斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法
技术领域
本发明属于金属化薄膜技术领域,特别涉及斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法。
背景技术
金属化薄膜电容是以有机塑料薄膜做介质,以金属化薄膜做电极,通过卷绕方式制成(叠片结构除外)制成的电容,金属化薄膜电容器所使用的薄膜有聚乙酯、聚丙烯、聚碳酸酯等,除了卷绕型之外,也有叠层型。其中以聚酯膜介质和聚丙烯膜介质应用最广。
金属化薄膜的生产种类有多种,通常对于金属化薄膜上的金属层的蒸镀,对于蒸镀的基膜表面平整度有较高要求,尤其对于斜面型的金属化薄膜的平面均匀性要求更高,所以一般对于非平面均匀性的金属层蒸镀,就难以保证斜面的均匀度。
发明内容
本发明针对现有技术存在的不足,提供了斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法,具体技术方案如下:
斜面型金属化薄膜,包括基膜,所述基膜顶面设置有斜面型金属层,基膜顶面一侧设置有留边,所述基膜厚度均匀性为±0.01mm。
斜面型金属化薄膜制备装置,包括机台,所述机台顶面固定有箱体,机台一端固定有卷绕机,箱体内的机台顶面设置有传送带,传送带顶面贴合有基膜,所述箱体内部设置有第一挡板、第二挡板和第三挡板,第一挡板与箱体分隔区域为冷却区,第一挡板与第二挡板分隔区域为热处理区,第二挡板与第三挡板分隔区为监测区,第三挡板与箱体分割区域为辊压区。
进一步的,所述机台顶面位于冷却区设置有第一冷却辊、第二冷却辊和限位辊,限位辊设置于靠近第一挡板处,第一冷却辊设置于靠近箱体处,第一冷却辊和限位辊之间设有第二冷却辊,第二冷却辊与第一冷却辊设置于不同高度,基膜顶面贴合于第一冷却辊底端,基膜底面贴合于第二冷却辊顶端。
进一步的,所述机台顶面位于热处理区设置有承压机构,所述承压机构设置于传送带顶部,箱体位于承压机构顶部贯穿设置有第一气动杆,第一气动杆底端连接有压制机构。
进一步的,所述承压机构包括支撑柱、限位架和承载板,所述支撑柱分别固定于传送带两侧,两个位于传送带同侧的支撑柱之间分别连接有限位架,传送带两侧的两个限位架之间连接有承载板,限位架顶面靠近承载板一侧开设有限位槽;
所述压制机构包括固定板和电热板,所述固定板顶面连接于第一气动杆底端,固定板底面固定有电热板,固定板两侧对称设置有第一凸块,电热板两侧对称设置有第二凸块,固定板与电热板为相同形状重合固定。
进一步的,所述承压机构还包括支撑块和调节栓,所述支撑块配合插接于限位槽内部,限位架一侧插接有调节栓,调节栓一端与支撑块侧壁齿槽啮合。
进一步的,所述机台顶面位于辊压区也设有相同承压机构,箱体位于所述承压机构顶部贯穿设置有第二气动杆,第二气动杆底端连接有辊压机构,辊压机构包括固定箱、第三凸块和辊轮,所述固定箱顶面连接第二气动杆,固定箱两侧分别设置有第三凸块,固定箱底面嵌入转动连接有辊轮。
进一步的,所述机台顶面位于监测区设置有红外检测仪,红外检测仪与第一气动杆和传送带之间内部电性连接。
斜面型金属化薄膜加工方法,应用上述所述的斜面型金属化薄膜制备装置,所述加工方法包括以下步骤:
S1、高均匀性基膜制备;
S1.1、熔融塑化:将多种原料混合,再加热至160-170℃,形成熔融状态;
S1.2、铸片拉伸:将粘流态的熔体迅速冷却至140℃以下形成玻璃态铸片,再对铸片进行装夹拉伸,拉伸时铸片温度控制为60-85℃,拉伸后形成薄膜状态;
S1.3、水平均匀辊压:拉伸后薄膜状态的基膜通过传送带运输到辊压区内的承载板上,第二气动杆推动固定箱下降,下降位置通过调节栓控制支撑块在限位槽内高度位置,固定箱上的第三凸块受支撑块限制,使固定箱内的辊轮与承载板间的距离为目标基膜厚度,辊轮挤压基膜表面,使基膜形成水平均匀化平面;
S1.4、厚度实时监测:传送带将经过辊压后的基膜运输到监测区,监测区内的红外检测仪对经过的基膜进行厚度监测,红外检测仪在使用前进行了检测厚度预设,厚度达标误差允许范围为±0.01mm;
S1.5、检测:测量距离为150-300mm,精度为±0.1%,根据基膜厚度来定;
S1.6、判断厚度是否达标:
是,进入步骤S6;
否,进入步骤S5;
S1.7、热处理压制:传送带将基膜运输到热处理区,红外检测仪控制传送带暂停,同步加热压制机构中的电热板,并启动第一气动杆,推动压制机构下降,使得电热板上的第二凸块和固定板上的第一凸块同步插入到承载机构中限位架上的限位槽内,使得第二凸块与支撑块相抵,保证电热板与承载板之间的基膜到达预设压制厚度,从而进一步精确加工的基膜的水平均匀性和厚度均匀性,完成压制后启动传送带继续运输;调节栓控制支撑块高度,使支撑块外伸出承载板顶面的厚度为目标基膜厚度,完成压制厚度预设;
S1.8、冷却定型:传送带将基膜运输到冷却区,通过限位辊后转向至第二冷却辊,对基膜底面进行冷却,再转向至第一冷却辊,对基膜顶面进行冷却;第一冷却辊冷却温度为40℃,第二冷却辊冷却温度为80℃;
S1.9、风冷收卷:将基膜通过风冷为室温后,由卷绕机进行收卷;
S2、斜面型金属层蒸镀:将收卷好的高均匀性的基膜运至蒸镀室,将镀料金属熔化蒸发,对基膜单侧的蒸镀口开设数量沿基膜另一侧逐级递减,递减为零时与基膜侧边还有一段距离,从而在均匀的基膜表面形成均匀的斜面型金属层,并在基膜顶面设有留边。
本发明的有益效果是:基膜在经过辊压区进行均匀性滚压,保证基膜整体平面水平均匀,再通过监测区对基膜厚度监测,根据监测结果,为保证均匀厚度,在经过热处理区时会进行进一步加工,使得基膜具有高均匀性,最后经过蒸镀在高均匀性的基膜表面形成均匀的斜面型金属层。
附图说明
图1示出了本发明的斜面型金属化薄膜结构示意图;
图2示出了本发明的斜面型金属化薄膜制备装置的结构示意图;
图3示出了本发明的承压机构结构示意图;
图4示出了本发明的承压机构与基膜贴合结构剖面图;
图5示出了本发明的调节栓和支撑块配合结构示意图;
图6示出了本发明的调节栓结构示意图;
图7示出了本发明的压制机构结构示意图;
图8示出了本发明的辊压机构结构示意图;
图中所示:1、卷绕机;2、基膜;201、斜面型金属层;202、留边;3、箱体;4、第一冷却辊;5、第二冷却辊;6、限位辊;7、第一挡板;8、第一气动杆;9、压制机构;901、固定板;9011、第一凸块;902、电热板;9021、第二凸块;10、第二挡板;11、第三挡板;12、第二气动杆;13、辊压机构;1301、固定箱;1302、第三凸块;1303、辊轮;14、机台;15、传送带;16、承压机构;1601、支撑柱;1602、限位架;16021、限位槽;1603、支撑块;1604、承载板;1605、调节栓;17、红外检测仪;18、斜面型金属层;19、留边。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅解释本发明,并不用于限定本发明。
斜面型金属化薄膜,包括基膜2,所述基膜2顶面设置有斜面型金属层18,基膜2顶面一侧设置有留边19,所述基膜2厚度均匀性为±0.01mm。
斜面型金属化薄膜制备装置,包括机台14,所述机台14顶面固定有箱体3,机台14一端固定有卷绕机1,箱体3内的机台14顶面设置有传送带15,传送带15顶面贴合有基膜2,所述箱体3内部设置有第一挡板7、第二挡板10和第三挡板11,第一挡板7与箱体3分隔区域为冷却区,第一挡板7与第二挡板10分隔区域为热处理区,第二挡板10与第三挡板11分隔区为监测区,第三挡板11与箱体3分割区域为辊压区;基膜2在经过辊压区进行均匀性滚压,保证基膜2整体平面水平均匀,再通过监测区对基膜2厚度监测,根据监测结果,为保证均匀厚度,在经过热处理区时会进行进一步加工,使得基膜2具有高均匀性,最后经过冷却区冷却收卷。
如图2所示,所述机台14顶面位于冷却区设置有第一冷却辊4、第二冷却辊5和限位辊6,限位辊6设置于靠近第一挡板7处,第一冷却辊4设置于靠近箱体3处,第一冷却辊4和限位辊6之间设有第二冷却辊5,第二冷却辊5与第一冷却辊4设置于不同高度,基膜2顶面贴合于第一冷却辊4底端,基膜2底面贴合于第二冷却辊5顶端;通过高度交错设置的第一冷却辊4和第二冷却辊5分别对其贴合经过的基膜2的顶面和底面进行冷却,使制备的高均匀性的基膜2能够迅速冷却定型,保证加工精度。
所述机台14顶面位于热处理区设置有承压机构16,所述承压机构16设置于传送带15顶部,箱体3位于承压机构16顶部贯穿设置有第一气动杆8,第一气动杆8底端连接有压制机构9;在传送带15上的基膜2在经过承压机构16时,第一气动杆8推动压制机构9,使得基膜2在承压机构16和压制机构9之间进行挤压,实现基膜2的高均匀性压制。
如图3所示,所述承压机构16包括支撑柱1601、限位架1602和承载板1604,所述支撑柱1601分别固定于传送带15两侧,两个位于传送带15同侧的支撑柱1601之间分别连接有限位架1602,传送带15两侧的两个限位架1602之间连接有承载板1604,限位架1602顶面靠近承载板1604一侧开设有限位槽16021;
