CN112135544A - 制造诸如珠宝饰件的装饰制品的方法 - Google Patents
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Abstract
一种制造诸如珠宝饰件的装饰制品(1)的方法,所述制品包括具有装饰层(5)的主体(2)和镶嵌到该主体中的元件(3)。该方法包括:提供至少部分地涂覆有可移除层(4)的元件;将所述元件镶嵌到主体中;用装饰层涂覆所述元件和主体;以及,从所述元件去除可移除层和装饰层。
Description
技术领域
本发明涉及一种制造诸如珠宝饰件的制品的方法,所述制品包括具有装饰层的主体以及镶嵌到该主体中的元件。
背景技术
众所周知下述装饰制品(例如珠宝饰件),其中第一材料的主体涂覆有装饰层。此类装饰层通常用于,例如,使制品看起来是由昂贵的“贵金属”制成,同时允许该制品的大部分由成本较低的材料制成。用诸如水晶和宝石或半宝石的元件来镶嵌这种装饰制品也是常见的。
当珠宝饰件既涂覆有装饰层又镶嵌有元件时,众所周知的是首先在珠宝饰件的主体上涂覆装饰层,然后在涂覆之后将元件镶嵌到经涂覆的主体中。一种常见的用装饰层涂覆珠宝饰件并随后将宝石镶嵌到珠宝饰件中的方法如下。
首先,制造珠宝饰件的主体,该主体具有用于元件的空腔,并且在空腔的附近具有至少一个可闭合的突出部,例如包边(bezel)或爪(prong),用于将宝石固定到珠宝饰件上。主体通常由金属制成,包括青铜、黄铜、铝、不锈钢、银和合金。
其次,包括突出部的主体被装饰层涂覆。在涂覆之后,将元件放置在空腔中,并且通过用推动器(pusher)使该突出部在元件上方弯曲或以其他方式变形来闭合该可闭合的突出部,从而将该元件镶嵌到主体中,并形成完整的珠宝饰件。
与上述方法相关的缺点在于用推动器闭合可闭合的突出部。在以这种方式闭合突出部时,很可能由于装饰层受到推动器撞击和/或由于突出部的变形而导致损坏装饰层,特别是在突出部的区域内损坏。镶嵌于主体内的元件越大,则在将元件镶嵌到主体内的过程中对装饰层的损坏越大,即意味着元件较大时对装饰层的损坏尤其明显。
迄今为止,在可闭合的突出部区域中对装饰层的少量可见损坏是可以忍受的;然而,希望避免对装饰层的这种损坏以提高制品的整体质量。为了同一目的,还希望避免在元件和珠宝饰件的运输和加工过程中损坏元件。
根据本发明的方法旨在解决与现有技术相关的至少一些问题。
发明内容
从第一方面,本发明在于一种制造制品的方法,该制品包括具有装饰层的主体和镶嵌在该主体中的元件。该方法包括:提供至少部分地涂覆有可移除层的元件;将该元件镶嵌到主体中;用装饰层涂覆该元件和主体;以及,从该元件移除可移除层和装饰层。
可移除层起到防护所述元件免于被直接涂覆装饰层,并且可以被移除,以使元件没有任何涂覆层。因此,可移除层允许在元件已被镶嵌到珠宝饰件的主体中之后,用装饰层覆盖珠宝饰件。以这种方式,在施加了装饰层之后,不需要对元件进行任何镶嵌,并且可以避免在镶嵌元件期间对装饰层的损坏。
主体可包括元件接收区域和可在元件接收区域的上方闭合的突出部,并且将元件镶嵌到主体中的步骤可以包括:将元件放置在元件接收区域中,并在元件的上方闭合突出部。
这样的突出部提供了特别适合用于镶嵌元件的方式。如果在施加装饰层之后再闭合突出部,则在闭合突出部时,装饰层将特别容易在突出部的区域中受到损坏;但是,由于突出部是在制品被覆盖以装饰层之前闭合的,所以在成品中,主体的突出部可以保持均匀地涂覆以未损坏的装饰层。
在元件的上方闭合突出部的步骤可以包括使突出部变形。这可以通过推动器来完成。
可移除层可以包括选自以下的组的层:金属层(特别是镁(Mg)层或铝(Al)层)、氧化物层(特别是氧化镁(MgO)层或二氧化硅(SiO2)层)、聚乙烯醇(PVA)层或碳层。这样的材料特别适合作为可移除层,因为它们提供了足够的防护,但是在适当条件下可去除。
可移除层可以包括至少两层。当可移除层包括至少两层时,每一层可以从以下的组中选择:镁(Mg)层、氧化镁(MgO)层和二氧化硅(SiO2)层。
提供至少部分涂覆有可移除层的元件的步骤,可以包括用可移除层至少部分地涂覆元件。该涂覆阶段可以使用物理气相沉积(PVD)(例如溅射)来执行。
用可移除层涂覆元件的步骤可以包括:用金属(A)层涂覆元件,以及用氧化物层涂覆元件。
氧化物可以是金属氧化物(AXOY);例如,金属(A)可以是镁(Mg),氧化物可以是氧化镁(MgO)。用金属(A)层涂覆元件的步骤可以包括:使用物理气相沉积(PVD)在真空室内将金属(A)沉积在元件上,而用金属氧化物(AXOY)层涂覆元件的步骤可以包括在已经沉积金属(A)之后,将氧气引入真空室。
金属(A)可以是镁(Mg),氧化物可以是二氧化硅(SiO2)。
或者,金属(A)可以是镁(Mg),氧化物可以是二氧化硅(SiO2)。
可移除层可以具有5nm至7μm之间的最大厚度。可移除层可优选地具有在5nm至1μm之间的最大厚度,特别是当可移除层包括金属(A)层或氧化物层时。
当可移除层包括两层或更多层时,该层或每层的最大厚度可以在约25nm至约500nm之间。
当可移除层包括镁(Mg)层时,镁(Mg)层的最大厚度可以在约25nm至约200nm之间,优选地为约100nm。
当可移除层包括氧化镁(MgO)层时,氧化镁(MgO)层的最大厚度可以在约25nm至约500nm之间,优选地为约100nm。
当可移除层包括二氧化硅(SiO2)层时,二氧化硅(SiO2)层的最大厚度可以在约25nm至约200nm之间,优选地为约100nm。
当可移除层包括铝(Al)层时,铝(Al)层的最大厚度可以在约50nm至约300nm之间,优选地为约150nm。
当可移除层包括聚乙烯醇(PVA)层时,聚乙烯醇(PVA)层的最大厚度可以在约3μm至7μm之间,优选为约5μm。
装饰层可以选自以下的组:玫瑰金装饰层(即,金-铜合金层)、类金刚石碳(DLC)装饰层、氮化钛(TiN)装饰层、金属硅装饰层、二氧化硅(SiO2)-金(Au)-二氧化硅(SiO2)装饰层、碳化钛(TiC)装饰层、氮化锆装饰层、铬(Cr)装饰层、金(Au)装饰层、金-铜(Au-Cu)合金装饰层、银(Ag)装饰层、铜(Cu)装饰层、氧化铁(III)Fe2O3装饰层或二氧化硅(SiO2)装饰层。
当装饰层是玫瑰金装饰层时,用玫瑰金装饰层涂覆元件和主体的步骤可包括:用氮化钛(TiN)装饰子层涂覆元件和主体;可选地用金(Au)装饰子层涂覆元件和主体;以及,用金-铜(Au-Cu)合金装饰性层涂覆元件和主体。
玫瑰金涂层的氮化钛(TiN)装饰子层的最大厚度可以在大约130nm至170nm之间,优选地为大约150nm,并且金-铜(Au-Cu)合金装饰子层可以具有大约在130nm至170nm之间的最大厚度,优选地为约150nm。因此,玫瑰金装饰层的最大厚度可以在大约260nm至340nm之间,优选地为约300nm。
在其他实施例中,玫瑰金装饰层可以进一步包括在氮化钛(TiN)装饰子层和金-铜(Au-Cu)合金装饰子层之间的金装饰子层。在这种情况下,氮化钛(TiN)装饰子层的最大厚度可以在大约130nm至170nm之间,优选地为大约150nm,金(Au)装饰子层的最大厚度可以在大约30nm至50nm之间,优选地为约40nm,金-铜(Au-Cu)合金装饰子层的最大厚度可在约90nm至110nm之间,优选约100nm。因此,玫瑰金装饰层的最大厚度可以在大约250nm至330nm之间,优选地为约290nm。
金-铜合金可具有按重量计约为40:60的金:铜比。
当装饰层是类金刚石碳(DLC)装饰层时,用类金刚石碳(DLC)装饰层涂覆元件和主体的步骤可包括:用碳化钛(TiC)装饰子层涂覆该元件和主体,并用碳(C)装饰子层涂覆该元件和主体。
在这种情况下,氮化钛(TN)装饰子层的最大厚度可以在大约375nm至425nm之间,优选地约为400nm,而碳(C)装饰子层的最大厚度可以在大约225nm至275nm之间,优选地约为250nm。因此,类金刚石碳(DLC)装饰层的最大厚度可以在大约600nm至700nm之间,优选地为约650nm。
当装饰层是氮化钛(TiN)装饰层时,装饰层的最大厚度可以在大约750nm至850nm之间,优选地为大约800nm。
当装饰层是金属硅装饰层时,装饰层的最大厚度可以在大约1100nm至1300nm之间,优选地为大约1200nm。
装饰层可包含二氧化硅(SiO2)和金(Au)的子层,例如以SiO2、Au、SiO2排列。在这种情况下,每个二氧化硅(SiO2)装饰子层的最大厚度可以在约0.16μm至0.23μm之间,优选为约0.2μm,而金装饰子层的最大厚度可以在约0.16μm至0.23μm之间,优选为约0.2μm。因此,装饰层的最大厚度可以在大约0.5μm至0.7μm之间,优选地为约0.6μm。
从元件去除可移除层和装饰层的步骤可以包括:将元件浸泡在浸泡液中,其可以包括将珠宝饰件浸泡在浸泡液中。浸泡在浸泡液中提供了一种特别简单的去除可移除层的方法,其需要最少的人工工作。
浸泡液可以是水、酸或碱,并且可以优选是以下的组中的一种:水、柠檬酸溶液、硝酸(HNO3)溶液、氢氧化钠(NaOH)溶液或水杨酸溶液(例如拜尔AspirinTM溶液)。
当浸泡液是柠檬酸溶液时,柠檬酸溶液可以是弱柠檬酸溶液。在这种情况下,弱柠檬酸溶液的浓度可以在约0.9g/L至1.1g/L之间,优选地为约1g/L。
在其他实施例中,柠檬酸溶液可以是强柠檬酸溶液。在这种情况下,强柠檬酸溶液的浓度可以在约1.9g/L至2.1g/L之间,优选地为约2g/L。
还设想了多个实施例,其中柠檬酸溶液是非常强的柠檬酸溶液。在这种情况下,非常强的柠檬酸溶液的浓度可以在约4.9wt%(重量百分数)至5.1wt%之间,优选为约5wt%。
当浸泡液是硝酸溶液时,硝酸溶液可以是弱硝酸(HNO3)溶液。在这种情况下,弱硝酸(HNO3)溶液的浓度可以在约1.9%至2.1%之间,优选地为约2%。
在其他实施例中,硝酸溶液可以是强硝酸(HNO3)溶液。在这种情况下,强硝酸(HNO3)溶液的浓度可以在约9%至11%之间,优选地为约10%。
还设想了多个实施例,其中硝酸溶液是非常强的硝酸(HNO3)溶液。在这种情况下,非常强的硝酸(HNO3)溶液的浓度可以在约19%至21%之间,优选地为约20%。
当浸泡液是氢氧化钠溶液时,氢氧化钠溶液的浓度可以在约0.04M/L至0.06M/L之间,优选地为约0.05M/L。
当浸泡液是拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液时,拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液可能是弱拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液,在这种情况下,弱拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液的浓度可以在大约0.9g/L至1.1g/L之间,优选地为大约1g/L。
在其他实施例中,拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液可能是强拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液,在这种情况下,强拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液的浓度可以在大约9g/L至11g/L之间,优选地为大约10g/L。
该方法可以进一步包括:在从元件去除可移除层和装饰层步骤之后清洁元件的步骤。额外的清洁步骤可去除可移除层的任何残留碎片,以及来自浸泡液的任何残留物,以确保元件清洁并具有最佳的美学外观。例如,清洁元件的步骤可以包括用肥皂水清洁元件,和/或将元件暴露于水流。
该元件可以是珠宝元件,并且可以优选地是下述组中的一种,该组包括立方氧化锆(CZ)、玻璃、水钻、半宝石和宝石。
主体可以大体上由选自以下的组中的一种材料制成:不锈钢、钛、铝、黄铜、青铜、银、聚酰胺和合金。
该制品可以是装饰制品,并且尤其可以是珠宝饰件。
本发明还扩展到一种用于镶嵌在制品中的可镶嵌元件,该可镶嵌元件涂覆有可移除层。
该可镶嵌元件可以是珠宝元件,并且可以优选地是下述组中的一种,该组包括:立方氧化锆(CZ)、玻璃、水钻、半宝石和宝石。可移除层可以包括选自以下的组的一层或多层:金属层(特别是镁(Mg)层或铝(Al)层)、氧化物层(特别是氧化镁(MgO)层或二氧化硅(SiO2)层)、聚乙烯醇(PVA)层或碳层。在特别优选的实施例中,可镶嵌元件是立方氧化锆晶体,并且可移除层包括镁层和二氧化硅层。
本发明进一步扩展到一种涂覆可镶嵌元件的方法,该方法包括:提供可镶嵌元件,并且用可移除层涂覆该可镶嵌元件。
本发明的任一方面或实施例的特征可以单独地或以适当的组合与其他方面和实施例适当地一起使用。
附图说明
图1a是珠宝饰件的剖视图。
图1b是形成图1a的珠宝饰件的部分的元件的剖视图。
图2至图6示出了制造图1a的珠宝饰件的方法中的步骤,其中:
图2是图1b的元件的剖视图,该元件已经涂覆有可移除层;
图3是未被涂覆的珠宝饰件的剖视图,其中图2的元件放置在珠宝饰件的空腔中;
图4是图3的珠宝饰件的剖视图,其中元件已经固定到珠宝饰件上;
图5是图4的珠宝饰件的剖视图,其中元件已经涂覆有装饰层;
图6是图5的珠宝饰件的剖视图,其中可移除层和装饰层已从元件去除;以及
图7是涂覆有另一可移除层的另一元件的剖视图。
具体实施方式
图1a示出了示例为珠宝饰件1的制品,该制品包括具有装饰层5的主体2和镶嵌在主体2中的元件3。
主体2包括元件容纳区域,其在图1a中示例为腔6,其容纳元件3。主体2还包括一个或多个突出部,其在图1a中示例为两个爪7,用于将元件3固定到珠宝饰件1的主体2。在图1a中,爪7在腔6和元件3之上闭合,以便将元件3固定到珠宝饰件1的主体2上。
在该特定示例中,主体可以大体上由不锈钢制成,尽管主体可以由任何合适的材料制成,例如钛、铝、黄铜、青铜、银、另一种金属(例如可以是合适的合金)或塑料材料(例如聚酰胺)。
主体2涂覆有装饰层5,以增强珠宝饰件的美学吸引力。装饰层5可以包括任何合适材料的单层,或者可以包括多个装饰子层,每个装饰子层都可以是任何合适的材料,当其层叠在一起时会产生特定的视觉效果。在该示例中,装饰层5是玫瑰金装饰层,其包括两个装饰子层:基部氮化钛(TiN)装饰子层和外部金铜(Au-Cu)合金装饰子层。装饰层5还可以为主体2提供功能性益处,例如增强的耐腐蚀性或耐磨性。
图1b独立地示出了元件3。在示出的示例中,元件3是包括立方氧化锆(CZ)晶体的珠宝元件,但是也可以是能够镶嵌在主体2中的任何元件,例如玻璃的晶体或珠子、水钻、宝石或半宝石,或任何其他可能的元件。当元件3是晶体或切割元件时,元件3可以是任何可能的切割,包括但不限于明亮式切割。
图1b的元件3包括亭部8、腰部9和冠部10。亭部8限定尖端8a。冠部10限定台面11,其正对于亭部8的尖端8a。冠部10的倾斜切面12在台面和腰部9之间延伸。再次参考图1a,其中该元件被镶嵌在珠宝饰件1的主体2中,元件3的冠部10从主体2中突出。
参照图2至图6,现在将描述将元件3镶嵌在珠宝饰件1的主体2中的方法。
图2示出了根据本发明的方法的第一步,其中提供了涂覆有可移除层4的元件3。可移除层4是涂层,其用作屏障并保护元件3,例如免受腐蚀、磨损和与其他材料的直接接触,但是其在特定条件下可以容易地被去除。在该示例中,使用物理气相沉积(PVD)将可移除层4施加到元件。
该沉积阶段可以在与现在描述的方法的后续阶段相同的地点上进行。然而,还可以设想的是,沉积阶段可以在场外进行,并且因此可以为元件提供预先施加的可移除层。
图3和图4示出了将元件3镶嵌在珠宝饰件1的主体2中的方法的第二步。为了镶嵌元件,参考图3,首先将元件3放置在主体2的空腔6中。此后,参考图4,两个爪7在元件2之上闭合,以便将元件3固定到珠宝饰件1的主体2。这可以通过使用爪推动器(未示出)将两个爪7变形来完成。
在该镶嵌阶段,主体2(包括两个爪7)是未被涂覆的。因此,在镶嵌过程中发生的任何损坏都由下面的主体2的材料承担。
图5示出了该方法的第三步,其中,包括主体2和元件3的珠宝饰件1被涂覆以装饰层5。可移除层4的存在意味着装饰层5不直接接触元件3,而是被施加在元件3上的可移除层4之上。因为装饰层5是在镶嵌阶段之后才施加的,所以装饰层5可以掩盖可能对下面的主体2造成的任何细微损坏,从而保留下无缺陷的装饰层5。
在第四步中,将可移除层4从元件3上去除,随之带走已经涂覆在元件3上的装饰层5的任何部分。可移除层4和装饰层5可以从元件3上被去除,例如通过将珠宝饰件1浸泡在浸泡液中。这样做时,可移除层4和装饰层5溶解(或分解)到浸泡液中,从而露出未涂覆的元件3。为了去除任何残留物,然后可以将珠宝饰件1,特别是元件3,例如用肥皂水和/或通过将元件暴露于水流中以进行清洁。
图6示出了已从元件3去除可移除层4和装饰层5之后的珠宝饰件1。元件3没有任何装饰层。主体2保留有装饰层5,并且由于装饰层5是元件3已被镶嵌在主体2中之后才被施加,所以装饰层4保持完全未损坏,最显着的是在两个爪7的区域中。
因此,可移除层4提供了一种改善成品中装饰层5的完整性的简单且具有成本效益的方式。
另外,可移除层4提供了在珠宝饰件1的生产和运输期间保护珠宝饰件1的元件3和主体2的方法。
在运输和存储分离的元件3的过程中,将分离的元件3紧密地包装在一起以节省空间通常是有益的。可移除层4防止在运输期间元件相互接触而可能对每个元件3造成的损坏。在运输和存储已镶嵌有元件3的完整珠宝饰件1的过程中,元件3也以相同的方式受到保护。
在将元件3镶嵌到珠宝饰件1的主体2中的过程中,当元件3被处理时,可移除层4额外地保护元件3。例如,如果爪推动器在镶嵌过程中意外撞击元件3,则可移动层4将首先被撞击,从而保持元件3的状态。
因此,在运输或存储分离的元件3的期间、在将元件3镶嵌到珠宝饰件1的主体2中的期间以及在运输或存储完整的珠宝饰件1的期间,可移除层4均可以保护元件3。
可移除层4可以在任何方便的时间被去除。例如,如果要在施加装饰涂层5之后不久即展示珠宝饰件1,而无需随后的运输,则可能希望在涂覆步骤之后立即去除可移除层4。
可选地,如果珠宝饰件1在其展示之前要进行运输,例如通过将珠宝饰件1从制造地点运输到其将要展示的销售点,则可以保留可移除层4用于运输。在完整的珠宝饰件1即将被展示之前,通过将珠宝饰件1浸入浸泡液中,可移除层4和装饰层5可以很容易地从元件3上去除,从而展露出未受损伤的元件3。在珠宝饰件被运送到最终客户的情况下,该去除阶段甚至可以由最终客户执行,从而排除了对元件3的任何损坏,直到客户决定去除可移除层4和装饰层5。
可移除层
更详细地来看可移除层4,可移除层4可以是能够防护元件3的不与装饰层5直接接触的任何层,并且可以是在需要时容易且安全地被去除的任何层。
在图2的实施例中,可移除层4包括单层材料。
优选的是,可移除层4包括某些盐、可溶有机和无机化合物、易溶金属、以及对湿气敏感的碳化物或氮化物。下面详细说明可移除层的特别优选的组成:还提供了这种可移除层的可用的最大厚度的范围,以及优选的最大厚度。
在可移动层包括单层的情况下,合适的层材料可以是例如镁(Mg)、氧化镁(MgO)、二氧化硅(SiO2)、铝(Al)、聚乙烯醇(PVA)或任何其他合适的材料。
为了节省材料,有益的是将可移除层4仅施加到在将元件3镶嵌到主体2中之后元件3必须可见的部分。这样,在图2的实施例中,仅元件3的腰部9和冠部10涂覆有可移除层4。因此,不必要求整个元件都涂覆可移除层:仅在随后的阶段中会暴露于装饰层的区域涂覆。
可以通过任何合适的工艺施加可移除层4,如例如,物理气相沉积(PVD)工艺。PVD工艺是一组真空沉积工艺,其可用于产生薄膜和涂层,并且包括,例如溅射。
在PVD工艺中,元件3和可移除层4的该层或每一层的材料通常被放置在配置为执行PVD的系统(未示出)中的真空室(未示出)中。该材料首先被转变为气相。随后将源(即汽化的材料)引导至基板(例如元件3),在该基板上其凝结并形成膜,即可移除层4或其的一层。
PVD工艺具有益处,因为其允许将大量不同的涂层以非常纯净的形式沉积成基板上的薄层。例如,溅射可以是PVD的一种特别合适的形式。
另一种可以将元件3涂覆可移除层4的方式是利用化学气相沉积(CVD)。通常,在CVD中,基板(例如元件3)在配置为执行CVD(也未示出)的系统的反应室(未示出)中,被暴露于一种或多种挥发性前体物质(precursor)。该一种或多种挥发性前体物质在基板表面上反应和/或分解,以产生所需的沉积物,例如可移除层4。通常,还会产生挥发性副产物,其通过气流从反应室中除去。
在可移除层是PVA层的情况下,该层可以通过直接施加的方式,例如通过浸入PVA溶液中,而被施加到元件上。
可能希望根据主体和/或装饰层的材料选择可移除层的材料。例如,如果要将元件3镶嵌到包含酸敏感金属的主体2中,或镶嵌到将被施加酸敏感装饰层的主体中时,则可移除层必须不使用酸即易于被去除。在这种情况下,镁(Mg)是可移除层的优选材料,因为其可以不需要酸而被去除。
诸如氧化镁(MgO)的氧化物通常不如镁(Mg)对水敏感,因此如果珠宝饰件可能会暴露在潮湿的环境中,则氧化镁(MgO)的可移除层4可能是优选的。铝(Al)可以存储在潮湿的空气中,因此在珠宝加工期间铝(Al)的可移除层4也可以非常稳定。聚乙烯醇(PVA)的可移除层4易于施加,特别适用于包括单个大元件3的珠宝饰件1。
在替代实施例中,可移除层可以包括不同材料的多层。图7示出了这样的实施例,其中可移除层4包括两层,具体地是底层4a和覆盖层4b。
包括两层材料的可移除层可能是有益的,因为某些材料可能更为优选,因为其允许元件3进行可去除的涂覆,而其他材料可以提供更好的外表面,例如由于良好的耐磨性。例如,对于底层4a,选择既能很好地粘附到元件3,又易于在浸泡液中被去除的材料可能是有益的,而对于覆盖层4b,选择提供坚固保护的材料可能是有益的。
在可移除层包括多层材料的情况下,这些层可以由任何合适的材料制成,包括以上关于单层所述的那些材料。
在图7的实施例中,底层4a由金属(A)制成,而覆盖层4b由氧化物制成。一种特别有效的可移除层4包括镁(Mg)的底层4a,其很好地粘附到元件3,并且在某些浸泡液中容易被去除,还包括氧化镁(MgO)或二氧化硅(SiO2)的覆盖层4b,其每个都为元件3提供了坚固的保护,并且防水。
包括至少两层的可移除层4也可以使用PVD或CVD来制造。在这种情况下,可以重复该涂覆方法以为元件3涂覆需要的层数。例如,PVD可用来对元件3涂覆以镁(Mg)的底层4a和氧化镁(MgO)或二氧化硅(SiO2)的覆盖层4b。
如果在PVD过程中,真空室中存在反应气体,则源会发生化学反应,因此该化学反应的产物被沉积在元件上。例如,如果在真空室中用镁源和氧气进行PVD,则元件3被覆盖以氧化镁(MgO)层。因此,具有可移除层4(其包括金属(A)的底层4a和金属氧化物(AxOY)的覆盖层)的元件3,尤其容易使用PVD生产,因为在沉积过程中只需要一个源。
可移除层的厚度必须仔细确定。较薄的可移除层4比较厚的可移除层4可以更快被去除,因此就速度而言,使用较薄的可移除层可能是有益的。但是,较厚的可移除层更能抵抗损坏(请参阅下面的示例13和14),因此较厚的可移除层可提供更好的保护。因此,必须在保护和易于可去除性之间取得折衷。
因此,特别地选择和控制可移除层4的厚度,且该厚度应足够厚以为元件3提供坚固的保护,但也应足够薄以可被去除。
在用任何特定材料的层涂覆直立的3D对象期间(尤其是用PVD),由于其相对于水平线的倾斜度增加,较少的材料会沉积在表面上。因此,通常不可能完全均匀地涂覆3D对象,并且整个对象上厚度会有所不同。
考虑到这一点,在本申请中,层(包括可移除层)的厚度是根据最大层厚度来确定的。层的最大厚度是指在对象上该层最厚的一点处(通常是在其水平面上)的层厚度。通过根据最大厚度确定层的厚度,建立了以几乎每次相同的方式涂覆元件的方式。
为了说明该可变厚度,表1显示了当使用PVD涂覆元件(其台面朝上)时可移动层的厚度,从而使台面涂覆有厚度为100nm的镁(Mg)层。这些数值是使用KLA-Tencor AlphaStep 2D接触轮廓仪测量而得。
表1
结果表明,每个切面的涂层厚度因此大致减少了相对于水平台面的倾斜角的余弦值。
发明人已经发现特别希望的厚度如下。
镁(Mg)层的最大厚度可以在约25nm至200nm之间,优选地为约100nm。氧化镁(MgO)层的最大厚度可以在约25nm至500nm之间,优选地为约100nm。二氧化硅(SiO2)层的最大厚度可以在约25nm至200nm之间,优选地为约100nm。铝(Al)层的最大厚度可以在约50nm至300nm之间,优选地为约150nm。聚乙烯醇(PVA)层的最大厚度可以在约3μm至7μm之间,优选为约5μm。
装饰层
现在更详细地考虑装饰层的施加,在珠宝饰件1被涂覆装饰层5之前,经常需要对珠宝饰件1进行去油污,以确保主体2的表面无油脂并且可以与装饰层5有效地结合。
可以使用任何合适的去油污方法对主体2进行去油污,例如通过使用去油污液(例如酒精、丙酮、或汽油)进行清洗。
在一些情况下,根据已施加到元件上的可移除层来选择去油污液可能是适合的。
例如,由于镁(Mg)与水的反应性很强,所以在用酒精或丙酮湿法去油污的过程中,镁(Mg)的可移除层4可能会受到损坏。因此,对于镁可移除层4,建议使用新鲜的清洁汽油或具有20%无水酒精的清洁汽油进行去油污。这种去油污应尽快进行。
氧化镁(MgO)的可移除层和镁(Mg)及二氧化硅(SiO2)的可移除层4对水的敏感性较低。因此,对此类可移动层4,建议首先使用清洁汽油对珠宝饰件1进行去油污,然后再使用普通的蒸馏酒精进行去油污。
现在来看用装饰层5涂覆珠宝饰件1的过程,下面提供装饰层5的优选选项。
还提供了每个装饰层5的最大厚度的可用范围,以及优选的最大厚度。还提供了每个装饰层5的每个装饰子层(在合适的情况下)的最大厚度的可用范围,以及优选的最大厚度。与上述可移除层4一样,装饰层5的厚度在制品1上将不是恒定的,因此厚度是根据最大厚度来确定的,从而建立以每次大致相同的方式涂覆制品1的方式。
装饰层5可以是任何合适的层,如例如玫瑰金装饰层(即,金-铜合金层)、类金刚石碳(DLC)装饰层、氮化钛(TiN)装饰层、金属硅装饰层、二氧化硅(SiO2)-金(Au)-二氧化硅(SiO2)装饰层、碳化钛(TiC)装饰层、氮化锆装饰层、铬(Cr)装饰层、金(Au)装饰层、金-铜(Au-Cu)合金装饰层、银(Ag)装饰层、铜(Cu)装饰层、氧化铁(III)Fe2O3装饰层、二氧化硅(SiO2)装饰层或其他任何合适的装饰层。
可以通过任何合适的方法来施加装饰层,例如,使用诸如溅射的PVD方法。
在一些情况下,装饰层可以包括多个子层,这些子层被布置成以产生特定效果。
例如,在装饰层是玫瑰金装饰层的情况下,装饰层可以包括:i)氮化钛(TiN)装饰子层和金-铜(Au-Cu)合金装饰子层,或者ii)氮化钛(TiN)装饰子层、金(Au)装饰子层和金-铜(Au-Cu)合金装饰子层。金-铜(Au-Cu)合金装饰子层可以为,例如40:60的金-铜合金。
在任何存在多个子层的情况下,可以通过连续的PVD阶段,例如通过连续的溅射阶段,来施加子层。
装饰层的合适的最大厚度为约25nm至3000nm之间。
下表2中显示了各种装饰层及其装饰子层的合适材料和近似最大厚度。
表2
浸泡液
现在来看浸泡阶段,以下提供合适的浸泡液示例。提供了在合适的情况下每种浸泡液的可用浓度范围以及优选浓度。
浸泡液可以是能够去除可移除层的任何液体,并且可以是,例如,包括水、酸或碱,或任何其他适当溶剂的组中的一个。
特别地,浸泡液可以是柠檬酸溶液、硝酸(HNO3)溶液、氢氧化钠(NaOH)溶液、拜耳AspirinTM(或水杨酸)溶液或任何其他合适的溶剂。柠檬酸溶液可以是弱柠檬酸溶液、强柠檬酸溶液或非常强的柠檬酸溶液。硝酸(HNO3)溶液可以是弱硝酸(HNO3)溶液、强硝酸(HNO3)溶液或非常强的硝酸(HNO3)溶液。拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液可以是弱拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液、强拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液。
下表3中给出了每种浸泡液的合适浓度和近似浓度:
表3
水作为浸泡液是有益的,因为水很容易获得并且是无害的,因此可移除层4和装饰层5可以无需特殊材料而轻松移除。例如拜耳AspirinTM(或水杨酸)溶液和柠檬酸溶液的浸泡液很容易生产,因为拜耳AspirinTM(或水杨酸)和柠檬酸是很容易获得的家居用品。
可以根据可移除层4、装饰层5、主体2和元件3中的任何或全部的材料来特别选择浸泡液。
例如,将珠宝饰件件1的大体上黄铜的或大体上青铜的主体2浸泡在碱性溶液中是有益的,因为黄铜和青铜对酸敏感。
如果珠宝饰件1的主体2大体上由不锈钢或铝(Al)制成,并且如果装饰层5对强酸具有抵抗力(例如,类金刚石碳(DLC)装饰层),则可能期望将珠宝饰件1浸入非常强的酸(例如20%的硝酸(HNO3)),以快速且有效地去除可移除层4。然而,这种强酸不应该用在具有玫瑰金装饰层5的珠宝饰件1上,因为这有可能使玫瑰金装饰层5变色。
为了加快去除可移除层的过程,可以通过小心地摇晃具有珠宝饰件1的浸泡液,或者通过向其施加超声波或施加低气压溶液(low atmospheric solution)来消散气泡。
在运输和存储已涂覆有可移除层4的元件的期间,限制可移除层对湿气和冷凝水的暴露通常是有益的。如果可移除层4在与水接触时容易溶解或分解,则这样是尤其有益的。为了限制对湿气和冷凝水的暴露,可能优选的是将元件4与可移除层4一起封闭在气密包装中。
变型
尽管在上述实施例中,元件接收区域是空腔,而突出部是爪,但这不是必须的。例如,元件接收区域可以是可在其中放置元件3的任何合适的方式,并且一个或多个突出部可以是用于将元件3固定到珠宝饰件1的主体2上的任何合适的装置,包括,例如包边边缘。
主体可以设置有任意数量的元件,其被容纳在任意数量的元件接收区域中。在这种情况下,可以为每个元件接收区域提供至少一个突出部,以将多个元件中的每一个分别固定到主体上。
在不脱离如权利要求书所阐述的本发明范围的情况下,可能有许多其他变型。
示例
现在参考以下已尝试和测试的示例来描述根据本发明的方法,其中使用了各种制品、元件、可移除层、装饰层和浸泡液。
对于每个示例,所得珠宝饰件在整个珠宝饰件上(包括在突出部上)都具有完美的装饰层,所述突出部在元件上变形以在镶嵌过程中将元件固定到主体上。在每个示例中的一个或多个元件在整个过程中保持未受损伤,并且在该过程结束时,每个元件都没有任何装饰层或任何可移除层。
示例1
在第一示例中,形式为以明亮式切割的1.5mm立方氧化锆(CZ)石的元件被涂覆以可移除层,该可移除层包括镁(Mg)的底层和氧化镁(MgO)的覆盖层。
首先使用处于脉冲直流模式的FHR.Line.400.H溅射镀膜机,在真空室中通过磁控溅射将镁沉积到立方氧化锆石上。接下来,使用处于反应模式的FHR.Line.400.H溅射镀膜机,然后在第二个沉积阶段将氧气引入真空室,以沉积氧化镁(MgO)的覆盖层。
镁(Mg)底层和氧化镁(MgO)覆盖层两者的最大厚度均为约100nm,使得总的最大厚度为约200nm。
将具有镁(Mg)和氧化镁(MgO)可移除层的立方氧化锆石镶嵌到珠宝元件的主体的二十八个空腔之一中,该主体由计算机数控(CNC)铣削的不锈钢主体制成。然后用钢的爪推进器闭合主体的爪。
然后,将包括立方氧化锆石和不锈钢主体的珠宝饰件涂覆以玫瑰金装饰层。
为了用玫瑰金装饰层涂覆主体,首先在珠宝饰件上涂覆最大厚度约为150nm的氮化钛(TiN)装饰子层,继而涂覆最大厚度约为150nm的金-铜(Au-Cu)合金装饰子层。因此,玫瑰金装饰层的总的最大厚度约为300nm。通过溅射进行涂覆。
然后将珠宝饰件在浓度约为2g/L的强柠檬酸溶液(即,约2g柠檬酸溶于1L水中)中浸泡约2个小时。这种浸泡从立方氧化锆石去除了可移除层和玫瑰金装饰层。然后将立方氧化锆石暴露于水流中进行清洁。
示例2
第二示例与第一示例基本相同,不同之处在于浸泡步骤。
在此浸泡步骤中,为了从立方氧化锆石去除可移除层和玫瑰金装饰层,将珠宝饰件在浓度约为1g/L的弱拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液(大约500毫克的拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶于500毫升的水中)中浸泡约3个小时。
示例3
第三示例与第一示例基本相同,不同之处在于浸泡步骤。
在该浸泡步骤中,为了从立方氧化锆石去除可移除层和玫瑰金装饰层,将珠宝饰件在水中浸泡约20个小时。发现浸泡在水中可有效去除可移除层,尽管与使用柠檬酸或拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液相比,浸泡在水中所需的浸泡时间更长。
示例4
第四示例与第一示例基本相同,不同之处在于可移除层包括使用FHR.Line.400.H溅射镀膜机沉积的镁(Mg)的底层和二氧化硅(SiO2)的覆盖层。
元件镶嵌在珠宝饰件中,珠宝饰件被涂覆玫瑰金装饰层,按照已关于示例1所述的方式从该元件去除可移除层和装饰层。
示例5
第五示例与第四示例基本相同,不同之处在于浸泡步骤。
在此浸泡步骤中,为了从立方氧化锆石去除可移除层和玫瑰金装饰层,将珠宝饰件在浓度约为1g/L的弱拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液(大约500毫克的拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶于500毫升的水中)中浸泡约3个小时。
示例6
第六示例与第四示例基本相同,不同之处在于浸泡步骤。
在该浸泡步骤中,为了从立方氧化锆石去除可移除层和玫瑰金装饰层,将珠宝饰件在水中浸泡约20个小时。
示例7
在第七示例中,通过溅射将最大厚度约为100nm的氧化镁(MgO)可移除层涂覆到形式为宝石的元件上。然后将具有氧化镁(MgO)的可移除层的宝石镶嵌到不锈钢制成的主体中。
然后,通过溅射将类金刚石碳(DLC)装饰层涂覆到包括宝石和不锈钢主体的珠宝饰件上。这是通过首先在珠宝饰件上涂覆最大厚度约为400nm的碳化钛(TiC)装饰子层,然后涂覆最大厚度约为250nm的碳(C)装饰子层来实现的。
将珠宝饰件浸入20%硝酸(HNO3)溶液约3个小时,之后从宝石去除了氧化镁(MgO)的可移除层和类金刚石碳(DLC)装饰层。然后将宝石暴露于水流进行清洁。
示例8
第八示例与第七示例基本相同,不同之处在于通过溅射为元件涂覆包括镁(Mg)的底层和二氧化硅(SiO2)的覆盖层的可移除层。镁(Mg)层和二氧化硅(SiO2)层各自具有约100nm的最大厚度。
示例9
在本发明的第九示例中,按照以下步骤涂覆六个1.5mm宝石:
通过溅射为两个宝石涂覆镁(Mg)的可移除层(最大厚度约为100nm);
通过溅射为两个宝石涂覆可移除层,该可移除层包括镁(Mg)的底层(最大厚度为约100nm)和氧化镁(MgO)的覆盖层(最大厚度为约100nm);以及
通过溅射为两个宝石涂覆可移除层,该可移除层包括镁(Mg)的底层(最大厚度约为100nm)和二氧化硅(SiO2)的覆盖层(最大厚度约为100nm)。
然后将所有六个宝石镶嵌到包括十个空腔的铣削的不锈钢主体内。这是通过将每个宝石放置在空腔中并在宝石之上闭合与每个空腔相关的爪以将宝石固定到主体来实现的。
在将每个宝石3镶嵌到每个空腔6中之前,要注意保持珠宝饰件1的主体2清洁。这可以通过用乙醇给主体去油污并用去离子水冲洗来完成的。这使得在镶嵌阶段之后并且在用装饰层涂覆珠宝饰件之前,不需要对珠宝饰件进行化学清洁。
然后,利用FHR.Line.400.H溅射镀膜机,将氮化钛(TiN)装饰层通过溅射涂覆在珠宝饰件(包括宝石和主体)上。此过程包括氩气等离子体处理,随后在FHR.Line.400.H溅射镀膜机的真空室中,通过磁控溅射将800m氮化钛(TiN)沉积在珠宝饰件上。
通过将0.5g的柠檬酸溶于0.5L的水中以提供浓度约为1g/L的弱柠檬酸溶液来制备浸泡液。然后将珠宝饰件浸泡在浸泡液中。
浸泡后,可以从所有的宝石有效去除所有可移除层和装饰层。
示例10
在第十示例中,在将形式为1.5mm立方氧化锆(CZ)石的元件镶嵌到珠宝饰件的不锈钢主体中之前,元件被涂覆以蜡烛烟灰的形式的碳的可移除层。当主体的爪闭合时,要注意防止对蜡烛烟灰可移除层的任何损坏。
然后,通过FHR.Line.400.H溅射镀膜机中的反应磁控溅射,为包括立方氧化锆石和不锈钢主体的珠宝饰件涂覆氮化钛(TiN)装饰层。然后通过用肥皂和水清洗立方氧化锆石,从立方氧化锆石上去除蜡烛烟灰的可移除层和氮化钛(TiN)装饰层。
由蜡烛烟灰提供的碳层可能特别适用于敏感的珠宝材料和敏感的装饰层。
示例11
在第十一示例中,通过溅射为形式为1.5mm立方氧化锆(CZ)石的元件涂覆最大厚度为约150nm的铝(Al)的可移除层。然后将立方氧化锆石镶嵌到黄铜主体的空腔中。
然后使用已经关于示例9描述的方法,通过溅射用氮化钛(TiN)装饰层涂覆包括立方氧化锆石和主体的珠宝饰件。然后将珠宝饰件在50℃的0.05M NaOH溶液中浸泡大约2个小时。然后将立方氧化锆石暴露于水流进行清洁。这样,就可以从立方氧化锆(CZ)石完全去除铝(Al)的可移除层和氮化钛(TiN)装饰层。
示例12
第十二示例与第十一示例基本相同,不同之处在于,将具有铝(Al)的可移除层的1.5mm立方氧化锆(CZ)石镶嵌到青铜主体的空腔中。
示例13
在第十三示例中,用最大厚度约为25nm的镁的可移除层涂覆形式为宝石的元件。然后将先前的宝石镶嵌到主体中。然后,为包括宝石和主体的珠宝饰件涂覆氮化钛(TiN)装饰层。在将珠宝饰件浸泡在浓度约10g/L的强拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶液(500mg的拜尔AspirinTM(或水杨酸)溶于50ml温水中)的过程中,镁可移除层和装饰层从宝石上被完全去除。
示例14
第十四示例与第十二示例基本相同,不同之处在于,宝石上覆盖有镁的可移除层,其最大厚度为约200nm。
示例15
在第十五示例中,为形式为6mm立方氧化锆(CZ)石的元件溅射涂覆最大厚度为约100nm的镁(Mg)的可移除层。然后通过使相关的包边边缘变形以将立方氧化锆石固定到主体,来将立方氧化锆石镶嵌到珠宝饰件的主体的包边腔中。
然后,通过FHR.Line.400.H溅射镀膜机,为包括立方氧化锆(CZ)石和主体的珠宝饰件涂覆最大厚度约为1200nm的金属硅装饰层。
然后将珠宝饰件在水中浸泡24个小时。这样,镁(Mg)的可移除层和金属硅装饰层从立方氧化锆石被完全去除了。
示例16
在第十六示例中,如下所述,首先为形式为17.5×13mm的椭圆形玻璃水钻的元件涂覆聚乙烯醇(PVA)的可移除层。首先产生约3%的聚乙烯醇(PVA)溶液,然后将水钻元件加热到约100℃,并在约3%的聚乙烯醇(PVA)溶液中浸没几次,以涂覆该水钻元件。随之立即将经涂覆的水钻元件在约105℃的干燥炉中干燥。
然后将具有聚乙烯醇(PVA)的可移除层的水钻元件放置到黄铜主体的空腔中。然后,用钢的爪推进器将黄铜主体的爪闭合,以将水钻元件固定到主体。
然后在Evatec蒸发镀膜机中,为包括水钻元件和主体的珠宝饰件涂覆粉红色的二氧化硅(SiO2)-金(Au)-二氧化硅(SiO2)的装饰层,其最大厚度约为0.6μm。这是通过首先用第一二氧化硅(SiO2)装饰子层、其次用金(Au)装饰子层、再次用第二二氧化硅(SiO2)装饰子层涂覆珠宝饰件实现的。
然后将珠宝饰件在水中浸泡5分钟。浸泡后,聚乙烯醇(PVA)的可移除层和二氧化硅(SiO2)-金(Au)-二氧化硅(SiO2)装饰层被从水钻元件去除。
示例17和18
在下面的两个示例中,进行了掉落和刮擦测试,以测试可移除层的保护能力,例如在运输或存储分离的元件的过程中、在将元件镶嵌到珠宝饰件的主体的过程中或者在运输或存储完整的珠宝饰件的过程中的保护能力。
示例17
对一个2mm立方氧化锆(CZ)石进行了“掉落”测试,该立方氧化锆(CZ)石已被涂覆了镁(Mg)的可移除层,其最大厚度约为230nm。将立方氧化锆(CZ)石从1m的高度掉落到8mm的石英玻璃板上五次。此后,检查掉落的立方氧化锆(CZ)石是否有缺陷。掉落的立方氧化锆(CZ)石被放大六倍以用于质量检查。在该放大倍率下,镁涂层的可移除层显得未受掉落的损害,因此其下方的2mm立方氧化锆(CZ)石在掉落中已受到可移除镁层的保护。
示例18
还对另一个3mm立方氧化锆(CZ)石进行了“刮擦”测试,该立方氧化锆(CZ)石已被涂覆最大厚度约为380nm的镁(Mg)的可移除层。用钢针刮擦镁涂层的可移除层,以引入其中可移除层受到损害且元件的表面被暴露的小区域。
然后通过物理气相沉积(PVD)为具有经受刮擦的镁涂层的可移除层的立方氧化锆(CZ)石涂覆氧化铁(III)(Fe2O3)。尽管镁层防护了元件的大部分,但在其中元件表面被暴露的小区域中,Fe2O3装饰层直接沉积在元件上。
然后将立方氧化锆(CZ)石浸泡在5%硝酸(HNO3)溶液中3分钟。浸泡后,整个立方氧化锆(CZ)石上都没有了氧化铁(III)(Fe2O3)涂层,即包括其中仍然存在镁(Mg)的可移除层的区域和其中已经刮擦去除了镁(Mg)的可移除层以使Fe2O3直接涂覆元件的区域。
对比测试表明,如果以氧化铁(III)(Fe2O3)涂层为立方氧化锆(CZ)石直接进行涂覆而没有任何可移除层,然后将其浸泡在5%的硝酸(HNO3)溶液中,则在浸泡后,氧化铁(III)(Fe2O3)涂层没有被去除。
这表明可移除层不仅使得装饰性铁Fe2O3可以有效地从立方氧化锆石被去除,而且即使镁涂层的可移除层在小区域已被损坏,也可以进行这种去除。也就是说,可移除层不会由于在运输或镶嵌此类元件的期间可能发生的那种缺陷,而失去其所需的防护效果。
其他组合
如前所述,可能希望根据珠宝饰件的特定装饰层和/或特定主体材料选择合适的浸泡液,以确保该浸泡液不影响装饰层或主体的质量或外观。选择能用适当的浸泡液去除的可移除层也可能是合适的。
下表2至表7针对特定的主体材料和装饰层,列出了可移除层与浸泡液的适当组合。
表4
表5
表6
表7
表8
表9
Claims (15)
1.一种制造制品的方法,所述制品包括具有装饰层的主体和镶嵌在所述主体中的元件,所述方法包括:
提供至少部分涂覆有可移除层的元件,
将所述元件镶嵌到所述主体中,
用所述装饰层涂覆所述元件和所述主体,以及
从所述元件去除所述可移除层和所述装饰层。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述主体包括元件接收区域和能够在所述元件接收区域的上方闭合的突出部,并且,将所述元件镶嵌到所述主体中的步骤包括:将所述元件放置在所述元件接收区域中,并在所述元件的上方闭合所述突出部。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法,其特征在于,所述可移除层包括选自以下的组的层:金属层(特别是镁(Mg)层或铝(Al)层)、氧化物层(特别是氧化镁(MgO)层或二氧化硅(SiO2)层)、聚乙烯醇(PVA)层或碳层。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述可移除层包括至少两层。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述可移除层的每一层选自以下的组:镁(Mg)层、氧化镁(MgO)层和二氧化硅(SiO2)层。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,提供至少部分地涂覆有可移除层的元件的步骤包括:用可移除层至少部分地涂覆元件。
7.根据从属于权利要求4或权利要求5的权利要求6所述的方法,其特征在于,用所述可移除层至少部分地涂覆所述元件的步骤包括:
用金属(A)层涂覆所述元件,以及
用氧化物层涂覆所述元件。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述氧化物是金属氧化物(AXOY)或二氧化硅(SiO2)。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述可移除层的最大厚度在5nm至7μm之间。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述装饰层选自以下的组:玫瑰金装饰层、类金刚石碳(DLC)装饰层、氮化钛(TiN)装饰层、金属硅装饰层、二氧化硅(SiO2)-金(Au)-二氧化硅(SiO2)装饰层、碳化钛(TiC)装饰层、氮化锆装饰层、铬(Cr)装饰层、金(Au)装饰层、金-铜(Au-Cu)合金装饰层、银(Ag)装饰层、铜(Cu)装饰层、氧化铁(III)Fe2O3装饰层或二氧化硅(SiO2)装饰层。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,从所述元件去除所述可移除层和所述装饰层的步骤包括:将所述元件浸泡在浸泡液中。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述浸泡液是水、酸或碱,并且优选地选自以下的组:水、柠檬酸溶液、硝酸(HNO3)溶液、氢氧化钠(NaOH)溶液或拜耳AspirinTM(或水杨酸)溶液。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括,在从所述元件去除所述可移除层和所述装饰层的步骤之后,清洁所述元件的步骤。
14.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述元件是珠宝元件,并且优选地选自以下的组:立方氧化锆(CZ)、玻璃、水钻以及半宝石或宝石。
15.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述制品是珠宝饰件。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18173372.6A EP3569091A1 (en) | 2018-05-18 | 2018-05-18 | Method of making a decorative article, such as a jewellery piece |
EP18173372.6 | 2018-05-18 | ||
PCT/EP2019/062874 WO2019219944A1 (en) | 2018-05-18 | 2019-05-17 | Method of making a decorative article, such as a jewellery piece |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112135544A true CN112135544A (zh) | 2020-12-25 |
Family
ID=62217892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201980033581.XA Pending CN112135544A (zh) | 2018-05-18 | 2019-05-17 | 制造诸如珠宝饰件的装饰制品的方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11821069B2 (zh) |
EP (2) | EP3569091A1 (zh) |
CN (1) | CN112135544A (zh) |
TW (1) | TW202002842A (zh) |
WO (1) | WO2019219944A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114304829B (zh) * | 2021-12-29 | 2024-02-27 | 广东益弘宝水晶饰品有限公司 | 一种烫钻附胶方法及其方法制得的烫钻 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8926310D0 (en) * | 1988-11-22 | 1990-01-10 | Citizen Watch Co Ltd | Method for the preparation of a two-tone coloured metal-made personal ornament |
US20020176988A1 (en) * | 1999-07-02 | 2002-11-28 | Medwick Paul A. | Light-transmitting and/or coated article with removable protective coating and methods of making the same |
US20030226424A1 (en) * | 2002-06-10 | 2003-12-11 | Fujitsu Limited | Method of removing coating from coated magnesium alloy product, method of making recycled magnesium alloy and method of recycling coating |
CN101610895A (zh) * | 2006-11-23 | 2009-12-23 | 荷兰应用自然科学研究组织 | 生产部分涂覆制品的方法和设备 |
CN102337568A (zh) * | 2010-07-20 | 2012-02-01 | 李容焕 | 镶嵌有装饰物的金属部件的真空镀金方法 |
WO2017005285A1 (de) * | 2015-07-05 | 2017-01-12 | D. Swarovski Kg | Schmucksteinfassung mit antik-gold-beschichtung |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1505450A (fr) * | 1966-10-04 | 1967-12-15 | Procédé pour le sertissage en série de pierres précieuses, dispositif pour la mise en oeuvre de ce procédé et produits résultants | |
US4737252A (en) * | 1981-05-18 | 1988-04-12 | Westinghouse Electric Corp. | Method of coating a metallic article of merchandise with a protective transparent film of abrasion-resistance material |
JPH05156425A (ja) * | 1991-12-03 | 1993-06-22 | Seiko Epson Corp | 装飾部材およびその製造方法 |
US20070223315A1 (en) | 2006-03-22 | 2007-09-27 | Jaques Andre | Article wrapped in a protective film |
US20080066310A1 (en) * | 2006-09-05 | 2008-03-20 | Siu Chung Pang | Setting stones in the surface of electroformed piece |
WO2010081557A1 (de) * | 2009-01-16 | 2010-07-22 | Montblanc-Simplo Gmbh | Herstellverfahren zum einschliessen mindestens eines dreidimensionalen gegenstands in einen körper sowie ein damit hergestellter körper |
US9402450B2 (en) | 2012-05-02 | 2016-08-02 | Grand Rainbow International Limited | Invisible setting and methods and tools for effecting same |
GB2501763A (en) * | 2012-05-04 | 2013-11-06 | Bjb Ltd | Ceramic and metal jewellery |
CH707581B1 (fr) * | 2013-02-08 | 2020-01-15 | Les Ateliers Horlogers Dior Sa | Pièce pour l'horlogerie et procédé de fabrication d'une telle pièce. |
EP3479720B1 (fr) * | 2017-11-07 | 2020-03-25 | The Swatch Group Research and Development Ltd | Procede de sertissage d'une pierre |
-
2018
- 2018-05-18 EP EP18173372.6A patent/EP3569091A1/en not_active Withdrawn
-
2019
- 2019-05-14 TW TW108116553A patent/TW202002842A/zh unknown
- 2019-05-17 US US17/056,241 patent/US11821069B2/en active Active
- 2019-05-17 EP EP19728894.7A patent/EP3793395B1/en active Active
- 2019-05-17 CN CN201980033581.XA patent/CN112135544A/zh active Pending
- 2019-05-17 WO PCT/EP2019/062874 patent/WO2019219944A1/en active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8926310D0 (en) * | 1988-11-22 | 1990-01-10 | Citizen Watch Co Ltd | Method for the preparation of a two-tone coloured metal-made personal ornament |
US20020176988A1 (en) * | 1999-07-02 | 2002-11-28 | Medwick Paul A. | Light-transmitting and/or coated article with removable protective coating and methods of making the same |
US20030226424A1 (en) * | 2002-06-10 | 2003-12-11 | Fujitsu Limited | Method of removing coating from coated magnesium alloy product, method of making recycled magnesium alloy and method of recycling coating |
CN101610895A (zh) * | 2006-11-23 | 2009-12-23 | 荷兰应用自然科学研究组织 | 生产部分涂覆制品的方法和设备 |
CN102337568A (zh) * | 2010-07-20 | 2012-02-01 | 李容焕 | 镶嵌有装饰物的金属部件的真空镀金方法 |
WO2017005285A1 (de) * | 2015-07-05 | 2017-01-12 | D. Swarovski Kg | Schmucksteinfassung mit antik-gold-beschichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11821069B2 (en) | 2023-11-21 |
EP3793395B1 (en) | 2023-07-05 |
US20210219679A1 (en) | 2021-07-22 |
EP3569091A1 (en) | 2019-11-20 |
EP3793395A1 (en) | 2021-03-24 |
TW202002842A (zh) | 2020-01-16 |
WO2019219944A1 (en) | 2019-11-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |