CN1124328C - 一种长余辉材料 - Google Patents
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Abstract
一种长余辉材料,涉及发光材料领域,它是在CaS:Eu2+中加入Cl-离子以替代S2-离子所形成的材料,表达方式为:CaS:xEu2+,yCl-,其中x=0.01-0.0005,表示的是替代基质中Ca2+离子的Eu2+离子所占的摩尔比例;y=0.06-0.12,表示的是使每一个Cl-离子替代基质中正离子(Ca2+或Eu2+)周围最近邻的六个S2-离子中的任意一个,形成正离子格位具有C4v对称性结构的长余辉所需的Cl-离子所占的摩尔比例。该材料是通过CaCO3,NH4Cl,Eu2O3和S粉按一定摩尔比例配料,混合,烧结,冷却制得。
Description
本发明属于未列入其他类目的应用材料领域,涉及发光材料领域,主要应用在荧火材料,夜视材料,指示标牌等长余辉荧光材料领域。
在长余辉材料领域,主要的材料有SrAl2O4:Eu2+,Dy3+绿色,CaS:Bi3+,CaS:Bi3+,Tm3+,兰色,CaS:Eu2+,Tm3+红色等。其中,绝大多以硫化物为主,主要原因是制作工艺比较成熟,而且碱土硫化物连续固溶体可以理想的调节荧光颜色。所以,不论是在光至发光(《发光学报》,第19卷,第四期,312,1998),还是在电至发光应用中(Shosaku Tanaka,J.Lumin.40&41,20,1988),硫化物荧光材料(Dongdong Jia,Boqun Wu,Jing Zhu,ACTA PHYSICA SINICA(Oversea Ed.),Vol.8,No.11,Nov.,813,1999)都有占主要地位。
在现有的硫化物基质的长余辉荧光材料中,主要的成熟材料有CaS:Bi3+和CaS:Eu2+,Tm3+。它们在应用中常常受到一些条件的限制。比如:CaS:Eu2+,Tm3+在360nm-450nm区间和CaS:Bi3+在350nm-400nm区间的激发效率很低,这样对这些长余辉荧光材料来讲,对激发源的要求就比较苛刻而且激发效率总要减低,应用环境也受到限制。正是出于这方面的原因,我们才在不断的研究中解决了这一问题。
本发明的目的在于提供一种CaS:Eu2+,Cl-长余辉材料。该材料的激发在275nm-600nm宽区间内,形成近似平台的激发谱,极大的改善了长余辉材料在激发方面的缺点,该材料具有40分钟余辉时间,且普遍适合绝大多数的激发源。
基于上述目的,本发明的技术方案是在CaS:Eu2+中加入Cl-离子以替代S2-离子所形成的材料,该材料的表达方式是:CaS:xEu2+,yCl-,其中x=0.01-0.0005,表示的是替代基质中Ca2+离子的Eu2+离子所占的摩尔比例(以Ca2+离子为1摩尔时为基准);y=0.06-0.12,表示的是使每一个Cl-离子替代基质中正离子(Ca2+或Eu2+)周围最近邻的六个S2-离子中的任意一个,形成正离子格位具有C4v对称性结构的长余辉荧光材料所需的Cl-离子所占的摩尔比例(以Ca2+离子为1摩尔时为基准)。
上述材料的具体制造方法,包括配料、混合、烧结、冷却;具体的工艺步骤如下:
(1)配料:
选用原料CaCO3,NH4Cl,Eu2O3和S粉,各组分原料的纯度高于99.99%,各组分粉末颗粒的粒度小于10微米,先将原料按摩尔比例进行配料,配比为CaCO3∶S∶Eu2O3∶NH4Cl=1∶1∶(0.01-0.0005)∶(0.06-0.12),然后再加入总的含S量的5%-10%的过量S;
加入过量S的主要目的是补足因为S与O反应生成SO2造成S的“损耗”;Eu2O3的含量与材料的发光有影响,不同含量的亮度等光学性质有微小不同;NH4Cl经常作为助溶剂,其含量的变化就微量影响材料的光学特性。
2、混合:
将配好的料进行1.5-2.5小时的研磨,雾状混合不少于1小时。混合后的粉末原料要在150-200Mpa压力下压片;
压力超出范围则质量很低材料的制作方式很重要,如用粉末状混合烧结,因为NH4Cl气化温度在520℃,在不压制成片的情况下,绝大部分NH4Cl分解挥发。压片工艺是本产品的基础。以粉末状混合物形式烧结的材料基本上不含Cl-,且Cl-更不可能进行CaS基质替代S2-。
3、烧结:
烧结时通还原气N2+S,以还原三价的Eu到二价,在满足以上还原条件和配料要求后,烧结的时间在1-1.5小时。烧结的温度为1050-1200℃。烧结容器为氧化铝制耐高温器皿;
反应方程式是: :Eu2+,Cl-+气体挥发物
(4)冷却
在还原条件下冷却至室温,即可制得CaS:Eu2+,Cl-的长余辉材料。
与现有技术相比,本发明材料的优点在于:
一、本发明材料有很长的余辉。CaS:Eu2+是没有余辉的,而CaS:Eu2+,Cl-是具有40分钟余辉时间的长余辉荧光材料。
二、本发明材料激发谱很宽,很平,很高,接近完全连续。这不仅使得荧光材料在宽带激发源的激发下荧光效率很高。而且使得它普遍适合绝大多数的激发源。
三、本发明材料发射峰值在670nm,是一种新的长余辉荧光材料。
附图说明。
图1是本发明材料的结构示意图。其中(1)为未掺杂Cl-离子的材料结构示意图;(2)为掺杂Cl-离子后具有C4V对称的材料结构示意图。
图2是实施例1材料的余辉谱。
图3是实施例1材料的激发谱。
图4是CaS:Eu2+的激发谱。
图5是实施例1材料的发射谱。
图6是CaS:Eu2+的发射谱。
图2中,横坐标为时间(sec),纵坐标为强度(a.u.),图3、图4中,横坐标为波长(nm),纵坐标为强度(a.u.),图5、图6中,横坐标为波长nm,纵坐标为强度(a.u.)。
实施例
通过本发明生产方法生产了三批CaS:Eu2+,Cl-长余辉材料,生产的原料配比见表1,生产的工艺制度见表2,生产三批长余辉材料的余辉时间见表3。其中实施例1所制得CaS:0.01Eu2+,0.1Cl-材料的余辉谱、激发谱、发射谱分别见图2、图3和图5。
实施例2、3的光学性质基本相同。
Claims (2)
1、一种长余辉材料,其特征在于该材料是在CaS:Eu2+中加入Cl-离子以替代S2-离子所形成的材料,该材料的表达方式是:CaS:xEu2+,yCl-,其中x=0.01-0.0005,表示的是替代基质中Ca2+离子的Eu2+离子所占的摩尔比例(以Ca2+离子为1摩尔时为基准);y=0.06-0.12,表示的是使每一个Cl-离子替代基质中正离子(Ca2+或Eu2+)周围最近邻的六个S2-离子中的任意一个,形成正离子格位具有C4v对称性结构的长余辉荧光材料所需的Cl-离子所占的摩尔比例(以Ca2+离子为1摩尔时为基准)。
2、一种权利要求1所述长余辉材料的制造方法,包括配料、混合、烧结、冷却;其特征在于:具体的工艺步骤如下:
(1)配料:
选用原料CaCO3,NH4Cl,Eu2O3和S粉,各组分原料的纯度高于99.99%,各组分粉末颗粒的粒度小于10微米,先将原料按摩尔比例进行配料,配比为CaCO3∶S∶Eu2O3∶NH4Cl=1∶1∶(0.01-0.0005)∶(0.06-0.12),然后再加入总的含S量的5%-10%的过量S;
(2)混合:
将配好的料进行1.5-2.5小时的研磨,再雾状混合不少于1小时,混合后的粉末原料要在150-200Mpa压力下压片;
(3)烧结:
烧结时通还原气N2+S,以还原三价的Eu到二价,烧结的时间在1-1.5小时,烧结的温度为1050-1200℃。烧结容器为氧化铝制耐高温器皿;
(4)冷却:
在还原条件下冷却至室温,即可制得CaS:Eu2+,Cl-的长余辉材料。
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