CN112133622A - 上部电极气孔修复工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及上部电极技术领域,提供了一种上部电极气孔修复工艺,包括以下步骤:a)将第一基板贴合在上部电极的表面上,并使得第一基板上的多个通孔与上部电极上的多个喷气孔一一对应,每个通孔的孔径都大于对应的喷气孔的孔径;b)第一基板与上部电极的表面通过耐热双面胶粘接;c)移动等离子溶射设备,使其喷涂口与第一基板上的某一个通孔对齐;d)开启等离子溶射设备,将涂料喷洒在与该通孔对应的喷气孔的内壁及周围的上部电极表面上,完成该喷气孔的溶射作业,形成新的涂层保护膜;e)继续移动等离子溶射设备,对其它喷气孔进行溶射作业。本发明提供的一种上部电极气孔修复工艺,能够修复损坏的喷气孔。

Description

上部电极气孔修复工艺
技术领域
本发明涉及上部电极技术领域,具体涉及一种上部电极气孔修复工艺。
背景技术
上部电极主要用于玻璃面板生产工序中,使玻璃面板表面形成小回路时的干刻工程的部件。其上沿其厚度方向具有上千个喷气孔,在干刻过程中,会与等离子电极相结合,使等离子气体在机舱内喷射均匀,是决定LCD干刻工程生产效率的消耗性核心部件。
为了起到保护作用,上部电极对喷气孔及表面进行了氧化绝缘处理,使其表面形成一层阳极氧化层,以对上部电极起到保护作用。但是在通电使用较长一段时间后,阳极氧化层容易发生裂痕并脱落,进而导致电弧击穿现象的发生,电弧击穿现象大多发生在喷气孔周围,这样就会导致喷气孔损坏,使得等离子气体在机舱内无法喷射均匀。
发明内容
针对现有技术中的缺陷,本发明的目的是提供一种上部电极气孔修复工艺,使其能够修复损坏的喷气孔。
为了实现上述目的,本发明通过如下的技术方案来实现:一种上部电极气孔修复工艺,其特征在于:包括以下步骤:
a)将第一基板贴合在上部电极的表面上,并使得第一基板上的多个通孔与所述上部电极上的多个喷气孔一一对应,每个所述通孔的孔径都大于对应的所述喷气孔的孔径;
b)所述第一基板与所述上部电极的表面通过耐热双面胶粘接;
c)移动等离子溶射设备,使其喷涂口与第一基板上的某一个通孔对齐;
d)开启等离子溶射设备,将涂料喷洒在与该通孔对应的喷气孔的内壁及周围的上部电极表面上,完成对该喷气孔的溶射作业,形成新的涂层保护膜;
e)继续移动等离子溶射设备,对其它喷气孔进行溶射作业。
进一步地,所述步骤d)中的溶射作业进行前,先将所述第一基板和所述上部电极竖直放置。
进一步地,所述步骤d)中的涂料为三氧化二钇。
进一步地,所述第一基板由不锈钢材料制成。
进一步地,所述通孔的孔径为对应的所述喷气孔的孔径的二倍。
本发明的有益效果:本发明提供的一种上部电极气孔修复工艺,将三氧化二钇通过等离子溶射设备融化后吹附在喷气孔的内壁和周围表面上,形成皮膜,不仅能修复损坏的喷气孔,而且还能提高喷气孔的内壁和周围表面的耐磨性、耐热性和耐腐蚀性。
附图说明
图1为上部电极气孔修复装置的结构示意图;
图2为图1中A部的放大结构示意图;
图3为图1的俯视结构示意图;
图4为锁定块的结构示意图;
图5为上部电极气孔修复工艺的流程示意图。
附图标记:10-锁定机构、11-第一立柱、111-插销、12-锁定组件、13-锁定块、131-插销孔、132-容纳槽、14-底板、15-螺钉、16-插销孔、20-喷涂机构、21-第一基板、211-通孔、22-第二立柱、23-第一气缸、24-第一导向杆、25-滑座、26-第一丝杆、27-第一电机、28-第一侧板、29-第一脚轮、30-堵塞机构、31-第二基板、311-堵塞柱、32-第三立柱、33-第二气缸、34-第二侧板、35-第二脚轮、40-喷涂组件、41-第二导向杆、42-滑块、43-第二丝杆、44-第二电机、45-等离子溶射设备、50-上部电极、51-喷气孔。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“纵”、“横”、“水平”、“顶”、“底”、“上”、“下”、“内”和“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个以上,除非另有明确具体的限定。
如图1-4所示,本发明提供一种上部电极气孔修复装置,包括锁定机构10、喷涂机构20和堵塞机构30。
锁定机构10包括两个第一立柱11和两个锁定组件12。两个第一立柱11均固定安装在地面上,两个第一立柱11的上端均设置有插销111。两个锁定组件12分别设置在两个第一立柱11上、且均于两个立柱之间,两个锁定组件12分别用于对上部电极50的两侧进行位支撑和锁定。锁定组件12包括锁定块13、底板14和螺钉15。锁定块13与对应的第一立柱11转动连接,锁定块13的上下两端均开有与对应的第一立柱11上的插销111相适应的插销孔16,锁定块13的远离第一立柱11的表面上开有与上部电极50的侧面相适应的容纳槽131。底板14固定安装在锁定块13的第一端、用于限制容纳槽131内的上部电极50从锁定块13的第一端脱离。螺钉15安装在锁定块13的第二端、用于限制容纳槽131内的上部电极50从锁定块13的第二端脱离。
喷涂机构20设置在锁定机构10的第一侧。喷涂机构20包括第一基板21、第二立柱22、第一气缸23、第一导向杆24、滑座25、第一丝杆26、第一电机27和喷涂组件40。第二导向杆41、第二丝杆43和等离子溶射设备45。第一基板21沿纵向设置,第一基板21上开有多个通孔211,多个通孔211与上部电极50上的多个喷气孔51一一对应,第一基板21的两侧均安装有第一侧板28,第一侧板28与第一基板21垂直,每个第一侧板28的底部均安装有第一脚轮29。第二立柱22固定安装在地面上,第一气缸23沿横向设置,第一气缸23的第一端与第二立柱22连接,第一气缸23的第二端与第一侧板28连接,第一气缸23伸缩时能够控制第一基板21靠近或远离上部电极50。
第一导向杆24沿横向设置、且两端分别与两个第一侧板28固定连接。滑座25设置在第一导向杆24上、且与第一导向杆24滑动连接。第一丝杆26的第一端与一个第一侧板28转动连接,第一丝杆26的第二端沿横向穿过滑座25后与另一个第一侧板28转动连接,第一丝杆26与滑座25螺纹连接。第一电机27安装在其中一个第一侧板28上、用于驱动第一丝杆26转动。
喷涂组件40包括第二导向杆41、滑块42、第二丝杆43、第二电机44和等离子溶射设备45。第二导向杆41沿纵向设置在滑座25上、且两端均与滑座25固定连接。滑块42设置在第二导向杆41上、且与第二导向杆41滑动连接。第二丝杆43的第一端与滑座25的顶部转动连接,第一丝杆26的第二端沿横向穿过滑块42后与滑座25的底部转动连接,第一丝杆26与滑块42螺纹连接。第二电机44安装在滑座25的顶部、用于驱动第二丝杆43转动。等离子溶射设备45安装在滑座25上、其喷涂口靠近第一基板21。
喷涂机构20工作时,第一电机27驱动第一丝杆26转动时,能够使得滑座25作横向运动。第二电机44驱动第二丝杆43转动时,能够使得滑块42上的等离子溶射设备45在滑座25上作纵向运动。因此工作人员只需要控制第一电机27和第二电机44的转动,就能够使得等离子溶射设备45在竖直平面的任意位置进行溶射作业。
堵塞机构30设置在锁定机构10的第二侧。堵塞机构30包括第二基板31、第三立柱3232和第二气缸3333。第二基板31沿纵向设置,第二基板31上固定设置有多个堵塞柱311,多个堵塞柱311与多个喷气孔51一一对应,每个堵塞柱311的均与对应的喷气孔51相适应。第一基板21的两侧均安装有第二侧板34,第二侧板34与第二基板31垂直,每个第二侧板34的底部均安装有第二脚轮35。第三立柱32固定安装在地面上,第二气缸33沿横向设置,第二气缸33的第一端与第三立柱32连接,第二气缸33的第二端与第二侧板34连接,第二气缸33伸缩时能够控制第二基板31靠近或远离上部电极50。
具体地工作过程为:工作人员先将两个锁定块13上的螺钉15拧开后,把上部电极50放入两个锁定块13的容纳槽131内,此时底板14会对上部电极50进行支撑,然后旋入螺钉15。
然后控制第二气缸33伸长,使得第二基板31上的堵塞柱311堵住上部电极50上对应的喷气孔51。再控制第一气缸23伸长,使得第一基板21与上部电极50紧密贴合,第一基板21上的通孔211与对应的喷气孔51一一对应。再控制第一电机27和第二电机44的转动,使得等离子溶射设备45对每个通孔211内的喷气孔51的内壁及周围的上部电极50表面进行第一次溶射作业,形成皮膜,不仅能修复损坏的喷气孔51,而且还能提高喷气孔51的内壁和周围表面的耐磨性、耐热性和耐腐蚀性。
接着第二气缸33收缩,使得堵塞柱311离开对应的喷气孔51,等离子溶射设备45对每个通孔211内的喷气孔51的内壁及周围的上部电极50表面进行第二次溶射作业。第二次溶射作业的时间较短,目的是给喷气孔51的内壁形成皮膜。第二次溶射作业后将锁定机构10、喷涂机构20和堵塞机构30复位。
最后拔出第一立柱11上的插销111,将第一基板21翻转180°后,再将插销11插入插销孔16,重复上述步骤,对上部电极50的另一表面进行处理。
值得说明的是,当喷气孔51附近发生电弧击穿时,喷气孔51上会存在受损区域,受损区域的阳极氧化层脱落进而导致喷气孔51的内壁和周围表面出现较多缺口,缺口集中在孔口附近。因此当堵塞柱311将喷气孔51堵住后,等离子溶射设备45的溶射作业就会将这些受损区域填补上。由于堵塞柱311与标准喷气孔51的规格相同,因此第一次溶射作业后的喷气孔51的规格就会复原到标准喷气孔51的规格。而第二次溶射作业的时间较短,因此喷气孔51的内壁形成的皮膜不会对喷气孔51的规格产生过多影响。
如图5所示,一种上部电极50气孔修复工艺,可应用于上述装置,包括以下步骤:
a)将第二基板31上的堵塞柱311堵住上部电极50上对应的喷气孔51。再将第一基板21贴合在上部电极50的表面上,并使得第一基板21上的多个通孔211与上部电极50上的多个喷气孔51一一对应,每个通孔211的孔径都大于对应的喷气孔51的孔径。
b)第一基板21与上部电极50的表面通过耐热双面胶粘接在一起;
c)通过第一电机27和第二电机44控制等离子溶射设备45移动,使其喷涂口与第一基板21上的某一个通孔211对齐;
d)开启等离子溶射设备45,将涂料喷洒在与该通孔211对应的喷气孔51的内壁及周围的上部电极50表面上,完成对该喷气孔51的第一次溶射作业,形成新的涂层保护膜;
e)继续移动等离子溶射设备45,对其它喷气孔51进行第一次溶射作业。
f)将第二基板31上的堵塞柱311拔出对应的喷气孔51,再对所有的喷气孔51进行第二次溶射作业,第二次溶射作业的时间较短。
g)通过上述步骤对上部电极的另一面进行处理。
在一个实施例中,步骤d)中的第一次溶射作业进行前,先将第一基板21和上部电极50竖直放置。便于操作。
在一个实施例中,步骤d)中的涂料为三氧化二钇。三氧化二钇形成的皮膜,能提高喷气孔51的内壁和周围表面的耐磨性、耐热性和耐腐蚀性。
在一个实施例中,第一基板21和第二基板31均由不锈钢材料制成。不锈钢材料不仅具有耐高温的特点,能够忍受溶射作业的高温。还具有良好的耐化学腐蚀和电化学腐蚀性能,避免受到高温熔射材料和熔射气氛的腐蚀。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点,对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (5)

1.一种上部电极气孔修复工艺,其特征在于:包括以下步骤:
a)将第一基板贴合在上部电极的表面上,并使得第一基板上的多个通孔与所述上部电极上的多个喷气孔一一对应,每个所述通孔的孔径都大于对应的所述喷气孔的孔径;
b)所述第一基板与所述上部电极的表面通过耐热双面胶粘接;
c)移动等离子溶射设备,使其喷涂口与第一基板上的某一个通孔对齐;
d)开启等离子溶射设备,将涂料喷洒在与该通孔对应的喷气孔的内壁及周围的上部电极表面上,完成该喷气孔的溶射作业,形成新的涂层保护膜;
e)继续移动等离子溶射设备,对其它喷气孔进行溶射作业。
2.根据权利要求1所述的上部电极气孔修复工艺,其特征在于:所述步骤d)中的溶射作业进行前,先将所述第一基板和所述上部电极竖直放置。
3.根据权利要求1所述的上部电极气孔修复工艺,其特征在于:所述步骤d)中的涂料为三氧化二钇。
4.根据权利要求1所述的上部电极气孔修复工艺,其特征在于:所述第一基板由不锈钢材料制成。
5.根据权利要求1所述的上部电极气孔修复工艺,其特征在于:所述通孔的孔径为对应的所述喷气孔的孔径的二倍。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005175508A (ja) * 2000-01-20 2005-06-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体製造装置用ガスシャワー体
CN203280198U (zh) * 2013-05-27 2013-11-13 沈泽鹏 一种多功能钢化玻璃茶盘
CN106856185A (zh) * 2016-12-29 2017-06-16 深圳仕上电子科技有限公司 一种氧化钇陶瓷等离子溶射设备及溶射方法
CN207159098U (zh) * 2017-08-10 2018-03-30 重庆臻宝实业有限公司 上部电极熔射辅助装置
CN207159097U (zh) * 2017-08-10 2018-03-30 重庆臻宝实业有限公司 上部电极熔射台车
CN108977864A (zh) * 2018-07-27 2018-12-11 芜湖通潮精密机械股份有限公司 一种提高刻蚀机台上电极使用寿命的工艺方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005175508A (ja) * 2000-01-20 2005-06-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体製造装置用ガスシャワー体
CN203280198U (zh) * 2013-05-27 2013-11-13 沈泽鹏 一种多功能钢化玻璃茶盘
CN106856185A (zh) * 2016-12-29 2017-06-16 深圳仕上电子科技有限公司 一种氧化钇陶瓷等离子溶射设备及溶射方法
CN207159098U (zh) * 2017-08-10 2018-03-30 重庆臻宝实业有限公司 上部电极熔射辅助装置
CN207159097U (zh) * 2017-08-10 2018-03-30 重庆臻宝实业有限公司 上部电极熔射台车
CN108977864A (zh) * 2018-07-27 2018-12-11 芜湖通潮精密机械股份有限公司 一种提高刻蚀机台上电极使用寿命的工艺方法

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