CN112011761A - 蒸发源装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种蒸发源装置、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法，可以通过简单的控制进行控制，以便在针对容器的开口部附近防止过度的温度上升并保持为高温的状态下将蒸镀速率保持恒定。容器(244)具有：放出被加热后的蒸镀材料(242)的开口部(244e)、第一区域(244a)、以及相比第一区域从开口部离开的区域即第二区域(244b)，蒸发源装置具有：对第一区域进行加热的第一加热器、对第二区域进行加热的第二加热器、分别独立地控制第一加热器和第二加热器的控制部、以及配置在第一加热器和第二加热器之间并至少对来自第一加热器的热的至少一部分进行反射的中间反射部件，随着收容于容器的蒸镀材料的减少而提高向第二加热器输入的电力。

Description

蒸发源装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法

技术领域

本发明涉及蒸发源装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。

背景技术

近年来，作为显示器的一种，具备使用了有机材料的电场发光的有机EL元件的有机EL装置备受关注。在该有机EL显示器等有机电子器件制造中，具有如下工序：使用蒸发源装置在基板上蒸镀有机材料、金属电极材料等蒸镀材料来进行成膜。

在蒸镀工序中使用的蒸发源装置具有：作为收容蒸镀材料的容器的功能；以及用于使蒸镀材料的温度上升而使其蒸发，并使其附着在基板的表面的加热功能。作为以往的蒸发源装置，例如，如专利文献1所记载的那样，具有对容器的上部进行加热的上部加热器(第一加热器)和对坩埚的下部进行加热的下部加热器(第二加热器)并对两个加热器独立地进行加热控制的蒸发源装置是已知的。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2019-31705号公报

发明要解决的课题

在使用专利文献1那样的具有两个加热器的蒸发源装置进行蒸镀的情况下，为了抑制蒸镀材料向容器的开口部的附着，优选将容器开口部附近保持为高温。但是，若欲以将容器的开口部附近保持为高温并将蒸镀速率保持恒定的方式进行加热器的加热控制，则有可能受到来自下部加热器的辐射热的影响而使得容器坩埚的开口部附近的温度过度上升从而使材料劣化。因此，需要考虑来自下部加热器的辐射热来对上部加热器进行加热控制，会产生各加热器的加热控制变得复杂这种课题。

发明内容

本发明是为了解决上述课题而作出的，其目的在于提供一种蒸发源装置、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法，可以通过简单的控制进行控制，以便在针对容器的开口部附近抑制过度的温度上升并保持为高温的状态下将蒸发速率保持恒定。

用于解决课题的方案

为了实现上述目的，本发明的第一蒸发源装置对收容有蒸镀材料的容器进行加热，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

所述蒸发源装置具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；

控制部，所述控制部分别独立地控制所述第一加热器和所述第二加热器；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述控制部随着收容于所述容器的蒸镀材料的减少而提高向所述第二加热器输入的电力。

另外，本发明的第二蒸发源装置对收容有蒸镀材料的容器进行加热，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的所述蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

所述蒸发源装置具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；

控制部，所述控制部分别独立地控制所述第一加热器和所述第二加热器；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，所述控制部进行第一加热控制和第二加热控制，

在所述第一加热控制中，向所述第一加热器输入第一电力，并且，向所述第二加热器输入第二电力，

在进行所述第一加热控制之后，在所述第二加热控制中，向所述第一加热器输入所述第一电力，并且，向所述第二加热器输入比所述第二电力大的第三电力。

另外，本发明的第一成膜装置的特征在于，具备蒸发源装置和真空腔，在所述真空腔内配置有所述蒸发源装置并进行蒸镀材料的蒸镀，所述蒸发源装置对收容有所述蒸镀材料的容器进行加热，

所述容器具有：放出被加热后的蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

所述蒸发源装置具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；

控制部，所述控制部分别独立地控制所述第一加热器和所述第二加热器；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述控制部随着收容于所述容器的蒸镀材料的减少而提高向所述第二加热器输入的电力。

另外，本发明的第二成膜装置的特征在于，具备蒸发源装置和真空腔，在所述真空腔内配置有所述蒸发源装置并进行蒸镀材料的蒸镀，所述蒸发源装置对收容有所述蒸镀材料的容器进行加热，

所述容器具有：放出被加热后的所述蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

所述蒸发源装置具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；

控制部，所述控制部分别独立地控制所述第一加热器和所述第二加热器；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，所述控制部进行第一加热控制和第二加热控制，

在所述第一加热控制中，向所述第一加热器输入第一电力，并且，向所述第二加热器输入第二电力，

在进行所述第一加热控制之后，在所述第二加热控制中，向所述第一加热器输入所述第一电力，并且，向所述第二加热器输入比所述第二电力大的第三电力。

另外，本发明的第一成膜方法对收容有蒸镀材料的容器进行加热而对被蒸镀体进行所述蒸镀材料的蒸镀，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的所述蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述成膜方法根据进行蒸发的所述蒸镀材料的减少，提高向所述第二加热器输入的电力。

另外，本发明的第二成膜方法对收容有蒸镀材料的容器进行加热而对被蒸镀体进行所述蒸镀材料的蒸镀，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的所述蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述成膜方法进行第一加热控制和第二加热控制，

在所述第一加热控制中，向所述第一加热器输入第一电力，并且，向所述第二加热器输入第二电力，

在进行所述第一加热控制之后，在所述第二加热控制中，向所述第一加热器输入所述第一电力，并且，向所述第二加热器输入比所述第二电力大的第三电力。

另外，本发明的第一电子器件的制造方法对收容有蒸镀材料的容器进行加热而对电子器件的被蒸镀体进行所述蒸镀材料的蒸镀，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的所述蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述电子器件的制造方法根据进行蒸发的所述蒸镀材料的减少，提高向所述第二加热器输入的电力。

另外，本发明的第二电子器件的制造方法对收容有蒸镀材料的容器进行加热而对电子器件的被蒸镀体进行所述蒸镀材料的蒸镀，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的所述蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述电子器件的制造方法进行第一加热控制和第二加热控制，

在所述第一加热控制中，向所述第一加热器输入第一电力，并且，向所述第二加热器输入第二电力，

在进行所述第一加热控制之后，在所述第二加热控制中，向所述第一加热器输入所述第一电力，并且，向所述第二加热器输入比所述第二电力大的第三电力。

发明效果

根据本发明，可以通过简单的控制进行控制，以便在针对容器的开口部附近抑制过度的温度上升并保持为高温的状态下将蒸发速率保持恒定。

附图说明

图1是表示实施方式1的成膜装置的结构的一部分的剖视图。

图2是表示实施方式1的蒸发源装置的结构的图。

图3是图2的蒸发源装置的分解图。

图4(A)、(B)是表示上部加热器和下部加热器的控制模式例的图。

图5(A)、(B)是表示实施方式1和比较例的容器的温度分布的图。

图6(A)是表示实施方式1的中间反射器的辐射热的反射路径的图，(B)～(D)是表示中间反射器的反射面的其他结构例的图。

图7(A)是表示有机EL显示装置的结构例的图，(B)是(A)的A-B线剖视图。

附图标记说明

240 蒸发源装置

241 中间反射器(中间反射部件)

242 蒸镀材料

244 容器

244a 上部区域(第一区域)

244b 下部区域(第二区域)

244e 开口部

246 加热器

246a 上部加热器(第一加热器)

246b 下部加热器(第二加热器)

270 控制部

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的优选实施方式进行说明。但是，以下的实施方式仅仅例示性地表示本发明的优选结构，并不将本发明的范围限定于这些结构。另外，以下说明中的、装置的硬件结构以及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等，只要没有特别特定性的记载，其主旨并非将本发明的范围仅限定于此。

本发明涉及蒸发源装置，尤其是，适合用于通过蒸镀在被蒸镀体上形成薄膜的成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。本发明还可以作为使计算机执行控制方法的程序、存储该程序的存储介质被掌握。存储介质可以是能够利用计算机读取的非暂时性的存储介质。本发明例如可以优选应用于在作为被蒸镀体的基板的表面通过真空蒸镀而形成所希望的图案的薄膜(材料层)的装置。作为基板的材料，可以选择玻璃、树脂、金属等任意材料。需要说明的是，蒸发源装置的被蒸镀体并不限于平板状的基板。例如，也可以将具有凹凸、开口的机械部件作为被蒸镀体。另外，作为蒸镀材料，可以选择有机材料、无机材料(金属、金属氧化物等)等任意材料。另外，不仅可以形成有机膜，也可以形成金属膜。本发明的技术具体而言可以应用于电子器件、光学部件等的制造装置，尤其是，适用于有机电子器件(例如，有机EL显示装置、薄膜太阳能电池、有机CMOS图像传感器)的制造。

<实施方式1>

<蒸发源装置的概略结构>

图1是示意性地表示成膜装置的结构的剖视图。成膜装置具有真空腔200。真空腔200的内部被维持为真空环境或氮气等非活性气体环境。需要说明的是，在此所说的真空是指充满比通常的大气压(典型的是1023hPa)低的压力的气体的状态。在真空腔200的内部，大致设置有由基板保持单元(未图示)保持的作为被蒸镀体的基板10、掩模220以及蒸发源装置240。基板保持单元通过用于载置基板10的承接爪等支承件、用于按压保持基板的夹持件等按压件来保持基板。

