CN112435987A - 一种3d晶圆的槽式定位方法 - Google Patents
一种3d晶圆的槽式定位方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112435987A CN112435987A CN202011240686.3A CN202011240686A CN112435987A CN 112435987 A CN112435987 A CN 112435987A CN 202011240686 A CN202011240686 A CN 202011240686A CN 112435987 A CN112435987 A CN 112435987A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- wafer
- positioning
- positioning groove
- groove
- circular cutting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 14
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/544—Marks applied to semiconductor devices or parts, e.g. registration marks, alignment structures, wafer maps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/544—Marks applied to semiconductor devices or parts
- H01L2223/54493—Peripheral marks on wafers, e.g. orientation flats, notches, lot number
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
本发明公开了一种3D晶圆的槽式定位方法,包含晶圆和定位感应器;先在晶圆的边缘加工出定位槽,再对晶圆进行环切,去除晶圆外圈厚度异常部位,去除掉的环切部位的外径与内径之差小于定位槽的深度;使晶圆在环切之后,外圈上仍然留有部分定位槽结构;定位感应器对晶圆环切之后余下部分的定位槽进行识别,进而对晶圆进行定位;本方案在晶圆的边缘加工出定位槽,定位槽伸入到晶圆有效区域内部,为3D晶圆的边沿的二次加工提出可能性,使3D晶圆外围去除掉以后,不影响晶圆定位,并提高了可检测检查面积,减小定位难度。
Description
技术领域
本发明涉及一种3D晶圆的槽式定位方法,属于半导体加工技术领域。
背景技术
晶圆在加工时需要先通过识别传感器定位,现有的方法是在晶圆的外缘边上做一个小的缺口,但由于目前3D晶圆的实施,晶圆外围厚度出现了变化,导致设备在晶圆定位时频繁出现“定位不良”报警,严重影响生产效率。
发明内容
针对上述存在的技术问题,本发明的目的是:提出了一种3D晶圆的槽式定位方法。
本发明的技术解决方案是这样实现的:一种3D晶圆的槽式定位方法,包含晶圆和定位感应器;先在晶圆的边缘加工出定位槽,再对晶圆进行环切,去除晶圆外圈厚度异常部位,去除掉的环切部位的外径与内径之差小于定位槽的深度;使晶圆在环切之后,外圈上仍然留有部分定位槽结构;定位感应器对晶圆环切之后余下部分的定位槽进行识别,进而对晶圆进行定位。
优选的,所述定位槽的深度为3-8mm。
优选的,所述定位槽为矩形槽。
优选的,所述定位槽的中心线穿过晶圆的圆心。
优选的,所述定位槽由激光或物理切割的方式加工而成。
优选的,所述定位感应器为感光传感器。
由于上述技术方案的运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:
本方案在晶圆的边缘加工出定位槽,定位槽伸入到晶圆有效区域内部,为3D晶圆的边沿的二次加工提出可能性,使3D晶圆外围去除掉以后,不影响晶圆定位,并提高了可检测检查面积,减小定位难度。
附图说明
下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明:
附图1为本发明所述的一种3D晶圆的槽式定位方法的示意图。
具体实施方式
下面结合附图来说明本发明。
如附图1所示,本发明所述的一种3D晶圆的槽式定位方法,包含晶圆1和定位感应器2;先在晶圆1的边缘加工出定位槽3,定位槽3可以是矩形槽,或者其他长形的规则形状,矩形槽沿长边方向的的中心线穿过晶圆1的圆心;定位槽3通过激光或物理切割的方式加工而成,定位槽3的深度为3-8mm,再对晶圆1进行环切,去除晶圆1外圈厚度异常部位,去除掉的环切部位4的外径与内径之差小于定位槽3的深度;使晶圆1在环切之后,外圈上仍然留有部分定位槽3结构。
在研磨、贴膜、切割设备上加装定位感应器2,需要定位加工时,通过定位感应器2对晶圆1环切之后余下部分的定位槽3进行识别,进而对晶圆1进行定位,定位感应器2优选为感光传感器。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。
Claims (6)
1.一种3D晶圆的槽式定位方法,其特征在于:包含晶圆(1)和定位感应器(2);
先在晶圆(1)的边缘加工出定位槽(3),再对晶圆(1)进行环切,去除晶圆(1)外圈厚度异常部位,去除掉的环切部位(4)的外径与内径之差小于定位槽(3)的深度;使晶圆(1)在环切之后,外圈上仍然留有部分定位槽(3)结构;
定位感应器(2)对晶圆(1)环切之后余下部分的定位槽(3)进行识别,进而对晶圆(1)进行定位。
2.根据权利要求1所述的3D晶圆的槽式定位方法,其特征在于:所述定位槽(3)的深度为3-8mm。
3.根据权利要求1所述的3D晶圆的槽式定位方法,其特征在于:所述定位槽(3)为矩形槽。
4.根据权利要求1所述的3D晶圆的槽式定位方法,其特征在于:所述定位槽(3)的中心线穿过晶圆(1)的圆心。
5.根据权利要求1所述的3D晶圆的槽式定位方法,其特征在于:所述定位槽(3)由激光或物理切割的方式加工而成。
6.根据权利要求1所述的3D晶圆的槽式定位方法,其特征在于:所述定位感应器(2)为感光传感器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011240686.3A CN112435987B (zh) | 2020-11-09 | 2020-11-09 | 一种3d晶圆的槽式定位方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011240686.3A CN112435987B (zh) | 2020-11-09 | 2020-11-09 | 一种3d晶圆的槽式定位方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112435987A true CN112435987A (zh) | 2021-03-02 |
