柱状间隔体，其中，所述辅助柱状间隔体比所述主要柱状间隔体更短。所述主要柱状间隔体可以与所述薄膜层叠层接触。
在一个或更多个实施方式中，所述非显示区域中的所述至少一个柱状间隔体包括彼此间隔开的多个柱状间隔体，其中，在所述非显示区域的具有柱状间隔体的区域中的所述薄膜层叠层的层叠结构与在所述非显示区域的不具有柱状间隔体的区域中的所述薄膜层叠层的层叠结构相同。
在一个或更多个实施方式中，所述非显示区域中的所述至少一个柱状间隔体包括彼此间隔开的多个柱状间隔体，其中，在所述非显示区域的具有柱状间隔体的区域中的所述薄膜层叠层的层叠结构与在所述非显示区域的不具有柱状间隔体的区域中的所述薄膜层叠层的层叠结构不同。在这种情况下，所述薄膜层叠层可以在所述非显示区域的不具有柱状间隔体的所述区域中包括液晶容纳部。
在一个或更多个实施方式中，在所述非显示区域的具有柱状间隔体的所述区域中，所述薄膜层叠层包括信号线、位于所述信号线上的栅绝缘膜、位于所述栅绝缘膜上的半导体层、位于所述半导体层上的金属层和位于所述金属层上的钝化层，而在所述非显示区域的不具有柱状间隔体的所述区域中，所述薄膜层叠层包括所述信号线、位于所述信号线上的所述栅绝缘膜以及位于所述栅绝缘膜上并且与所述栅绝缘膜接触的所述钝化层。
在一个或更多个实施方式中，在所述显示区域和所述非显示区域中的每一个中的所述薄膜层叠层包括钝化层，并且所述显示区域或所述非显示区域中的所述薄膜层叠层的所述部分的所述端对应于所述钝化层的与所述液晶层接触的上表面。
在一个或更多个实施方式中，所述显示区域中的所述薄膜层叠层包括：栅极；栅绝缘膜，该栅绝缘膜位于所述栅极上；半导体层，该半导体层位于所述栅绝缘膜上；源极和漏极，该源极和该漏极位于所述半导体层上；以及钝化层，该钝化层位于所述源极和所述漏极上；并且所述非显示区域中的所述薄膜层叠层包括：信号线；栅绝缘膜，该栅绝缘膜位于所述信号线上；半导体层，该半导体层位于所述栅绝缘膜上；金属层，该金属层位于所述半导体层上；以及钝化层，该钝化层位于所述金属层上。
在一个或更多个实施方式中，所述栅极的厚度与所述信号线的厚度相同；所述显示区域中的所述栅绝缘膜的厚度与所述非显示区域中的所述栅绝缘膜的厚度相同；所述显示区域中的所述半导体层的厚度与所述非显示区域中的所述半导体层的厚度相同；所述显示区域中的所述源极和所述漏极的厚度与所述非显示区域中的所述金属层的厚度相同；以及所述显示区域中的所述钝化层的厚度与所述非显示区域中的所述钝化层的厚度相同。
在一个或更多个实施方式中，所述栅极和所述信号线通过同一制造工艺由相同的材料形成；位于所述栅极上的所述栅绝缘膜和位于所述信号线上的所述栅绝缘膜通过同一制造工艺由相同的材料形成；所述显示区域中的所述半导体层和所述非显示区域中的所述半导体层通过同一制造工艺由相同的材料形成；所述源极和所述漏极以及所述金属层通过同一制造工艺由相同的材料形成；以及所述显示区域中的所述钝化层和所述非显示区域中的所述钝化层通过同一制造工艺由相同的材料形成。
在一个或更多个实施方式中，所述显示区域中的所述薄膜层叠层包括：半导体层；栅绝缘膜，该栅绝缘膜位于所述半导体层上；栅极，该栅极位于所述栅绝缘膜上；绝缘层间膜，该绝缘层间膜位于所述栅极上；源极和漏极，该源极和该漏极位于所述绝缘层间膜上；以及钝化层，该钝化层位于所述源极和所述漏极上；并且所述非显示区域中的所述薄膜层叠层包括：半导体层；栅绝缘膜，该栅绝缘膜位于所述半导体层上；信号线，该信号线位于所述栅绝缘膜上；绝缘层间膜，该绝缘层间膜位于所述信号线上；金属层，该金属层位于所述绝缘层间膜上；以及钝化层，该钝化层位于所述金属层上。
在一个或更多个实施方式中，所述显示区域中的所述半导体层的厚度与所述非显示区域中的所述半导体层的厚度相同；所述显示区域中的所述栅绝缘膜的厚度与所述非显示区域中的所述栅绝缘膜的厚度相同；所述显示区域中的所述栅极的厚度与所述非显示区域中的所述信号线的厚度相同；所述显示区域中的所述绝缘层间膜的厚度与所述非显示区域中的所述绝缘层间膜的厚度相同；所述显示区域中的所述源极和所述漏极的厚度与所述非显示区域中的所述金属层的厚度相同；以及所述显示区域中的所述钝化层的厚度与所述非显示区域中的所述钝化层的厚度相同。
在一个或更多个实施方式中，所述液晶显示装置还包括位于所述第一基板上的遮光层和位于所述遮光层上的涂覆层，其中，在所述显示区域和所述非显示区域中的每一个中的所述至少一个柱状间隔体被布置在所述涂覆层上。
应当理解，本发明的以上总体描述和以下详细描述二者是示例性和说明性的，并且旨在提供对如要求保护的本发明的进一步说明。
附图说明
附图被包括以提供对本发明的进一步理解，并且被并入本申请并构成本申请一部分，附图例示了本发明的实施方式，并且与本说明书一起用来说明本发明的原理。附图中：
图1A是例示了现有技术的LCD装置的平面图，图1B是例示了现有技术的LCD装置的截面图；
图2是例示了根据本发明的一个实施方式的LCD装置的平面图；
图3是例示了根据本发明的一个实施方式的LCD装置的截面图，其对应于沿着图2的A-B线和C-D线的截面图；
图4是例示了根据本发明的一个实施方式的非显示区域的截面图，其对应于沿着图2的E-F线的截面图；
图5是例示了根据本发明的另一实施方式的非显示区域的截面图，其对应于沿着图2的E-F线的截面图；
图6是例示了根据本发明的一个实施方式的显示区域的截面图，其对应于沿着图2的G-H线的截面图；以及
图7是例示了根据本发明的另一实施方式的LCD装置的截面图。
具体实施方式
现在将详细地参照本发明的示例性实施方式，其示例被例示在附图中。只要可能，相同的附图标记将在所有附图中用来指代相同或类似的部分。
将通过参照附图描述的以下实施方式来澄清本发明的优点和特征及其实现方法。然而，本发明可以按照不同形式具体实现，并且不应该被解释为限于本文所阐述的实施方式。相反，这些实施方式被提供为使得本公开将是彻底且完整的，并且将充分地将本发明的范围传达给本领域技术人员。此外，本发明仅由权利要求的范围来限定。
在用于描述本发明的实施方式的附图中公开的形状、尺寸、比率、角度和数量仅仅是示例，进而，本发明不限于所例示的细节。相同的附图标记自始至终指代相同的元件。在以下描述中，当相关已知功能或构造的详细描述被确定为未必使本发明的重点混淆时，将省略详细描述。在使用本说明书中描述的“包括”、“具有”和“包含”的情况下，除非使用了“仅～”，否则可以添加另一部分。除非表示相反，否则单数形式的术语可以包括复数形式。在解释元件时，尽管不存在显式描述，但是元件被解释为包括误差区域。
在本发明的实施方式的描述中，当结构(例如，电极、线、布线、层或触点)被描述为形成在另一结构的上部/下部处或在另一结构上/下方时，此描述应该被解释为包括结构彼此接触的情况以及此外第三结构被布置在其之间的情况。
在描述时间关系时，例如，当时间顺序被描述为“在～之后”、“继～之后”、“居于～之后”和“在～之前”时，除非使用了“刚好”或“直接”，否则可以包括不连续的情况。
应当理解，尽管可以在本文中使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应该受这些术语限制。这些术语仅用于区分一个元件和另一元件。例如，在不脱离本发明的范围的情况下，第一元件能够被称为第二元件，并且类似地，第二元件能够被称为第一元件。
本发明的各种实施方式的特征可以部分地或全面地彼此耦接或组合，并且可以不同地彼此互操作，以及如本领域技术人员能够充分地理解的那样在技术上被驱动。本发明的实施方式可以被彼此独立地执行，或者可以被按照共同依赖关系一起执行。
在下文中，将参照附图描述本发明的实施方式。
图2是例示了根据本发明的一个实施方式的LCD装置的平面图。
如图2所示，根据本发明的一个实施方式的LCD装置1可以包括用于显示图像的显示区域以及在显示区域周边制备的非显示区域。非显示区域可以至少部分地围绕显示区域。非显示区域可以完全地围绕显示区域。非显示区域可以是不显示任何图像的区域。非显示区域可以是不具有任何像素的区域。
在显示区域中，尽管未示出，但是存在由彼此交叉的选通线和数据线限定的多个像素，并且薄膜晶体管、像素电极和公共电极形成在各个像素中。薄膜晶体管与相应的选通线和数据线连接。像素电极与薄膜晶体管连接。公共电极与像素电极一起形成电场。
在显示区域中，形成了多个柱状间隔体300，以便维持LCD装置的单元间隙。所述多个柱状间隔体300可以与薄膜晶体管交叠，这将参照以下截面图而被容易地理解。例如，各个柱状间隔体300可以与薄膜晶体管交叠。
信号线210被设置在非显示区域中。信号线210沿着显示区域的周边延伸。尽管未详细地示出，但是信号线20可以与形成在显示区域中的公共电极连接，由此可以经由信号线210对公共电极施加公共信号。信号线210与柔性印刷电路(FPC)膜2连接，由此可以经由FPC膜2供应公共信号。FPC膜2可以在与信号线210接触的同时附接至非显示区域。
在非显示区域中，存在多个柱状间隔体300。所述多个柱状间隔体300可以与信号线210交叠。
图3是例示了根据本发明的一个实施方式的LCD装置的截面图，其对应于沿着图2的A-B线和C-D线的截面图。
首先，如下将详细地描述非显示区域中的第一基板100的结构。第一基板100可以是上基板。
遮光层110形成在第一基板100的下表面上，涂覆层120形成在遮光层110的下表面上，并且柱状间隔体300形成在涂覆层120的下表面上。在上文中，术语“下表面”指代面朝向LCD装置的液晶层400的表面。
遮光层110形成在整个非显示区域上，以从而防止光在非显示区域中泄漏。涂覆层120被设置来使第一基板100的表面平整。柱状间隔体300可以附接至涂覆层120的下表面。柱状间隔体300可以不与第二基板200接触。不与第二基板200接触的柱状间隔体300用作帮助单元间隙维持并且改进液晶层400的流动性的辅助柱状间隔体。将参照图6稍后对此进行详细的描述。
如下将详细地描述显示区域中的第一基板100的结构。
遮光层110形成在第一基板100的下表面上，涂覆层120形成在遮光层110的下表面上，并且柱状间隔体300形成在涂覆层120的下表面上。柱状间隔体300与在第二基板200的显示区域中制备的薄膜晶体管交叠。也就是说，柱状间隔体300可以与在第二基板200的显示区域中制备的薄膜晶体管的栅极211、半导体层230、源极241和漏极242当中的至少一个交叠。
显示区域中的第一基板100的层叠结构与非显示区域中的第一基板100的层叠结构相同。因此，在非显示区域中从第一基板100(例如，从第一基板的下表面)到柱状间隔体300的下端的距离(H1)与在显示区域中从第一基板100(例如，从第一基板的下表面)到柱状间隔体300的下端的距离(H2)相同。在上文中，术语“下端”指代接近液晶层400的一端。
然后，如下将详细地描述非显示区域中的第二基板200的结构。
在非显示区域中的第二基板200上，存在包括信号线210、栅绝缘膜220、半导体层230、金属层240和钝化层250的薄膜层叠层。
更详细地，信号线210形成在第二基板200的上表面上，栅绝缘膜220形成在信号线210的上表面上，半导体层230形成在栅绝缘膜220的上表面上，金属层240形成在半导体层230的上表面上，并且钝化层250形成在金属层240的上表面上。在上文中，术语“上表面”指代面朝向液晶层400的表面。
如上所述，信号线210被设置来对公共电极施加公共信号。栅绝缘膜220在显示区域中使栅极211和半导体层230彼此绝缘，其中，栅绝缘膜220从显示区域延伸到非显示区域。非显示区域的半导体层230和显示区域的半导体层230通过同一制造工艺由相同的材料形成。非显示区域的金属层240以及显示区域的源极241和漏极242通过同一制造工艺由相同的材料形成。钝化层250被设置来保护显示区域的薄膜晶体管，其中，钝化层250从显示区域延伸到非显示区域。
如下将详细地描述显示区域中的第二基板200的结构。
在显示区域中的第二基板200上，存在包括栅极211、栅绝缘膜220、半导体层230、源极241或漏极242和钝化层250的薄膜层叠层。
更详细地，栅极211形成在第二基板200的上表面上，栅绝缘膜220形成在栅极211的上表面上，半导体层230形成在栅绝缘膜220的上表面上，彼此面对的源极241和漏极242形成在半导体层230的上表面上，并且钝化层250形成在源极241和漏极242的上表面上。在上文中，术语“上表面”指代面朝向液晶层400的表面。
显示区域中的第二基板200的层叠结构与非显示区域中的第二基板200的层叠结构相同。
在显示区域的情况下，栅极211、栅绝缘膜220、半导体层230、源极241/漏极242和钝化层250顺序地层叠在第二基板200上。在非显示区域的情况下，信号线210、栅绝缘膜220、半导体层230、金属层240和钝化层250顺序地层叠在第二基板200上。这时，显示区域中的栅极211的厚度与非显示区域中的信号线210的厚度相同，显示区域中的栅绝缘膜220的厚度与非显示区域中的栅绝缘膜220的厚度相同，显示区域中的半导体层230的厚度与非显示区域中的半导体层230的厚度相同，显示区域中的源极241/漏极242的厚度与非显示区域中的金属层240的厚度相同，并且显示区域中的钝化层250的厚度与非显示区域中的钝化层250的厚度相同。
因此，在非显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到薄膜层叠层的上端的距离(H3)与在显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到薄膜层叠层的上端的距离(H4)相同。换句话说，在非显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到钝化层250的上端的距离(H3)与在显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到钝化层250的上端的距离(H4)相同。在上文中，术语“上端”指代接近液晶层400的一端。
如以上所说明的，根据本发明的一个实施方式，在非显示区域中从第一基板100(例如，从第一基板的下表面)到柱状间隔体300的下端的距离(H1)与在显示区域中从第一基板100(例如，从第一基板的下表面)到柱状间隔体300的下端的距离(H2)相同。并且，在非显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到钝化层250的上端的距离(H3)与在显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到钝化层250的上端的距离(H4)相同。
因此，在非显示区域中从柱状间隔体300的下端到薄膜层叠层或钝化层250的上端的距离(D1)与在显示区域中从柱状间隔体300的下端到薄膜层叠层或钝化层250的上端的距离(D2)相同。结果，能够在显示区域和非显示区域二者中维持均匀的单元间隙。
图4是例示了根据本发明的一个实施方式的LCD装置中的非显示区域的截面图，其对应于沿着图2的E-F线的截面图。
如图4所示，在非显示区域中，遮光层110、涂覆层120和柱状间隔体300顺序地形成在第一基板100的下表面上。以固定间隔设置所述多个柱状间隔体300。
在非显示区域中，信号线210、栅绝缘膜220、半导体层230、金属层240和钝化层250顺序地形成在第二基板200的上表面上。
并且，液晶层400形成在第一基板100与第二基板200之间，例如在涂覆层120与钝化层250之间以及在柱状间隔体300与钝化层250之间。
在图4的情况下，在面对具有柱状间隔体300的区域的第二基板200的区域中的层叠结构与在面对没有柱状间隔体300的区域的第二基板200的区域中的层叠结构相同，但是不限于此结构。在面对具有柱状间隔体300的区域的第二基板200的区域中的层叠结构可以与在面对没有柱状间隔体300的区域的第二基板200的区域中的层叠结构不同，将参照图5对此进行描述。
图5是例示了根据本发明的另一实施方式的非显示区域的截面图，其对应于沿着图2的E-F线的截面图。
如图5所示，在非显示区域中，遮光层110、涂覆层120和柱状间隔体300顺序地形成在第一基板100的下表面上。所述多个柱状间隔体300被以固定间隔设置。
在非显示区域中，信号线210、栅绝缘膜220、半导体层230、金属层240和钝化层250顺序地形成在第二基板200的上表面上。
并且，液晶层400形成在第一基板100与第二基板200之间。
在图5的情况下，在面对具有柱状间隔体300的区域的第二基板200的区域中的层叠结构与在面对没有柱状间隔体300的区域的第二基板200的区域中的层叠结构不同。
也就是说，半导体层230和金属层240形成在面对具有柱状间隔体300的区域的第二基板200的预定区域中，但是，半导体层230和金属层240未形成在面对没有柱状间隔体300的剩余区域的第二基板200的剩余区域中。钝化层250可以在未形成有半导体层230和金属层240的那些区域中与栅绝缘膜220接触。
在图5的情况下，可以在第二基板200的薄膜层叠层中制备液晶容纳部410。液晶容纳部410被设置在未形成有柱状间隔体300的区域中，由此液晶容纳部410不与柱状间隔体300交叠。因为液晶容纳部410被制备在第二基板200的薄膜层叠层中，所以液晶平滑地流过液晶容纳部410。
图6是例示了根据本发明的一个实施方式的LCD装置中的显示区域的截面图，其对应于沿着图2的G-H线的截面图。
如图6所示，在显示区域中，遮光层110、滤色器层130、涂覆层120以及柱状间隔体300a和柱状间隔体300b顺序地形成在第一基板100的下表面上。
遮光层110被设置在第一基板100的下表面上，并且更具体地，形成在各个像素之间的区域中。按照矩阵构造形成遮光层110，并且矩阵构造中的各个图案的内部设置有像素区域。
滤色器层130形成在遮光层110的各个图案之间的像素区域中。滤色器层130可以包括在相应像素中设置的红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器。
涂覆层120形成在遮光层110的下表面上并在滤色器层130的下表面上。
柱状间隔体300a和柱状间隔体300b形成在涂覆层120的下表面上。柱状间隔体300a和柱状间隔体300b与遮光层110交叠。
柱状间隔体300a和柱状间隔体300b可以包括主要柱状间隔体300a和辅助柱状间隔体300b。主要柱状间隔体300a与第一基板100的区域和第二基板200的区域接触，而辅助柱状间隔体300b仅与第一基板100的区域接触。如所示，例如，主要柱状间隔体300a可以与涂覆层120的下表面和钝化层250的上表面接触，然而辅助柱状间隔体300b可以仅与涂覆层120的下表面接触。虽然主要柱状间隔体300a形成在单元间隙的高度处，但是辅助柱状间隔体300b形成在小于单元间隙的高度处。换句话说，在形成有主要柱状间隔体300a的位置处主要柱状间隔体300a的高度可以等于涂覆层120与钝化层250之间的距离(例如，从钝化层的上表面到涂覆层的下表面的距离)，而在形成有辅助柱状间隔体300b的位置处辅助柱状间隔体300b的高度可以小于涂覆层120与钝化层250之间的距离(例如，从钝化层的上表面到涂覆层的下表面的距离)。
为了制造所述LCD装置，考虑到单元间隙来确定用于液晶层400的液晶的量。在这种情况下，液晶层400可能由于在确定液晶的量时的误差而为未填充的或过填充的。在此上下文中，“未填充的”可以指代液晶的所确定的量小于填充实际上所需的液晶的量的情形，然而“过填充的”可以指代液晶的所确定的量大于填充实际上所需的液晶的量的情形。
辅助柱状间隔体300b比单元间隙低。换句话说，辅助间隔体300b的高度小于单元间隙(在辅助柱状间隔体300b的位置处)。辅助柱状间隔体300b可以比主要柱状间隔体300a更短。因此，在未填充的或过填充的液晶层400的情况下，由于液晶层400的流动性的改进可以主动地调整单元间隙。如果在仅主要柱状间隔体300a形成在LCD装置中的条件下存在未填充的或过填充的液晶层400，则难以主动地调整单元间隙，从而导致光泄漏或诸如斑点的缺陷。如果设置辅助柱状间隔体300b，则单元间隔甚至在未填充的或过填充的液晶层400的情况下也被主动地调整，从而防止光泄漏或诸如班点的缺陷。
并且，当对LCD装置施加外力时，辅助柱状间隔体300b与主要柱状间隔体300a一起维持单元间隙，从而防止单元间隙的坍塌。最后，当存在未填充的或过填充的液晶层400或者对LCD装置施加外力时，主要柱状间隔体300a和辅助柱状间隔体300b主动地调整LCD装置的单元间隙。
在显示区域中，存在主要柱状间隔体300a和辅助柱状间隔体300b。此外，在上述非显示区域的情况下，仅示出了辅助柱状间隔体。如果需要，按照如在显示区域中相同的方式，主要柱状间隔体和辅助柱状间隔体可以形成在非显示区域中。
在显示区域中，栅极211、栅绝缘膜220、半导体层230、源极241/漏极242、钝化层250和像素电极260形成在第二基板200的上表面上。
栅极211、栅绝缘膜220、半导体层230和源极241/漏极242中的每一个的结构与图3的上述结构相同，由此将省略针对相同部分的详细描述。
钝化层250形成在源极241和漏极242的上表面上。接触孔(CH)形成钝化层250中，由此经由接触孔(CH)暴露漏极242。
像素电极260被图案化在钝化层250上。像素电极260经由接触孔(CH)与漏极242连接。
图7是例示了根据本发明的另一实施方式的LCD装置的截面图，其对应于沿着图2的A-B线和C-D线的截面图。图3所示的上述LCD装置涉及栅极211被设置在半导体层230下方的底部栅结构。此外，图7所示的LCD装置涉及栅极211被设置在半导体层230上方的顶部栅结构。
第一基板100的层叠结构与图3所示的上述层叠结构相同。
也就是说，在显示区域和非显示区域二者中，遮光层110形成在第一基板100的下表面上，涂覆层120形成在遮光层110的下表面上，并且柱状间隔体300形成在涂覆层120的下表面上。因此，在非显示区域中从第一基板100(例如，从第一基板的下表面)到柱状间隔体300的下端的距离(H1)与在显示区域中从第一基板100(例如，从第一基板的下表面)到柱状间隔体300的下端的距离(H2)相同。
第二基板200的层叠结构与图3所示的上述层叠结构不同。
首先，如下将描述显示区域中的第二基板200的结构。
在显示区域中的第二基板200上，存在包括半导体层230、栅绝缘膜220、栅极211、绝缘层间膜270、源极241或漏极242和钝化层250的薄膜层叠层。
更详细地，半导体层230形成在第二基板200的上表面上，栅绝缘膜220形成在半导体层230的上表面上，栅极211形成在栅绝缘膜220的上表面上，绝缘层间膜270形成在栅极211的上表面上，彼此面对的源极241和漏极242形成在绝缘层间膜270的上表面上，并且钝化层250形成在源极241和漏极242的上表面上。
两个接触孔(CH)被设置在栅绝缘膜220和绝缘层间膜270中。因此，半导体层230的一端和相反端经由相应的接触孔(CH)被暴露，并且源极241和漏极242经由相应的接触孔(CH)分别与半导体层230的一端和另一端连接。
然后，如下将描述非显示区域中的第二基板200的结构。
在非显示区域中的第二基板200上，存在包括半导体层230、栅绝缘膜220、信号线210、绝缘层间膜270、金属层240和钝化层250的薄膜层叠层。
更详细地，半导体层230形成在第二基板200的上表面上，栅绝缘膜220形成在半导体层230的上表面上，信号线210形成在栅绝缘膜220的上表面上，绝缘层间膜270形成在信号线210的上表面上，金属层240形成在绝缘层间膜270的上表面上，并且钝化层250形成在金属层240的上表面上。
信号线210被设置为对公共电极施加公共信号。非显示区域的半导体层230和显示区域的半导体层230通过同一制造工艺由相同的材料形成，并且非显示区域的金属层240以及显示区域的源极241和漏极242通过同一制造工艺由相同的材料形成。
栅绝缘膜220、绝缘层间膜270和钝化层250从显示区域延伸到非显示区域。
因此，显示区域中的第二基板200的层叠结构与非显示区域中的第二基板200的层叠结构相同。
在显示区域的情况下，半导体层230、栅绝缘膜220、栅极211、绝缘层间膜270、源极241/漏极242和钝化层250顺序地层叠在第二基板200上。在非显示区域的情况下，半导体层230、栅绝缘膜220、信号线210、绝缘层间膜270、金属层240和钝化层250顺序地层叠在第二基板200上。
这时，显示区域中的半导体层230的厚度与非显示区域中的半导体层230的厚度相同，显示区域中的栅绝缘膜220的厚度与非显示区域中的栅绝缘膜220的厚度相同，显示区域中的栅极211的厚度与非显示区域中的信号线210的厚度相同，显示区域中的绝缘层间膜270的厚度与非显示区域中的绝缘层间膜270的厚度相同，显示区域中的源极241/漏极242的厚度与非显示区域中的金属层240的厚度相同，以及显示区域中的钝化层250的厚度与非显示区域中的钝化层250的厚度相同；
因此，在非显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到钝化层250的上端的距离(H3)与在显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到钝化层250的上端的距离(H4)相同。
如上所述，根据本发明的另一实施方式，在非显示区域中从第一基板100(例如，从第一基板的下表面)到柱状间隔体300的下端的距离(H1)与在显示区域中从第一基板100(例如，从基板的下表面)到柱状间隔体300的下端的距离(H2)相同。并且，在非显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到钝化层250的上端的距离(H3)与在显示区域中从第二基板200(例如，从第二基板的上表面)到钝化层250的上端的距离(H4)相同。因此，在非显示区域中从柱状间隔体300的下端到钝化层250的上端的距离(D1)与在显示区域中从柱状间隔体300的下端到钝化层250的上端的距离(D2)相同。结果，能够在显示区域和非显示区域二者中维持均匀的单元间隙。
根据本发明的各种实施方式的LCD装置可以包括通常为本领域技术人员所知的各种模式，例如，TN(扭曲向列)模式、VA(垂直配向)模式、IPS(面内切换)模式或FFS(边缘场切换)模式。在TN模式和VA模式的情况下，公共电极形成在第一基板100上，由此垂直电场形成在像素电极与公共电极之间。在IPS模式和FFS模式的情况下，像素电极和公共电极被设置在第二基板200上，由此水平电场形成在像素电极与公共电极之间。在上述模式中的各个模式下，可以将像素电极和公共电极中的每一个改变为通常为本领域技术人员所知的各种形状。
根据本发明，在显示区域中从第二基板到薄膜层叠层的所述端的距离与在非显示区域中从第二基板到薄膜层叠层的所述端的距离相同，使得能够在显示区域和非显示区域二者中维持均匀的单元间隙。
对于本领域技术人员而言将显而易见的是，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，能够对本发明做出各种修改和变化。因此，本发明旨在涵盖此发明的修改和变化，只要它们落入所附权利要求及其等同物的范围内即可。
本申请要求2014年12月31日提交的韩国专利申请第10-2014-0195828号的权益，在此通过引用将其并入，如同在本文中充分阐述一样。

Claims (13)

1.一种液晶显示装置，该液晶显示装置包括：
第一基板和第二基板，所述第一基板和所述第二基板包括显示区域和非显示区域；
遮光层和涂覆层，所述遮光层和所述涂覆层在所述显示区域和所述非显示区域上方依次层叠在所述第一基板的下表面上；
薄膜层叠层，所述薄膜层叠层位于所述第二基板的上表面上的所述显示区域和所述非显示区域中，
液晶层，所述液晶层位于所述第一基板与所述第二基板之间并且位于所述显示区域和所述非显示区域上方；
主要柱状间隔体，所述主要柱状间隔体位于除了所述非显示区域以外的所述显示区域中，所述主要柱状间隔体接触所述第一基板的所述涂覆层以及所述第二基板的所述薄膜层叠层；以及
辅助柱状间隔体，所述辅助柱状间隔体位于所述显示区域和所述非显示区域中，所述辅助柱状间隔体接触所述第一基板的所述涂覆层并且不接触所述第二基板的所述薄膜层叠层，
其中，在所述显示区域中从所述第二基板的下表面到所述薄膜层叠层的上端的距离与在所述非显示区域中从所述第二基板的下表面到所述薄膜层叠层的上端的距离相等，
其中，所述显示区域中的所述薄膜层叠层的叠层结构与所述非显示区域中的所述薄膜层叠层的层叠结构相同，
其中，所述主要柱状间隔体的高度与单元间隙相等，在所述显示区域和所述非显示区域中，所述单元间隙与从所述第二基板的下表面到所述薄膜层叠层的上端的距离相对应，
其中，所述辅助柱状间隔体比所述主要柱状间隔体更短，
其中，在所述显示区域中从所述辅助柱状间隔体的下端到所述薄膜层叠层的上端之间的距离与在所述非显示区域中从所述辅助柱状间隔体的下端到所述薄膜层叠层的上端之间的距离相等，
其中，在所述显示区域和所述非显示区域二者中的单元间隙是均匀的，
其中，所述非显示区域的具有所述辅助柱状间隔体的区域中的薄膜层叠层的层叠结构与所述非显示区域的不具有任何柱状间隔体的区域中的薄膜层叠层的层叠结构不同。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述非显示区域和所述显示区域中的所述薄膜层叠层的端部对应于所述薄膜层叠层的与所述液晶层接触的上表面。
3.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，在所述非显示区域的具有所述辅助柱状间隔体的所述区域中，所述薄膜层叠层包括信号线、位于所述信号线上的栅绝缘膜、位于所述栅绝缘膜上的半导体层、位于所述半导体层上的金属层和位于所述金属层上的钝化层。
4.根据权利要求3所述的液晶显示装置，其中，在所述非显示区域的不具有柱状间隔体的所述区域中，所述薄膜层叠层包括所述信号线、位于所述信号线上的所述栅绝缘膜以及位于所述栅绝缘膜上并且与所述栅绝缘膜接触的所述钝化层。
5.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述显示区域中的所述薄膜层叠层包括：
栅极；
栅绝缘膜，该栅绝缘膜位于所述栅极上；
半导体层，该半导体层位于所述栅绝缘膜上；
源极和漏极，该源极和该漏极位于所述半导体层上；以及
钝化层，该钝化层位于所述源极和所述漏极上；并且
其中，所述非显示区域中的所述薄膜层叠层包括：
信号线；
栅绝缘膜，该栅绝缘膜位于所述信号线上；
半导体层，该半导体层位于所述栅绝缘膜上；
金属层，该金属层位于所述半导体层上；以及
钝化层，该钝化层位于所述金属层上。
6.根据权利要求5所述的液晶显示装置，其中：
所述栅极的厚度与所述信号线的厚度相同；
所述显示区域中的所述栅绝缘膜的厚度与所述非显示区域中的所述栅绝缘膜的厚度相同；
所述显示区域中的所述半导体层的厚度与所述非显示区域中的所述半导体层的厚度相同；
所述显示区域中的所述源极和所述漏极的厚度与所述非显示区域中的所述金属层的厚度相同；以及
所述显示区域中的所述钝化层的厚度与所述非显示区域中的所述钝化层的厚度相同。
7.根据权利要求5所述的液晶显示装置，其中：
所述栅极和所述信号线通过同一制造工艺由相同的材料形成；
位于所述栅极上的所述栅绝缘膜和位于所述信号线上的所述栅绝缘膜通过同一制造工艺由相同的材料形成；
所述显示区域中的所述半导体层和所述非显示区域中的所述半导体层通过同一制造工艺由相同的材料形成；
所述源极和所述漏极以及所述金属层通过同一制造工艺由相同的材料形成；以及
所述显示区域中的所述钝化层和所述非显示区域中的所述钝化层通过同一制造工艺由相同的材料形成。
8.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述显示区域中的所述薄膜层叠层包括：
半导体层；
栅绝缘膜，该栅绝缘膜位于所述半导体层上；
栅极，该栅极位于所述栅绝缘膜上；
绝缘层间膜，该绝缘层间膜位于所述栅极上；
源极和漏极，该源极和该漏极位于所述绝缘层间膜上；以及
钝化层，该钝化层位于所述源极和所述漏极上；并且
其中，所述非显示区域中的所述薄膜层叠层包括：
半导体层；
栅绝缘膜，该栅绝缘膜位于所述半导体层上；
信号线，该信号线位于所述栅绝缘膜上；
绝缘层间膜，该绝缘层间膜位于所述信号线上；
金属层，该金属层位于所述绝缘层间膜上；以及
钝化层，该钝化层位于所述金属层上。
9.根据权利要求8所述的液晶显示装置，其中：
所述显示区域中的所述半导体层的厚度与所述非显示区域中的所述半导体层的厚度相同；
所述显示区域中的所述栅绝缘膜的厚度与所述非显示区域中的所述栅绝缘膜的厚度相同；
所述显示区域中的所述栅极的厚度与所述非显示区域中的所述信号线的厚度相同；
所述显示区域中的所述绝缘层间膜的厚度与所述非显示区域中的所述绝缘层间膜的厚度相同；
所述显示区域中的所述源极和所述漏极的厚度与所述非显示区域中的所述金属层的厚度相同；以及
所述显示区域中的所述钝化层的厚度与所述非显示区域中的所述钝化层的厚度相同。
10.一种液晶显示装置，该液晶显示装置包括：
第一基板和第二基板，所述第一基板和所述第二基板包括显示区域和非显示区域；
遮光层和涂覆层，所述遮光层和所述涂覆层在所述显示区域和所述非显示区域上方依次层叠在所述第一基板的下表面上；
薄膜层叠层，所述薄膜层叠层位于所述第二基板的上表面上的所述显示区域和所述非显示区域中，
液晶层，所述液晶层位于所述第一基板与所述第二基板之间并且位于所述显示区域和所述非显示区域上方；
主要柱状间隔体，所述主要柱状间隔体位于除了所述非显示区域以外的所述显示区域中，所述主要柱状间隔体接触所述第一基板的所述涂覆层以及所述第二基板的所述薄膜层叠层；以及
辅助柱状间隔体，所述辅助柱状间隔体位于所述显示区域和所述非显示区域中，所述辅助柱状间隔体接触所述第一基板的所述涂覆层并且不接触所述第二基板的所述薄膜层叠层，
其中，所述显示区域中的所述薄膜层叠层的叠层结构与所述非显示区域中的所述薄膜层叠层的层叠结构相同，
其中，所述主要柱状间隔体的高度与单元间隙相等，在所述显示区域和所述非显示区域中，所述单元间隙与从所述第二基板的下表面到所述薄膜层叠层的上端的距离相对应，
其中，所述辅助柱状间隔体比所述主要柱状间隔体更短，
其中，在所述显示区域中从所述辅助柱状间隔体的下端到所述薄膜层叠层的上端之间的距离与在所述非显示区域中从所述辅助柱状间隔体的下端到所述薄膜层叠层的上端之间的距离相等，
其中，在所述显示区域和所述非显示区域二者中的单元间隙是均匀的，
其中，所述非显示区域的具有所述辅助柱状间隔体的区域中的薄膜层叠层的层叠结构与所述非显示区域的不具有任何柱状间隔体的区域中的薄膜层叠层的层叠结构不同。
11.根据权利要求10所述的液晶显示装置，其中，在所述显示区域中从所述第二基板的下表面到所述薄膜层叠层的上端的距离与在所述非显示区域中从所述第二基板的下表面到所述薄膜层叠层的上端的距离相等。
12.根据权利要求10所述的液晶显示装置，其中，在所述显示区域和所述非显示区域二者中的所述辅助柱状间隔体中的至少一个和所述薄膜层叠层之间存在间隙。
13.根据权利要求10所述的液晶显示装置，其中，多个辅助间隔体中的每个辅助间隔体彼此间隔开，其中，所述非显示区域中不具有所述辅助柱状间隔体的区域中的薄膜层叠层的厚度小于所述非显示区域中具有所述辅助柱状间隔体的区域中的薄膜层叠层的厚度。
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