基板10在通过输送机械手(未图示)输送到真空腔200内之后，被基板保持单元保持，在成膜时以与水平面(XY平面)平行的方式被固定。需要说明的是，在此所说的“平行”并非仅意味着数学上严格的平行，也包括水平面与基板10所成的角度小的情况、例如0°以上5°以下的情况。掩模220是具有与要在基板10上形成的规定图案的薄膜图案对应的开口图案的掩模，例如是金属掩模。在成膜时，在掩模220上载置基板10。需要说明的是，在本实施方式中，在成膜时基板10与水平面平行地被固定，但并不限于此。基板10既可以在成膜时与水平面交叉地被固定，也可以与水平面垂直地被固定。另外，在本实施方式中，采用了在基板10的成膜面朝向重力方向下方的状态下进行成膜的向上沉积的结构，但并不限定于此，也可以是在基板10的成膜面朝向重力方向上方的状态下进行成膜的向下沉积的结构。或者，也可以是在基板10垂直立起的状态、即基板10的成膜面与重力方向平行的状态下进行成膜的结构。

在真空腔200内，还可以具备抑制基板10的温度上升的冷却板(未图示)。另外，也可以在真空腔200上具备用于进行基板10的对准的机构、例如使基板10以及掩模220中的一方相对于另一方在X方向或Y方向上相对移动的促动器、用于保持基板的夹持机构用促动器等驱动构件、拍摄基板10的照相机(均未图示)。

蒸发源装置240大致具备：能够在内部收容蒸镀材料242的容器244、用于进行容器244的加热的加热器246、以及作为用于提高加热器246的加热效率的保温材料的反射器248。在图1中，加热器246具有：作为对容器的开口部244e侧的区域(第一区域)进行加热的第一加热器的上部加热器246a、以及作为对从容器244的开口部244e离开的一侧的区域(第二区域)进行加热的第二加热器的下部加热器246b。上部加热器246a和下部加热器246b由控制部270分别独立地控制。在上部加热器246a与下部加热器246b之间，配置有作为中间反射部件的中间反射器241。

反射器248具备：与上部加热器246a对应的上部反射器(第一反射部件)248a、与下部加热器246b对应的下部反射器248b(第二反射部件)、以及设置在容器的底部侧的底部反射器248c。

另外，具备：作为检测蒸发速率的速率检测构件的膜厚检测器271、作为检测上部加热器246a的温度的温度检测构件的温度传感器272。作为膜厚检测器271，可以使用石英晶体检测器等，另外，作为温度传感器272，可以使用热电偶等。热电偶配置在隔着中间反射器241与下部加热器246b相向的位置，检测上部加热器246a附近的温度。另外，为了均匀地进行成膜，也可以具备使蒸发源装置240移动的蒸发源驱动机构250。此外，也可以具备能够收纳蒸发源装置240的结构要素整体的框体、挡板等(均未图示)。需要说明的是，也可以另行设置对下部加热器246b的温度进行检测的温度检测构件。

关于上述各结构要素，在后面详细论述。需要说明的是，图1中的蒸发源装置240的各结构要素的形状、位置关系、尺寸比只不过是例示。需要说明的是，关于后述的控制部270，在本说明书中作为蒸发源装置240的一部分被掌握，但也可以作为与蒸发源装置240不同的装置被掌握。

作为容器244的材质，例如陶瓷、金属、碳材料等是已知的，但并不限于此，使用在与蒸镀材料242的物理性质、加热器246的加热温度之间的关系方面优选的材质。

作为加热器246，例如护套式加热器、金属导线等电阻加热式的加热器是已知的，但并不限于此，只要具有使蒸镀材料242蒸发的加热性能即可。如后所述，只要能够一边对容器244的多个部位分别进行温度控制一边进行加热，则种类没有限制。另外，关于加热器246的形状，除了图1那样的线状之外，也可以采用板状、网格状等任意形状。反射器248是提高热效率的保温材料(隔热材料)，例如可以利用金属等，但并不限于此。

控制部270进行上部加热器246a和下部加热器246b的控制、例如加热的开始、结束的时机控制、温度控制，但也进行蒸发源装置240的其他控制，例如在设置挡板的情况下进行该挡板的开闭时机控制，在设置蒸发源驱动机构的情况下进行该蒸发源驱动机构的驱动控制(蒸发源的移动控制)等。需要说明的是，也可以将多个控制构件组合而构成控制部270。多个控制构件例如是加热控制构件、挡板控制构件、蒸发源驱动控制构件等。关于加热控制，在后面设置其他项进行详细论述。另外，控制部270也可以兼作基板10的输送以及对准控制构件等蒸发源装置240以外的机构的控制构件。

控制部270的结构例如可以由具有处理器、内存、存储器、I/O、UI等的计算机构成。在该情况下，控制部270的功能通过由处理器执行存储在内存或存储器中的程序来实现。作为计算机，可以使用通用的计算机，也可以使用嵌入式的计算机或PLC(programmablelogic controller：可编程逻辑控制器)。或者，控制部270的功能的一部分或全部也可以由ASIC、FPGA那样的电路构成。需要说明的是，可以按每个成膜装置来设置控制部270，也可以由一个控制部270控制多个成膜装置。

接着，对成膜的基本顺序进行说明。当在容器244内部收容蒸镀材料242时，通过控制部270的控制，加热器246开始动作，蒸镀材料242被加热。在温度充分增高后，向真空腔200内送入掩模220以及基板10，进行基板10与掩模220的对准等。此后，当蒸发源装置240的挡板从关闭状态成为打开状态时，蒸发或升华的蒸镀材料242附着在基板10的表面，形成薄膜。通过在多个容器中预先收容不同种类的蒸镀材料，从而也可以进行共蒸镀。一边利用膜厚检测器271测定所形成的膜一边进行控制，从而在基板10上形成具有所希望的厚度的膜。为了以均匀的厚度进行成膜，例如，也可以一边使基板10旋转或利用蒸发源驱动机构250使蒸发源装置240移动一边进行蒸镀。另外，根据基板10的大小，也优选一并加热多个蒸发源。容器244的形状是任意的。另外，蒸发源的种类也可以是点状的蒸发源、线状的蒸发源、面状的蒸发源中的任一种。

如后所述，通过在成膜有某种蒸镀材料的基板上成膜其他种类的蒸镀材料，从而可以形成多层结构。在该情况下，也可以更换容器内的蒸镀材料，或将容器自身更换为储存有其他种类的蒸镀材料的容器。另外，可以在真空腔内设置多个蒸发源装置而一边更换一边使用，也可以将基板10从当前的成膜装置送出，并送入到具备收纳有其他种类的蒸镀材料的蒸发源装置的其他成膜装置。

<蒸发源装置的详细结构>

接着，参照图2以及图3，对本实施方式的蒸发源装置的详细结构进行说明。图2是表示蒸发源装置240中的、与蒸镀材料的收容以及加热相关的结构要素的概略剖视图，图3是图2的分解图。

容器244是有底圆筒形状，在圆筒状的主体部周围，成形为圆筒状的上部加热器246a和下部加热器246b呈同心状配置，在其外侧，圆筒状的上部反射器248a和下部反射器248b呈同心状配置，进而在其外周侧，对上部反射器248a以及下部反射器248b进行冷却的冷却套243呈同心状组装。在上部加热器246a与下部加热器246b之间配置有中间反射器241。另外，在容器244的底部244d侧也配置有反射向底部侧的辐射热而保温的底部反射器248c，底部反射器248c的外径端部与下部反射器248b连接。另外，容器的底部244d由支承部件245支承。在本实施方式中，上部加热器246a配置在与容器244的上部区域244a相向的位置，下部加热器246b配置在与容器244的下部区域244b相向的位置。需要说明的是，“相向的位置”这样的语句不需要严格地掌握，即便有一些高度方向上的位置偏移，只要对加热对象位置的温度产生影响即可。

在此，使用图3，对容器244的上部区域244a和下部区域244b的用语进行说明。在本说明书中，对容器244而言，将放出被加热后的蒸镀材料242的开口部244e和圆筒形状的容器244的主体部外周面中的至少开口部244e侧的区域称为容器244的“上部区域244a”。开口部244e包含开口端面和开口端面附近的容器外周面。与上部区域244a同样地，将容器244中的至少底部244d侧的区域称为“下部区域244b”。上部区域244a与下部区域244b各自在容器244的高度中所占的比例不一定限定于特定的范围，也可以按每个蒸发源装置240而不同。上部区域244a与上述的第一区域对应，下部区域244b与上述的第二区域对应。第二区域也可以说是相比第一区域从开口部244e离开的区域。

如上所述，容器的主体部的开口部244e侧的区域可以说是上部区域244a。另外，设置在与上部区域244a对应的位置且能够加热上部区域244a的加热器246可以说是上部加热器246a。另外，容器底部244d侧的区域可以说是下部区域244b。另外，设置在与下部区域244b对应的位置且能够加热下部区域244b的加热器246可以说是下部加热器246b。也可以构成为，上部区域244a大致为从开口部244e到蒸镀材料242的最大填充量的蒸镀材料242的上表面为止的范围，下部区域244b大致为蒸镀材料242的填充范围。另外，并非必须将容器244的高度方向分类为上部区域244a与下部区域244b中的任一方，也可以在两者之间设定“中间区域244c”。另外，也有时将容器244的底部与下部区域244b分开地称为“底部244d”。需要说明的是，如容器244具备从容器244的开口部244e突出的喷嘴状的部位的情况那样，有时在高度方向上存在多个侧面。在该情况下，上部区域244a是指至少与容器244的主体部的开口部244e连续地邻接的区域。另外，下部区域244b设定在与该上部区域244a相同的侧面。

接着，说明中间反射器241。中间反射器241例如配置成将上部反射器248a和容器244的外周面之间的上部加热器246a的配置空间与下部反射器248b和容器244的外周面之间的下部加热器246b的配置空间隔断，外径端部以被上部反射器248a和下部反射器248b夹着的状态固定。中间反射器241的内径端部隔着间隙与容器244的主体部外周面相向。中间反射器241的面向上部加热器246a的上表面241a成为反射来自上部加热器246a的辐射热的反射面。反射面只要是辐射热的反射效率好的面即可，并不特别限定，也可以是难以吸收热的颜色例如白色的面、光泽面。在图示例中，成为沿与圆筒状的容器的中心轴线正交的方向延伸的平面结构。在本实施方式中，关于中间反射器241的下部加热器246b所面对的下表面241b，也作为反射来自下部加热器246b的辐射热的白色面或光泽面而成为反射效率高的反射面。关于该下表面241b，也成为沿与容器的中心轴线正交的方向延伸的平面结构。中间反射器241只要发挥对来自下部加热器246b的辐射热进行隔热以免影响上部区域144a的功能、和利用上部加热器246a高效地加热上部区域144a的功能即可，因此，关于下部加热器246b侧的下表面241b，只要能够隔热即可，不需要为反射面。需要说明的是，也可以代替中间反射器241的上表面241a而将下表面241b作为反射面。

控制部270以与加热构件的种类相应的方法分别控制向上部加热器246a和下部加热器246b输入的电力。例如，在使用电阻加热式加热器的情况下，控制对发热线的通电。更具体地说，通过提高或降低电阻加热式加热器的电流密度来控制输入电力，提高或降低温度。控制部270根据用户经由计算机的UI等输入的输入值、与装置结构以及蒸镀材料相关的条件(例如，加热器的性能、容器的形状、材质、反射器的配置、特性、其他成膜装置的特性、蒸镀材料的种类、被收容在容器内的蒸镀材料的量)等来确定控制条件。也优选预先设置热电偶等温度传感器272，将其检测值用于控制。另外，也优选预先在内存中以表格或数学式的形式存储与蒸镀材料、装置结构相应的优选的控制条件，并使控制部270进行参照。

<加热控制>

图4例示出关于上部加热器246a和下部加热器246b的加热控制的控制模式。图4(A)示出第一控制模式，图4(B)示出第二控制模式。无论哪个控制模式，向上部加热器246a输入的电力都恒定，通过控制向下部加热器246b输入的电力，从而进行蒸发速率的控制。

首先，参照图4(A)，说明第一控制模式。在第一控制模式中，随着收容于容器的蒸镀材料242的减少，增大向下部加热器246b输入的电力。即，控制部270在开始加热的阶段，向上部加热器246a输入第一电力W1，并且，向下部加热器246b输入第二电力W2。接着，在蒸镀材料242开始蒸发以后，维持向上部加热器246a输入的电力，并且，随着蒸镀材料242的减少，以向下部加热器246b输入的电力变大的方式进行控制。与蒸镀材料242的减少相应的电力的控制根据蒸发速率等适当选择，既可以如图示那样连续地增加电力，也可以以阶段性上升的方式进行控制。

接着，参照图4(B)，说明第二控制模式。在第二控制模式中，控制部270执行第一加热控制C1，在进行第一加热控制C1之后执行第二加热控制C2，在所述第一加热控制C1中，向上部加热器246a输入第一电力W1，并且，向下部加热器246b输入第二电力W2，在所述第二加热控制C2中，向上部加热器246a输入第一电力W1，并且向下部加热器246b输入比第二电力W2大的第三电力W3。该第二加热控制C2的时机设定在蒸镀材料242开始蒸发的时机、或开始蒸发而经过规定时间后，根据蒸镀材料242的量、容器244的大小、输入的电力的大小等而变化，可以适当选择。

需要说明的是，在控制结构中，控制部270将上部加热器246a的输出维持恒定，但也可以构成为，基于温度传感器272的检测信号，调节上部加热器246a的输出，以便将上部加热器246a附近的温度保持恒定。另外，也可以基于来自膜厚检测器271的信号来调节向下部加热器246b的输入电力。并且，在基于来自膜厚检测器271的信号而取得的蒸发速率为预先设定的值以下且由温度传感器272检测到的温度为预先设定的值以上的情况下，也可以进行控制以输出错误信号。

图5示意性地表示蒸镀进行期间的容器244的上部区域244a、中间区域244c、下部区域244b的温度分布。图5(A)是具备中间反射器241的本实施方式的温度分布例，图5(B)是不具备中间反射器241的比较例的温度分布例。在图中，纵轴表示距容器的底部244d的高度，横轴表示温度，T1表示蒸镀材料的蒸发基准温度，T2表示作为蒸镀材料劣化的基准的劣化基准温度。

首先，说明图5(B)的比较例。温度分布曲线B1是上升至蒸发基准温度T1的时刻的温度分布。在图示例中，温度分布成为底部侧为低温且开口部侧成为高温的温度梯度。成为这样的温度分布的原因在于，例如，在容器的底部没有加热器，另外，在图2的例子中，热量通过与底部接触的支承部件245而散失。但是，温度分布仅为一个例示，并不限定于这样的温度梯度。温度分布曲线B1是蒸镀材料242的上表面处于最大填充位置的高度h1的状态，示出开始蒸镀的时刻的温度分布。蒸镀材料242的蒸发通过来自比蒸镀材料242的上表面位置稍微靠上的壁面的辐射热而产生，因此，被控制为比蒸镀材料的上表面位置稍微靠上的温度比蒸发基准温度T1高。若从该状态进行蒸镀而使得蒸镀材料242减少，则蒸镀材料242的高度变低，蒸镀材料242的上表面向温度低的区域转移。因此，以增大向下部加热器246b输入的电力并提高低区域的温度的方式进行控制，以使蒸镀材料242的上表面所处的区域的温度成为蒸发基准温度T1。

温度分布曲线B2是蒸镀材料242的上表面降低至高度h2的时刻的温度分布，温度分布曲线B3是蒸镀材料242的上表面降低至高度h3的时刻的温度分布。温度分布曲线B2相对于温度分布曲线B1整体升高，成为向图中左侧偏移的状态。并且，温度分布曲线B3相对于温度分布曲线B2进一步转移到向左侧偏移的状态，上部区域244a的开口部244e的温度都过度上升而超过劣化基准温度T2，蒸镀材料有可能劣化。如果蒸镀材料劣化，则无法将蒸镀速率、成膜的品质保持恒定。另外，也担心来自过热的开口部244e的辐射热对基板10造成热影响。

专心研究的结果可知，该过热的原因之一是下部加热器246b的辐射热到达上部加热器246a侧。因此，本发明在上部加热器246a与下部加热器246b之间配置中间反射器241，隔断从下部加热器246b向上部加热器246a侧辐射的辐射热，抑制来自下部加热器246b的辐射热的影响。另一方面，对上部区域244a而言，没有来自下部加热器246b的热辐射，仅有来自上部加热器246a的辐射热而供给的热能变小，因此，在中间反射器241的上表面241a反射朝向下部加热器246b侧的辐射热而高效地加热上部区域244a。

接着，使用图5(A)，对设置有中间反射器241的情况下的温度分布曲线进行说明。温度分布曲线A1在蒸发开始的状态下，蒸镀材料242的上表面处于高度h1(最大填充位置)。在设置有中间反射器241的中间区域244c中，温度降低，来自上部加热器246a的辐射热被中间反射器241反射而高效地加热上部区域244a，该上部区域244a被维持在高温。温度分布曲线A2是蒸镀材料242的上表面降低至高度h2的时刻的温度分布，温度分布曲线A3是蒸镀材料242的上表面降低至高度h3的时刻的温度分布，对于下部区域244b，与比较例同样地，向图中左侧偏移，温度上升。但是，对于上部区域244a，由于通过中间反射器241隔断从下部加热器246b向上部加热器246a侧的辐射热，因此，温度分布不变化，可以维持在比蒸发基准温度T1高且比劣化基准温度T2低的温度。因此，可以防止蒸镀材料附着于开口部244e，并且，能够以恒定的蒸镀速率将成膜的品质保持恒定。另外，可以防止对基板的热影响。

图6示意性地表示由中间反射器241反射辐射热的反射状态。空心箭头概略地表示辐射热的方向。来自上部加热器246a的辐射热辐射到相向的容器244的上部区域244a，并且，通过上部反射器248a，向背面侧辐射的辐射热也被反射而辐射到容器主体部的上部区域244a，上部区域244a被加热。另一方面，对于朝向下部加热器246b侧的辐射热，将与容器主体部的中心轴平行的轴向的辐射热(以下，称为轴向辐射热)设为G1，将相对于与中心轴线正交的正交面、朝向容器向下部加热器246b侧倾斜规定角度的倾斜方向的辐射热(以下，称为倾斜方向辐射热)设为G2。倾斜方向的辐射热G2被中间反射器241的上表面241a反射而对上部区域244a进行加热。另外，关于轴向辐射热G1，被中间反射器241的上表面241a反射的一部分G11直接入射到开口部244e附近，或者朝向上部反射器248a侧的辐射热G12被上部反射器248a再反射而入射到开口部244e附近，对开口部244e附近进行加热。

为了提高向开口部244e附近反射的反射效率，例如，如图6(B)所示，也可以改变斜向下的辐射热的反射面241a1和轴向辐射热G1的反射面241a2的倾斜度，使轴向辐射热G1的反射面241a2向开口部侧倾斜。另外，如图6(C)所示，也可以使反射面241a2为凹面形状，增大向开口部侧的反射量。另外，如图6(D)所示，关于倾斜辐射热的反射面241a1，如果也倾斜，则也可以促进中间区域244c的加热。

接着，对从下部加热器246b朝向上部加热器246a侧的辐射热进行说明，来自下部加热器246b的辐射热辐射到相向的容器的下部区域244b，并且，通过下部反射器248b，向背面侧辐射的辐射热也被反射而辐射到下部区域244b。另一方面，对于朝向上部加热器246a侧的辐射热，将与容器主体部的中心轴平行的轴向的辐射热(以下，称为轴向辐射热)设为F1，将相对于与中心轴线正交的正交面、朝向容器以规定角度向上部加热器246a侧倾斜的倾斜方向的辐射热(以下，称为倾斜方向辐射热)设为F2。倾斜方向的辐射热F2被中间反射器241的下表面241b反射而对下部区域244b进行加热。另外，关于轴向辐射热F1，被中间反射器241的下表面241b反射的一部分F11直接入射到容器的下端部附近，或者朝向下部反射器248b侧的辐射热F12被下部反射器248b再反射而入射到下端部附近，对下端部附近进行加热，可以高效地加热温度低的下端部。关于该中间反射器241的下表面241b的结构，也与图6(B)～(D)同样地，通过改变倾斜度，从而可以提高加热效率。

<有机电子器件的制造方法的具体例>

在本实施方式中，对使用具备蒸发源装置的蒸镀装置(成膜装置)的有机电子器件的制造方法的一例进行说明。以下，作为有机电子器件的例子而例示作为有机电子器件的有机EL显示装置的结构以及制造方法。首先，说明制造的有机EL显示装置。图7(A)表示有机EL显示装置60的整体图，图7(B)表示一个像素的截面结构。作为本实施方式的成膜装置具备的蒸发源装置240，使用上述各实施方式中任一项所述的装置。

如图7(A)所示，在有机EL显示装置60的显示区域61，呈矩阵状地配置有多个具备多个发光元件的像素62。每一个发光元件具有具备被一对电极夹着的有机层的结构，详细情况在后面说明。需要说明的是，在此所说的像素是指在显示区域61中能够进行所希望的颜色的显示的最小单位。在本图的有机EL显示装置的情况下，通过示出彼此不同的发光的第一发光元件62R、第二发光元件62G、第三发光元件62B的组合来构成像素62。像素62大多由红色发光元件、绿色发光元件以及蓝色发光元件的组合来构成，但也可以是黄色发光元件、青色发光元件以及白色发光元件的组合，只要是至少一种颜色以上即可，并未特别限定。

图7(B)是图7(A)的A-B线处的局部截面示意图。像素62具有有机EL元件，该有机EL元件在作为被蒸镀体的基板63上具备第一电极(阳极)64、空穴输送层65、发光层66R、66G、66B中的任一方、电子输送层67以及第二电极(阴极)68。其中，空穴输送层65、发光层66R、66G、66B、电子输送层67相当于有机层。另外，在本实施方式中，发光层66R是发出红色光的有机EL层，发光层66G是发出绿色光的有机EL层，发光层66B是发出蓝色光的有机EL层。发光层66R、66G、66B分别形成为与发出红色光、绿色光、蓝色光的发光元件(也有时记为有机EL元件)对应的图案。另外，第一电极64按照每个发光元件分离地形成。空穴输送层65、电子输送层67以及第二电极68既可以与多个发光元件62R、62G、62B共用而形成，也可以按照每个发光元件形成。需要说明的是，为了防止第一电极64和第二电极68因异物而短路，在第一电极64之间设置有绝缘层69。并且，由于有机EL层会因水分、氧而劣化，因此，设置有用于保护有机EL元件免受水分、氧侵蚀的保护层70。

接着，对有机EL显示装置的制造方法的例子进行具体说明。

首先，准备形成有用于驱动有机EL显示装置的电路(未图示)以及第一电极64的基板63。

在形成有第一电极64的基板63上通过旋涂而形成丙烯酸树脂，通过光刻法以在形成有第一电极64的部分形成开口的方式对丙烯酸树脂进行构图而形成绝缘层69。该开口部相当于发光元件实际发光的发光区域。

将构图有绝缘层69的基板63送入第一成膜装置，利用基板保持单元保持基板，将空穴输送层65作为共用的层而成膜在显示区域的第一电极64上。空穴输送层65通过真空蒸镀而成膜。实际上，空穴输送层65形成为比显示区域61大的尺寸，因此不需要高精细的掩模。在此，本步骤中的成膜、以下的各层的成膜中使用的成膜装置具备上述各实施方式中任一项所述的蒸发源装置。蒸发源装置具有上述实施方式的结构，通过进行上述实施方式中记载的加热控制，可以在将容器的开口附近保持为高温的状态下，将蒸镀速率保持恒定，可以进行恒定的膜厚的空穴输送层65的成膜。

接着，将形成至空穴输送层65的基板63送入第二成膜装置，并由基板保持单元保持。进行基板与掩模的对准，将基板载置于掩模上，在基板63的配置发出红色光的元件的部分，成膜发出红色光的发光层66R。根据本例，可以使掩模与基板良好地重合，可以进行高精度的成膜。

与发光层66R的成膜同样地，利用第三成膜装置来成膜发出绿色光的发光层66G，进而利用第四成膜装置来成膜发出蓝色光的发光层66B。在发光层66R、66G、66B的成膜完成后，利用第五成膜装置在整个显示区域61成膜电子输送层67。电子输送层67作为共用的层而形成于三种颜色的发光层66R、66G、66B。

将形成至电子输送层67的基板移动到溅射装置而成膜第二电极68，此后移动到等离子体CVD装置而成膜保护层70，有机EL显示装置60完成。

从将构图有绝缘层69的基板63送入成膜装置起直至保护层70的成膜完成为止，若暴露在包含水分、氧在内的环境中，则由有机EL材料制成的发光层可能会因水分、氧而劣化。因此，在本例中，成膜装置之间的基板的送入送出在真空环境或非活性气体环境下进行。

如上所述得到的有机EL显示装置针对每个发光元件高精度地形成发光层。因此，若使用上述制造方法，则可以抑制由发光层的位置偏移引起的有机EL显示装置的不良的产生。根据本实施方式的成膜装置，通过对蒸发源装置的加热适当地进行控制，从而可以进行良好的蒸镀。

Claims (13)

1.一种蒸发源装置，对收容有蒸镀材料的容器进行加热，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

所述蒸发源装置具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；

控制部，所述控制部分别独立地控制所述第一加热器和所述第二加热器；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述控制部随着收容于所述容器的蒸镀材料的减少而提高向所述第二加热器输入的电力。

2.一种蒸发源装置，对收容有蒸镀材料的容器进行加热，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的所述蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

所述蒸发源装置具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；

控制部，所述控制部分别独立地控制所述第一加热器和所述第二加热器；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述控制部进行第一加热控制和第二加热控制，

在所述第一加热控制中，向所述第一加热器输入第一电力，并且，向所述第二加热器输入第二电力，

在进行所述第一加热控制之后，在所述第二加热控制中，向所述第一加热器输入所述第一电力，并且，向所述第二加热器输入比所述第二电力大的第三电力。

3.如权利要求1或2所述的蒸发源装置，其特征在于，

所述中间反射部件的与所述第一加热器相向的面为反射面。

4.如权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，

所述控制部随着收容于所述容器的蒸镀材料的减少，维持所述第一加热器的输出并且增大向所述第二加热器输入的电力。

5.如权利要求4所述的蒸发源装置，其特征在于，

所述蒸发源装置还具备检测所述第一加热器附近的温度的温度检测构件，

所述控制部基于所述温度检测构件的检测信号，调节所述第一加热器的输出，以便将所述第一加热器附近的温度保持恒定。

6.如权利要求1或2所述的蒸发源装置，其特征在于，

所述蒸发源装置具备检测所述蒸镀材料的蒸发速率的速率检测构件，

所述控制部基于来自所述速率检测构件的信号来调节向所述第二加热器输入的电力。

7.如权利要求1或2所述的蒸发源装置，其特征在于，

所述蒸发源装置具有检测所述第一加热器附近的温度的温度检测构件和检测所述蒸镀材料的蒸发速率的速率检测构件，

所述控制部在基于来自所述速率检测构件的信号而取得的蒸发速率为预先设定的值以下且由所述温度检测构件检测到的温度为预先设定的值以上的情况下，输出错误信号。

8.如权利要求1或2所述的蒸发源装置，其特征在于，

在所述第一加热器的与所述容器相反的一侧，配置有使所述第一加热器的辐射热反射的第一反射部件。

9.如权利要求8所述的蒸发源装置，其特征在于，

在所述第二加热器的与容器相反的一侧，设置有所述第二加热器的第二反射部件。

10.一种成膜装置，其特征在于，具备：

权利要求1或2所述的蒸发源装置；以及

真空腔，在所述真空腔内配置有该蒸发源装置并对被蒸镀体进行所述蒸镀材料的蒸镀。

11.一种成膜方法，对收容有蒸镀材料的容器进行加热而对被蒸镀体进行所述蒸镀材料的蒸镀，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的所述蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述成膜方法根据进行蒸发的蒸镀材料的减少，提高向所述第二加热器输入的电力来控制蒸发速率。

12.一种成膜方法，对收容有蒸镀材料的容器进行加热而对被蒸镀体进行所述蒸镀材料的蒸镀，其特征在于，

所述容器具有：放出被加热后的所述蒸镀材料的开口部、第一区域、以及相比所述第一区域从所述开口部离开的区域即第二区域，

具有：

第一加热器，所述第一加热器对所述第一区域进行加热；

第二加热器，所述第二加热器对所述第二区域进行加热；以及

中间反射部件，所述中间反射部件配置在所述第一加热器与所述第二加热器之间，对来自所述第一加热器的热的至少一部分进行反射，

所述成膜方法进行第一加热控制和第二加热控制，

在所述第一加热控制中，向所述第一加热器输入第一电力，并且，向所述第二加热器输入第二电力，

在进行所述第一加热控制之后，在所述第二加热控制中，向所述第一加热器输入所述第一电力，并且，向所述第二加热器输入比所述第二电力大的第三电力。

13.一种电子器件的制造方法，其特征在于，通过权利要求11或12所述的成膜方法，使蒸镀材料蒸镀于电子器件的被蒸镀体而成膜。

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