CN112435987B CN112435987B (zh) | 2024-07-02 |
Family
ID=74701012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011240686.3A Active CN112435987B (zh) | 2020-11-09 | 2020-11-09 | 一种3d晶圆的槽式定位方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112435987B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115107179A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-09-27 | 江苏京创先进电子科技有限公司 | 晶圆定位缺口切割方法及系统 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN206293433U (zh) * | 2016-11-30 | 2017-06-30 | 上海矽越光电科技有限公司 | 一种晶圆结构 |
CN109559999A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-04-02 | 德淮半导体有限公司 | 检测系统及检测方法 |
CN110323183A (zh) * | 2019-08-01 | 2019-10-11 | 沛顿科技(深圳)有限公司 | 一种使用激光环切解决3d nand晶圆薄片裂片问题的方法 |
CN111070448A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-04-28 | 成都先进功率半导体股份有限公司 | 一种晶圆环形切割方法 |
-
2020
- 2020-11-09 CN CN202011240686.3A patent/CN112435987B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN206293433U (zh) * | 2016-11-30 | 2017-06-30 | 上海矽越光电科技有限公司 | 一种晶圆结构 |
CN109559999A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-04-02 | 德淮半导体有限公司 | 检测系统及检测方法 |
CN110323183A (zh) * | 2019-08-01 | 2019-10-11 | 沛顿科技(深圳)有限公司 | 一种使用激光环切解决3d nand晶圆薄片裂片问题的方法 |
CN111070448A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-04-28 | 成都先进功率半导体股份有限公司 | 一种晶圆环形切割方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115107179A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-09-27 | 江苏京创先进电子科技有限公司 | 晶圆定位缺口切割方法及系统 |
CN115107179B (zh) * | 2022-08-29 | 2022-12-09 | 江苏京创先进电子科技有限公司 | 晶圆定位缺口切割方法及系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112435987B (zh) | 2024-07-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN112435987A (zh) | 一种3d晶圆的槽式定位方法 | |
EP2827362A1 (en) | Vacuum suction stage, semiconductor wafer dicing method, and semiconductor wafer annealing method | |
CN107971540B (zh) | 一种避免刀具干涉的加工方法 | |
CN110936105A (zh) | 一种轴向防转轴承的加工方法 | |
CN110936110B (zh) | 一种半环类零件加工工艺方法 | |
JP2007189093A (ja) | 半導体ウエーハ | |
KR20030026867A (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 | |
JP5881504B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
CN103219259B (zh) | 一种晶圆加工治具 | |
CN101607377A (zh) | 单晶片边缘不对称倒角加工方法 | |
CN204565872U (zh) | 一种磨头的组合结构 | |
CN112509960B (zh) | 一种3d晶圆环切后的定位方法 | |
CN102848149B (zh) | 一种定位环的加工工艺 | |
JP6576573B1 (ja) | 段付きドリル及び段付きドリルの製造方法 | |
CN103433751A (zh) | 一种水轮机控制阀的加工方法 | |
CN110026747A (zh) | 高精密度非标衬套加工工艺 | |
CN106449361B (zh) | 单晶晶锭、半导体晶圆以及制造半导体晶圆的方法 | |
CN113695859A (zh) | 氢燃料电动压缩机壳体的加工方法 | |
CN102806441B (zh) | 一种圆环形磁钢的加工方法 | |
CN112719311A (zh) | 一种航空发动机作动筒活塞杆部精密加工的工艺方法 | |
CN112606233A (zh) | 一种晶棒的加工方法及晶片 | |
JP2018001354A (ja) | 回転切削工具 | |
CN115383143B (zh) | 一种车销加工大面花纹消除的方法 | |
JP2000331898A (ja) | ノッチ付半導体ウエハ | |
JPH0970740A (ja) | 半導体基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant |