CN112366081B - 斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法 - Google Patents

斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法 Download PDF

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Abstract

斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法,包括基膜,所述基膜顶面设置有斜面型金属层,基膜顶面一侧设置有留边,所述基膜厚度均匀性为±0.01mm;包括机台,所述机台顶面固定有箱体,第一挡板与箱体分隔区域为冷却区,第一挡板与第二挡板分隔区域为热处理区,第二挡板与第三挡板分隔区为监测区,第三挡板与箱体分割区域为辊压区;S1、高均匀性基膜制备;S2、斜面型金属层蒸镀;本发明基膜在经过辊压区进行均匀性滚压,保证基膜整体平面水平均匀,再通过监测区对基膜厚度监测,根据监测结果,为保证均匀厚度,在经过热处理区时会进行进一步加工,使得基膜具有高均匀性,最后经过蒸镀在高均匀性的基膜表面形成均匀的斜面型金属层。

Description

斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法
技术领域
本发明属于金属化薄膜技术领域,特别涉及斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法。
背景技术
金属化薄膜电容是以有机塑料薄膜做介质,以金属化薄膜做电极,通过卷绕方式制成(叠片结构除外)制成的电容,金属化薄膜电容器所使用的薄膜有聚乙酯、聚丙烯、聚碳酸酯等,除了卷绕型之外,也有叠层型。其中以聚酯膜介质和聚丙烯膜介质应用最广。
金属化薄膜的生产种类有多种,通常对于金属化薄膜上的金属层的蒸镀,对于蒸镀的基膜表面平整度有较高要求,尤其对于斜面型的金属化薄膜的平面均匀性要求更高,所以一般对于非平面均匀性的金属层蒸镀,就难以保证斜面的均匀度。
发明内容
本发明针对现有技术存在的不足,提供了斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法,具体技术方案如下:
斜面型金属化薄膜,包括基膜,所述基膜顶面设置有斜面型金属层,基膜顶面一侧设置有留边,所述基膜厚度均匀性为±0.01mm。
斜面型金属化薄膜制备装置,包括机台,所述机台顶面固定有箱体,机台一端固定有卷绕机,箱体内的机台顶面设置有传送带,传送带顶面贴合有基膜,所述箱体内部设置有第一挡板、第二挡板和第三挡板,第一挡板与箱体分隔区域为冷却区,第一挡板与第二挡板分隔区域为热处理区,第二挡板与第三挡板分隔区为监测区,第三挡板与箱体分割区域为辊压区。
进一步的,所述机台顶面位于冷却区设置有第一冷却辊、第二冷却辊和限位辊,限位辊设置于靠近第一挡板处,第一冷却辊设置于靠近箱体处,第一冷却辊和限位辊之间设有第二冷却辊,第二冷却辊与第一冷却辊设置于不同高度,基膜顶面贴合于第一冷却辊底端,基膜底面贴合于第二冷却辊顶端。
进一步的,所述机台顶面位于热处理区设置有承压机构,所述承压机构设置于传送带顶部,箱体位于承压机构顶部贯穿设置有第一气动杆,第一气动杆底端连接有压制机构。
进一步的,所述承压机构包括支撑柱、限位架和承载板,所述支撑柱分别固定于传送带两侧,两个位于传送带同侧的支撑柱之间分别连接有限位架,传送带两侧的两个限位架之间连接有承载板,限位架顶面靠近承载板一侧开设有限位槽;
