CN112259606A - 氮化镓半导体器件 - Google Patents

氮化镓半导体器件 Download PDF

Info

Publication number
CN112259606A
CN112259606A CN202011204420.3A CN202011204420A CN112259606A CN 112259606 A CN112259606 A CN 112259606A CN 202011204420 A CN202011204420 A CN 202011204420A CN 112259606 A CN112259606 A CN 112259606A
Authority
CN
China
Prior art keywords
pad
drain
source
gate
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202011204420.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112259606B (zh
Inventor
姚卫刚
李�浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Innoscience Zhuhai Technology Co Ltd
Original Assignee
Innoscience Zhuhai Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Innoscience Zhuhai Technology Co Ltd filed Critical Innoscience Zhuhai Technology Co Ltd
Priority to CN202011204420.3A priority Critical patent/CN112259606B/zh
Publication of CN112259606A publication Critical patent/CN112259606A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112259606B publication Critical patent/CN112259606B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/778Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface
    • H01L29/7786Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface with direct single heterostructure, i.e. with wide bandgap layer formed on top of active layer, e.g. direct single heterostructure MIS-like HEMT
    • H01L29/7787Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface with direct single heterostructure, i.e. with wide bandgap layer formed on top of active layer, e.g. direct single heterostructure MIS-like HEMT with wide bandgap charge-carrier supplying layer, e.g. direct single heterostructure MODFET
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • H01L29/423Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/42312Gate electrodes for field effect devices
    • H01L29/42316Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
    • H01L29/4232Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
    • H01L29/42356Disposition, e.g. buried gate electrode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • H01L29/423Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/42312Gate electrodes for field effect devices
    • H01L29/42316Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
    • H01L29/4232Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
    • H01L29/42372Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate characterised by the conducting layer, e.g. the length, the sectional shape or the lay-out
    • H01L29/42376Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate characterised by the conducting layer, e.g. the length, the sectional shape or the lay-out characterised by the length or the sectional shape

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)

Abstract

本发明提供一种氮化镓半导体器件,氮化镓半导体器件包括源极焊盘、栅极焊盘、漏极焊盘、栅极总线、多个栅极指状部、多个源极触件和多个漏极触件;栅极指状部、源极触件和漏极触件均沿着第一方向延伸并沿着第二方向布置,第二方向垂直于第一方向,每个栅极指状部位于相邻的源极触件和漏极触件之间;源极焊盘和漏极焊盘沿着第一方向布置,源极触件和漏极触件均位于源极焊盘和漏极焊盘之间;栅极总线沿着第二方向延伸,多个栅极指状部通过栅极总线与栅极焊盘连接,多个源极触件均与源极焊盘连接,多个漏极触件均与漏极焊盘连接;位于第二方向中部的栅极指状部的长度小于位于第二方向两端的栅极指状部的长度。该氮化镓半导体器件内部温度分布均匀。

Description

氮化镓半导体器件
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,具体地说,是涉及一种氮化镓半导体器件。
背景技术
氮化镓半导体器件在功率放大领域具有非常广泛的应用前景,如图1所示,现有的氮化镓半导体器件的栅极指状部长度相等,功率密度高,结温高且不均衡,多个栅极指状部之间互相加热,使得氮化镓半导体器件中心温度高,四周温度低,中心的高温区限制了功率的输出,导致了氮化镓半导体器件性能下降、寿命缩短。
发明内容
本发明的目的是提供一种器件内部温度分布均匀的氮化镓半导体器件。
为实现上述第一目的,本发明提供一种氮化镓半导体器件,包括源极焊盘、栅极焊盘、漏极焊盘、栅极总线、多个栅极指状部、多个源极触件和多个漏极触件;栅极指状部、源极触件和漏极触件均沿着第一方向延伸并沿着第二方向布置,第二方向垂直于第一方向,每个栅极指状部位于相邻的源极触件和漏极触件之间;源极焊盘和漏极焊盘沿着第一方向布置,源极触件和漏极触件均位于源极焊盘和漏极焊盘之间;栅极总线沿着第二方向延伸,多个栅极指状部通过栅极总线与栅极焊盘连接,多个源极触件均与源极焊盘连接,多个漏极触件均与漏极焊盘连接;位于第二方向中部的栅极指状部的长度小于位于第二方向两端的栅极指状部的长度。
由上述方案可见,通过将栅极指状部改为非等长,且两侧长中间短的结构,从而缩短中心热源,加长两侧热源,充分利用氮化镓半导体器件有源区边缘的热扩散面积,平衡器件内部有源区的温度,使氮化镓半导体器件结温均衡,同时可以有效降低结温。
一个优选的方案是,沿着第二方向,栅极指状部的长度先逐渐减小后逐渐增大。
进一步的方案是,在第二方向的中点位置的栅极指状部的长度最短。
由此可见,这样可以保证位于中心位置的栅极指状部的长度最短,位于两端的栅极指状部的长度最长,从而进一步提高氮化镓半导体器件结温均衡性。
一个优选的方案是,源极焊盘的横截面呈三角形。
进一步的方案是,源极焊盘的横截面呈等腰三角形。
一个优选的方案是,漏极焊盘的横截面呈三角形。
进一步的方案是,漏极焊盘的横截面呈等腰三角形。
再进一步的方案是,栅极总线连接在栅极指状部靠近漏极焊盘的一端,栅极总线包括相连接的第一折弯段和第二折弯段,第一折弯段和第二折弯段分别平行于等腰三角形的两条腰。
一个优选的方案是,多个栅极指状部等间距布置。
附图说明
图1是本发明氮化镓半导体器件沿竖直方向的截面图。
图2是本发明氮化镓半导体器件中金属走线的示意图。
以下结合附图及实施例对本发明作进一步说明。
具体实施方式
参见图1和图2,氮化镓半导体器件包括衬底1、过渡层2、沟道层3、势垒层4、源极焊盘5、栅极焊盘6、漏极焊盘7、栅极总线61、多个栅极指状部62、多个源极触件51和多个漏极触件71。过渡层2、沟道层3和势垒层4在衬底1上自下而上依次生长,源极焊盘5、栅极焊盘6、漏极焊盘7、栅极总线61、栅极指状部62、源极触件51和漏极触件71均形成在势垒层4上。
源极焊盘5和漏极焊盘7沿着第一方向X布置,源极触件51和漏极触件71均位于源极焊盘5和漏极焊盘7之间。栅极指状部62、源极触件51和漏极触件71均沿着第一方向X延伸并沿着第二方向Y布置,第二方向Y垂直于第一方向X,每个栅极指状部62位于相邻的源极触件51和漏极触件71之间。栅极总线61沿着第二方向Y延伸,多个栅极指状部62通过栅极总线61与栅极焊盘6连接且多个栅极指状部62等间距布置,多个源极触件51均与源极焊盘5连接,多个漏极触件71均与漏极焊盘7连接。
沿着第二方向Y,栅极指状部62的长度先逐渐减小后逐渐增大,并且在第二方向Y的中点位置的栅极指状部62的长度最短。
源极焊盘5的横截面和漏极焊盘7的横截面均呈等腰三角形,等腰三角形的底边平行于Y方向,源极触件51自源极焊盘5的两条腰向外延伸,漏极触件71自漏极焊盘7的两条腰向外延伸。
栅极总线61连接在栅极指状部62靠近漏极焊盘7的一端,栅极总线61包括相连接的第一折弯段611和第二折弯段612,第一折弯段611和第二折弯段612分别平行于漏极焊盘7的两条腰。
由上可见,通过将栅极指状部改为非等长,且两侧长中间短的结构,从而缩短中心热源,加长两侧热源,充分利用氮化镓半导体器件有源区边缘的热扩散面积,使氮化镓半导体器件内部温度分布均匀。与现有技术相比,本发明的氮化镓半导体器件在栅极指状部总长相同的前提下,可以有效降低结温。
此外,长度最短的栅极指状部也可以位于第二方向中点偏左或中点偏右的位置上。沿着第二方向,栅极指状部长度的变化也可以不是渐变的,例如,沿着第二方向,多个栅极指状部被分成三组,每组中各栅极指状部的长度相等,中间组的栅极指状部的长度小于两侧组的栅级指状部的长度。上述改变也能实现本发明的目的。
最后需要强调的是,以上仅为本发明的优选实施例,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种变化和更改,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.氮化镓半导体器件,其特征在于,包括源极焊盘、栅极焊盘、漏极焊盘、栅极总线、多个栅极指状部、多个源极触件和多个漏极触件;
所述栅极指状部、所述源极触件和所述漏极触件均沿着第一方向延伸并沿着第二方向布置,所述第二方向垂直于所述第一方向,每个所述栅极指状部位于相邻的所述源极触件和所述漏极触件之间;
所述源极焊盘和所述漏极焊盘沿着所述第一方向布置,所述源极触件和所述漏极触件均位于所述源极焊盘和所述漏极焊盘之间;
所述栅极总线沿着所述第二方向延伸,多个所述栅极指状部通过所述栅极总线与所述栅极焊盘连接,多个所述源极触件均与所述源极焊盘连接,多个所述漏极触件均与所述漏极焊盘连接;
位于所述第二方向中部的所述栅极指状部的长度小于位于所述第二方向两端的所述栅极指状部的长度。
2.根据权利要求1所述的氮化镓半导体器件,其特征在于:
沿着所述第二方向,所述栅极指状部的长度先逐渐减小后逐渐增大。
3.根据权利要求2所述的氮化镓半导体器件,其特征在于:
在所述第二方向的中点位置的所述栅极指状部的长度最短。
4.根据权利要求1至3任一项所述的氮化镓半导体器件,其特征在于:
所述源极焊盘的横截面呈三角形。
5.根据权利要求4所述的氮化镓半导体器件,其特征在于:
所述源极焊盘的横截面呈等腰三角形。
6.根据权利要求1至3任一项所述的氮化镓半导体器件,其特征在于:
所述漏极焊盘的横截面呈三角形。
7.根据权利要求6所述的氮化镓半导体器件,其特征在于:
所述漏极焊盘的横截面呈等腰三角形。
8.根据权利要求7所述的氮化镓半导体器件,其特征在于:
所述栅极总线连接在所述栅极指状部靠近所述漏极焊盘的一端,所述栅极总线包括相连接的第一折弯段和第二折弯段,所述第一折弯段和所述第二折弯段分别平行于所述等腰三角形的两条腰。
9.根据权利要求1至3任一项所述的氮化镓半导体器件,其特征在于:
多个所述栅极指状部等间距布置。
CN202011204420.3A 2020-11-02 2020-11-02 氮化镓半导体器件 Active CN112259606B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011204420.3A CN112259606B (zh) 2020-11-02 2020-11-02 氮化镓半导体器件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011204420.3A CN112259606B (zh) 2020-11-02 2020-11-02 氮化镓半导体器件

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112259606A true CN112259606A (zh) 2021-01-22
CN112259606B CN112259606B (zh) 2024-11-01

Family

ID=74267528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011204420.3A Active CN112259606B (zh) 2020-11-02 2020-11-02 氮化镓半导体器件

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112259606B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114141868A (zh) * 2022-02-07 2022-03-04 深圳市时代速信科技有限公司 一种半导体器件及其制备方法
CN114188407A (zh) * 2022-02-17 2022-03-15 深圳市时代速信科技有限公司 一种半导体器件电极结构、制作方法及半导体器件
WO2024114629A1 (zh) * 2022-11-30 2024-06-06 华为技术有限公司 半导体器件、半导体器件的制备方法及电子设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160043189A1 (en) * 2014-08-07 2016-02-11 Semiconductor Components Industries, Llc Semiconductor package for a lateral device and related methods
CN110970498A (zh) * 2018-09-29 2020-04-07 苏州能讯高能半导体有限公司 一种半导体器件及其制备方法
CN111223928A (zh) * 2020-04-22 2020-06-02 浙江集迈科微电子有限公司 栅指渐宽式GaN FinFET结构及其制备方法
CN213716905U (zh) * 2020-11-02 2021-07-16 英诺赛科(珠海)科技有限公司 氮化镓半导体器件

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160043189A1 (en) * 2014-08-07 2016-02-11 Semiconductor Components Industries, Llc Semiconductor package for a lateral device and related methods
CN110970498A (zh) * 2018-09-29 2020-04-07 苏州能讯高能半导体有限公司 一种半导体器件及其制备方法
CN111223928A (zh) * 2020-04-22 2020-06-02 浙江集迈科微电子有限公司 栅指渐宽式GaN FinFET结构及其制备方法
CN213716905U (zh) * 2020-11-02 2021-07-16 英诺赛科(珠海)科技有限公司 氮化镓半导体器件

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114141868A (zh) * 2022-02-07 2022-03-04 深圳市时代速信科技有限公司 一种半导体器件及其制备方法
CN114141868B (zh) * 2022-02-07 2022-04-12 深圳市时代速信科技有限公司 一种半导体器件及其制备方法
CN114188407A (zh) * 2022-02-17 2022-03-15 深圳市时代速信科技有限公司 一种半导体器件电极结构、制作方法及半导体器件
WO2024114629A1 (zh) * 2022-11-30 2024-06-06 华为技术有限公司 半导体器件、半导体器件的制备方法及电子设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN112259606B (zh) 2024-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112259606B (zh) 氮化镓半导体器件
US4034399A (en) Interconnection means for an array of majority carrier microwave devices
JP6338679B2 (ja) 半導体デバイス及びその製造方法
US10483352B1 (en) High power transistor with interior-fed gate fingers
JP7102048B2 (ja) チャネル領域拡張部を用いた炭化ケイ素金属酸化物半導体(mos)デバイスセルにおける電界シールド
US6392272B1 (en) Insulating gate type semiconductor device
US11757013B2 (en) Drain and/or gate interconnect and finger structure
CN107026163A (zh) 具有沿着晶体管单元区的过渡区中的晶体管单元和超结结构的半导体器件
CN101263599B (zh) 终止结构
US11538729B2 (en) Semiconductor device, semiconductor chip and method of manufacturing semiconductor device
CN110890422A (zh) 一种沟槽igbt及其制作方法
CN213716905U (zh) 氮化镓半导体器件
CN105762147A (zh) 一种半导体功率器件版图
JP6782062B2 (ja) 半導体デバイスのセル型レイアウト
JP2016009867A (ja) 半導体デバイスのセル型レイアウト
US6963167B2 (en) Electrode structure for a light-emitting element
JP6759275B2 (ja) ボンドパッド間のゲートフィンガを含むワイドバンドギャップ半導体デバイス
CN115132826A (zh) 超级结ldmos器件
CN115188822A (zh) 沟槽型mosfet终端
CN112531018A (zh) 新型igbt功率半导体器件
US6534857B1 (en) Thermally balanced power transistor
CN114188407B (zh) 一种半导体器件电极结构、制作方法及半导体器件
CN201608184U (zh) 一种具有改进型终端保护结构的沟槽型功率mos器件
CN214043672U (zh) 新型igbt功率半导体器件
US9577056B2 (en) Semiconductor component comprising at least one contact structure for feeding in and/or leading away charge carriers

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant