CN111968810A - 一种柱式绝缘子表面防护处理工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其使用了一种浸釉设备,该浸釉设备包括浸釉筒、置料装置与搅拌装置,采用上述浸釉设备对柱式绝缘子进行表面防护处理的具体工艺流程如下:坯体清理、坯体固定、浸釉、坯体取出与釉浆搅拌,置料装置包括传动齿轮、一号齿条、二号齿条、连接架、驱动电机、置料座与压紧环。本发明通过设置有齿轮齿条结构的置料装置完成对坯体的连续上下料功能,能够不间断地进行上釉工作,提高了工作的连续性,在上下料过程中搅拌装置能够在置料装置的驱动下对釉浆进行搅拌,且搅拌装置能够在搅拌时在一定范围内进行往复移动,增大了搅拌范围,进一步提高了釉浆内釉药的分布均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及电力绝缘子技术领域,具体的说是一种柱式绝缘子表面防护处理工艺。
背景技术
柱式绝缘子是电力线路常见的一种绝缘体,俗称柱式瓷瓶,柱式绝缘子包含钢帽、瓷件、钢脚等部件,其中瓷件为承担绝缘的部件,也是绝缘子最主要的组成部件。
柱式绝缘子瓷件的生产过程可分为制泥、成型、施釉、烧制、组装及检查五部分,施釉为在绝缘子瓷件表面上一层均匀釉层,釉层内部较瓷件致密,可防止瓷件吸潮。其中施釉主要有浸釉、喷釉等工艺,为了方便装夹,在浸釉前多先将金属件与瓷件连接后再进行上釉,目前在使用浸釉法对瓷件进行施釉的过程中还存在一些问题:
(1)通过现有设备对装有金属件的绝缘子瓷件坯体进行浸釉时,需要使用夹具或其他固定结构固定坯体将其进入釉浆中,待坯体表面均匀附着上釉浆后再将其从釉浆中取出,之后再将坯体从夹具或其他固定结构上取出,并重新固定上下一个待上釉的坯体,两次浸釉操作的时间间隔较大,无法连续进行浸釉工作,整体工作效率较低。
(2)在施釉过程中由于整体作业时间较长,因此釉浆中的釉药易沉淀在容器底部,如不及时对釉浆进行处理,就会出现同一批次的坯体表面釉层不均匀的情况,而为改善上述情况,需要对釉浆进行搅拌,而现有搅拌装置在工作时的搅拌范围固定,无法与容器各处的釉浆充分接触,搅拌效果不够理想。
为了解决上述问题,本发明提供了一种柱式绝缘子表面防护处理工艺。
发明内容
为了实现上述目的,本发明采用以下技术方案来实现:
一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其使用了一种浸釉设备,该浸釉设备包括浸釉筒、置料装置与搅拌装置,采用上述浸釉设备对柱式绝缘子进行表面防护处理的具体工艺流程如下:
S1.坯体清理:对素烧后且连接有金属件的坯体表面进行清理,去除坯体表面粘附的灰尘与油污;
S2.坯体固定:将经过S1处理的坯体固定在置料装置内,保证后续工作的稳定进行;
S3.浸釉:通过置料装置带动坯体向下运动至装有釉浆的浸釉筒内,使釉浆均匀附着在坯体表面;
S4.坯体取出:通过置料装置带动经过S3处理后的坯体向上运动,随后将坯体从置料装置内取出,对坯体进行风干处理;
S5.釉浆搅拌:在进行S3与S4的过程中,搅拌装置能够对釉浆进行搅拌,保证浸釉筒内部各处的釉浆浓度均匀;
所述浸釉筒侧壁上安装有置料装置,浸釉筒内安装有搅拌装置,搅拌装置与置料装置侧壁相连接,浸釉筒底端开设有排料口,浸釉筒顶端沿其周向方向均匀开设有四个方形缺口;
所述置料装置包括传动齿轮、一号齿条、二号齿条、连接架、驱动电机、置料座与压紧环,浸釉筒外壁上通过轴承沿其周向方向均匀安装有四个传动齿轮,传动齿轮与方形缺口位置一一对应,传动齿轮前端与一号齿条后端相啮合,传动齿轮后端与二号齿条前端相啮合,一号齿条与二号齿条均通过滑动配合方式安装在浸釉筒外壁上,一号齿条与二号齿条内侧均安装有置料座,置料座底端与压紧环内壁相紧贴,压紧环安装在浸釉筒内壁上,压紧环中部开设有倒圆台型孔,一号齿条之间通过连接架相连接,位于浸釉筒左端的传动齿轮侧壁与驱动电机输出轴相连接,驱动电机通过电机座安装在浸釉筒外壁上;通过驱动电机带动与其相连接的传动齿轮进行转动,使得与该传动齿轮啮合的一号齿条与二号齿条进行上下直线运动,以对置料座的高度进行相应调整,当置料座位于釉浆液面下方式,便可对置料座上的坯体进行浸釉处理,浸釉完成后,再反向转动传动齿轮,使得置料座上升至釉浆液面以上位置即可,当在连接架的连接作用下,所有一号齿条均同步进行直线运动,因此能够带动所有传动齿轮进行相应转动,无需配置多个驱动源,有效节省了厂家的投入成本,且一号齿条与二号齿条能够交替带动放置在置料座上的坯体进行上下直线运动,因此在一半的置料架位于釉浆液面以下时,另一半置料架位于釉浆液面之上,以便工作人员将上釉后的坯体转运至下一工作位置或者将未上釉的坯体放置在置料架上,在一批绝缘子上釉完毕后无需等待即可对下一批绝缘子进行上釉,提高了工作的连续性。
所述搅拌装置包括一号转动杆、一号挤压凸轮、一号搅拌架、二号转动杆、二号挤压凸轮、二号搅拌架与底部搅拌机构,在浸釉筒上左右相对布置的两个传动齿轮之间连接有一号转动杆,一号转动杆中部安装有一号挤压凸轮,一号转动杆左右两侧均通过滑动配合方式安装有一号搅拌架,在浸釉筒上前后布置的两个传动齿轮内侧均安装有二号转动杆,二号转动杆为原理浸釉筒内壁的一端开口的空心结构,二号转动杆远离浸釉筒内壁的一端安装有二号挤压凸轮,二号转动杆侧壁上开设有滑动槽,二号转动杆中部外壁上通过滑动配合方式安装有二号搅拌架,一号搅拌架与浸釉筒内壁之间以及二号搅拌架与浸釉筒内壁之间均连接有弹簧,二号搅拌架下端布置有底部搅拌机构,底部搅拌机构安装在浸釉筒内壁上;一号转动杆与二号转动杆能够随传动齿轮进行同步转动,使得一号搅拌架、二号搅拌架以及底部搅拌机构能够在传动齿轮转动过程中对釉浆进行搅拌,防止釉浆发生沉淀,同时在转动过程中,一号挤压凸轮能够带动二号搅拌架在一定范围内进行前后移动,二号挤压凸轮能够带动一号搅拌架在一定范围内进行左右移动,从而实现增大一号搅拌架与二号搅拌架搅拌范围的目的,进一步提高了釉浆内釉药的分布均匀性。
优选的,所述置料座包括置料板、橡胶块、压紧块与移动架,置料板为圆形结构,置料板中部开设有圆孔,置料板安装在一号齿条或二号齿条上,置料板上沿其周向方向均匀开设有四个移动滑槽,移动滑槽上端通过滑动配合方式安装有压紧块,压紧块下端与移动架上端相连接,移动架外壁为圆弧面结构,且移动架截面为倒置的斜面向外的直角梯形结构,压紧块中部开设有方形通槽,方形通槽内布置有橡胶块,橡胶块安装在置料板上,压紧块内壁与橡胶块内壁均为圆弧面结构,橡胶块下端开设有方形缺口;在置料座向上移动过程中,压紧环对压紧块产生的向内的压力越来越小,当置料座移动至最高点时,坯体下端的金属件主要依靠橡胶块的夹紧力而保持竖直状态,橡胶块具有一定弹性,方便工作人员将坯体从置料座上取下,在置料座向下移动过程中,压紧环对压紧块产生的向内的压力越来越大,当置料座移动至最低点时,坯体下端的金属件主要依靠压紧块的夹紧力而保持竖直状态,在浸釉过程中不会发生晃动,保证了浸釉过程中的稳定性。
优选的,所述底部搅拌机构包括转动齿轮、过渡齿轮、从动齿轮、底部搅拌轴与底部搅拌杆,转动齿轮数量为四,一号转动杆与二号转动杆靠近浸釉筒内壁的一端外壁上均套设安装有转动齿轮,转动齿轮下端布置有从动齿轮,从动齿轮与转动齿轮之间通过过渡齿轮传动,从动齿轮与过渡齿轮均通过轴承安装在浸釉筒内壁上,从动齿轮侧壁上安装有底部搅拌轴,底部搅拌轴侧壁上均匀安装有底部搅拌杆;通过转动齿轮、过渡齿轮与从动齿轮之间的传动,使得底部搅拌轴能够随传动齿轮进行同步转动,进而带动底部搅拌杆对浸釉筒底部的釉浆进行搅拌。
优选的,所述一号搅拌架包括套筒、挤压环与一号搅拌杆,套筒通过滑动配合方式安装在一号转动杆外壁上,套筒离浸釉筒较远的一端外壁上套设安装有挤压环,挤压环侧壁与二号挤压凸轮侧壁相紧贴,套筒外壁上均匀安装有一号搅拌杆;在连接一号搅拌架与浸釉筒内壁的弹簧的配合作用下,二号挤压凸轮在转动过程中能够带动挤压环进行左右移动,以扩大一号搅拌杆的搅拌范围。
优选的,所述二号搅拌架包括安装杆、滑动块、滑动筒与二号搅拌杆,安装杆通过滑动配合方式安装在二号转动杆内,二号转动杆外壁上通过滑动配合方式套设有滑动筒,滑动筒与安装杆之间连接有滑动块,滑动块通过滑动配合方式与滑动槽内壁相连接,滑动筒外壁上均匀安装有二号搅拌杆;在连接二号搅拌架与浸釉筒内壁的弹簧的配合作用下,一号挤压凸轮在转动过程中能够带动安装杆进行左右移动,进而扩大安装在滑动筒上的二号搅拌杆的搅拌范围。
优选的,所述移动架为多级上下可伸缩结构,且移动架内设置有弹簧,防止因移动架过长导致在浸釉筒内无法正常向下移动的情况发生。
优选的,所述浸釉筒侧壁上沿其周向方向均匀开设有四组排液口,同组中的排液口从上往下均匀布置,当浸釉筒中的釉浆过稀时,将釉浆静置一段时间待釉药沉淀后,便可根据实际需要选择打开相应高度的排液口,以将多余的清水排出,而无需工作人员使用容器分多次将清水舀出,提高了工作效率。
本发明的有益效果是:
1.本发明通过设置有齿轮齿条结构的置料装置完成对坯体的连续上下料功能,能够不间断地进行上釉工作,提高了工作的连续性,在上下料过程中搅拌装置能够在置料装置的驱动下对釉浆进行搅拌,且搅拌装置能够在搅拌时在一定范围内进行往复移动,增大了搅拌范围,进一步提高了釉浆内釉药的分布均匀性。
2.本发明设置的置料装置,通过传动齿轮、一号齿条与二号齿条的传动作用,在一半的置料架位于釉浆液面以下时,另一半置料架位于釉浆液面之上,以便工作人员将上釉后的坯体转运至下一工作位置或者将未上釉的坯体放置在置料架上,在一批绝缘子上釉完毕后无需等待即可对下一批绝缘子进行上釉,提高了工作的连续性。
3.本发明设置的搅拌装置,一号转动杆与二号转动杆能够随传动齿轮进行同步转动,使得一号搅拌架、二号搅拌架以及底部搅拌机构能够对釉浆进行搅拌,防止釉浆发生沉淀,同时通过一号挤压凸轮、二号挤压凸轮分别能够带动二号搅拌架与一号搅拌架在一定范围内进行移动,增大了一号搅拌架与二号搅拌架搅拌范围,提升了搅拌效果。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的工艺流程图;
图2是本发明浸釉设备的立体结构图;
图3是本发明浸釉设备的主视图;
图4是本发明浸釉设备的俯视图;
图5是本发明浸釉筒、搅拌装置与传动齿轮之间的右向剖视图;
图6是本发明置料座与压紧环之间的正向剖面图;
图7是本发明置料座的俯视图;
图8是本发明一号转动杆与一号搅拌架之间的剖面图;
图9是本发明二号转动杆、二号挤压凸轮与二号搅拌架之间剖面图;
图10是本发明针对的作业对象的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
如图1到图10所示,一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其使用了一种浸釉设备,该浸釉设备包括浸釉筒1、置料装置2与搅拌装置3,采用上述浸釉设备对柱式绝缘子进行表面防护处理的具体工艺流程如下:
S1.坯体清理:对素烧后且连接有金属件的坯体表面进行清理,去除坯体表面粘附的灰尘与油污;
S2.坯体固定:将经过S1处理的坯体固定在置料装置2内,保证后续工作的稳定进行;
S3.浸釉:通过置料装置2带动坯体向下运动至装有釉浆的浸釉筒1内,使釉浆均匀附着在坯体表面;
S4.坯体取出:通过置料装置2带动经过S3处理后的坯体向上运动,随后将坯体从置料装置2内取出,对坯体进行风干处理;
S5.釉浆搅拌:在进行S3与S4的过程中,搅拌装置3能够对釉浆进行搅拌,保证浸釉筒1内部各处的釉浆浓度均匀;
所述浸釉筒1侧壁上安装有置料装置2,浸釉筒1内安装有搅拌装置3,搅拌装置3与置料装置2侧壁相连接,浸釉筒1底端开设有排料口,浸釉筒1顶端沿其周向方向均匀开设有四个方形缺口;
所述浸釉筒1侧壁上沿其周向方向均匀开设有四组排液口,同组中的排液口从上往下均匀布置,当浸釉筒1中的釉浆过稀时,将釉浆静置一段时间待釉药沉淀后,便可根据实际需要选择打开相应高度的排液口,以将多余的清水排出,而无需工作人员使用容器分多次将清水舀出,提高了工作效率。
所述置料装置2包括传动齿轮21、一号齿条22、二号齿条23、连接架24、驱动电机25、置料座26与压紧环27,浸釉筒1外壁上通过轴承沿其周向方向均匀安装有四个传动齿轮21,传动齿轮21与方形缺口位置一一对应,传动齿轮21前端与一号齿条22后端相啮合,传动齿轮21后端与二号齿条23前端相啮合,一号齿条22与二号齿条23均通过滑动配合方式安装在浸釉筒1外壁上,一号齿条22与二号齿条23内侧均安装有置料座26,置料座26底端与压紧环27内壁相紧贴,压紧环27安装在浸釉筒1内壁上,压紧环27中部开设有倒圆台型孔,一号齿条22之间通过连接架24相连接,位于浸釉筒1左端的传动齿轮21侧壁与驱动电机25输出轴相连接,驱动电机25通过电机座安装在浸釉筒1外壁上;通过驱动电机25带动与其相连接的传动齿轮21进行转动,使得与该传动齿轮21啮合的一号齿条22与二号齿条23进行上下直线运动,以对置料座26的高度进行相应调整,当置料座26位于釉浆液面下方式,便可对置料座26上的坯体进行浸釉处理,浸釉完成后,再反向转动传动齿轮21,使得置料座26上升至釉浆液面以上位置即可,当在连接架24的连接作用下,所有一号齿条22均同步进行直线运动,因此能够带动所有传动齿轮21进行相应转动,无需配置多个驱动源,有效节省了厂家的投入成本,且一号齿条22与二号齿条23能够交替带动放置在置料座26上的坯体进行上下直线运动,因此在一半的置料架位于釉浆液面以下时,另一半置料架位于釉浆液面之上,以便工作人员将上釉后的坯体转运至下一工作位置或者将未上釉的坯体放置在置料架上,在一批绝缘子上釉完毕后无需等待即可对下一批绝缘子进行上釉,提高了工作的连续性。
所述置料座26包括置料板261、橡胶块262、压紧块263与移动架264,置料板261为圆形结构,置料板261中部开设有圆孔,置料板261安装在一号齿条22或二号齿条23上,置料板261上沿其周向方向均匀开设有四个移动滑槽,移动滑槽上端通过滑动配合方式安装有压紧块263,压紧块263下端与移动架264上端相连接,移动架264外壁为圆弧面结构,且移动架264截面为倒置的斜面向外的直角梯形结构,移动架264为多级上下可伸缩结构,且移动架264内设置有弹簧,防止因移动架264过长导致在浸釉筒1内无法正常向下移动的情况发生,压紧块263中部开设有方形通槽,方形通槽内布置有橡胶块262,橡胶块262安装在置料板261上,压紧块263内壁与橡胶块262内壁均为圆弧面结构,橡胶块262下端开设有方形缺口;在置料座26向上移动过程中,压紧环27对压紧块263产生的向内的压力越来越小,当置料座26移动至最高点时,坯体下端的金属件主要依靠橡胶块262的夹紧力而保持竖直状态,橡胶块262具有一定弹性,方便工作人员将坯体从置料座26上取下,在置料座26向下移动过程中,压紧环27对压紧块263产生的向内的压力越来越大,当置料座26移动至最低点时,坯体下端的金属件主要依靠压紧块263的夹紧力而保持竖直状态,在浸釉过程中不会发生晃动,保证了浸釉过程中的稳定性。
所述搅拌装置3包括一号转动杆31、一号挤压凸轮32、一号搅拌架33、二号转动杆34、二号挤压凸轮35、二号搅拌架36与底部搅拌机构37,在浸釉筒1上左右相对布置的两个传动齿轮21之间连接有一号转动杆31,一号转动杆31中部安装有一号挤压凸轮32,一号转动杆31左右两侧均通过滑动配合方式安装有一号搅拌架33,在浸釉筒1上前后布置的两个传动齿轮21内侧均安装有二号转动杆34,二号转动杆34为原理浸釉筒1内壁的一端开口的空心结构,二号转动杆34远离浸釉筒1内壁的一端安装有二号挤压凸轮35,二号转动杆34侧壁上开设有滑动槽,二号转动杆34中部外壁上通过滑动配合方式安装有二号搅拌架36,一号搅拌架33与浸釉筒1内壁之间以及二号搅拌架36与浸釉筒1内壁之间均连接有弹簧,二号搅拌架36下端布置有底部搅拌机构37,底部搅拌机构37安装在浸釉筒1内壁上;一号转动杆31与二号转动杆34能够随传动齿轮21进行同步转动,使得一号搅拌架33、二号搅拌架36以及底部搅拌机构37能够在传动齿轮21转动过程中对釉浆进行搅拌,防止釉浆发生沉淀,同时在转动过程中,一号挤压凸轮32能够带动二号搅拌架36在一定范围内进行前后移动,二号挤压凸轮35能够带动一号搅拌架33在一定范围内进行左右移动,从而实现增大一号搅拌架33与二号搅拌架36搅拌范围的目的,进一步提高了釉浆内釉药的分布均匀性。
所述底部搅拌机构37包括转动齿轮371、过渡齿轮372、从动齿轮373、底部搅拌轴374与底部搅拌杆375,转动齿轮371数量为四,一号转动杆31与二号转动杆34靠近浸釉筒1内壁的一端外壁上均套设安装有转动齿轮371,转动齿轮371下端布置有从动齿轮373,从动齿轮373与转动齿轮371之间通过过渡齿轮372传动,从动齿轮373与过渡齿轮372均通过轴承安装在浸釉筒1内壁上,从动齿轮373侧壁上安装有底部搅拌轴374,底部搅拌轴374侧壁上均匀安装有底部搅拌杆375;通过转动齿轮371、过渡齿轮372与从动齿轮373之间的传动,使得底部搅拌轴374能够随传动齿轮21进行同步转动,进而带动底部搅拌杆375对浸釉筒1底部的釉浆进行搅拌。
所述一号搅拌架33包括套筒331、挤压环332与一号搅拌杆333,套筒331通过滑动配合方式安装在一号转动杆31外壁上,套筒331离浸釉筒1较远的一端外壁上套设安装有挤压环332,挤压环332侧壁与二号挤压凸轮35侧壁相紧贴,套筒331外壁上均匀安装有一号搅拌杆333;在连接一号搅拌架33与浸釉筒1内壁的弹簧的配合作用下,二号挤压凸轮35在转动过程中能够带动挤压环332进行左右移动,以扩大一号搅拌杆333的搅拌范围。
所述二号搅拌架36包括安装杆361、滑动块362、滑动筒363与二号搅拌杆364,安装杆361通过滑动配合方式安装在二号转动杆34内,二号转动杆34外壁上通过滑动配合方式套设有滑动筒363,滑动筒363与安装杆361之间连接有滑动块362,滑动块362通过滑动配合方式与滑动槽内壁相连接,滑动筒363外壁上均匀安装有二号搅拌杆364;在连接二号搅拌架36与浸釉筒1内壁的弹簧的配合作用下,一号挤压凸轮32在转动过程中能够带动安装杆361进行左右移动,进而扩大安装在滑动筒363上的二号搅拌杆364的搅拌范围。
本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中的描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (7)
1.一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其使用了一种浸釉设备,该浸釉设备包括浸釉筒(1)、置料装置(2)与搅拌装置(3),其特征在于:采用上述浸釉设备对柱式绝缘子进行表面防护处理的具体工艺流程如下:
S1.坯体清理:对素烧后且连接有金属件的坯体表面进行清理,去除坯体表面粘附的灰尘与油污;
S2.坯体固定:将经过S1处理的坯体固定在置料装置(2)内,保证后续工作的稳定进行;
S3.浸釉:通过置料装置(2)带动坯体向下运动至装有釉浆的浸釉筒(1)内,使釉浆均匀附着在坯体表面;
S4.坯体取出:通过置料装置(2)带动经过S3处理后的坯体向上运动,随后将坯体从置料装置(2)内取出,对坯体进行风干处理;
S5.釉浆搅拌:在进行S3与S4的过程中,搅拌装置(3)能够对釉浆进行搅拌,保证浸釉筒(1)内部各处的釉浆浓度均匀;
所述浸釉筒(1)侧壁上安装有置料装置(2),浸釉筒(1)内安装有搅拌装置(3),搅拌装置(3)与置料装置(2)侧壁相连接,浸釉筒(1)底端开设有排料口,浸釉筒(1)顶端沿其周向方向均匀开设有四个方形缺口;
所述置料装置(2)包括传动齿轮(21)、一号齿条(22)、二号齿条(23)、连接架(24)、驱动电机(25)、置料座(26)与压紧环(27),浸釉筒(1)外壁上通过轴承沿其周向方向均匀安装有四个传动齿轮(21),传动齿轮(21)与方形缺口位置一一对应,传动齿轮(21)前端与一号齿条(22)后端相啮合,传动齿轮(21)后端与二号齿条(23)前端相啮合,一号齿条(22)与二号齿条(23)均通过滑动配合方式安装在浸釉筒(1)外壁上,一号齿条(22)与二号齿条(23)内侧均安装有置料座(26),置料座(26)底端与压紧环(27)内壁相紧贴,压紧环(27)安装在浸釉筒(1)内壁上,压紧环(27)中部开设有倒圆台型孔,一号齿条(22)之间通过连接架(24)相连接,位于浸釉筒(1)左端的传动齿轮(21)侧壁与驱动电机(25)输出轴相连接,驱动电机(25)通过电机座安装在浸釉筒(1)外壁上;
所述搅拌装置(3)包括一号转动杆(31)、一号挤压凸轮(32)、一号搅拌架(33)、二号转动杆(34)、二号挤压凸轮(35)、二号搅拌架(36)与底部搅拌机构(37),在浸釉筒(1)上左右相对布置的两个传动齿轮(21)之间连接有一号转动杆(31),一号转动杆(31)中部安装有一号挤压凸轮(32),一号转动杆(31)左右两侧均通过滑动配合方式安装有一号搅拌架(33),在浸釉筒(1)上前后布置的两个传动齿轮(21)内侧均安装有二号转动杆(34),二号转动杆(34)为原理浸釉筒(1)内壁的一端开口的空心结构,二号转动杆(34)远离浸釉筒(1)内壁的一端安装有二号挤压凸轮(35),二号转动杆(34)侧壁上开设有滑动槽,二号转动杆(34)中部外壁上通过滑动配合方式安装有二号搅拌架(36),一号搅拌架(33)与浸釉筒(1)内壁之间以及二号搅拌架(36)与浸釉筒(1)内壁之间均连接有弹簧,二号搅拌架(36)下端布置有底部搅拌机构(37),底部搅拌机构(37)安装在浸釉筒(1)内壁上。
2.根据权利要求1所述的一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其特征在于:所述置料座(26)包括置料板(261)、橡胶块(262)、压紧块(263)与移动架(264),置料板(261)为圆形结构,置料板(261)中部开设有圆孔,置料板(261)安装在一号齿条(22)或二号齿条(23)上,置料板(261)上沿其周向方向均匀开设有四个移动滑槽,移动滑槽上端通过滑动配合方式安装有压紧块(263),压紧块(263)下端与移动架(264)上端相连接,移动架(264)外壁为圆弧面结构,且移动架(264)截面为倒置的斜面向外的直角梯形结构,压紧块(263)中部开设有方形通槽,方形通槽内布置有橡胶块(262),橡胶块(262)安装在置料板(261)上,压紧块(263)内壁与橡胶块(262)内壁均为圆弧面结构,橡胶块(262)下端开设有方形缺口。
3.根据权利要求1所述的一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其特征在于:所述底部搅拌机构(37)包括转动齿轮(371)、过渡齿轮(372)、从动齿轮(373)、底部搅拌轴(374)与底部搅拌杆(375),转动齿轮(371)数量为四,一号转动杆(31)与二号转动杆(34)靠近浸釉筒(1)内壁的一端外壁上均套设安装有转动齿轮(371),转动齿轮(371)下端布置有从动齿轮(373),从动齿轮(373)与转动齿轮(371)之间通过过渡齿轮(372)传动,从动齿轮(373)与过渡齿轮(372)均通过轴承安装在浸釉筒(1)内壁上,从动齿轮(373)侧壁上安装有底部搅拌轴(374),底部搅拌轴(374)侧壁上均匀安装有底部搅拌杆(375)。
4.根据权利要求1所述的一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其特征在于:所述一号搅拌架(33)包括套筒(331)、挤压环(332)与一号搅拌杆(333),套筒(331)通过滑动配合方式安装在一号转动杆(31)外壁上,套筒(331)离浸釉筒(1)较远的一端外壁上套设安装有挤压环(332),挤压环(332)侧壁与二号挤压凸轮(35)侧壁相紧贴,套筒(331)外壁上均匀安装有一号搅拌杆(333)。
5.根据权利要求1所述的一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其特征在于:所述二号搅拌架(36)包括安装杆(361)、滑动块(362)、滑动筒(363)与二号搅拌杆(364),安装杆(361)通过滑动配合方式安装在二号转动杆(34)内,二号转动杆(34)外壁上通过滑动配合方式套设有滑动筒(363),滑动筒(363)与安装杆(361)之间连接有滑动块(362),滑动块(362)通过滑动配合方式与滑动槽内壁相连接,滑动筒(363)外壁上均匀安装有二号搅拌杆(364)。
6.根据权利要求2所述的一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其特征在于:所述移动架(264)为多级上下可伸缩结构,且移动架(264)内设置有弹簧。
7.根据权利要求1所述的一种柱式绝缘子表面防护处理工艺,其特征在于:所述浸釉筒(1)侧壁上沿其周向方向均匀开设有四组排液口,同组中的排液口从上往下均匀布置。
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