所述压制机构包括固定板和电热板,所述固定板顶面连接于第一气动杆底端,固定板底面固定有电热板,固定板两侧对称设置有第一凸块,电热板两侧对称设置有第二凸块,固定板与电热板为相同形状重合固定。
进一步的,所述承压机构还包括支撑块和调节栓,所述支撑块配合插接于限位槽内部,限位架一侧插接有调节栓,调节栓一端与支撑块侧壁齿槽啮合。
进一步的,所述机台顶面位于辊压区也设有相同承压机构,箱体位于所述承压机构顶部贯穿设置有第二气动杆,第二气动杆底端连接有辊压机构,辊压机构包括固定箱、第三凸块和辊轮,所述固定箱顶面连接第二气动杆,固定箱两侧分别设置有第三凸块,固定箱底面嵌入转动连接有辊轮。
进一步的,所述机台顶面位于监测区设置有红外检测仪,红外检测仪与第一气动杆和传送带之间内部电性连接。
斜面型金属化薄膜加工方法,应用上述所述的斜面型金属化薄膜制备装置,所述加工方法包括以下步骤:
S1、高均匀性基膜制备;
S1.1、熔融塑化:将多种原料混合,再加热至160-170℃,形成熔融状态;
S1.2、铸片拉伸:将粘流态的熔体迅速冷却至140℃以下形成玻璃态铸片,再对铸片进行装夹拉伸,拉伸时铸片温度控制为60-85℃,拉伸后形成薄膜状态;
S1.3、水平均匀辊压:拉伸后薄膜状态的基膜通过传送带运输到辊压区内的承载板上,第二气动杆推动固定箱下降,下降位置通过调节栓控制支撑块在限位槽内高度位置,固定箱上的第三凸块受支撑块限制,使固定箱内的辊轮与承载板间的距离为目标基膜厚度,辊轮挤压基膜表面,使基膜形成水平均匀化平面;
S1.4、厚度实时监测:传送带将经过辊压后的基膜运输到监测区,监测区内的红外检测仪对经过的基膜进行厚度监测,红外检测仪在使用前进行了检测厚度预设,厚度达标误差允许范围为±0.01mm;
S1.5、检测:测量距离为150-300mm,精度为±0.1%,根据基膜厚度来定;
S1.6、判断厚度是否达标:
是,进入步骤S6;
否,进入步骤S5;
S1.7、热处理压制:传送带将基膜运输到热处理区,红外检测仪控制传送带暂停,同步加热压制机构中的电热板,并启动第一气动杆,推动压制机构下降,使得电热板上的第二凸块和固定板上的第一凸块同步插入到承压 机构中限位架上的限位槽内,使得第二凸块与支撑块相抵,保证电热板与承载板之间的基膜到达预设压制厚度,从而进一步精确加工的基膜的水平均匀性和厚度均匀性,完成压制后启动传送带继续运输;调节栓控制支撑块高度,使支撑块外伸出承载板顶面的厚度为目标基膜厚度,完成压制厚度预设;
S1.8、冷却定型:传送带将基膜运输到冷却区,通过限位辊后转向至第二冷却辊,对基膜底面进行冷却,再转向至第一冷却辊,对基膜顶面进行冷却;第一冷却辊冷却温度为40℃,第二冷却辊冷却温度为80℃;
S1.9、风冷收卷:将基膜通过风冷为室温后,由卷绕机进行收卷;
S2、斜面型金属层蒸镀:将收卷好的高均匀性的基膜运至蒸镀室,将镀料金属熔化蒸发,对基膜单侧的蒸镀口开设数量沿基膜另一侧逐级递减,递减为零时与基膜侧边还有一段距离,从而在均匀的基膜表面形成均匀的斜面型金属层,并在基膜顶面设有留边。
本发明的有益效果是:基膜在经过辊压区进行均匀性滚压,保证基膜整体平面水平均匀,再通过监测区对基膜厚度监测,根据监测结果,为保证均匀厚度,在经过热处理区时会进行进一步加工,使得基膜具有高均匀性,最后经过蒸镀在高均匀性的基膜表面形成均匀的斜面型金属层。
附图说明
图1示出了本发明的斜面型金属化薄膜结构示意图;
图2示出了本发明的斜面型金属化薄膜制备装置的结构示意图;
图3示出了本发明的承压机构结构示意图;
图4示出了本发明的承压机构与基膜贴合结构剖面图;
图5示出了本发明的调节栓和支撑块配合结构示意图;
图6示出了本发明的调节栓结构示意图;
图7示出了本发明的压制机构结构示意图;
图8示出了本发明的辊压机构结构示意图;
图中所示:1、卷绕机;2、基膜;201、斜面型金属层;202、留边;3、箱体;4、第一冷却辊;5、第二冷却辊;6、限位辊;7、第一挡板;8、第一气动杆;9、压制机构;901、固定板;9011、第一凸块;902、电热板; 9021、第二凸块;10、第二挡板;11、第三挡板;12、第二气动杆;13、辊压机构;1301、固定箱;1302、第三凸块;1303、辊轮;14、机台;15、传送带;16、承压机构;1601、支撑柱;1602、限位架;16021、限位槽; 1603、支撑块;1604、承载板;1605、调节栓;17、红外检测仪;18、斜面型金属层;19、留边。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅解释本发明,并不用于限定本发明。
斜面型金属化薄膜,包括基膜2,所述基膜2顶面设置有斜面型金属层 18,基膜2顶面一侧设置有留边19,所述基膜2厚度均匀性为±0.01mm。
斜面型金属化薄膜制备装置,包括机台14,所述机台14顶面固定有箱体3,机台14一端固定有卷绕机1,箱体3内的机台14顶面设置有传送带 15,传送带15顶面贴合有基膜2,所述箱体3内部设置有第一挡板7、第二挡板10和第三挡板11,第一挡板7与箱体3分隔区域为冷却区,第一挡板7与第二挡板10分隔区域为热处理区,第二挡板10与第三挡板11分隔区为监测区,第三挡板11与箱体3分割区域为辊压区;基膜2在经过辊压区进行均匀性滚压,保证基膜2整体平面水平均匀,再通过监测区对基膜2 厚度监测,根据监测结果,为保证均匀厚度,在经过热处理区时会进行进一步加工,使得基膜2具有高均匀性,最后经过冷却区冷却收卷。
如图2所示,所述机台14顶面位于冷却区设置有第一冷却辊4、第二冷却辊5和限位辊6,限位辊6设置于靠近第一挡板7处,第一冷却辊4设置于靠近箱体3处,第一冷却辊4和限位辊6之间设有第二冷却辊5,第二冷却辊5与第一冷却辊4设置于不同高度,基膜2顶面贴合于第一冷却辊4 底端,基膜2底面贴合于第二冷却辊5顶端;通过高度交错设置的第一冷却辊4和第二冷却辊5分别对其贴合经过的基膜2的顶面和底面进行冷却,使制备的高均匀性的基膜2能够迅速冷却定型,保证加工精度。
所述机台14顶面位于热处理区设置有承压机构16,所述承压机构16 设置于传送带15顶部,箱体3位于承压机构16顶部贯穿设置有第一气动杆8,第一气动杆8底端连接有压制机构9;在传送带15上的基膜2在经过承压机构16时,第一气动杆8推动压制机构9,使得基膜2在承压机构 16和压制机构9之间进行挤压,实现基膜2的高均匀性压制。
如图3所示,所述承压机构16包括支撑柱1601、限位架1602和承载板1604,所述支撑柱1601分别固定于传送带15两侧,两个位于传送带15 同侧的支撑柱1601之间分别连接有限位架1602,传送带15两侧的两个限位架1602之间连接有承载板1604,限位架1602顶面靠近承载板1604一侧开设有限位槽16021;
所述压制机构9包括固定板901和电热板902,所述固定板901顶面连接于第一气动杆8底端,固定板901底面固定有电热板902,固定板901两侧对称设置有第一凸块9011,电热板902两侧对称设置有第二凸块9021,固定板901与电热板902为相同形状重合固定;通过将第一凸块9011和第二凸块9021同时插接于限位槽16021内,保证电热板902与承载板1604保持水平面平行垂直下降,使得经过承载板1604顶面的基膜2能够被电热板902进行水平面的加热挤压,保证基膜2水平均匀。
如图3所示,所述承压机构16还包括支撑块1603和调节栓1605,所述支撑块1603配合插接于限位槽16021内部,限位架1602一侧插接有调节栓1605,调节栓1605一端与支撑块1603侧壁齿槽啮合;通过调节栓1605 调节支撑块1603在限位槽16021内的高度,从而控制第二凸块9021下降到限位槽16021内的深度,以控制电热板902对基膜2加热挤压后的基膜2厚度,使得基膜2整体厚度均匀一致。
如图2和图8所示,所述机台14顶面位于辊压区也设有相同承压机构 16,箱体3位于所述承压机构16顶部贯穿设置有第二气动杆12,第二气动杆12底端连接有辊压机构13,辊压机构13包括固定箱1301、第三凸块1302 和辊轮1303,所述固定箱1301顶面连接第二气动杆12,固定箱1301两侧分别设置有第三凸块1302,固定箱1301底面嵌入转动连接有辊轮1303;辊压机构13通过承压机构16限制,保持辊1303底端水平,实现对基膜2 的平面水平均匀性滚压。
如图2所示,所述机台14顶面位于监测区设置有红外检测仪17,红外检测仪17与第一气动杆8和传送带15之间内部电性连接;在红外检测仪 17对基膜2厚度进行检测时,出现厚度不均匀处,红外检测仪17控制传送带15停止,随即控制第一气动杆8运行,使压制机构9下降对基膜2进行热处理加工。
斜面型金属化薄膜加工方法,应用上述所述的斜面型金属化薄膜制备装置,所述加工方法包括以下步骤:
S1、高均匀性基膜制备;
S1.1、熔融塑化:将多种原料混合,再加热至160-170℃,形成熔融状态;
S1.2、铸片拉伸:将粘流态的熔体迅速冷却至140℃以下形成玻璃态铸片,再对铸片进行装夹拉伸,拉伸时铸片温度控制为60-85℃,拉伸后形成薄膜状态;
S1.3、水平均匀辊压:拉伸后薄膜状态的基膜2通过传送带15运输到辊压区内的承载板1604上,第二气动杆12推动固定箱1301下降,下降位置通过调节栓1605控制支撑块1603在限位槽16021内高度位置,固定箱1301上的第三凸块1302受支撑块1603限制,使固定箱1301 内的辊轮1303与承载板1604间的距离为目标基膜2厚度,辊轮1303 挤压基膜2表面,使基膜2形成水平均匀化平面;
S1.4、厚度实时监测:传送带15将经过辊压后的基膜2运输到监测区,监测区内的红外检测仪17对经过的基膜2进行厚度监测,红外检测仪17在使用前进行了检测厚度预设,厚度达标误差允许范围为± 0.01mm;
S1.5、检测:红外检测仪17测量距离为150-300mm,精度为±0.1%,根据基膜2厚度来定;
S1.6、判断厚度是否达标:
是,进入步骤S1.8;
否,进入步骤S1.7;
S1.7、热处理压制:传送带15将基膜2运输到热处理区,红外检测仪17控制传送带15暂停,同步加热压制机构9中的电热板902,并启动第一气动杆8,推动压制机构9下降,使得电热板902上的第二凸块9021和固定板901上的第一凸块9011同步插入到承压 机构16中限位架1602上的限位槽16021内,使得第二凸块9021与支撑块1603相抵,保证电热板902与承载板1604之间的基膜2到达预设压制厚度,从而进一步精确加工的基膜2的水平均匀性和厚度均匀性,完成压制后启动传送带15继续运输;调节栓1605控制支撑块1603高度,使支撑块1603外伸出承载板1604顶面的厚度为目标基膜2厚度,完成压制厚度预设;
S1.8、冷却定型:传送带15将基膜2运输到冷却区,通过限位辊 6后转向至第二冷却辊5,对基膜2底面进行冷却,再转向至第一冷却辊4,对基膜2顶面进行冷却;第一冷却辊4冷却温度为40℃,第二冷却辊5冷却温度为80℃;
S1.9、风冷收卷:将基膜2通过风冷为室温后,由卷绕机1进行收卷;
S2、斜面型金属层蒸镀:将收卷好的高均匀性的基膜2运至蒸镀室,将镀料金属熔化蒸发,对基膜2单侧的蒸镀口开设数量沿基膜2 另一侧逐级递减,递减为零时与基膜2侧边还有一段距离,从而在均匀的基膜2表面形成均匀的斜面型金属层18,并在基膜2顶面设有留边19。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (4)

1.适用于斜面型金属化薄膜的制备装置,其特征在于:所述斜面型金属化薄膜包括基膜(2),所述基膜(2)顶面设置有斜面型金属层(18),基膜(2)顶面一侧设置有留边(19),所述基膜(2)厚度均匀性为±0.01mm;
所述制备装置,包括机台(14),所述机台(14)顶面固定有箱体(3),机台(14)一端固定有卷绕机(1),箱体(3)内的机台(14)顶面设置有传送带(15),传送带(15)顶面贴合有基膜(2),所述箱体(3)内部设置有第一挡板(7)、第二挡板(10)和第三挡板(11),第一挡板(7)与箱体(3)分隔区域为冷却区,第一挡板(7)与第二挡板(10)分隔区域为热处理区,第二挡板(10)与第三挡板(11)分隔区为监测区,第三挡板(11)与箱体(3)分割区域为辊压区;
所述机台(14)顶面位于冷却区设置有第一冷却辊(4)、第二冷却辊(5)和限位辊(6),限位辊(6)设置于靠近第一挡板(7)处,第一冷却辊(4)设置于靠近箱体(3)处,第一冷却辊(4)和限位辊(6)之间设有第二冷却辊(5),第二冷却辊(5)与第一冷却辊(4)设置于不同高度,基膜(2)顶面贴合于第一冷却辊(4)底端,基膜(2)底面贴合于第二冷却辊(5)顶端;
所述机台(14)顶面位于热处理区设置有承压机构(16),所述承压机构(16)设置于传送带(15)顶部,箱体(3)位于承压机构(16)顶部贯穿设置有第一气动杆(8),第一气动杆(8)底端连接有压制机构(9);
所述机台(14)顶面位于辊压区也设有相同承压机构(16),箱体(3)位于所述承压机构(16)顶部贯穿设置有第二气动杆(12),第二气动杆(12)底端连接有辊压机构(13),辊压机构(13)包括固定箱(1301)、第三凸块(1302)和辊轮(1303),所述固定箱(1301)顶面连接第二气动杆(12),固定箱(1301)两侧分别设置有第三凸块(1302),固定箱(1301)底面嵌入转动连接有辊轮(1303);
所述机台(14)顶面位于监测区设置有红外检测仪(17),红外检测仪(17)与第一气动杆(8)和传送带(15)之间内部电性连接;
所述压制机构(9)包括固定板(901)和电热板(902),所述固定板(901)顶面连接于第一气动杆(8)底端,固定板(901)底面固定有电热板(902),固定板(901)两侧对称设置有第一凸块(9011),电热板(902)两侧对称设置有第二凸块(9021),固定板(901)与电热板(902)为相同形状重合固定。
2.根据权利要求1所述的适用于斜面型金属化薄膜的制备装置,其特征在于:所述承压机构(16)包括支撑柱(1601)、限位架(1602)和承载板(1604),所述支撑柱(1601)分别固定于传送带(15)两侧,两个位于传送带(15)同侧的支撑柱(1601)之间分别连接有限位架(1602),传送带(15)两侧的两个限位架(1602)之间连接有承载板(1604),限位架(1602)顶面靠近承载板(1604)一侧开设有限位槽(16021)。