所述压制机构9包括固定板901和电热板902,所述固定板901顶面连接于第一气动杆8底端,固定板901底面固定有电热板902,固定板901两侧对称设置有第一凸块9011,电热板902两侧对称设置有第二凸块9021,固定板901与电热板902为相同形状重合固定;通过将第一凸块9011和第二凸块9021同时插接于限位槽16021内,保证电热板902与承载板1604保持水平面平行垂直下降,使得经过承载板1604顶面的基膜2能够被电热板902进行水平面的加热挤压,保证基膜2水平均匀。
如图3所示,所述承压机构16还包括支撑块1603和调节栓1605,所述支撑块1603配合插接于限位槽16021内部,限位架1602一侧插接有调节栓1605,调节栓1605一端与支撑块1603侧壁齿槽啮合;通过调节栓1605调节支撑块1603在限位槽16021内的高度,从而控制第二凸块9021下降到限位槽16021内的深度,以控制电热板902对基膜2加热挤压后的基膜2厚度,使得基膜2整体厚度均匀一致。
如图2和图8所示,所述机台14顶面位于辊压区也设有相同承压机构16,箱体3位于所述承压机构16顶部贯穿设置有第二气动杆12,第二气动杆12底端连接有辊压机构13,辊压机构13包括固定箱1301、第三凸块1302和辊轮1303,所述固定箱1301顶面连接第二气动杆12,固定箱1301两侧分别设置有第三凸块1302,固定箱1301底面嵌入转动连接有辊轮1303;辊压机构13通过承压机构16限制,保持辊1303底端水平,实现对基膜2的平面水平均匀性滚压。
如图2所示,所述机台14顶面位于监测区设置有红外检测仪17,红外检测仪17与第一气动杆8和传送带15之间内部电性连接;在红外检测仪17对基膜2厚度进行检测时,出现厚度不均匀处,红外检测仪17控制传送带15停止,随即控制第一气动杆8运行,使压制机构9下降对基膜2进行热处理加工。
斜面型金属化薄膜加工方法,应用上述所述的斜面型金属化薄膜制备装置,所述加工方法包括以下步骤:
S1、高均匀性基膜制备;
S1.1、熔融塑化:将多种原料混合,再加热至160-170℃,形成熔融状态;
S1.2、铸片拉伸:将粘流态的熔体迅速冷却至140℃以下形成玻璃态铸片,再对铸片进行装夹拉伸,拉伸时铸片温度控制为60-85℃,拉伸后形成薄膜状态;
S1.3、水平均匀辊压:拉伸后薄膜状态的基膜2通过传送带15运输到辊压区内的承载板1604上,第二气动杆12推动固定箱1301下降,下降位置通过调节栓1605控制支撑块1603在限位槽16021内高度位置,固定箱1301上的第三凸块1302受支撑块1603限制,使固定箱1301内的辊轮1303与承载板1604间的距离为目标基膜2厚度,辊轮1303挤压基膜2表面,使基膜2形成水平均匀化平面;
S1.4、厚度实时监测:传送带15将经过辊压后的基膜2运输到监测区,监测区内的红外检测仪17对经过的基膜2进行厚度监测,红外检测仪17在使用前进行了检测厚度预设,厚度达标误差允许范围为±0.01mm;
S1.5、检测:红外检测仪17测量距离为150-300mm,精度为±0.1%,根据基膜2厚度来定;
S1.6、判断厚度是否达标:
是,进入步骤S1.8;
否,进入步骤S1.7;
S1.7、热处理压制:传送带15将基膜2运输到热处理区,红外检测仪17控制传送带15暂停,同步加热压制机构9中的电热板902,并启动第一气动杆8,推动压制机构9下降,使得电热板902上的第二凸块9021和固定板901上的第一凸块9011同步插入到承载机构16中限位架1602上的限位槽16021内,使得第二凸块9021与支撑块1603相抵,保证电热板902与承载板1604之间的基膜2到达预设压制厚度,从而进一步精确加工的基膜2的水平均匀性和厚度均匀性,完成压制后启动传送带15继续运输;调节栓1605控制支撑块1603高度,使支撑块1603外伸出承载板1604顶面的厚度为目标基膜2厚度,完成压制厚度预设;
S1.8、冷却定型:传送带15将基膜2运输到冷却区,通过限位辊6后转向至第二冷却辊5,对基膜2底面进行冷却,再转向至第一冷却辊4,对基膜2顶面进行冷却;第一冷却辊4冷却温度为40℃,第二冷却辊5冷却温度为80℃;
S1.9、风冷收卷:将基膜2通过风冷为室温后,由卷绕机1进行收卷;
S2、斜面型金属层蒸镀:将收卷好的高均匀性的基膜2运至蒸镀室,将镀料金属熔化蒸发,对基膜2单侧的蒸镀口开设数量沿基膜2另一侧逐级递减,递减为零时与基膜2侧边还有一段距离,从而在均匀的基膜2表面形成均匀的斜面型金属层18,并在基膜2顶面设有留边19。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。