3.根据权利要求2所述的适用于斜面型金属化薄膜的制备装置,其特征在于:所述承压机构(16)还包括支撑块(1603)和调节栓(1605),所述支撑块(1603)配合插接于限位槽(16021)内部,限位架(1602)一侧插接有调节栓(1605),调节栓(1605)一端与支撑块(1603)侧壁齿槽啮合。
4.根据权利要求3所述的适用于斜面型金属化薄膜的制备装置,其特征在于:加工方法包括以下步骤:
S1、高均匀性基膜制备;
S1.1、熔融塑化:将多种原料混合,再加热至160-170℃,形成熔融状态;
S1.2、铸片拉伸:将粘流态的熔体迅速冷却至140℃以下形成玻璃态铸片,再对铸片进行装夹拉伸,拉伸时铸片温度控制为60-85℃,拉伸后形成薄膜状态;
S1.3、水平均匀辊压:拉伸后薄膜状态的基膜(2)通过传送带(15)运输到辊压区内的承载板(1604)上,第二气动杆(12)推动固定箱(1301)下降,下降位置通过调节栓(1605)控制支撑块(1603)在限位槽(16021)内高度位置,固定箱(1301)上的第三凸块(1302)受支撑块(1603)限制,使固定箱(1301)内的辊轮(1303)与承载板(1604)间的距离为目标基膜(2)厚度,辊轮(1303)挤压基膜(2)表面,使基膜(2)形成水平均匀化平面;
S1.4、厚度实时监测:传送带(15)将经过辊压后的基膜(2)运输到监测区,监测区内的红外检测仪(17)对经过的基膜(2)进行厚度监测,红外检测仪(17)在使用前进行了检测厚度预设,厚度达标误差允许范围为±0.01mm;
S1.5、检测:红外检测仪(17)测量距离为150-300mm,精度为±0.1%,精度根据基膜(2)厚度来定;
S1.6、判断厚度是否达标:
是,进入步骤S1.8;
否,进入步骤S1.7;
S1.7、热处理压制:传送带(15)将基膜(2)运输到热处理区,红外检测仪(17)控制传送带(15)暂停,同步加热压制机构(9)中的电热板(902),并启动第一气动杆(8),推动压制机构(9)下降,使得电热板(902)上的第二凸块(9021)和固定板(901)上的第一凸块(9011)同步插入到承压 机构(16)中限位架(1602)上的限位槽(16021)内,使得第二凸块(9021)与支撑块(1603)相抵,保证电热板(902)与承载板(1604)之间的基膜(2)到达预设压制厚度,从而进一步精确加工的基膜(2)的水平均匀性和厚度均匀性,完成压制后启动传送带(15)继续运输;调节栓(1605)控制支撑块(1603)高度,使支撑块(1603)外伸出承载板(1604)顶面的厚度为目标基膜(2)厚度,完成压制厚度预设;
S1.8、冷却定型:传送带(15)将基膜(2)运输到冷却区,通过限位辊(6)后转向至第二冷却辊(5),对基膜(2)底面进行冷却,再转向至第一冷却辊(4),对基膜(2)顶面进行冷却;第一冷却辊(4)冷却温度为40℃,第二冷却辊(5)冷却温度为80℃;
S1.9、风冷收卷:将基膜(2)通过风冷为室温后,由卷绕机(1)进行收卷;
S2、斜面型金属层蒸镀加工:将收卷好的高均匀性的基膜(2)运至蒸镀室,将镀料金属熔化蒸发,对基膜(2)单侧的蒸镀口开设数量沿基膜(2)另一侧逐级递减,递减为零时与基膜(2)侧边还有一段距离,从而在均匀的基膜(2)表面形成均匀的斜面型金属层(18),并在基膜(2)顶面设有留边(19)。
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